JPH11122913A - 高電圧発生回路 - Google Patents

高電圧発生回路

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JPH11122913A
JPH11122913A JP28230397A JP28230397A JPH11122913A JP H11122913 A JPH11122913 A JP H11122913A JP 28230397 A JP28230397 A JP 28230397A JP 28230397 A JP28230397 A JP 28230397A JP H11122913 A JPH11122913 A JP H11122913A
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JP
Japan
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voltage
signal
pulse
circuit
mos transistor
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Application number
JP28230397A
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English (en)
Inventor
Tomohisa Wada
知久 和田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/10Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M3/145Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M3/155Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only
    • H02M3/156Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only with automatic control of output voltage or current, e.g. switching regulators
    • H02M3/157Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only with automatic control of output voltage or current, e.g. switching regulators with digital control
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/24Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
    • G05F3/242Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage
    • G05F3/245Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage producing a voltage or current as a predetermined function of the temperature

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低電源電圧を用いても十分大きな所望の高電
圧を発生することができる高電圧発生回路を提供する。 【解決手段】 高電圧発生回路1000は、インダクタ
11、PNダイオード13、容量14およびトランジス
タ12を備える。高電圧発生回路1000における高電
圧サンプル/分圧回路1、コントロールレジスタ2、電
圧コンパレータ3、カウンタ4、パルス発生回路6およ
びリングオシレータ5は、容量14により発生する電圧
が所望の高電圧か否かを検出して、トランジスタ12の
ON/OFFを制御するパルス信号を生成する。この結
果、容量14への電流の経路が変化し、発生する電圧が
デジタル的に調整される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高電圧発生回路に
関し、特に、外部から与えられるクロック信号に応答し
て、所望の電圧を発生する高電圧発生回路に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶デバイスには、ダイナミック
ランダムアクセスメモリ(Dynamic Random Access Memo
ry、DRAM)やスタティックランダムアクセスメモリ
(Static Random Access Memory 、SRAM)などが有
名であるが、両者はともに揮発性(Volatile)メモリで
あり、電源電圧が印加されていない状態では内部の記憶
データは消失する。
【0003】一方、電源電圧が印加されていなくても記
憶データを保持できるメモリとしてフラッシュ(Flash
)メモリがある。フラッシュメモリは、記憶を行なう
メモリセル内のフローティングゲートに電荷を保持する
ことで不揮発性(Nonvolatile)の記憶を行なってい
る。フラッシュメモリでは、電荷を保持するフローティ
ングゲートに電荷を注入もしくはフローティングゲート
から電荷を引抜くことで1または0の記憶状態を作る。
このときに、ファーラーノルトハイム(FN)トンネル
現象やチャネルホットエレクトロンを利用してフローテ
ィングゲートとの間で電荷のやり取りを行なう。以上の
ような状態を発生する場合に、一般的にデバイスの動作
電源電圧より高い電圧が必要となる。
【0004】以下に、このような高い電源電圧を発生す
る高電圧発生回路の構成について、図14を用いて説明
する。
【0005】図14は、従来の高電圧発生回路2000
の具体的構成の一例を示す回路図である。
【0006】図14に示す高電圧発生回路2000は、
複数の容量素子221.1、…、221.n、複数の整
流性素子220.1、…、220.n+1およびリング
オシレータ222を備える。
【0007】複数の整流性素子220.1、…、22
0.n+1は、高電圧(Vcc)を受ける入力端子23
0と出力端子232との間に直列に接続される。複数の
容量素子221.1、…、221.nのそれぞれの一方
の端子は、整流性素子220.1、…、220.nのそ
れぞれの出力ノードに接続される。リングオシレータ2
22は、2つの周期パルスφ、/φを生成する。
【0008】図15は、リングオシレータ222の生成
する周期パルスφ、/φを示すタイミングチャートであ
り、図15(A)は周期パルスφを、図15(B)は周
期パルス/φをそれぞれ表わす。図15に示すように、
周期パルスφは、周期パルス/φに対して位相が反転し
ている。
【0009】容量素子221.1、221.3、…のそ
れぞれの他方の端子は、リングオシレータ222から周
期パルスφを受ける。一方、容量素子221.2、22
2.4、…のそれぞれの他方の端子は、リングオシレー
タ222から周期パルス/φを受ける。
【0010】次に、従来の高電圧発生回路2000の動
作について説明する。容量素子221.i(ただし1≦
i≦n)の一端がHレベルの周期パルスを受けた場合、
電流が整流性素子220. i+1の方向に転送される。
一方、Lレベルの周期パルスを受けた場合には、電流が
整流性素子220. iの方向から転送される。これによ
り、最も後段に位置する出力端子232に高電圧Vou
tが発生する。
【0011】なお、整流性素子220.1、…、22
0.n+1の具体例としては、PNダイオードやMOS
トランジスタが挙げられる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の整流
性素子にはしきい値電圧が存在する。たとえば、整流性
素子としてPNダイオードを使用した場合には、しきい
値電圧は0.7V〜0.8Vである。整流性素子として
MOSトランジスタを使用した場合にも、同程度のしき
い値電圧が存在する。
【0013】したがって、従来の高電圧発生回路200
0においては、各整流性素子の両端にしきい値電圧より
大きな電圧を印加しないと、十分な電流転送が行なわれ
ず、高電圧を発生することが困難になる。また、電源電
圧(Vcc)が低電圧化されると、リングオシレータ2
22の出力する2つの周期パルスφ、/φの電圧振幅が
減少してしまい、十分な電流転送が行なわれない。
【0014】ところで、フラッシュメモリを代表とする
半導体記憶装置においては、電源電圧が低下する傾向に
ある。したがって、従来の高電圧発生回路2000をそ
のままフラッシュメモリに適用したとすれば、電源電圧
の低電圧化に伴い、内部動作をさせるために必要な高電
圧を発生させることが困難になるという問題が生じる。
【0015】そこで、本発明は係る問題を解決するため
になされたものであり、その目的は、低電源電圧でも十
分大きな所望の高電圧を発生することができる高電圧発
生回路を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る高電圧発
生回路は、第1の容量素子を備え、第1の容量素子への
電流の経路を変化させることにより、第1の容量素子に
電荷を蓄積して所望の電圧を発生する高電圧発生回路で
あって、発生した電圧が所望の電圧に一致するか否か
を、クロック信号に応答して比較判定する比較判定手段
と、比較判定手段の比較判定結果に基づき、値がデジタ
ル的に制御されるカウント手段と、カウント手段の値に
基づき、出力するパルス信号のデューティ比が変調され
るパルス発生手段と、パルス発生手段の出力するパルス
信号に基づき電流の経路を変化させるスイッチ手段とを
備える。
【0017】請求項2に係る高電圧発生回路は、請求項
1に係る高電圧発生回路であって、比較判定手段は、第
1のクロック信号に応答して、発生した電圧をサンプル
するサンプル手段と、第2のクロック信号に応答して、
サンプルした電圧を分圧する手段と、第3のクロック信
号に応答して、分圧した電圧と基準電位とを比較する比
較手段とを備える。
【0018】請求項3に係る高電圧発生回路は、請求項
2に係る高電圧発生回路であって、分圧手段は、複数の
第2の容量素子を含み、所望の電圧に応じて、複数の第
2の容量素子のなかのいずれかを選択して、サンプルし
た電圧を第2のクロック信号に応答して、選択した第2
の容量素子で分圧する。
【0019】請求項4に係る高電圧発生回路は、請求項
2に係る高電圧発生回路であって、比較手段は、ラッチ
型コンパレータであり、分圧した電圧と基準電位とを第
3のクロック信号のエッジ時点で評価し、評価結果を出
力する。
【0020】請求項5に係る高電圧発生回路は、請求項
1に係る高電圧発生回路であって、パルス発生手段は、
出力するパルスのサイクルが一定で、かつパルスのHi
gh幅を変化させることにより、デューティ比を変調す
る。
【0021】請求項6に係る高電圧発生回路は、請求項
5に係る高電圧発生回路であって、スイッチ手段は、M
OSトランジスタであって、MOSトランジスタの一方
の導通端子は第1の電源電位と接続され、他方の導通端
子は電流の経路に接続され、さらにゲート電極は、パル
ス発生手段から出力されるパルス信号を受け、第1の容
量素子の一方の端子は第2の電源電位に接続され、他方
の端子は電流の経路に接続される。
【0022】
【発明の実施の形態】
[実施の形態1]本発明の実施の形態1における高電圧
発生回路について説明する。
【0023】本発明の実施の形態1における高電圧発生
回路1000は、低電源電圧を用いてデジタル的に所望
の高電圧を発生することを可能とするものである。
【0024】まず、半導体記憶装置(たとえば、フラッ
シュメモリ)に本発明の実施の形態1の高電圧発生回路
を搭載した場合の一例を図1を用いて説明する。
【0025】図1は、本発明の実施の形態1の高電圧発
生回路1000を半導体記憶装置900に適用した場合
の一例を示す概略図である。
【0026】図1に示すように、高電圧発生回路100
0は、インダクタ11、MOSトランジスタ12、ダイ
オード13および容量14を備える。以下、インダクタ
11のインダクタンスをLと記す。
【0027】インダクタ11は、半導体記憶装置900
に外付けする。インダクタ11は、電源電圧Vin(た
とえば、1. 8Vの低電源電圧)を供給するVin端子
10と半導体記憶装置900の外部接続端子16との間
に接続される。
【0028】ダイオード13は、外部接続端子16と高
電圧Vhighを出力するVhigh端子15との間に
接続される。MOSトランジスタ12は、外部接続端子
16と接地電位GNDとの間に接続される。さらに、容
量14は、Vhigh端子15と接地電位GNDとの間
に接続される。
【0029】MOSトランジスタ12は、インダクタ1
1の一端と接地電位GNDとを接続(ショート)もしく
は開放(オープン)する。容量14は、整流性素子であ
るダイオード13から流入した電荷を蓄える。これによ
り、Vhigh端子15に電圧が発生する。
【0030】高電圧発生回路1000はさらに、高電圧
サンプル/分圧回路1、コントロールレジスタ2、電圧
コンパレータ3、カウンタ4、リングオシレータ5およ
びパルス生成回路6を備える。
【0031】高電圧サンプル/分圧回路1は、後述する
電圧コンパレータ3で基準電圧Vrefと比較するため
に、Vhigh端子15に発生した電圧を比較可能な電
圧レベルに分圧する。
【0032】コントロールレジスタ2は、分圧の大きさ
を指定する。分圧の大きさは可変である。コントロール
レジスタ2によって分圧の大きさを指定することによ
り、種々の電圧を発生することが可能となる。
【0033】電圧コンパレータ3は、所定の電位に設定
された基準電位Vrefと高電圧サンプル/分圧回路1
により分圧された電位との比較を行なう。
【0034】カウンタ4は、電圧コンパレータ3の比較
結果により、4ビットのカウンタ値が変更される。リン
グオシレータ5は、17段のリングオシレータであり、
多数の位相のずれた周期パルスを発生する。
【0035】パルス生成回路6は、カウンタ4の出力に
応じて、リングオシレータ5の出力パルスを加工して、
Highの期間が変化する周期パルスを発生する。パル
ス生成回路6の出力は、MOSトランジスタ12のON
時間(導通状態の期間)を制御する。
【0036】このように、本発明の実施の形態1におけ
る高電圧発生回路1000は、全体としてフィードバッ
クループが形成されていおり、このフィードバック制御
で、コントロールレジスタ2の値に応じた高電圧を発生
する。
【0037】次に、インダクタを用いた高電圧発生回路
の基本原理について図2および図3を用いて説明する。
【0038】図2は、インダクタを用いた高電圧発生回
路1000の基本原理を説明するための回路図であり、
図3はその動作を説明するためのタイミングチャートで
ある。
【0039】図2に示す高電圧発生回路(以下、高電圧
発生回路3000と称す)は、昇圧型DC−DCコンバ
ータであって、インダクタ11、MOSトランジスタ1
2、ダイオード13および容量14を備える。インダク
タ11、MOSトランジスタ12、ダイオード13およ
び容量14の接続関係については、図1で説明したとお
りである。なお、高電圧発生回路3000においては、
ダイオード13および容量14は、電圧Voutを発生
するVout端子17と接続される。
【0040】ここで、図3(A)のVgsは、MOSト
ランジスタ12のゲートソース間電圧を、図3(B)の
Vdsは、MOSトランジスタ12のドレインソース間
電圧を、図3(C)のVLは、インダクタ11の電位を
それぞれ示す。
【0041】さらに図3(D)のIsは、MOSトラン
ジスタ12のソース電流を、図3(E)のIdは、ダイ
オード13に流込む電流を、図3(F)のILは、Vi
n端子10からインダクタ11に流込む電流をそれぞれ
表わす。また、図2におけるIoutは、ダイオード1
3からVout端子17に流れる電流を表わす。
【0042】[Ton時の動作]ゲートソース間電圧V
gsがHレベルの期間(Tonと称す)には、MOSト
ランジスタ12がONし、Vin端子10からインダク
タ11を経由して接地電位GNDに電流が流れる。この
ときのMOSトランジスタ12のON抵抗が十分低いと
すると、ゲートソース間電圧Vdsが0Vとなる。すな
わち、インダクタ11の両端にVL=Vinなる電圧が
印加される。インダクタ11の両端に定電圧が印加され
た場合、その性質によりインダクタ11の電流は時間的
に1次比例で増加する。この関係を式(1)に示す。
【0043】 ΔIL=ΔIs=Vin/L・Δt …(1) ここで、Δtは、微少時間を示す。この場合、電流Id
=0であるので、ΔIL=ΔIsとなる。したがって、
Tonの期間のインダクタ11の電流変化量は、次の式
(2)で与えられる。
【0044】 ΔIL=ΔIs=Vin/L・Ton …(2) [Toff時の動作]ゲートソース間電圧VgsがLレ
ベルの期間(Toffと称す)には、MOSトランジス
タ12がOFFし、インダクタ11を流れていた電流は
ダイオード方向に流れる。インダクタ11の性質から、
電流ILは瞬時に0とならない。出力電圧をVoutと
し、ダイオード13の電圧降下11を無視すると(Vo
ut>10Vとする)、インダクタ11の電流は、次の
式(3)で示すように減少する。
【0045】 ΔIL=ΔId=−(Vout−Vin)/L・Δt …(3) したがって、Toffの期間のインダクタ11の電流変
化量は以下の式で与えられる。
【0046】 ΔIL=ΔId=−(Vout−Vin)/L・Toff …(4) 安定状態では、式(2)と式(4)との変化量は等しく
なるので、次の式(5)が成立する。
【0047】 Vin/L・Ton=(Vout−Vin)/L・Toff …(5) したがって、式(5)を用いることにより、出力電圧V
outは式(6)で与えられる。
【0048】 Vout=Vin・(Ton+Toff)/Toff …(6) ここで、(Ton+Toff)はMOSトランジスタ1
2のゲート電極に与えられるパルスの周期を、Toff
はLowの幅を示している。したがって、周期パルス波
形のデューティ(パルスのHigh幅とサイクル時間の
比)を変化させることにより、入力電圧を所望の高電圧
に昇圧できる。たとえば、Ton=90nsおよびTo
ff=10nsの場合、入力電圧Vinに対して10倍
の出力電圧Voutが得られる。
【0049】高電圧発生回路1000においては、高電
圧サンプル/分圧回路1、コントロールレジスタ2、電
圧コンパレータ3、カウンタ4、リングオシレータ5お
よびパルス生成回路6を用いて、ディジタル的にMOS
トランジスタ12のON/OFFを制御するパルスを発
生する。
【0050】次に、本発明の実施の形態1における高電
圧発生回路1000の全体の基本動作について、簡単に
タイミングチャートである図4を用いて説明する。
【0051】図4は、本発明の実施の形態1における高
電圧発生回路1000の基本動作を説明するためのタイ
ミングチャートである。
【0052】図4(A)の/ENは、リングオシレータ
5を制御するイネーブル信号を示す。図4(B)のCL
K(=T(0))は、リングオシレータ5から出力され
るパルス信号T(0)を示す。CLKは、システムのメ
インクロックとなる。
【0053】図4(C)の信号S1は、高電圧サンプル
/分圧回路1におけるサンプル動作を制御するクロック
信号を示す。図4(D)の信号S2は、高電圧サンプル
/分圧回路1における分圧動作を制御するクロック信号
を示す。
【0054】図4(E)の信号φcompareは、電
圧コンパレータ3における比較動作を制御するクロック
信号を示す。図4(F)の信号φcntupdate
は、カウンタ4におけるカウント動作を制御するクロッ
ク信号を示す。
【0055】図4に示すように、高電圧発生回路100
0は、パルス信号CLK(=パルス信号T(0))の1
サイクルの期間に、高電圧のサンプル(信号S1に対
応)、容量による分圧(信号S2に対応)、分圧出力と
リファレンス電圧Vrefとの比較(信号φcompa
reに対応)およびカウンタの更新(φcntupda
teに対応)を行なう。
【0056】次に、本発明の実施の形態1におけるリン
グオシレータ5の具体的構成の一例を、回路図である図
5を用いて説明する。
【0057】図5は、本発明の実施の形態1のリングオ
シレータ5の具体的構成の一例を示す回路図である。図
5に示すように、リングオシレータ5は、複数のインバ
ータ回路21.1、…、21.16およびNOR回路2
0を含む。
【0058】複数のインバータ回路21.1、…、2
1.16は直列に接続される。NOR回路20の出力ノ
ードは、インバータ回路21.9と接続される。NOR
回路20の第1の入力ノードは、イネーブル信号/EN
を受ける。また、NOR回路20の第2の入力ノード
は、インバータ回路21.8の出力信号を受ける。
【0059】インバータ回路21.1、…、21.16
のそれぞれの出力ノードから、パルス信号T(1)、
…、T(16)が発生する。また、NOR回路20の出
力ノードからパルス信号T(0)が発生する。
【0060】次に、図5に示す本発明の実施の形態1の
リングオシレータ5の動作を、そのタイミングチャート
である図6を用いて説明する。
【0061】図6は、図5に示すリングオシレータ5の
動作を説明するためのタイミングチャートである。
【0062】リングオシレータ5は、イネーブル信号/
ENがLowにアサートされると発振を開始する。イネ
ーブル信号/ENのアサート後にパルス信号T(0)が
最初にLowレベルからHighレベルに遷移する。以
降、パルス信号T(i)からパルス信号T(i+1)の
昇順にLowレベルからHighレベルに遷移する。
【0063】このように、リングオシレータ5は、イネ
ーブル信号/ENに応答して、多数の位相のずれた周期
パルス(T(0)、…、T(16))を出力する。
【0064】なお、後述するパルス生成回路6では、こ
のパルス信号T(k)からT(15)のHighレベル
の期間にHighレベルとなるパルスを発生する(前述
したTonに対応)。したがって、k=0(最小値)の
場合は、Tonが最大幅のパルスを発生し、k=15
(最大値)の場合は、パルスが発生しない。
【0065】次に、本発明の実施の形態1の高電圧サン
プル/分圧回路1の具体的構成の一例を、回路図である
図7を用いて説明する。
【0066】図7は、本発明の実施の形態1の高電圧サ
ンプル/分圧回路1の具体的構成の一例を示す回路図で
ある。図7に示すように、高電圧サンプル/分圧回路1
は、レベル変換器L1、L2、L3.0、…、L3.n
−1、Pチャネル型MOSトランジスタ40、容量6
5、および容量ユニットUC2、UC3.0、…、UC
3.n−1を備える。
【0067】レベル変換器L1は、Pチャネル型MOS
トランジスタ40に対応して設けられる。レベル変換器
L2は、容量ユニットUC2に対応して設けられる。さ
らに、レベル変換器L3.0、…、L3.n−1(以
下、総称的にL3と称す)のそれぞれは、容量ユニット
UC3.0、…、UC3.n−1(以下、総称的にUC
3と称す)に対応して設けられる。
【0068】レベル変換器L1について説明する。レベ
ル変換器L1は、Pチャネル型MOSトランジスタ41
および42とNチャネル型MOSトランジスタ43およ
び44とインバータ回路45とを含む。
【0069】Pチャネル型MOSトランジスタ41とN
チャネル型MOSトランジスタ43とは、Vhigh端
子15と接地電位GNDとの間に直列に接続される。P
チャネル型MOSトランジスタ42とNチャネル型MO
Sトランジスタ44とは、Vhigh端子15と接地電
位GNDとの間に直列に接続される。Pチャネル型MO
Sトランジスタ41のゲート電極は、Pチャネル型MO
Sトランジスタ42とNチャネル型MOSトランジスタ
44との接続ノードと接続される。Pチャネル型MOS
トランジスタ42のゲート電極は、Pチャネル型MOS
トランジスタ41とNチャネル型MOSトランジスタ4
3との接続ノードに接続される。インバータ回路45
は、Nチャネル型MOSトランジスタ43のゲート電極
とNチャネル型MOSトランジスタ44のゲート電極と
の間に接続される。
【0070】レベル変換器L2について説明する。レベ
ル変換器L2は、Pチャネル型MOSトランジスタ49
および50とNチャネル型MOSトランジスタ51およ
び52とインバータ回路53とを含む。
【0071】Pチャネル型MOSトランジスタ49とN
チャネル型MOSトランジスタ51とは、Vhigh端
子15と接地電位GNDとの間に直列に接続される。P
チャネル型MOSトランジスタ50とNチャネル型MO
Sトランジスタ52とは、Vhigh端子15と接地電
位GNDとの間に直列に接続される。Pチャネル型MO
Sトランジスタ49のゲート電極は、Pチャネル型MO
Sトランジスタ50とNチャネル型MOSトランジスタ
52との接続ノードに接続される。Pチャネル型MOS
トランジスタ50のゲート電極は、Pチャネル型MOS
トランジスタ49とNチャネル型MOSトランジスタ5
1との接続ノードに接続される。インバータ回路53
は、Nチャネル型MOSトランジスタ51のゲート電極
とNチャネル型MOSトランジスタ52のゲート電極と
の間に接続される。
【0072】なお、レベル変換器L3の構成は、レベル
変換器L2と同じである。容量ユニットUC2について
説明する。容量ユニットUC2は、Pチャネル型MOS
トランジスタ46、Nチャネル型MOSトランジスタ4
7および容量48を備える。
【0073】Pチャネル型MOSトランジスタ46およ
びNチャネル型MOSトランジスタ47は、分圧の結果
発生する電圧Vdivを出力するVdiv端子19と接
地電位GNDとの間に直列に接続される。容量48は、
Pチャネル型MOSトランジスタ46とNチャネル型M
OSトランジスタ47との接続ノードと接地電位GND
との間に接続される。Pチャネル型MOSトランジスタ
46のゲート電極は、対応するレベル変換器L2のPチ
ャネル型MOSトランジスタ49とNチャネル型MOS
トランジスタ51との接続ノードに接続される。またN
チャネル型MOSトランジスタ47のゲート電極は、後
述するインバータ回路54の出力ノードと接続される。
【0074】容量ユニットUC3について説明する。容
量ユニットUC3のそれぞれは、Pチャネル型MOSト
ランジスタ55、Nチャネル型MOSトランジスタ56
および容量57を備える。
【0075】Pチャネル型MOSトランジスタ55とN
チャネル型MOSトランジスタ56とは、Vdiv端子
19と接地電位GNDとの間に直列に接続される。容量
57は、Pチャネル型MOSトランジスタ55とNチャ
ネル型MOSトランジスタ56との接続ノードと接地電
位GNDとの間に接続される。Pチャネル型MOSトラ
ンジスタ55のゲート電極は、対応するレベル変換器L
3のPチャネル型MOSトランジスタ49とNチャネル
型MOSトランジスタ51との接続ノードに接続され
る。またNチャネル型MOSトランジスタ56のゲート
電極は、後述するように対応するNAND回路63の出
力ノードと接続される。
【0076】Pチャネル型MOSトランジスタ40は、
Vhigh端子15とVdiv端子19との間に接続さ
れる。Pチャネル型MOSトランジスタ40のゲート電
極は、レベル変換器L1のPチャネル型MOSトランジ
スタ41とNチャネル型MOSトランジスタ43との接
続ノードに接続される。容量65は、Vdiv端子19
と接地電位GNDとの間に接続される。
【0077】実施の形態1においては、容量65の容量
値C0に対して、容量ユニットUC2の容量48の容量
値を(m×C0/4)、容量ユニットUC3のそれぞれ
の容量57の容量値を(C0/4)とする。
【0078】さらに、高電圧サンプル/分圧回路1は、
インバータ回路59、NAND回路63.0、…、6
3.n−1を含む。
【0079】インバータ回路54の出力ノードは、レベ
ル変換器L2のインバータ回路53の入力ノードおよび
Nチャネル型MOSトランジスタ52のゲート電極、な
らびにNチャネル型MOSトランジスタ47のゲート電
極と接続される。
【0080】NAND回路63.0、…、63.n−1
(以下、総称的にNAND回路63と称す)はそれぞ
れ、レベル変換器L3.0、…、L3.n−1に対応し
て設けられる。NAND回路63のそれぞれの出力ノー
ドは、対応するレベル変換器L3のインバータ回路53
の入力ノードおよびNチャネル型MOSトランジスタ5
2のゲート電極、ならびに対応する容量ユニットUC3
のNチャネル型MOSトランジスタ56のゲート電極と
接続される。また、NAND回路63のそれぞれの第1
の入力ノードは、コントロールレジスタ2から対応する
セレクト信号Sel(0)、…、Sel(n−1)を受
ける。
【0081】レベル変換器L1におけるNチャネル型M
OSトランジスタ43のゲート電極とインバータ回路4
5の入力ノードとは、サンプル動作を制御する信号S1
を受ける。Pチャネル型MOSトランジスタ40は、レ
ベル変換器L1を介して、信号S1に応答して、ON状
態/OFF状態になる。
【0082】インバータ回路54の入力ノードおよびN
AND回路63のそれぞれの第2の入力ノードは、容量
による分圧動作を制御する信号S2を受ける。容量ユニ
ットUC2に含まれるMOSトランジスタは、信号S2
に応答して、ON状態/OFF状態になる。容量ユニッ
トUC3に含まれるMOSトランジスタは、信号S2お
よび対応するセレクト信号Sel(0)、…、Sel
(n−1)に応答して、ON状態/OFF状態になる。
【0083】ここで、図7に示す高電圧サンプル/分圧
回路1の基本動作の具体例を、図8を用いて説明する。
【0084】図8は、図7に示す高電圧サンプル/分圧
回路1の基本動作を説明するための回路図である。図8
に示す高電圧サンプル/分圧回路(以下、高電圧サンプ
ル/分圧回路800と称す)は、容量65、容量66お
よびスイッチSW1、スイッチSW2およびスイッチS
W3を備える。
【0085】ここで、信号S1および信号S2は、図4
で説明したタイミングで発生する信号であり、スイッチ
SW1は、信号S1に、スイッチSW2は、信号S2
に、そしてスイッチSW3は、信号S2を反転した信号
に対応して接続状態になる。容量66は、図7に示す容
量48と容量ユニットUC3のn0個の容量57とを合
わせたものに相当する。
【0086】信号S1がアサートされる期間(High
期間)について説明する。この場合、スイッチSW1が
接続状態にあり、1段目の容量65に高電圧Vhigh
が印加され、容量65はVhighレベルまで充電され
る。
【0087】このとき、信号S2はアサートされていな
い(スイッチSW2が非接続状態、スイッチSW3が接
続状態)ため、2段目の容量66は放電されている。
【0088】次に、信号S2がアサートされた場合につ
いて説明する。この場合、スイッチSW2が接続状態に
なり、1段目の容量65と2段目の容量66と間で電荷
の再配分が発生する。この関係を式(7)に示す。
【0089】 Vhigh・C0=[1+(m+n0)/4]・C0・Vdiv …(7) ここで、mは定数であり、n0はコントロールレジスタ
2が制御する変数(n0=0、2、…、n−1)であ
る。実施の形態1においては、このn0は、セレクト信
号Sel(0)、…、Sel(n−1)で決定される。
【0090】コントロールレジスタ2が、バイナリの値
でn0を指定するならば、コントロールレジスタ2の値
をサーモメータデコード(入力のバイナリ値の大きさに
対応する数の出力をHighにする)して、セレクト信
号Sel(0)、…、Sel(n−1)を生成する。ま
た、オプションとしてnに対応する部分の容量の大きさ
をバイナリでサイズに重み付けすれば、コントロールレ
ジスタ2のバイナリ値をそのままセレクト信号Sel
(0)…、Sel(n−1)として使用できる。
【0091】なお、式(7)に示される電圧Vdiv
は、次段の電圧コンパレータ3で基準電圧Vrefと比
較される。
【0092】次に、本発明の実施の形態1の電圧コンパ
レータ3の具体的構成の一例を、回路図である図9を用
いて説明する。
【0093】本発明の実施の形態1では、低電源電圧を
前提としているため、電圧コンパレータとして従来に使
用されるアンプ回路(たとえば、カレントミラー型アン
プ)を使うのは困難である。そこで、以下に説明するク
ロックで動作するラッチ型の電圧コンパレータを使用す
る。
【0094】図9は、本発明の実施の形態1の電圧コン
パレータ3の具体的構成の一例を示す回路図である。図
9に示すように、電圧コンパレータ3は、複数のMOS
トランジスタ70、71、…、82を含む。
【0095】MOSトランジスタ70、72、73、7
4、75および81は、Pチャネル型MOSトランジス
タであり、MOSトランジスタ71、76、77、7
8、79、80および82は、Nチャネル型MOSトラ
ンジスタである。
【0096】以下、MOSトランジスタ81のゲート電
極とMOSトランジスタ82のゲート電極との接続ノー
ドを、センスノードSNと称し、MOSトランジスタ7
0のゲート電極とMOSトランジスタ71のゲート電極
との接続ノードを、センスノード/SNと称す。
【0097】MOSトランジスタ76は、センスノード
/SNと接地電位GNDとの間に接続される。MOSト
ランジスタ79は、センスノードSNと接地電位GND
との間に接続される。MOSトランジスタ76のゲート
電極は、高電圧サンプル/分圧回路1から電圧Vdiv
を受ける。MOSトランジスタ79のゲート電極は、基
準電位Vrefを受ける。
【0098】MOSトランジスタ77は、センスノード
/SNとMOSトランジスタ80との間に接続される。
MOSトランジスタ78は、センスノードSNとMOS
トランジスタ80との間に接続される。MOSトランジ
スタ77のゲート電極は、センスノードSNと接続さ
れ、MOSトランジスタ78のゲート電極は、センスノ
ード/SNと接続される。
【0099】MOSトランジスタ80の他方の導通端子
は接地電位GNDと接続され、そのゲート電極には信号
φcompareを受ける。
【0100】MOSトランジスタ72およびMOSトラ
ンジスタ73は、電源電圧とセンスノード/SNとの間
に接続される。MOSトランジスタ72のゲート電極
は、信号φcompareを受ける。また、MOSトラ
ンジスタ73のゲート電極は、センスノードSNと接続
される。
【0101】MOSトランジスタ74およびMOSトラ
ンジスタ75は、電源電圧とセンスノードSNとの間に
接続される。MOSトランジスタ75のゲート電極は、
信号φcompareを受ける。また、MOSトランジ
スタ74のゲート電極は、センスノード/SNと接続さ
れる。
【0102】MOSトランジスタ70および71は、電
源電位と接地電位GNDとの間に直列に接続される。M
OSトランジスタ81および82は、電源電位と接地電
位GNDとの間に直列に接続される。
【0103】MOSトランジスタ70とMOSトランジ
スタ71との接続ノードよりDOWN信号が出力され
る。また、MOSトランジスタ81とMOSトランジス
タ82との接続ノードより、UP信号が出力される。
【0104】次に、図9に示す電圧コンパレータ3の動
作について説明する。上記で説明したように、電圧コン
パレータ3は定電圧で動作する比較回路であり、クロッ
ク信号である信号φcompareに同期して基準電圧
Vrefと入力電圧Vdivとの大小の比較を行なう。
より具体的には、電圧コンパレータ3は、信号φcom
pareがLowレベルの状態でリセットされ、Low
からHighに遷移するエッジでセンスを開始する。
【0105】信号φcompareがLowレベルの場
合について説明する。この場合、センスノードSN、/
SNはHighにプリチャージされている。この期間に
基準電圧Vrefと入力電圧Vdivとに電位差が発生
すると、センスノードに電位差が発生する。
【0106】その後、信号φcompareがLowか
らHighに遷移すると、その電位差が電源電位振幅ま
で増幅される。
【0107】この結果、入力電圧Vdivが基準電圧V
refよりも大きい場合、DOWN信号がHighレベ
ルになり、UP信号がLowレベルになる。入力電圧V
divが基準電圧Vrefよりも小さい場合、DOWN
信号がLowレベルになり、UP信号がHighレベル
になる。
【0108】このようにして、電圧コンパレータ3は、
式(7)に対して、次の式(8)に示すVhighを検
知する。
【0109】 Vhigh=[1+(m+n0)/4]・Vref …(8) 次に、本発明の実施の形態1におけるカウンタ4の具体
的構成の一例を、回路図である図10を用いて説明す
る。
【0110】図10は、本発明の実施の形態1における
カウンタ4の具体的構成の一例を示す回路図である。図
10に示すように、カウンタ4は、フリップフロップ9
2.0、92.1、92.2および92.3、フルアダ
90.0、90.1、90.2および90.3、マルチ
プレクサ91.0、91.1、91.2および91.3
ならびにXOR回路93を備える。
【0111】フルアダ90.0、90.1、90.2お
よび90.3のそれぞれに対応して、マルチプレクサ9
1.0、91.1、91.2および91.3が設けられ
る。また、マルチプレクサ91.0、91.1、91.
2および91.3のそれぞれに対応して、フリップフロ
ップ92.0、92.1、92.2および92.3が設
けられる。以下、総称的にフルアダ90、マルチプレク
サ91、フリップフロップ92とそれぞれ称す。
【0112】フリップフロップ92について説明する。
フリップフロップ92は、非同期リセット付フリップフ
ロップであり、信号φcntupdteに応答して、対
応するマルチプレクサ91から出力される信号を遅延し
て出力する。また、フリップフロップ92のそれぞれの
R端子には、リセット信号RESETが入力される。
【0113】フリップフロップ92. 0、92.1、9
2.2および92.3のそれぞれのQ端子から、カウン
ト値CNT(0)、CNT(1)、CNT(2)および
CNT(3)が出力される。ここで、これらのカウント
値からなる4ビットのビット列を、カウント値CNT
(3:0)と記す。カウント値CNT(3:0)におい
ては、カウント値CNT(0)が、LSB(最下位ビッ
ト)であり、カウント値CNT(3)が、MSB(最上
位ビット)に対応する。
【0114】フルアダ90について説明する。フルアダ
90.0のCinピンは、接地電位GNDに接続され
る。またA端子は、電源電圧と接続される。さらにB端
子は、信号線LINE1を介して、対応するフリップフ
ロップ92から信号を受ける。フルアダ90.0のCo
端子は、フルアダ90.1のCin端子と接続される。
【0115】フルアダ90.1のA端子は、電圧コンパ
レータ3のから出力されるDOWN信号(もしくは/U
P信号)を受ける。また、B端子は、信号線LINE1
を介して、対応するフリップフロップ92から信号を受
ける。さらに、Co端子は、フルアダ90.2のCin
端子と接続される。
【0116】フルアダ90.2のA端子は、電圧コンパ
レータ3から出力されるDOWN信号(もしくは/UP
信号)を受ける。また、B端子は、信号線LINE1を
介して、対応するフリップフロップ92から信号を受け
る。さらにCo端子は、フルアダ90.3のCin端子
と接続される。
【0117】フルアダ90.3のA端子は、電圧コンパ
レータ3から出力されるDOWN信号(もしくは/UP
信号)を受ける。また、B端子は、信号線LINE1を
介して、対応するフリップフロップ92から信号を受け
る。Co端子は、後述するXOR回路93と接続され
る。
【0118】XOR回路93は、DOWN信号(また
は、/UP信号)とフルアダ90.3のCo端子の出力
とを入力に受ける。
【0119】マルチプレクサ91のそれぞれは、XOR
回路93の出力信号に応答して、対応するフルアダ90
の出力もしくは対応するフリップフロップ92の出力の
いずれか一方を対応するフリップフロップ92に出力す
る。
【0120】次に、図10に示すカウンタ4の動作につ
いて説明する。カウンタ4は、4ビットカウンタであ
り、電圧コンパレータ3の結果であるDOWN信号(ま
たは/UP信号)に基づき、信号φcntupdate
がLowレベルからHighレベルに遷移するエッジに
応答して、そのカウント値の内容が更新される。
【0121】具体的には、DOWN信号がHighレベ
ルの場合に、デクリメント動作を、DOWN信号が、L
owレベルの場合にインクリメント動作を行なう。
【0122】カウント値CNT(3:0)が最大値を取
る場合(=1111の場合)にインクリメント動作が指
定された場合について説明する。この場合、XOR回路
93からNotupdate信号が出力される。Not
update=1の場合には、マルチプレクサ91は、
対応するフリップフロップ92の出力信号を出力する。
したがって、カウント値の内容は更新されない。
【0123】同じく、カウント値CNT(3:0)が最
小値を取る場合(=0000の場合)にデクリメント動
作が指定された場合も、XOR回路93からNotup
date信号(=1)が出力される。この場合もカウン
ト値の内容は更新されない。
【0124】カウンタ4の出力するカウント値CNT
(3:0)は、次段のパルス生成回路6で使用され、後
述するようにパルスの立上がりタイミングの指定に使用
される。次に本発明の実施の形態1におけるパルス生成
回路6の具体的構成の一例について、回路図である図1
1を用いて説明する。
【0125】図11は、本発明の実施の形態1のパルス
生成回路6の具体的構成の一例を示す回路図である。図
11に示すように、パルス生成回路6は、デコーダ11
0、パルス発生回路120、パルス選択回路130、リ
セット回路140およびパルス出力回路150を備え
る。
【0126】デコーダ110は、カウンタ4の出力する
4ビットのカウント値CNT(0)、…、CNT(3)
に応じて、デコード信号/dec(i)(ただし、i=
0、1、…、15)を出力する。
【0127】パルス発生回路120は、リングオシレー
タ5から出力されるパルス信号T(0)、…、T(1
5)に基づき、15個のパルスを出力する。
【0128】パルス選択回路130は、デコード信号/
dec(i)に応答して、パルス発生回路120から出
力される15個のパルスの中から、1つのパルス(Se
tQ信号)を選択して出力する。
【0129】リセット回路140は、リングオシレータ
5から受けるパルス信号T(16)、パルス信号T
(0)およびリセット信号/RESETに応答して、R
esetQ信号を生成して出力する。
【0130】パルス出力回路150は、パルス選択回路
130から出力されるSetQ信号およびリセット回路
140から出力されるResetQ信号に基づき、図1
に示すMOSトランジスタ12のゲート電極を駆動する
パルス信号PULSEを出力する。
【0131】次に、パルス発生回路120について簡単
に説明する。パルス発生回路120は、複数のNAND
回路121. 0、121.1、…、121.14および
複数のインバータ回路123.0、123.1、…、1
23.14を含む。
【0132】NAND回路121.i(ただし、i=
0、…、14)の第1の入力ノードは、対応するパルス
信号T(i)を受ける。さらに、NAND回路121.
iの第2の入力ノードは、対応するインバータ回路12
3.iを介して、パルス信号T(i+1)を反転した信
号を受ける。
【0133】すなわち、パルス発生回路120は、パル
ス信号T(0)、…、T(15)を受けて、隣接するパ
ルス信号の立上がりタイミングの差を取出す。
【0134】次に、パルス選択回路130について簡単
に説明する。パルス選択回路130は、複数の論理ゲー
ト131.0、131.1、…、131.14およびO
R回路133を含む。
【0135】論理ゲート131.0、…、131.14
のそれぞれの第1の入力ノードは、対応するデコード信
号/dec(1)、…、/dec(14)を受ける。ま
た、論理ゲート131.0、…、131.14のそれぞ
れの第2の入力ノードは、パルス発生回路120におけ
る対応するNAND回路121.0、…、121.14
の出力信号を受ける。論理ゲート131.0、…、13
1.14のそれぞれのの出力を、パルス信号P(0)、
…、P(14)とする。
【0136】OR回路133は、論理ゲート131.
0、…、131.14のそれぞれから出力されるパルス
信号P(0)、…、P(14)を入力に受け、SetQ
信号(パルス信号P(0)、…、P(14)のいずれか
に対応)を出力する。SetQ信号は、パルス信号PU
LSEの立上がりエッジを指定するために使用する。
【0137】より具体的には、カウント値CNT(3:
0)=0000の場合は、パルス信号T(0)の立上が
りエッジがパルス信号PULSEの立上がりエッジを指
定するために使用される。また、カウント値CNT
(3:0)がJに相当する場合は、パルス信号T(J)
の立上がりエッジが使用される。
【0138】次に、リセット回路140について簡単に
説明する。リセット回路140は、NAND回路14
1、インバータ回路143および論理ゲート145を含
む。NAND回路141の第1の入力ノードは、リング
オシレータ5からパルス信号T(16)を受ける。ま
た、NAND回路141の第2の入力ノードは、インバ
ータ回路143を介して、リングオシレータ5から受け
るパルス信号T(0)を反転した信号を受ける。さら
に、論理ゲート145は、NAND回路141の出力信
号とリセット信号/RESETとを入力に受ける。論理
ゲート145からは、ResetQ信号が出力される。
RsestQ信号は、パルス信号PULSEの立下がり
エッジを指定するために使用する。
【0139】次に、パルス出力回路150について簡単
に説明する。パルス出力回路150は、SRラッチ回路
151およびインバータ回路153および155を含
む。
【0140】SRラッチ回路151は、NOR回路15
7および159を備える。NOR回路157の第1の入
力ノードは、SetQ信号を受ける。また、NOR回路
157の第2の入力ノードは、NOR回路159の出力
ノードと接続される。NOR回路159の第1の入力ノ
ードは、ResetQ信号を受ける。また、NOR回路
159の第2の入力ノードは、NOR回路157の出力
ノードと接続される。
【0141】具体的には、SetQ信号がHighのと
き、出力信号Q(NOR回路159の出力ノードの信
号)は1に、出力信号/Q(NOR回路157の出力ノ
ード)は0になる。ResetQ信号がHighのと
き、出力信号Qは0に、出力信号/Qは1になる。Se
tQ信号およびResetQ信号がともにLowの場合
には、出力信号Qおよび出力信号/Qの値は、そのまま
保持される。SetQ信号およびResetQ信号がと
もにHighの場合には、出力信号Qおよび出力信号/
Qの値は、ともに0になる。
【0142】インバータ回路153は、NOR回路15
9の出力ノードと接続される。また、インバータ回路1
55は、インバータ回路153と接続される。インバー
タ回路153から、パルス信号PULSEが出力され
る。
【0143】なお、図11において、SRラッチ回路1
51を、2つのNOR回路157および159で構成す
ることにより、リセット優先でSRラッチ回路151の
出力(図11においてQ)が決定される。これにより、
ResetQ信号に応答してパルス信号PULSEが各
サイクルでLowレベルに落ちる。
【0144】次に、図11に示すパルス生成回路6の動
作について、タイミングチャートである図12を用いて
説明する。
【0145】図12は、図11に示すパルス生成回路6
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
【0146】図12(A)は、メインクロックCLK
(=T(0))を、図12(B)は、カウンタ4の動作
を制御する信号φcntupdateを、図12(C)
は、デコーダ110の出力するデコード信号/dec
(i)を、図12(D)は、論理ゲート131.i(i
=0、…、14のいずれか)から出力されるパルス信号
P(i)を、それぞれ示す。さらに、図12(E)は、
SetQ信号を、図12(F)は、ResetQ信号
を、図12(G)は、パルス信号PULSEを、それぞ
れ示す。
【0147】メインクロックCLKに応答して、信号φ
cntupdateにより、カウンタ4のカウント値が
更新される。これを受けて、デコーダ110から、対応
するデコード信号/dec(i)が出力される。
【0148】パルス発生回路120は、リングオシレー
タ5の出力するパルス信号T(0)、…、T(15)を
用いて、隣接するパルス信号T(i)、T(i+1)に
より、15個のパルス信号を生成する。
【0149】パルス選択回路130は、デコード信号/
dec(i)応答して、15個のパルス信号のうちから
1つのパルス信号を選択(パルス信号P(i))し、こ
れをSetQ信号として出力する。
【0150】リセット回路140は、パルス信号T(1
6)およびT(0)からResetQ信号を生成する。
【0151】パルス出力回路150は、SetQ信号と
ResetQ信号とのそれぞれの立上がりエッジの区間
でHighレベルになるパルス信号PULSEを発生す
る。
【0152】なお、図13は、本発明の実施の形態1の
高電圧発生回路1000を半導体記憶装置900に適用
した場合の他の一例を示す概略図である。
【0153】図13に示すように、高電圧発生回路10
00のインダクタンス11および容量14を半導体記憶
装置900に外付する構成であってもよい。
【0154】
【発明の効果】以上のように、請求項1に係る高電圧発
生回路によれば、容量素子に流込む電流量をデジタル的
に調整することにより、高電圧を発生することができ
る。特に、低電源電圧を用いた場合においては、アナロ
グ的に回路を構成するよりも、デジタル的に回路を構成
することにより、精度をあげることができる。
【0155】また、請求項2に係る高電圧発生回路によ
れば、請求項1に係る高電圧発生回路であって、デジタ
ル的に発生した電圧をサンプルし、これを分圧し、さら
に基準電圧と比較することにより、低電源電圧を用いて
デジタル的に所望の高電圧を発生することができる。
【0156】また、請求項3に係る高電圧発生回路によ
れば、請求項2に係る高電圧発生回路であって、容量分
割により電圧を分圧することにより、分圧する量を調整
することができる。
【0157】また、請求項4に係る高電圧発生回路によ
れば、請求項2に係る高電圧発生回路であって、基準電
圧との比較回路としてラッチ型コンパレータを使用する
ことにより、クロック信号に応答して、デジタル的に比
較動作を行なうことができる。
【0158】また、請求項5に係る高電圧発生回路によ
れば、請求項1に係る高電圧発生回路であって、Hig
h幅を変えることにより、デューティ比を変調して、ス
イッチ手段を制御することができる。
【0159】また、請求項6に係る高電圧発生回路によ
れば、請求項5に係る高電圧発生回路であって、スイッ
チとしてMOSトランジスタを用いて、このゲート電極
にHigh幅を変えたパルスを与えることにより、容量
素子に流込む電流量を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の高電圧発生回路10
00を半導体記憶装置900に適用した場合の一例を示
す概略図である。
【図2】 インダクタを用いた高電圧発生回路1000
の基本原理を説明するための回路図である。
【図3】 図2に示す高電圧発生回路300の動作を説
明するためのタイミングチャートである。
【図4】 本発明の実施の形態1における高電圧発生回
路1000の基本動作を説明するためのタイミングチャ
ートである。
【図5】 本発明の実施の形態1のリングオシレータ5
の具体的構成の一例を示す回路図である。
【図6】 図5に示すリングオシレータ5の動作を説明
するためのタイミングチャートである。
【図7】 本発明の実施の形態1の高電圧サンプル/分
圧回路1の具体的構成の一例を示す回路図である。
【図8】 図7に示す高電圧サンプル/分圧回路1の基
本動作を説明するための回路図である。
【図9】 本発明の実施の形態1の電圧コンパレータ3
の具体的構成の一例を示す回路図である。
【図10】 本発明の実施の形態1におけるカウンタ4
の具体的構成の一例を示す回路図である。
【図11】 本発明の実施の形態1のパルス生成回路6
の具体的構成の一例を示す回路図である。
【図12】 図11に示すパルス生成回路6の動作を説
明するためのタイミングチャートである。
【図13】 本発明の実施の形態1の高電圧発生回路1
000を半導体記憶装置900に適用した場合の他の一
例を示す概略図である
【図14】 従来の高電圧発生回路2000の具体的構
成の一例を示す回路図である。
【図15】 リングオシレータ222の生成する周期パ
ルスφ、/φを示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
1 高電圧サンプル/分圧回路、2 コントロールレジ
スタ、3 電圧コンパレータ、4 カウンタ、5 リン
グオシレータ、6 パルス生成回路、11 インダク
タ、13 PNダイオード、14 容量、1000 高
電圧発生回路、900 半導体記憶装置。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の容量素子を備え、前記第1の容量
    素子への電流の経路を変化させることにより、前記第1
    の容量素子に電荷を蓄積して所望の電圧を発生する高電
    圧発生回路であって、 前記発生した電圧が前記所望の電圧に一致するか否か
    を、クロック信号に応答して比較判定する比較判定手段
    と、 前記比較判定手段の比較判定結果に基づき、値がデジタ
    ル的に制御されるカウント手段と、 前記カウント手段の値に基づき、出力するパルス信号の
    デューティ比が変調されるパルス発生手段と、 前記パルス発生手段の出力するパルス信号に基づき前記
    電流の経路を変化させるスイッチ手段とを備える、高電
    圧発生回路。
  2. 【請求項2】 前記比較判定手段は、 第1の前記クロック信号に応答して、前記発生した電圧
    をサンプルするサンプル手段と、 第2の前記クロック信号に応答して、前記サンプルした
    電圧を分圧する手段と、 第3の前記クロック信号に応答して、前記分圧した電圧
    と基準電位とを比較する比較手段とを備える、請求項1
    記載の高電圧発生回路。
  3. 【請求項3】 前記分圧手段は、 複数の第2の容量素子を含み、 前記所望の電圧に応じて、前記複数の第2の容量素子の
    なかのいずれかを選択して、前記サンプルした電圧を第
    2の前記クロック信号に応答して、前記選択した第2の
    容量素子で分圧する、請求項2記載の高電圧発生回路。
  4. 【請求項4】 前記比較手段は、 ラッチ型コンパレータであり、 前記分圧した電圧と基準電位とを第3の前記クロック信
    号のエッジ時点で評価し、前記評価結果を出力する、請
    求項2記載の高電圧発生回路。
  5. 【請求項5】 前記パルス発生手段は、前記出力するパ
    ルスのサイクルが一定で、かつパルスのHigh幅を変
    化させることにより、前記デューティ比を変調する、請
    求項1記載の高電圧発生回路。
  6. 【請求項6】 前記スイッチ手段は、 MOSトランジスタであって、 前記MOSトランジスタの一方の導通端子は第1の電源
    電位と接続され、他方の導通端子は前記電流の経路に接
    続され、さらにゲート電極は、前記パルス発生手段から
    出力されるパルス信号を受け、 前記第1の容量素子の一方の端子は第2の電源電位に接
    続され、他方の端子は前記電流の経路に接続される、請
    求項5記載の高電圧発生回路。
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