JPH1112556A - 紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物 - Google Patents
紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物Info
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- JPH1112556A JPH1112556A JP9171392A JP17139297A JPH1112556A JP H1112556 A JPH1112556 A JP H1112556A JP 9171392 A JP9171392 A JP 9171392A JP 17139297 A JP17139297 A JP 17139297A JP H1112556 A JPH1112556 A JP H1112556A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/148—Polysiloxanes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 紫外線照射の際酸素分圧が高くても硬化可能
な、従って紫外線照射装置内空気を窒素ガスで十分にパ
ージする必要のない、従って窒素コストなどが低く、経
済的な紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物。 【解決手段】 （Ａ）１分子中に少なくとも２個のラジ
カル重合性基を有するオルガノポリシロキサン 100重量
部、（Ｂ）３級アミン化合物 0.1〜10重量部、（Ｃ）光
開始剤 0.1〜10重量部からなることを特徴とする紫外線
硬化型シリコーン剥離性組成物。
な、従って紫外線照射装置内空気を窒素ガスで十分にパ
ージする必要のない、従って窒素コストなどが低く、経
済的な紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物。 【解決手段】 （Ａ）１分子中に少なくとも２個のラジ
カル重合性基を有するオルガノポリシロキサン 100重量
部、（Ｂ）３級アミン化合物 0.1〜10重量部、（Ｃ）光
開始剤 0.1〜10重量部からなることを特徴とする紫外線
硬化型シリコーン剥離性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は紫外線硬化型シリコ
ーン剥離性組成物に関するもので、硬化皮膜が剥離性を
示すことから粘着テープの背面処理剤、粘着ラベル用剥
離紙コーティング材として使用される紫外線硬化型剥離
性組成物に関するものである。
ーン剥離性組成物に関するもので、硬化皮膜が剥離性を
示すことから粘着テープの背面処理剤、粘着ラベル用剥
離紙コーティング材として使用される紫外線硬化型剥離
性組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】紫外線硬化型シリコーン剥離剤は種々の
形態のものが提案されており、ほとんどのものはシロキ
サン主鎖にラジカル反応性の官能基を導入したシリコー
ンが主剤となっている。これらのシリコーンは紫外線照
射により発生したラジカルにより反応が起こり、硬化が
進行すると考えられている。硬化がラジカル反応で進行
するため硬化は非常に短時間で終了し高い生産性が期待
できる。また、これら紫外線硬化型シリコーン剥離剤の
用途としては各基材の表面処理剤として、特に剥離剤が
粘着物質を容易に剥離する性質を有するため、粘着テー
プの背面処理や粘着ラベル用剥離剤として利用されてい
る。
形態のものが提案されており、ほとんどのものはシロキ
サン主鎖にラジカル反応性の官能基を導入したシリコー
ンが主剤となっている。これらのシリコーンは紫外線照
射により発生したラジカルにより反応が起こり、硬化が
進行すると考えられている。硬化がラジカル反応で進行
するため硬化は非常に短時間で終了し高い生産性が期待
できる。また、これら紫外線硬化型シリコーン剥離剤の
用途としては各基材の表面処理剤として、特に剥離剤が
粘着物質を容易に剥離する性質を有するため、粘着テー
プの背面処理や粘着ラベル用剥離剤として利用されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、紫外線硬化型
シリコーンを紫外線照射によって硬化させる際、空気中
の酸素分子によってラジカル反応が阻害され、しばしば
硬化不良を引き起こす問題があった、この問題を解決す
るため紫外線照射装置内空気を窒素ガスでパージする方
法があるが、窒素使用に伴うコストの問題、また装置内
を機密に保てる特殊な照射装置が必要なことから、酸素
分圧が高くても硬化可能な紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物が望まれていた。
シリコーンを紫外線照射によって硬化させる際、空気中
の酸素分子によってラジカル反応が阻害され、しばしば
硬化不良を引き起こす問題があった、この問題を解決す
るため紫外線照射装置内空気を窒素ガスでパージする方
法があるが、窒素使用に伴うコストの問題、また装置内
を機密に保てる特殊な照射装置が必要なことから、酸素
分圧が高くても硬化可能な紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】発明者らはラジカル重合
性オルガノポリシロキサンに３級アミン化合物を 0.1〜
10重量％添加することにより、硬化時に従来よりも少量
の窒素使用で、同等の硬化速度を得ることができた。即
ち本発明は （Ａ）１分子中に少なくとも２個のラジカル重合性基を有するオルガノポリシロ キサン 100重量部 （Ｂ）３級アミン化合物 0.1〜10重量部 （Ｃ）光開始剤 0.1〜10重量部 からなることを特徴とする紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物であり、３級アミン化合物が下記一般式（化
５）で示される上記紫外線硬化型シリコーン剥離性組成
物であり、
性オルガノポリシロキサンに３級アミン化合物を 0.1〜
10重量％添加することにより、硬化時に従来よりも少量
の窒素使用で、同等の硬化速度を得ることができた。即
ち本発明は （Ａ）１分子中に少なくとも２個のラジカル重合性基を有するオルガノポリシロ キサン 100重量部 （Ｂ）３級アミン化合物 0.1〜10重量部 （Ｃ）光開始剤 0.1〜10重量部 からなることを特徴とする紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物であり、３級アミン化合物が下記一般式（化
５）で示される上記紫外線硬化型シリコーン剥離性組成
物であり、
【化５】 ［R1、R2はそれぞれメチル基、エチル基などの炭素数１
〜８までのアルキル基、R3は水素原子；水酸基；エーテ
ル基；アルキル基、ビニル基、アリル基、アリール基な
どの炭化水素基；塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原
子；ケトン、アルデヒドなどのカルボニル基；カルボキ
シル基を含む基およびその誘導体；シアノ基、ニトロ
基、アミノ基のような窒素原子を含む基；メルカプト
基、−SO3H基など硫黄原子を含む基］ ラジカル重合性基を有するオルガノポリシロキサンが下
記一般式（化６）で示される上記の紫外線硬化型シリコ
ーン剥離性組成物である。
〜８までのアルキル基、R3は水素原子；水酸基；エーテ
ル基；アルキル基、ビニル基、アリル基、アリール基な
どの炭化水素基；塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原
子；ケトン、アルデヒドなどのカルボニル基；カルボキ
シル基を含む基およびその誘導体；シアノ基、ニトロ
基、アミノ基のような窒素原子を含む基；メルカプト
基、−SO3H基など硫黄原子を含む基］ ラジカル重合性基を有するオルガノポリシロキサンが下
記一般式（化６）で示される上記の紫外線硬化型シリコ
ーン剥離性組成物である。
【化６】 ［R4は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基あるい
はフェニル基、R5はR1と同じ基又は（化７）（R6は水素
原子またはメチル基、ｎは１〜３）で示される基または
（化８）（R6は上記に同じ）で示される基でその３〜30
モル％が（化７）または（化８）であるもの、ａ、ｂ、
ｄはそれぞれ10以上、200 未満の数、ｃは０〜３の数］
はフェニル基、R5はR1と同じ基又は（化７）（R6は水素
原子またはメチル基、ｎは１〜３）で示される基または
（化８）（R6は上記に同じ）で示される基でその３〜30
モル％が（化７）または（化８）であるもの、ａ、ｂ、
ｄはそれぞれ10以上、200 未満の数、ｃは０〜３の数］
【化７】
【化８】
【０００５】
【発明の実施の形態】発明者らは従来の硬化性シリコー
ン剥離性組成物よりも酸素による阻害を受けにくい紫外
線硬化性シリコーン剥離性組成物を得るために種々検討
した結果、上記組成物により目的とする効果が得られる
ことを確認し本発明を完成させた。本発明における
（Ａ）のラジカル重合性基を有するオルガノポリシロキ
サンとしては、シリコーン主鎖に（メタ）アクリロイル
基または（メタ）アクリロキシ基を１分子中に２個以上
有するものが好ましい。（メタ）アクリロイル基または
（メタ）アクリロキシ基のシリコーン主鎖への導入方法
としては特公平7-26146号に示される方法が１例として
挙げられる。またそこに示されているようにオルガノポ
リシロキサンは分子内にＴ単位を含む分岐型オルガノポ
リシロキサンであっても良い。またアクリロイル基が酸
素原子を介してケイ素原子に結合していてもよく、この
ものはヒドロキシルエチルアクリレートと直鎖状あるい
は分岐型オルガノハイドロジェンポリシロキサンを脱水
素縮合して合成することができる。
ン剥離性組成物よりも酸素による阻害を受けにくい紫外
線硬化性シリコーン剥離性組成物を得るために種々検討
した結果、上記組成物により目的とする効果が得られる
ことを確認し本発明を完成させた。本発明における
（Ａ）のラジカル重合性基を有するオルガノポリシロキ
サンとしては、シリコーン主鎖に（メタ）アクリロイル
基または（メタ）アクリロキシ基を１分子中に２個以上
有するものが好ましい。（メタ）アクリロイル基または
（メタ）アクリロキシ基のシリコーン主鎖への導入方法
としては特公平7-26146号に示される方法が１例として
挙げられる。またそこに示されているようにオルガノポ
リシロキサンは分子内にＴ単位を含む分岐型オルガノポ
リシロキサンであっても良い。またアクリロイル基が酸
素原子を介してケイ素原子に結合していてもよく、この
ものはヒドロキシルエチルアクリレートと直鎖状あるい
は分岐型オルガノハイドロジェンポリシロキサンを脱水
素縮合して合成することができる。
【０００６】本発明における（Ｂ）の３級アミン化合物
としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、その他、芳香環上に置換基がある、Ｎ，Ｎ
−ジメチルトルイジン、４−ｔｅｒｔブチル−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェノー
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸、４−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチ
ル−１，４−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸イソアミルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸２−エチルヘキシルエステルなどが挙げられる
が、シリコーンとの相溶性にすぐれた、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルエステルが特に有
効である。３級アミン化合物の使用量としてはラジカル
重合性オルガノポリシロキサン 100重量部に対して 0.1
〜10重量部添加すればよく、その量は塗工条件によって
も異なるが、塗工する膜厚が１μｍ程度では添加量は１
〜５重量部であることが好ましい。この場合３級アミン
化合物の添加量が 0.1重量部未満であると目的とする効
果が得られず、10重量部より多くなると得られた硬化皮
膜が着色したり、剥離紙として使用した場合、残留接着
率を低下させる等の問題がある。
としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、その他、芳香環上に置換基がある、Ｎ，Ｎ
−ジメチルトルイジン、４−ｔｅｒｔブチル−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェノー
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸、４−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチ
ル−１，４−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸イソアミルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸２−エチルヘキシルエステルなどが挙げられる
が、シリコーンとの相溶性にすぐれた、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルエステルが特に有
効である。３級アミン化合物の使用量としてはラジカル
重合性オルガノポリシロキサン 100重量部に対して 0.1
〜10重量部添加すればよく、その量は塗工条件によって
も異なるが、塗工する膜厚が１μｍ程度では添加量は１
〜５重量部であることが好ましい。この場合３級アミン
化合物の添加量が 0.1重量部未満であると目的とする効
果が得られず、10重量部より多くなると得られた硬化皮
膜が着色したり、剥離紙として使用した場合、残留接着
率を低下させる等の問題がある。
【０００７】本発明における（Ｃ）の光開始剤として
は、開裂性アセトフェノン系開始剤があり、これらは２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，２，−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパン、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドな
どが例示されル。ベンゾインエーテル系開始剤としては
ベンゾインイソプロピルエーテルやベンゾインイソブチ
ルエーテル、水素引き抜き型であるベンゾフェノンや２
−イソプロピルチオキサントン、２−エチルアントラキ
ノンなどが例示される。光開始剤の量としてはラジカル
重合性オルガノポリシロキサン 100重量部に対して 0.1
〜10重量部添加すればよく、好ましくは１〜５重量部で
ある。光開始剤化合物の添加量が 0.1重量部未満である
と十分な硬化速度が得られず、10重量部より多くなると
保存安定性が低下する。本発明の組成物には必要に応じ
て、反応性希釈剤、有機溶剤、レベリング剤、充填剤、
帯電防止剤、消泡剤、顔料、非反応性オルガノポリシロ
キサンなどを添加してもよい。この場合本発明の組成物
中の主成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の量に対して反応性
希釈剤、有機溶剤は５〜50重量％、その他添加剤は0.1
〜10重量％が好ましい。
は、開裂性アセトフェノン系開始剤があり、これらは２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，２，−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパン、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドな
どが例示されル。ベンゾインエーテル系開始剤としては
ベンゾインイソプロピルエーテルやベンゾインイソブチ
ルエーテル、水素引き抜き型であるベンゾフェノンや２
−イソプロピルチオキサントン、２−エチルアントラキ
ノンなどが例示される。光開始剤の量としてはラジカル
重合性オルガノポリシロキサン 100重量部に対して 0.1
〜10重量部添加すればよく、好ましくは１〜５重量部で
ある。光開始剤化合物の添加量が 0.1重量部未満である
と十分な硬化速度が得られず、10重量部より多くなると
保存安定性が低下する。本発明の組成物には必要に応じ
て、反応性希釈剤、有機溶剤、レベリング剤、充填剤、
帯電防止剤、消泡剤、顔料、非反応性オルガノポリシロ
キサンなどを添加してもよい。この場合本発明の組成物
中の主成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の量に対して反応性
希釈剤、有機溶剤は５〜50重量％、その他添加剤は0.1
〜10重量％が好ましい。
【０００８】本発明の組成物を塗布する基材としては、
ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミドな
どの合成樹脂から得られるプラスティックフィルム及び
シート；グラシン紙、クラフト紙、クレーコート紙など
の紙基材；ポリエチレンラミネート上質紙、ポリエチレ
ンラミネートクラフト紙などのラミネート紙が使用でき
る。基材に本組成物を塗布するにはロール塗布、グラビ
ア塗布、ワイヤードクター塗布、エアーナイフ塗布、デ
ィッピング塗布などの公知の方法を用いることができ
る。塗布量としては本発明の組成物ベースで通常0.1 〜
20.0g/m2が必要である。本発明において使用する紫外線
の光源としては水銀アーク灯、中圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプから発生する紫外線などが例示されるが、上記
した塗膜を硬化させるために線量は例えば２ｋＷの高圧
水銀灯（80W/cm）を使用したとき８cmの距離から 0.1〜
10秒照射すればよい。
ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミドな
どの合成樹脂から得られるプラスティックフィルム及び
シート；グラシン紙、クラフト紙、クレーコート紙など
の紙基材；ポリエチレンラミネート上質紙、ポリエチレ
ンラミネートクラフト紙などのラミネート紙が使用でき
る。基材に本組成物を塗布するにはロール塗布、グラビ
ア塗布、ワイヤードクター塗布、エアーナイフ塗布、デ
ィッピング塗布などの公知の方法を用いることができ
る。塗布量としては本発明の組成物ベースで通常0.1 〜
20.0g/m2が必要である。本発明において使用する紫外線
の光源としては水銀アーク灯、中圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプから発生する紫外線などが例示されるが、上記
した塗膜を硬化させるために線量は例えば２ｋＷの高圧
水銀灯（80W/cm）を使用したとき８cmの距離から 0.1〜
10秒照射すればよい。
【０００９】
【実施例】次に本発明の実施例、比較例をあげるが、例
中の部は重量部を示したものであり、例中における物性
値は下記の試験法による測定値を示したものである。
中の部は重量部を示したものであり、例中における物性
値は下記の試験法による測定値を示したものである。
【００１０】（硬化性）紫外線硬化型シリコーン剥離剤
をポリエチレンラミネート紙に 1.0g/m2となるように塗
布し、酸素濃度が約２％になるように窒素ガスで紫外線
照射装置内の空気をを置換して、高圧水銀灯（80W/cm）
を１灯とし、硬化に要する最小の秒数を求めた。硬化の
判定は指触によって行なった。
をポリエチレンラミネート紙に 1.0g/m2となるように塗
布し、酸素濃度が約２％になるように窒素ガスで紫外線
照射装置内の空気をを置換して、高圧水銀灯（80W/cm）
を１灯とし、硬化に要する最小の秒数を求めた。硬化の
判定は指触によって行なった。
【００１１】（剥離性）照射時間を硬化に要する最小の
秒数とし、硬化性の評価の場合と全く同様に紫外線硬化
型シリコーン剥離剤を照射して硬化させたものを25℃で
20時間エージングした。その硬化皮膜面にアクリル樹脂
溶剤型粘着剤・オリバインＢＰＳ−8170［東洋インキ
（株）製商品名］を塗布し 100℃で３分間加熱処理した
後、この処理面に64g/m2の上質紙を貼合せ、25℃で３分
間エージングさせ、エージングの後の試料を５cm幅に切
断し、引っ張り試験器を用いて 180。の角度、剥離速度
300mm／分で貼合せフィルムを引っ張って剥離させるの
に要する力（g/５cm）を測定しこの値を剥離力とした。
秒数とし、硬化性の評価の場合と全く同様に紫外線硬化
型シリコーン剥離剤を照射して硬化させたものを25℃で
20時間エージングした。その硬化皮膜面にアクリル樹脂
溶剤型粘着剤・オリバインＢＰＳ−8170［東洋インキ
（株）製商品名］を塗布し 100℃で３分間加熱処理した
後、この処理面に64g/m2の上質紙を貼合せ、25℃で３分
間エージングさせ、エージングの後の試料を５cm幅に切
断し、引っ張り試験器を用いて 180。の角度、剥離速度
300mm／分で貼合せフィルムを引っ張って剥離させるの
に要する力（g/５cm）を測定しこの値を剥離力とした。
【００１２】（残留接着率）剥離性の場合と同様にして
ポリエチレンラミネート紙の上にオルガノポリシロキサ
ン組成物の硬化皮膜を形成し、エージングし、その表面
にポリエステルテープ No.31Ｂ［日東電工（株）製商品
名］を貼合せ、20g/cm2 の荷重をのせ70℃で20時間加熱
処理してからテープをはがしステンレス板に貼り付け
た。次にこの処理テープをはがしてステンレス板から剥
離させるのに要した力（g/2.5cm ）を測定し、この未処
理の標準テープを剥離させるのに要した力に対する百分
率を残留接着率とした。
ポリエチレンラミネート紙の上にオルガノポリシロキサ
ン組成物の硬化皮膜を形成し、エージングし、その表面
にポリエステルテープ No.31Ｂ［日東電工（株）製商品
名］を貼合せ、20g/cm2 の荷重をのせ70℃で20時間加熱
処理してからテープをはがしステンレス板に貼り付け
た。次にこの処理テープをはがしてステンレス板から剥
離させるのに要した力（g/2.5cm ）を測定し、この未処
理の標準テープを剥離させるのに要した力に対する百分
率を残留接着率とした。
【００１３】（実施例１）下記式（化９）のラジカル反
応性アクリルシリコーン 100重量部、光開始剤としてダ
ロキュア1173（Ｍｅｒｃｋ社製商品名）５重量部、ｐ−
（ジメチルアミノ）安息香酸イソアミルエステル３重量
部を均一になるまで混合し、硬化性、剥離力、残留接着
率を測定し、結果を表１に示した。
応性アクリルシリコーン 100重量部、光開始剤としてダ
ロキュア1173（Ｍｅｒｃｋ社製商品名）５重量部、ｐ−
（ジメチルアミノ）安息香酸イソアミルエステル３重量
部を均一になるまで混合し、硬化性、剥離力、残留接着
率を測定し、結果を表１に示した。
【化９】 ［R7、R8は（化１０）で示されるラジカル反応性基、R7
ではｎ＝２、R8ではｎ＝３、Meはメチル基を示す。］
ではｎ＝２、R8ではｎ＝３、Meはメチル基を示す。］
【化１０】
【００１４】（実施例２）ｐ−（ジメチルアミノ）安息
香酸イソアミルエステルの代わりに、ｐ−（ジメチルア
ミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステルを３重量部
用いた以外は実施例１と同様にして、硬化性、剥離力、
残留接着率を測定した。結果を表１に示した。
香酸イソアミルエステルの代わりに、ｐ−（ジメチルア
ミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステルを３重量部
用いた以外は実施例１と同様にして、硬化性、剥離力、
残留接着率を測定した。結果を表１に示した。
【００１５】（比較例１）ｐ−（ジメチルアミノ）安息
香酸イソアミルエステルを用いない以外は実施例１と同
様にして硬化性、剥離力、残留接着率を測定した。結果
を表１に示した。
香酸イソアミルエステルを用いない以外は実施例１と同
様にして硬化性、剥離力、残留接着率を測定した。結果
を表１に示した。
【００１６】（比較例２）ｐ−（ジメチルアミノ）安息
香酸イソアミルエステルを15重量部とした以外は実施例
１と同様にして、硬化性、剥離力、残留接着率を測定し
た。結果を表１に示す。なお硬化被膜に黄変が認められ
た。
香酸イソアミルエステルを15重量部とした以外は実施例
１と同様にして、硬化性、剥離力、残留接着率を測定し
た。結果を表１に示す。なお硬化被膜に黄変が認められ
た。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【発明の効果】本発明の紫外線硬化型シリコーン剥離性
組成物によれば紫外線照射の際酸素分圧が高くても硬化
可能であるから、紫外線照射装置内空気を窒素ガスで十
分にパージする必要がなく、窒素コストなどが低くて済
み経済的である。
組成物によれば紫外線照射の際酸素分圧が高くても硬化
可能であるから、紫外線照射装置内空気を窒素ガスで十
分にパージする必要がなく、窒素コストなどが低くて済
み経済的である。
Claims (3)
- 【請求項１】 （Ａ）１分子中に少なくとも２個のラジカル重合性基を有するオルガノポリシロ キサン 100重量部 （Ｂ）３級アミン化合物 0.1〜10重量部 （Ｃ）光開始剤 0.1〜10重量部 からなることを特徴とする紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物 - 【請求項２】 ３級アミン化合物が下記一般式（化１）
で示される請求項１記載の紫外線硬化型シリコーン剥離
性組成物 【化１】 ［R1、R2はそれぞれメチル基、エチル基などの炭素数１
〜８までのアルキル基、R3は水素原子；水酸基；エーテ
ル基；アルキル基、ビニル基、アリル基、アリール基な
どの炭化水素基；塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原
子；ケトン、アルデヒドなどのカルボニル基；カルボキ
シル基を含む基およびその誘導体；シアノ基、ニトロ
基、アミノ基のような窒素原子を含む基；メルカプト
基、−SO3H基など硫黄原子を含む基］ - 【請求項３】 ラジカル重合性基を有するオルガノポリ
シロキサンが下記一般式（化２）で示される請求項１記
載の紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物。 【化２】 ［R4は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基あるい
はフェニル基、R5はR1と同じ基又は（化３）（R6は水素
原子またはメチル基、ｎは１〜３）で示される基または
（化４）（R6は上記に同じ）で示される基でその３〜30
モル％が（化３）または（化４）であるもの、ａ、ｂ、
ｄはそれぞれ10以上、200 未満の数、ｃは０〜３の数］ 【化３】 【化４】
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9171392A JPH1112556A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物 |
| US09/105,004 US6013693A (en) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Ultraviolet-curable silicone-based releasing composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9171392A JPH1112556A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112556A true JPH1112556A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15922320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9171392A Pending JPH1112556A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 紫外線硬化型シリコーン剥離性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6013693A (ja) |
| JP (1) | JPH1112556A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1757979A1 (en) | 2005-08-26 | 2007-02-28 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
| US8293810B2 (en) | 2005-08-29 | 2012-10-23 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
| JP2014189597A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止性剥離剤用組成物及び帯電防止性剥離フィルム |
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|---|---|---|---|---|
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| DE19940312A1 (de) * | 1999-08-25 | 2001-03-01 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung kratzfester Beschichtungen |
| US6656555B1 (en) * | 1999-10-13 | 2003-12-02 | Malessa Partners, L.L.C. | Integrated forms and method of making such forms |
| US7229517B2 (en) * | 2000-06-06 | 2007-06-12 | Applied Extrusion Technologies, Inc. | Labeling apparatus and method employing radiation curable adhesive |
| US7074295B2 (en) * | 2000-06-06 | 2006-07-11 | Applied Extrusion Technologies, Inc. | Labelling apparatus and method for correcting visual adhesive defects |
| DK1289839T3 (da) | 2000-06-06 | 2004-09-13 | Applied Extrusion Technologies | Etiketteringsanordning og -fremgangsmåde, der anvender strålingshærdbar klæber |
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| JP3513494B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2004-03-31 | 大日本印刷株式会社 | 円偏光制御光学素子の製造方法 |
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| US7982350B2 (en) | 2004-10-25 | 2011-07-19 | Novatorque, Inc. | Conical magnets and rotor-stator structures for electrodynamic machines |
| US8330316B2 (en) | 2011-03-09 | 2012-12-11 | Novatorque, Inc. | Rotor-stator structures including boost magnet structures for magnetic regions in rotor assemblies disposed external to boundaries of conically-shaped spaces |
| US8543365B1 (en) | 2004-10-25 | 2013-09-24 | Novatorque, Inc. | Computer-readable medium, a method and an apparatus for designing and simulating electrodynamic machines implementing conical and cylindrical magnets |
| US8283832B2 (en) * | 2004-10-25 | 2012-10-09 | Novatorque, Inc. | Sculpted field pole members and methods of forming the same for electrodynamic machines |
| US7294948B2 (en) * | 2004-10-25 | 2007-11-13 | Novatorque, Inc. | Rotor-stator structure for electrodynamic machines |
| US9093874B2 (en) | 2004-10-25 | 2015-07-28 | Novatorque, Inc. | Sculpted field pole members and methods of forming the same for electrodynamic machines |
| EP3597669A1 (en) | 2018-07-20 | 2020-01-22 | Clariant International Ltd | Photo-curable resin composition for 3d printing |
| EP3597668A1 (en) | 2018-07-20 | 2020-01-22 | Clariant International Ltd | Photo-curable resin composition for 3d printing |
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|---|---|---|---|---|
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| US4849461A (en) * | 1986-01-06 | 1989-07-18 | Dow Corning Corporation | Acryl functional silicone compounds |
| US5432208A (en) * | 1992-02-25 | 1995-07-11 | Japan Institute Of Advanced Dentistry | Photocuring adhesive containing an oligo siloxanyl di(meth)acrylate |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP9171392A patent/JPH1112556A/ja active Pending
-
1998
- 1998-06-26 US US09/105,004 patent/US6013693A/en not_active Expired - Lifetime
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| EP1757979A1 (en) | 2005-08-26 | 2007-02-28 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
| US8293810B2 (en) | 2005-08-29 | 2012-10-23 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
| JP2014189597A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止性剥離剤用組成物及び帯電防止性剥離フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6013693A (en) | 2000-01-11 |
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