JPH11126799A - Icチップの取り外し方法 - Google Patents

Icチップの取り外し方法

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JPH11126799A
JPH11126799A JP30967097A JP30967097A JPH11126799A JP H11126799 A JPH11126799 A JP H11126799A JP 30967097 A JP30967097 A JP 30967097A JP 30967097 A JP30967097 A JP 30967097A JP H11126799 A JPH11126799 A JP H11126799A
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JP
Japan
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chip
thermosetting resin
circuit board
state
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP30967097A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Hoshino
真一 星野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP30967097A priority Critical patent/JPH11126799A/ja
Publication of JPH11126799A publication Critical patent/JPH11126799A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は熱硬化性樹脂を用いて回路基板に実
装したICチップを回路基板から取り外す方法におい
て、ICチップの取り外し作業性および回路基板上のク
リーニング作業性の向上を図ることを目的とする。 【解決手段】 ICチップ加熱・取り外しヘッド8を用
いてICチップ3に熱を加えて、ICチップ3とガラス
基板9間に介在する熱硬化性樹脂12を軟化させながら
ICチップ3に荷重を加え、ICチップ3を取り外す前
に、ICチップ3の周囲にはみ出している熱硬化性樹脂
11を取り除く。そのICチップ3の周囲にはみ出して
いる熱硬化性樹脂11を取り除く手段として、有機溶剤
を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱硬化性樹脂を用
いて回路基板に実装したICチップを回路基板から取り
外す方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ICチップをプリント基板やガラス基板
等の回路基板に直接実装する技術は、使用される機器の
小型化やICチップの駆動周波数の高速化ならびに接続
コストの低減化に伴い、様々な電子機器に用いられてい
る。液晶表示パネルでは液晶駆動用ICチップを液晶表
示パネルを構成するガラス基板に直接実装することで、
コンパクトでかつ耐振動性も向上するため、液晶表示装
置の特徴である携帯性がさらに増すことになり、この接
続方法が主流になりつつある。この接続方法はガラス基
板の上に直接ICチップを実装することから、COG
(Chip OnGlass)方式と呼ばれている。
【0003】ICチップを回路基板に直接実装する方法
は数種類の方法があるが、その1つには図2に示すよう
なものがある。図2はICチップと回路基板との接続方
法の構成を示す説明図であって、導電粒子1を含んだエ
ポキシ系樹脂を主成分とする熱硬化性樹脂2をICチッ
プ3と回路基板4との間に入れ、ICチップ3の突起電
極5と回路基板4上の電極6とを位置合わせした後、I
Cチップ3を加熱加圧ヘッド7で加熱加圧し熱硬化性樹
脂2を硬化させてICチップ3と回路基板4との接続を
行う方法である。
【0004】この方法で形成された接続部の断面図は図
3に示すようになる。図3はICチップ3と回路基板4
との接続部の状態を示す説明図であって、熱硬化性樹脂
2が加熱されることで一旦粘度が低下し加圧力で押し出
され、ICチップ3からはみ出してICチップ3の側面
と回路基板4上にフィレットのような形状となって硬化
した状態を示している。
【0005】このような状態からICチップを取り外す
方法として、図4に示すような方法がある。ICチップ
加熱・取り外しヘッド8をICチップ3の裏面に押し当
てて、ICチップ3に熱硬化性樹脂2のガラス転移温度
(以下、Tg点と略す)以上の熱を加えることにより、
熱硬化性樹脂2を軟化させながらICチップ加熱・取り
外しヘッド8の軸を回転させることにより、ICチップ
3に荷重を加え、ICチップ3を回路基板4より取り外
す方法がある。
【0006】なお、本明細書で述べる「ガラス転移温
度」とは、熱硬化性樹脂が硬化の状態から軟化の状態へ
と特性が変化する時の温度を意味する。
【0007】そして、熱硬化性樹脂のサイズはICチッ
プと回路基板との接着力を確保するために、ICチップ
と回路基板間を完全に充填するため、ICチップのサイ
ズより大きくする必要がある。ICチップと回路基板を
接続する際にICチップを加熱するため、ICチップ下
部の熱硬化性樹脂は充分に硬化は進行しているが、IC
チップ周辺にはみ出したフィレット状の熱硬化性樹脂は
それほど硬化は進行していない。しかし、ICチップを
取り外す際の加熱により、ICチップ周辺にはみ出した
フィレット状の熱硬化性樹脂はICチップ接続時より、
さらに硬化が進行する。その様子を図5に示す。図5は
ICチップ3の上から見た図で、回路基板4上に熱硬化
性樹脂2によりICチップ3が接続されている状態であ
る。ICチップ3を加熱するとICチップ3を中心に放
射状に熱が伝わる。そのためICチップ3の下部の熱硬
化性樹脂2はTg点以上の熱が伝わり軟化するが、IC
チップ3の周辺にはみ出したフィレット状の熱硬化性樹
脂2aはTg点以上の熱が伝わらないため、さらに硬化
が進行する。
【0008】また、図3の実装時の硬化状態と比較する
と、硬化している領域としては増加する。これにより、
ICチップ3に荷重を加えて取り外そうとするとICチ
ップ3を留まらせようとする応力が働きICチップ3が
取り外し難い。また、ICチップ3を取り外す際にIC
チップ3が欠け、その欠けたICチップ3が回路基板4
上の導体パターンを傷付けるといったことがある。
【0009】さらには、ICチップを取り外した後の回
路基板上に熱硬化性樹脂が残留する。その様子を図6に
示す。図6は回路基板4の上から見た図で、回路基板4
上にICチップのあった部分の残留熱硬化性樹脂2b
と、ICチップ周辺にはみ出したフィレット状の熱硬化
性樹脂2aおよび熱がほとんど伝わっていない熱硬化性
樹脂2cのそれぞれ硬化状態が異なっている熱硬化性樹
脂があり、熱がほとんど伝わっていない熱硬化性樹脂2
cはもちろんのこと、ICチップのあった部分の残留熱
硬化性樹脂2bはTg点以上の熱が加えられているた
め、有機溶剤にて容易に取り除くことができる。しか
し、ICチップ周辺にはみ出したフィレット状の熱硬化
性樹脂2aはICチップ取り外し加熱時にTg点以上の
熱が伝わっていないため、より一層硬化が進行してお
り、かつ硬化する領域としてもICチップ取り外し作業
前に比べて増加している。そのため有機溶剤を用いても
熱硬化性樹脂を取り除くことが難しい。すなわち、回路
基板上をクリーニングする際に作業性が悪く、作業時間
がかかるといった問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従来のICチップ取り
外し方法では、前記するようにICチップ3にTg点以
上の熱と荷重を加えて回路基板4より取り外そうとする
と、ICチップ周辺にはみ出したフィレット状の熱硬化
性樹脂を取り除くことが困難となる。
【0011】そこで、本発明は前記する従来のICチッ
プ取り外し方法による問題点をなくして、ICチップ周
辺にはみ出したフィレット状の熱硬化性樹脂を容易に取
り除くことができるICチップの取り外し方法を提供す
るものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、本発明によるICチップ取り外し方法は、IC
チップの周囲にはみ出した熱硬化性樹脂を有機溶剤を用
いて取り除いた後、前記ICチップと回路基板間に介在
する前記熱硬化性樹脂にTg点以上の熱を加えて軟化さ
せながら前記ICチップに荷重を加えることにより、前
記ICチップを取り外すことを特徴としている。
【0013】本発明によれば、熱硬化性樹脂に熱を加え
る前に、ICチップの周囲にはみ出した熱硬化性樹脂を
有機溶剤を用いて取り除いているから、熱硬化性樹脂に
熱を加える際の熱硬化の進行度、および熱硬化する領域
の増加を防ぐことになる。このことは、ICチップ取り
外し時のICチップの欠けを起こす確率を低下させ、回
路基板上へのダメージを低減でき、ICチップ取り外し
作業性を向上させる。また、前記回路基板上への熱硬化
が進行した熱硬化性樹脂の残留量を減らし、クリーニン
グ作業性の向上および作業時間の短縮を実現できる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明は請求項1に記載のよう
に、熱硬化性樹脂を用いて回路基板に実装したICチッ
プを前記回路基板から取り外す際に、前記ICチップの
周囲にはみ出している熱硬化性樹脂を有機溶剤を用いて
取り除いた後、前記ICチップと前記回路基板間に介在
する前記熱硬化性樹脂に前記熱硬化性樹脂のガラス転移
温度以上の熱を加えて軟化させながら前記ICチップに
荷重を加えて取り外すことにより、ICチップの取り外
し性を向上させ回路基板上へのダメージを低減し、かつ
前記回路基板上への硬化が進行した熱硬化性樹脂の残留
量を減らし、クリーニング作業性の向上および作業時間
の短縮を図ることができる。
【0015】
【実施例】以下に、本発明の実施例について、図1を参
照しながら説明する。
【0016】図1は本発明によるICチップ取り外し方
法を説明するための図で、液晶表示装置(以下、液晶パ
ネルと略す)の液晶駆動用ICチップとの接続部の状態
およびICチップ取り外し方法を示す要部断面図であ
る。なお、図2ないし図6に示す従来例と同じ部分につ
いては同一番号を付与する。図1において、液晶パネル
を構成するガラス基板9上に導体パターン10が形成さ
れており、その導体パターン10上に電極6が形成され
ている。その上に突起電極5を有するICチップ3が熱
硬化性樹脂2により接続されている。この時、使用した
ガラス基板9の厚さは1.1mmのもので、熱硬化性樹
脂2の幅,長さおよび厚さは2.5mm×16mm×2
3μmで、ICチップ3の幅,長さおよび厚さは2.4
mm×12mm×0.55mmである。まず、この状態
からICチップの周囲にはみ出している熱硬化性樹脂1
1を有機溶剤を用いて取り除く。用いた有機溶剤はアセ
トンである。ガラス基板9上の導体パターン10をアセ
トンを湿らした綿棒にて、こするようにしてICチップ
の周囲にはみ出している熱硬化性樹脂11を取り除い
た。この行為により、ICチップ取り外し加熱時による
ICチップ周辺エッジ近傍部分の熱硬化性樹脂の熱硬化
の進行、および熱硬化領域の増加を防ぎ、ICチップ取
り外し作業性、およびICチップ取り外し後のクリーニ
ング作業性の向上に寄与する。
【0017】ICチップの周囲にはみ出している熱硬化
性樹脂11を取り除いた後、ICチップ加熱・取り外し
ヘッド8をICチップ3の裏面に押し当てて熱を加え
て、ICチップとガラス基板間に介在する熱硬化性樹脂
12を軟化させながらICチップ加熱・取り外しヘッド
8の軸を回転させることにより、ICチップ3に荷重を
加え、ICチップ3を取り外す。
【0018】この時のICチップ加熱・取り外しヘッド
8の温度は、熱硬化性樹脂2のガラス転移温度(約13
0℃)より高い220〜240℃で実施した。
【0019】なお、本実施例では、液晶パネルの場合に
ついて示したが、液晶以外の分野においても熱硬化性樹
脂を用いてICチップを実装する分野において本発明は
有効である。
【0020】
【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明に
よれば回路基板からICチップを取り外す際、ICチッ
プの周囲にはみ出した熱硬化性樹脂を有機溶剤を用いて
取り除いた後に、ICチップと回路基板間に介在する熱
硬化性樹脂をICチップに熱を加えてICチップを取り
外すことによりICチップの欠けを防ぎ、また回路基板
上へのダメージを低減させ、かつ容易に取り外すことが
できる。さらには、回路基板上への熱硬化性樹脂の残留
量を減らし、クリーニング作業性の向上、作業時間の短
縮を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における液晶表示装置の液晶
駆動用ICチップとの接続部の状態およびICチップ取
り外し方法を示す説明図
【図2】従来例におけるICチップと回路基板との接続
方法の構成を示す説明図
【図3】従来例におけるICチップと回路基板との接続
部の状態を示す説明図
【図4】従来例におけるICチップ取り外し方法を示す
説明図
【図5】従来例におけるICチップ取り外し時の加熱に
よる熱硬化性樹脂の硬化の様子を示す状態説明図
【図6】従来例におけるICチップ取り外した後の回路
基板上に残留している熱硬化性樹脂の様子を示す状態説
明図
【符号の説明】 2 熱硬化性樹脂 3 ICチップ 5 突起電極 6 電極 8 ICチップ加熱・取り外しヘッド 9 ガラス基板 10 導体パターン 11 ICチップの周囲にはみ出している熱硬化性樹脂 12 ICチップとガラス基板間に介在する熱硬化性樹

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱硬化性樹脂を用いて回路基板に実装し
    たICチップを前記回路基板から取り外す際に、前記I
    Cチップの周囲にはみ出している熱硬化性樹脂を有機溶
    剤を用いて取り除いた後、前記ICチップと前記回路基
    板間に介在する前記熱硬化性樹脂に前記熱硬化性樹脂の
    ガラス転移温度以上の熱を加えて軟化させながら前記I
    Cチップに荷重を加えて取り外すことを特徴とするIC
    チップの取り外し方法。
JP30967097A 1997-10-24 1997-10-24 Icチップの取り外し方法 Pending JPH11126799A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007093350A1 (de) * 2006-02-13 2007-08-23 Htc Beteiligungs Gmbh Verfahren zum austauschen eines halbleiterchips eines flip-chip-moduls und ein hierfür geeignetes flip-chip-modul

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007093350A1 (de) * 2006-02-13 2007-08-23 Htc Beteiligungs Gmbh Verfahren zum austauschen eines halbleiterchips eines flip-chip-moduls und ein hierfür geeignetes flip-chip-modul
DE102006006561B4 (de) * 2006-02-13 2009-03-05 Htc Beteiligungs Gmbh Flip-Chip-Modul und Verfahren zum Austauschen eines Halbleiterchips eines Flip-Chip-Moduls
US8084298B2 (en) 2006-02-13 2011-12-27 Htc Beteiligungs Gmbh Method for exchanging semiconductor chip of flip-chip module and flip-chip module suitable therefor

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