TWI421307B - 紫外線可硬化聚矽氧組成物 - Google Patents

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Description

紫外線可硬化聚矽氧組成物
本發明關於一種紫外線可硬化脫膜劑組成物,其係因其硬化膜脫膜能力,可作為壓感黏著膠帶背面之處理劑,或者作為脫膜片用途之塗佈材料,如脫膜紙、脫膜塑膠膜或脫膜金屬箔,用於壓感黏著標籤。
各種紫外線可硬化聚矽氧組成物已經被提出。近年來,已提出許多硬化的方法,其中,係包含使用鎓鹽光起始劑作為催化劑以硬化含環氧基的聚矽氧烷(參考專利文獻1至3)。相對於利用自由基反應之硬化方法,此種硬化方法對於由氧引起之硬化抑制作用較不敏感,以及因為硬化反應有利於在空氣中進行,目前該組成物被用來作為壓感黏著膠帶背面之處理劑使用,及作為脫膜片的塗佈材料如脫膜紙、脫膜塑膠膜、或者脫膜金屬箔,用於壓感黏著標籤。
舉例來說,一種包裝膠帶,其包括基材膠帶及塗佈於基材膠帶一面的壓感黏著劑,且進一步包括塗佈於基材膠帶另一面的脫膜塗料。該包裝膠帶在使用前係被纏繞成捲狀物使壓感黏著塗料與脫膜塗料接觸。藉由自脫膜塗料面剝除其壓感黏著層的一面而將包裝膠帶鬆開以使用。將脫膜塗佈物自壓感黏著層剝離所需之最小的力稱為”脫膜力”。
此外,包裝膠帶被廣泛地應用於自動化膠黏作業,以 及此自動化膠黏機被設計用於操作均勻脫膜力之膠帶。若脫膜力小,則在脫膜時之脫膜力變動為最小,但若脫膜力大,則脫膜力變動有增加的傾向。若此脫膜力變動很大,則以均勻脫膜力為前提所設計的自動化膠黏機可能無法正常運作。因此,若脫膜力變動很大時,剝除噪音有增加的趨勢。就保持合適的作業環境而言,減低此剝除噪音通常是合意的。
如同上述的理由,一種顯示在剝除時有最小脫膜力變動的緊密脫膜力之脫膜劑是值得開發的。
【專利文獻1】GB 2 13 842 A【專利文獻2】EP 0 391 162 A2【專利文獻3】US 2003/0232900 A1
發明概述
如同上述的理由,已密切追求開發一種產生優良紫外線硬化力及易於由壓感黏著材料剝除的硬化膜之聚矽氧組成物,特別是,相對於壓感黏著劑(如壓克力基)顯示緊密脫膜力(即將硬化膜自壓感黏著劑剝除時所必須的相當大脫膜力)並顯示最小脫膜力變動的硬化膜之聚矽氧組成物。
本發明關於一種如下所述的紫外線可硬化聚矽氧組成物,其係包括固定摻合比例之含非末端環氧基之有機聚矽氧烷(A)與在兩末端含末端環氧基之有機聚矽氧烷(B),及亦可包括固定摻合量之含Q單元(即以SiO4/2 代表的四官能 矽氧烷單元)之有機聚矽氧烷(C)與含環氧基之有機聚矽氧烷(D)的混合物。
也就是說,藉由以開發如上所述組成物的種類為目標之密集研究,本發明之發明者發現如上所述問題可由利用下述組成物來滿足,因此,他們能夠完成此發明。
本發明提供一種紫外線可硬化聚矽氧組成物,其包括:(A)100質量份的如下式(1)代表之含環氧基之有機聚矽氧烷: (其中,R代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,Ep代表含環氧基之取代基,a與b代表滿足45≦a+b≦150,1≦a和0≦b之整數,以及平均環氧當量不超過700 g/mol)
(B)1到15質量份如下式(2)代表的含末端環氧基之有機聚矽氧烷: (其中,R1 代表除芳基外的未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,Ep代表含環氧基之取代基,R2 代表芳基,以及c與d代表滿足45≦c+d≦350,和0.05≦c/(2+c+d) ≦0.30之正整數),以及一種鎓鹽光起始劑。
本發明同時提供一種作為上述組成物之較佳具體實例之組成物,其包括上述成分(A)及(B),以及進一步包括預定摻合量之下述成分(C)及(D),該兩種成分之混合物中,其混合比例(質量比)滿足(C)/(D)=0.1到1.5。
(C)一種如下式(3)表示的有機聚矽氧烷: [其中,R代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,每個X獨立代表氫原子或選自以如下通式(i)到(iii)代表的取代基所組成之取代基組群,以及e,f和g為正數使得e/(f+g)在0.5到2.0的範圍內: (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,以及p代表0或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,q代表0或更大的整數,以及r代表1或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,s代表2或更大的整數,以及t代表1或更大的整數)]
(D)至少一種成員,其係選自由以下所示之式(4)代表的含環氧基之有機聚矽氧烷及以下所示之式(5)代表的含環氧基之有機聚矽氧烷所組成之組群: (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少 兩個R3 基代表含環氧基的取代基,以及h代表3或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少兩個R3 基代表含環氧基的取代基,以及每個i代表3或更大的整數)。
也就是說,藉由以開發一種經紫外線照射即硬化及產生顯示最小脫膜力變動的緊密脫膜力之硬化膜的聚矽氧組成物為目標的各種研究,本發明之發明人發現此目標可藉由添加一種作為催化劑之鎓鹽光起始劑於組成物中達成,該組成物的製備為摻合含有只作為非末端鏈之環氧基(即在分子鏈內作為鍵結至非末端矽原子之取代基)及具有環氧當量不超過700 mol/g之有機聚矽氧烷,與預定摻合量之於分子中含至少5莫耳%的二芳基矽氧烷單元與只在兩端分子鏈上含環氧基的有機聚矽氧烷。然後將生成的組成物塗佈於基材上,並由紫外線照射硬化,形成的硬化膜顯示優良的自壓感黏著材料脫膜的能力,及亦於剝除時顯示具最小脫膜力變動的緊密脫膜力。因此,發明人能完成本發明。
本發明同時提供一種藉由硬化如上所述組成物所獲得之硬化產物。
本發明進一步提供一種脫膜片,其包括基材,及提供 於基材單面或雙面藉由硬化如上述組成物層之硬化產物層。
此外,本發明提供一種製造脫膜片方法,其包括基材,及提供於基材單面或雙面藉由硬化如上述組成物層之硬化產物層。該方法包括以下步驟:將組成物塗佈於基材之單面或雙面,及將所得到的組成物層經紫外線光照射而硬化以形成硬化產物。
即使使用具有相同聚矽氧組成物的脫膜片(如脫膜紙、脫膜塑膠膜,或者脫膜金屬箔),依據所使用之壓感黏著劑,其脫膜力有很大的變動。然而,在本發明的說明中,在那些使用壓克力壓感黏著膠帶的例子中,如實例中所使用的Tesa-7475膠帶,”緊密脫膜力”被定義為1.0N/25mm或更大。
本發明組成物使用鎓鹽光起始劑作為催化劑,且一經紫外線照射即硬化形成一種適宜地與如塑膠的基材鍵結、可自壓感黏著劑剝除,並在剝除時顯示最小脫膜力變動的緊密脫膜力之硬化膜。
較佳具體實例之詳細說明
以下為本發明組成物之更詳細的說明。
〔成分(A)]
本發明紫外線可硬化聚矽氧組成物之成分(A)的有機聚 矽氧烷為一種直鏈的二有機聚矽氧烷,其含有只作為與分子鏈中非末端矽氧烷單元的矽原子鍵結之取代基(即只作為側基)的含環氧基之取代基,如下式(1)代表:
在式(1)中,R代表選自未經取代與經取代之1至10個碳原子之單價烴基之基團,以及具體實例包括烷基,如甲基、乙基、丙基或丁基;環烷基,如環己基;芳基,如苯基或甲苯基;以及上述基團之一者中的鍵結至碳原子的一部分或全部的氫原子已被羥基、氰基或鹵素原子或類似者所取代的基團,如羥丙基、氰乙基、1-氯丙基或3,3,3-三氟丙基。就達成本發明含環氧基有機聚矽氧烷硬化產物的有利脫膜能力而言,烷基或芳基是較佳的。
Ep代表含環氧基的取代基,以及具體實例包括以下所述基團:
a與b為滿足1a及0b的整數,以正整數為較佳。成分(A)的平均聚合程度較佳為45a+b150,更佳為45a+b100。若a+b少於45,則黏度太低;而若a+b超過150,則黏度太高,造成塗佈能力劣化。此外,平均環氧當量一定不大於700 g/mol,其較佳者為不大於650 g/mol。特別地,a與b較佳滿足0.1a/a+b0.3,以及更佳為滿足0.1a/a+b0.2。若環氧當量高於700 g/mol(即環氧基含量較低),則形成的硬化膜無法表現緊密脫膜力,以及對於塑膠膜的黏著會劣化。該成分(A)可為單一的只在分子鏈中非末端位置含有環氧基之直鏈二有機聚矽氧烷,如上式(1)所示,或者是兩種或多種此等直鏈二有機聚矽氧烷的混合物。
〔成分(B)]
含末端環氧基的有機聚矽氧烷的成分(B)為直鏈二有機聚矽氧烷,其含有只作為與分子鏈兩末端矽原子鍵結的取 代基的含環氧基取代基,以及其亦含有二芳基矽氧烷單元作為基本單元,以如下之平均組成式(2)代表:
在式(2)中,R1 代表一種除芳基外的未經取代或經取代的1至10個碳原子之單價烴基,以及具體實例包括烷基,如甲基、乙基、丙基或丁基;環烷基,如環己基;以及上述基團之一者中的鍵結至碳原子的一部分或全部的氫原子已被羥基、氰基或鹵素原子或類似者所取代的基團,如羥丙基、氰乙基、1-氯丙基或3,3,3-三氟丙基。其中,甲基為較佳者。
Ep代表含環氧基的取代基,以及具體實例包括如下所述基團:
其中,R2 代表芳基,如苯基或甲苯基。此外,c與d為正整數,以及成分(B)的平均聚合程度較佳使得 45c+d350,而更佳為45c+d100。若c+d少於45,則脫膜力變動有增加傾向;而若c+d超過350,則黏度太高,造成組成物塗佈性質劣化。
代表在每分子中二芳基矽氧烷單元量的c值,必須滿足0.05c/(2+c+d)0.30,以及較佳滿足0.05c/(2+c+d)0.20。若c/(2+c+d)的值小於0.05,則脫膜力變動傾向增加;而若c/(2+c+d)超過0.30,則黏度太高,造成塗佈性質劣化。成分(B)可為單一的只在分子鏈兩末端含環氧基之直鏈二有機聚矽氧烷,如上式(2)中所示,或者是兩種或多種此等直鏈二有機聚矽氧烷的混合物。
成分(B)的添加量通常為每100質量份的成分(A),1到15質量份,較佳為1到10質量份,更佳為1到5質量份。若此添加量少於1質量份,則脫膜力變動傾向增加。相反地,若添加量超過15質量份,則由所得到的組成物所產生的硬化膜可能無法顯示緊密脫膜力。
〔成分(C)]
含Q單元有機聚矽氧烷的成分(C)為三維網狀結構的有機聚矽氧烷,以平均組成式(3)代表如下:
在式(3)中,R代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,以及具體實例包括烷基,如甲基、乙基、 丙基或丁基;環烷基,如環己基;芳基,如苯基或甲苯基;以及上述基團之一者中的鍵結至碳原子的一部分或全部的氫原子已被羥基、氰基或鹵素原子或類似者所取代的基團,如羥丙基、氰乙基、1-氯丙基或3,3,3-三氟丙基。就達成本發明組成物之硬化產物的有利脫膜性而言,R較佳為烷基或芳基,而最佳為烷基。
每個X獨立代表氫原子或選自由以下通式(i)-(iii)代表之取代基所組成的組群中之取代基,以及至少一個X基係較佳為選自由以下通式代表之取代基所組成之組群之含環氧基的取代基。
在各通式(i)到(iii)中,每個R3 獨立代表未經取代或經取代的1到10碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基, 其限制條件為至少一個R3 基代表含環氧基的取代基。R3 中未經取代或經取代的1到10碳原子之單價烴基的具體實例包括烷基,如甲基、乙基、丙基或丁基;環烷基,如環己基;芳基,如苯基或甲苯基;以及上述基團之一者中的鍵結至碳原子的一部分或全部的氫原子已被羥基、氰基或鹵素原子或類似者所取代的基團,如羥丙基、氰乙基、1-氯丙基或3,3,3-三氟丙基。每個R3 基可以是不同的。
R3 的含環氧基取代基的具體實例包括如下所述基團:
而且,s代表2或更大的整數,r和t各代表1或更大的整數,以及p和q代表0或更大的整數。並且e,f和g為正數使得e/(f+g)的範圍為0.5到2.0,其範圍較佳為0.6到1.3。該成分(C)可以是單一的以如上平均組成式(3)代表之含環氧基的有機聚矽氧烷,或者是兩種或多種此等有機聚矽氧烷的混合物。
〔成分(D)]
含環氧基的有機聚矽氧烷的成分(D)為如下式(4)代表 的直鏈結構之有機聚矽氧烷,及/或如下式(5)代表的環狀結構的有機聚矽氧烷。在式(4)所代表之含環氧基的直鏈有機聚矽氧烷中,含環氧基的取代基在分子內與矽原子的鍵結的位置為隨機的。無法具體指明鍵結位置是因為僅在分子鏈末端矽原子或僅在分子鏈內非末端矽原子,清楚地將此成分在結構上與上述成分(A)和成分(B)予以區別。
在各式(4)與(5)中,每個R3 獨立代表未經取代或經取代的1到10碳原子之單價烴基,或者是含環氧基的取代基,其限制為至少兩個R3 基代表含環氧基的取代基。R3 的未經取代或經取代的1到10碳原子之單價烴基的具體實例包括烷基,如甲基、乙基、丙基或丁基;環烷基,如環己基;芳基,如苯基或甲苯基;以及上述基團之一者中的鍵結至碳原子的一部分或全部的氫原子已被羥基、氰基或鹵素原子或類似者所取代的基團,如羥丙基、氰乙基、1-氯丙基或3,3,3-三氟丙基。每個R3 基可以是不同的
含有環氧基的取代基的R3 的具體實例包括如下所述的基團:
此外,h和i各代表3或更大的整數,其限制為式(4)和(5)所代表之含環氧基之有機聚矽氧烷於25℃下的黏度在1到50,000 mPa.s範圍內,其較佳為10到10,000 mPa.s。使用作為成分(D)之上式(4)所代表的直鏈有機聚矽氧烷或上式(5)所代表的環狀有機聚矽氧烷可以是單一的聚合物或是兩種或更多的聚合物的混合物。
以100質量份的成分(A)而言,成分(C)與(D)的混合物的添加量較佳為1到10質量份,更佳為2到5質量份。在混合物中,混合比例(質量比)較佳滿足(C)/(D)=0.1到1.5,更佳為0.2到1.0。若該量與混合比例在此範圍內,則更容易獲得顯示最小脫膜力變動的緊密脫膜力之硬化膜。
〔鎓鹽光起始劑]
能在紫外線照射下產生陽離子之鎓鹽光起始劑是適合作為用於硬化本發明之聚矽氧組成物的光起始劑。該光起 始劑的實例包括二芳基錪鎓鹽、三芳基磺鎓鹽、三芳基硒鎓鹽、四芳基磷鎓鹽及芳基重氮鎓鹽,其各由式R4 2 I Y 、R4 3 S Y 、R4 3 Se Y 、R4 4 P Y 及R4 N Y (其中,R4 代表芳基,以及Y 代表陰離子,如SbF6 、AsF6 、PF6 、BF4 、HSO4 及C104 )所示。就硬化反應性而言,二芳基錪鎓鹽與三芳基磺鎓六氟銻酸鹽為較佳。該鎓鹽的添加量通常為每100質量份的組成物中加入0.1到20質量份。若加入量低於此範圍,則硬化不充分;而該量超過此範圍,則在硬化膜表面產生不利的影響,造成脫膜能力劣化。
本發明的聚矽氧組成物若有需要也可包括其他成分,包括環氧基稀釋劑、乙烯醚基稀釋劑、改善與基材黏著之黏著改良劑、均染劑、去靜電劑、消泡劑、染料以及其他有機聚矽氧烷。該組成物也可用其他有機溶劑稀釋。
此外,為了調節脫膜力,本發明的組成物也可結合其他含環氧基的有機聚矽氧烷使用。
因本發明組成物可容易由一短時間的紫外線照射所硬化,該組成物可作為脫膜片,如脫膜紙、脫膜塑膠膜及脫膜金屬箔的脫膜劑;作為壓感黏著膠帶背面的處理劑或作為金屬或塑膠的保護塗佈材料。
可與本發明組成物使用的基材實例包括紙基材,如玻璃紙、牛皮紙以及黏土塗佈紙;層合紙,如高級層合聚乙烯紙和牛皮層合聚乙烯紙;合成樹脂類形成的塑膠膜,如聚酯、聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、特夫綸及聚醯亞胺;及金屬的金屬箔,如鋁。
本發明組成物對基材的應用可利用傳統方法以實施,如輥塗佈、凹板塗佈、刮線塗佈(wire-doctor coating)、氣刀塗佈或浸塗佈。該塗佈量通常在0.01到100 g/m2 範圍內,以及塗佈膜可被紫外線光照射立即硬化。而紫外光源的實例包括高壓汞燈、中壓汞燈、低壓汞燈、金屬鹵素或汞弧燈。當高壓汞燈(80W/cm)作為光源時,該塗佈膜可被距離在5到20cm的照射源照射0.01到10秒所硬化。
實施例
接著使用一系列實施例及比較性更詳細的說明本發明如下,雖然本發明不以任何方式受限於這些實施例。在實施例中,該單位”份”係指”質量份”,以及Me和Ph各代表甲基與苯基。實施例中所記述的物理性數值可參考使用如下所述測試方法所獲得的測量值。
〔脫膜力]
以約0.8g/m2 塗佈量將該聚矽氧組成物塗佈於OPP膜(即雙軸定向聚丙烯膜),將塗佈膜經兩盞可產生70mJ/cm2 曝露劑量的80W/cm高壓汞燈的紫外線照射於OPP膜上形成硬化膜。寬度2.5cm的Tesa-7475膠帶(商標名稱:由Tesa Tape股份有限公司所製造的一種壓克力基之壓感黏著劑)黏於硬化膜的表面,然後2kg的輥塗佈來回地滾動以緊壓表面,將所得到的具層合硬化膜的OPP膜裁切以調整成Tesa-7475膠帶的寬度;藉此,製備寬度為2.5cm的長條 狀試片作為量測脫膜力使用。
該試片於室溫下施以70g/cm2 負載經過20到24小時的時效,隨後,在長條狀試片的一端,由人工稍微地剝開Tesa-7475膠帶和OPP膜,然後各自被剝除的一端經由張力測量儀以180∘的角度和0.3 m/minute的剝離速度拉離。量測將膠帶自OPP膜上的硬化膜剝除所需的力(g/2.5cm)。脫膜力由所得的圖表中最大與最小值的平均值來計算。
〔脫膜力變動]
脫膜力變動可由上述量測所得之最大與最小脫膜力差值除以由上述量測所得之脫膜力來計算,並以百分比表示。所得到的值若較大則表示有較大的脫膜力變動。對於脫膜力變動超過30%的組成物被認為其顯示太大的脫膜變動,且不適合用於自動膠黏作業。
〔實施例1]
預先將符合成分(A)之含環氧基的聚矽氧烷1,其具有620 g/mol之環氧當量與黏度為280 mPa.s,以下式A-1代表(100份):
與符合成分(B)之含末端環氧基的聚矽氧烷2,其只在兩末端具有環氧基,且其具有環氧當量為4,300 g/mol與黏 度為350 mPa.s,如下式B-1所代表(1份): (其中,Ep代表如下之化學式) 完全地混合,然後加入由Shin-Etsu化學股份有限公司所製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)並混合,以生成處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1。
〔實施例2]
預先將上述含環氧基聚矽氧烷1(100份)與含末端環氧基的聚矽氧烷2(10份)完全混合,然後加入由Shin-Etsu化學股份有限公司所製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)並混合,以生成處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1。
〔實施例3]
〈合成聚矽氧烷3之方法〉 於配置有攪拌子、溫度計、回流冷凝器及滴液漏斗的四頸燒甁中,加入含OH基的有機聚矽氧烷之60質量%甲 苯溶液1,該含OH基的有機聚矽氧烷由Me3 SiO1/2 單元、SiO4/2 單元以及(HO)SiO3/2 單元所組成(莫耳比:([Me3 SiO1/2 單元]/[SiO4/2 單元+(HO)SiO3/2 單元組合之總和]=0.70),且該-OH基含量為0.85質量%)(490份),及該有機氫化聚矽氧烷(345份)以如下之平均組成式代表:
然後,加入白金催化劑(1.2份)的0.5質量%甲苯溶液,並將該混合物在132℃回流3小時。完成脫氫縮合反應後,將反應物混合物冷卻至30℃。同時,在另一配置有攪拌子、溫度計、回流冷凝器及滴液漏斗的四頸燒甁中,加入4-氧化乙烯環己烯(142份)及白金催化劑(0.65份)的0.5質量%甲苯溶液,並將混合物加熱至70℃。該脫氫縮合反應產物的總量以在兩個小時期間逐滴加入此燒甁中。在完全滴注後,產成的混合物在70℃下再攪拌一小時。甲苯與揮發性的成分在80℃及3 Torr下以蒸餾方式移除,產生樣本1(680份)。該樣本1為棕色透明且黏度為350 mPa.s與環氧當量為800 g/mol的液體。由NMR與GPC分析顯示樣本1為與成分(C)相符之含Q單元、含環氧基的有機聚矽氧烷,以及與成分(D)相符之含直鏈及/或環狀環氧基的有機聚矽氧烷之混合物,其中該(C)/(D)質量比約為0.7。該混合物(樣本1)稱為聚矽氧烷3。
預先將將上述含環氧基的聚矽氧烷1(100份)、含末端 環氧基的聚矽氧烷2(1份)以及與成分(C)及(D)混合物相符的聚矽氧烷3(1份)彼此充分地混合,並加入及混合Shin-Etsu化學股份有限公司所製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)以形成處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1。
〔實施例4]
預先充分混合上述含環氧基的聚矽氧烷1(100份)、含末端環氧基的聚矽氧烷2(1份)以及上述的聚矽氧烷3(10份),然後加入及混合Shin-Etsu化學股份有限公司所製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)以形成處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於下表。
〔比較例1]
將上述含環氧基的聚矽氧烷1(100份)與由Shin-Etsu化學股份有限公司製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)混合以產生處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1。
〔比較例2]
預先混合上述含環氧基的聚矽氧烷1(100份)以及上述的聚矽氧烷3(10份),然後加入及混合Shin-Etsu化學股 份有限公司製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)混合以產生處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1一。
〔比較例3]
預先充分混合上述含環氧基的聚矽氧烷1(100份)與含末端環氧基的聚矽氧烷2(20份),然後加入及混合由Shin-Etsu化學股份有限公司製造的錪鎓鹽光起始劑CAT-7605(1份)混合以產生處理劑。該處理劑的硬化膜之脫膜力與脫膜力變動係根據如上所述之評估方法量測。其結果列於表1。

Claims (8)

  1. 一種紫外線可硬化之聚矽氧組成物,其包含:(A)100質量份下式(1)代表之含環氧基之有機聚矽氧烷: (其中,R代表甲基,Ep代表含環氧基之環己基,a與b代表滿足45≦a+b≦150,1≦a和0≦b之整數,以及平均環氧當量不大於700g/mol)(B)1到15質量份下式(2)代表的含末端環氧基之有機聚矽氧烷: (其中,R1 代表甲基,Ep代表含環氧基之環己基,R2 代表苯基,以及c與d代表滿足45≦c+d≦350,和0.05≦c/(2+c+d)≦0.20之正整數),以及一種鎓鹽光起始劑。
  2. 根據申請專利範圍第1項之組成物,進一步包括1到10質量份下述成分(C)和成分(D)的混合物,其中在此混合物中以質量計的混合比滿足(C)/(D)=0.1到1.5:(C)一種下式(3)所代表之有機聚矽氧烷: [其中,R代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,每個X獨立代表氫原子或選自以下列通式(i)到(iii)代表的取代基所組成之組群,以及e,f和g為正數使得e/(f+g)在0.5到2.0的範圍內: (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,以及p代表0或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,q代表0或更大的整數,以及r代表1或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少一個R3 代表含環氧基的取代基,s代表2或更大的整數,以及t代表1或更大的整數)],(D)至少一個成員,其係選自由以下所示之式(4)代表的含環氧基之有機聚矽氧烷及以下所示之式(5)代表的含環氧基之有機聚矽氧烷所組成之組群: (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少兩個R3 基代表含環氧基的取代基,以及h代表3或更大的整數) (其中,各R3 獨立代表未經取代或經取代之1至10個碳原子之單價烴基,或含環氧基的取代基,其限制條件為至少兩個R3 基代表含環氧基的取代基,以及i代表3或更大的 整數)。
  3. 一種硬化產物,其係藉由硬化如申請專利範圍第1項之組成物所獲得。
  4. 一種硬化產物,其係藉由硬化如申請專利範圍第2項之組成物所獲得。
  5. 一種脫膜片,其包括:基材及提供於基材單面或雙面藉由硬化如申請專利範圍第1項之組成物層所獲得之硬化產物層。
  6. 一種脫膜片,其包括:基材及提供於基材單面或雙面藉由硬化如申請專利範圍第2項之組成物層所獲得之硬化產物層。
  7. 一種製造脫膜片之方法,該脫膜片包括:基材,以及提供於基材單面或雙面藉由硬化如申請專利範圍第1項之組成物層所獲得之硬化產物層,該方法包括以下步驟:將組成物塗佈於基材之單面或雙面,及經由紫外線照射將所形成的組成物層硬化以形成該硬化產物層。
  8. 一種製造脫膜片之方法,該脫膜片包括:基材,以及提供於基材單面或雙面藉由硬化如申請專利範圍第2項之組成物層所獲得之硬化產物層,該方法包括以下步驟:將組成物塗佈於基材之單面或雙面,及經由紫外線照射將所形成的組成物硬化以形成該硬化產物層。
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