JPH07122992B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH07122992B2
JPH07122992B2 JP3017759A JP1775991A JPH07122992B2 JP H07122992 B2 JPH07122992 B2 JP H07122992B2 JP 3017759 A JP3017759 A JP 3017759A JP 1775991 A JP1775991 A JP 1775991A JP H07122992 B2 JPH07122992 B2 JP H07122992B2
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誠幸 早川
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、外部から供給される
電源電圧を集積回路の内部で降圧して内部電源電圧とし
て使用するようにした半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】スタティック型半導体メモリ(以下、S
RAMと称する)等のように、多数の素子が集積化され
た半導体集積回路(以下、ICと称する)では、高集積
化を図るためトランジスタの大きさが年々、縮小化され
ている。これに伴い、従来から使用されている5Vの標
準電源電圧をICに供給すると、内部の微細化されたト
ランジスタが破壊される等、信頼性上の問題が生じてく
る。
【0003】従来、このような問題が発生する恐れがあ
る高集積化されたICでは、図18に示すように、内部
降圧回路91を設け、外部から供給される標準の5Vの電
源電圧Vext をこの内部降圧回路91で例えば3V程度の
内部電源電圧Vint に降圧した後、微細化されたトラン
ジスタを含む内部回路92に供給している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
ICを、電源ユニットで得られる標準の5Vの電源電圧
で常時動作させる場合には問題は生じない。しかしなが
ら、このICがSRAMであり、しかも電池によってデ
ータを保持させるいわゆるバッテリーバックアップ動作
を行う場合に問題が生じる。すなわち、従来では、電源
ユニットで得られる電源電圧で動作させる時はもちろん
のこと、バッテリーによるバックアップ動作時にも内部
降圧回路91では電流が消費される。このため、バックア
ップ動作時にバッテリーの消耗が激しくなり、長期間の
バッテリーバックアップ動作が行えなくなる。
【0005】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、外部電源電圧を降圧し
て内部電源電圧として使用するものにおいて、長期間の
バッテリーバックアップ動作が可能な半導体集積回路を
提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明の半導体集積回
路は、所定の機能を有する内部回路と、外部から電源電
圧が印加される電源端子と、上記電源端子の電圧値を検
出する電圧検出手段と、上記電圧検出手段の検出結果に
応じて活性化制御され、活性時に上記電源端子に供給さ
れる外部電源電圧を降圧して上記内部回路に内部電源電
圧として供給する電圧降圧手段と、上記電源端子と上記
内部回路との間に接続され、上記電源端子に印加される
電圧を上記電圧検出手段の検出結果に応じて上記内部回
路に供給制御する制御手段とを具備したことする。
【0007】
【作用】電圧検出手段により電源端子の電圧値が検出さ
れる。この検出値が所定値より大きい場合には電圧降圧
手段が活性化され、外部電源電圧が降圧されて内部回路
に内部電源電圧として供給される。一方、バッテリーバ
ックアップ動作時のように電圧検出手段による検出値が
所定値より小さい場合には電圧降圧手段は活性化され
ず、代わりに電源端子に印加される電圧が制御手段を介
して内部回路に供給される。このバッテリーバックアッ
プ動作時、電圧降圧手段は動作せず、電流を消費しない
ので、バッテリーによる長時間動作が可能になる。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例によ
り説明する。
【0009】図1はこの発明をSRAMに実施した、こ
の発明の第1の実施例の回路構成を示すブロック図であ
る。図において、11は集積回路の外部から電源電圧Vex
t が供給される外部電源端子である。この端子11には外
部電源電圧Vext として、この集積回路が通常の動作、
すなわちデータの書き込み動作や読み出し動作を行う時
は電源回路で得られる標準の5Vの電圧が供給される。
一方、スタンドバイ動作時には、バッテリーからの例え
ば3V程度の電圧が上記端子11に供給される。上記端子
11に供給される外部電源電圧Vext は外部電圧検出回路
12、内部降圧回路13及びスイッチ回路14にそれぞれ与え
られる。
【0010】上記外部電圧検出回路12は、外部電源電圧
Vext の値を検出し、この検出値が所定電圧V0よりも
小さい時には“L”レベル、大きい時には“H”レベル
となるような制御信号φ0を発生する。ただし、V0は
0Vと5Vとの間の値である。そして、この外部電圧検
出回路12で発生される制御信号φ0は上記内部降圧回路
13及び上記スイッチ回路14に並列に供給される。
【0011】上記内部降圧回路13は上記制御信号φ0の
レベルに応じて活性化され、活性化されている時は5V
の外部電源電圧Vext を降圧して例えば3V程度の内部
電源電圧Vint を発生する。また、上記スイッチ回路14
は図示するように、例えばPチャネルのMOSFETで
構成されており、上記制御信号φ0のレベルに応じて導
通制御され、外部電源電圧Vext を通過もしくは遮断す
る。上記内部降圧回路13の出力及びスイッチ回路14の出
力は、例えばデータ記憶機能を有するメモリセルを含む
内部回路15に電源電圧として供給される。
【0012】次に上記構成でなる回路の動作を図2の信
号波形図を用いて説明する。いま、この集積回路が通常
動作、すなわちデータの書き込み動作や読み出し動作を
行う時は、電源ユニットからの5Vの電圧が端子11に外
部電源電圧Vext として印加される。この時の電圧Vex
t の値は、外部電圧検出回路12における検出値V0より
も大きいので、制御信号φ0は“H”レベルとなる。こ
の制御信号φ0により内部降圧回路13が活性化され、一
方、スイッチ回路14は非導通状態になり、外部電源電圧
Vext が内部降圧回路13で降圧される。そして、内部降
圧回路13からの3V程度の出力電圧が内部電源電圧Vin
t として内部回路15に供給される。
【0013】一方、この集積回路がスタンドバイ動作を
行う時は、バッテリーからの例えば3V程度の電圧が端
子11に外部電源電圧Vext として印加される。この時の
電圧Vext の値は外部電圧検出回路12における検出値V
0よりも小さい。このため、制御信号φ0は“L”レベ
ルになる。この制御信号φ0により内部降圧回路13は非
活性状態となり、一方、スイッチ回路14は導通状態にな
る。このため、端子11に供給されたバッテリーからの電
圧が、スイッチ回路14を介してそのまま内部電源電圧V
int として内部回路15に供給される。
【0014】このように上記実施例によれば、バッテリ
ーによるバックアップ動作時には、内部降圧回路13の動
作を停止させて無駄な電流が消費されないようにしたの
で、バッテリーの消耗を押さえることができ、もって長
期間のバッテリーバックアップ動作が可能となる。次に
この発明の第2の実施例を図3により説明する。この実
施例では、前記外部電圧検出回路12に換えて新たな外部
電圧検出回路16が設けられている。
【0015】上記新たな外部電圧検出回路16は外部電源
電圧Vext の値を検出し、この検出値が所定電圧V1よ
りも小さい時には“L”レベル、大きい時には“H”レ
ベルとなるような制御信号φ1と、検出値がV2よりも
小さい時には“L”レベル、大きい時には“H”レベル
となるような制御信号φ2とを発生する。ただし、V1
とV2は共に0Vと5Vとの間の値であり、V1<V2
であるとする。そして、この外部電圧検出回路16で発生
される一方の制御信号φ1は上記内部降圧回路13に供給
され、他方の制御信号φ2は上記スイッチ回路14に供給
される。
【0016】上記内部降圧回路12は上記制御信号φ1の
レベルに応じて活性化され、活性化されている時に5V
の外部電源電圧Vext を降圧して例えば3V程度の内部
電源電圧Vint を発生する。また、上記スイッチ回路14
は前記図1の実施例の場合と同様に、例えばPチャネル
のMOSトランジスタで構成されており、上記制御信号
φ2のレベルに応じて導通制御され、これにより外部電
源電圧Vext を通過もしくは遮断する。
【0017】次に上記構成でなる回路の動作を図4の波
形図を用いて説明する。いま、この集積回路が通常動作
を行う時は、電源回路からの5Vの電圧が端子11に外部
電源電圧Vext として供給される。この時の電圧Vext
の値は外部電圧検出回路16における2つの検出値V1、
V2それぞれよりも大きいので、一方及び他方の制御信
号φ1、φ2は共に“H”レベルとなる。このとき、制
御信号φ1により内部降圧回路13が活性化され、一方、
スイッチ回路14は非導通状態になるので、外部電源電圧
Vext が内部降圧回路13で降圧され、その3V程度の出
力電圧が内部電源電圧Vint として内部回路15に供給さ
れる。
【0018】一方、この集積回路がスタンドバイ動作を
行う時は、バッテリーからの例えば3V程度の電圧が端
子11に外部電源電圧Vext として供給される。この時の
電圧Vext の値は外部電圧検出回路16における2つの検
出値V1、V2それぞれよりも小さいので、一方及び他
方の制御信号φ1、φ2は共に“L”レベルとなる。こ
のとき、制御信号φ1により内部降圧回路13は非活性状
態となり、一方、スイッチ回路14が導通状態になる。こ
のため、端子11に供給されたバッテリーからの電圧が、
スイッチ回路14を介してそのまま内部電源電圧Vint と
して内部回路15に供給される。
【0019】このように上記実施例でも、バッテリーに
よるバックアップ動作時には、内部降圧回路13の動作を
停止させて無駄な電流が消費されないようにしたので、
バッテリーの消耗を押さえることができ、もって長期間
のバッテリーバックアップ動作が可能となる。
【0020】しかも、上記実施例では、外部電圧検出回
路16で値が異なる2つの検出値V1、V2を設定してい
るため、次のような効果も得ることができる。すなわ
ち、SRAM等のメモリでは一瞬たりとも電源電圧が供
給されない事態が発生すると、記憶データの破壊等の不
都合が生じる。前記図1の実施例回路の場合、外部電圧
検出回路12で発生された1つの制御信号φ0を用いて内
部降圧回路13とスイッチ回路14の動作を同時に制御する
と、内部回路15に電源電圧が一時的に供給されなくなる
恐れがある。このため、図3の実施例回路では、外部電
圧検出回路16において値が異なる2つの検出値V1、V
2を設定し、図4に示すように2つの制御信号φ1、φ
2のレベルが同時に切り替わらないようにしている。こ
れを具体的に説明すると、外部電源電圧Vext の値が低
下し、検出値V2よりもわずかに小さくなると、制御信
号φ2が“L”レベルになり、スイッチ回路14が導通す
る。このとき、電圧Vext の値は検出値V1よりも大き
いため、制御信号φ1は以前の“H”レベルのままであ
る。従って、このとき内部降圧回路13は動作している。
そして、外部電源電圧Vext の値がさらに低下し、検出
値V1よりも小さくなると、制御信号φ1が“L”レベ
ルに変化し、このとき内部降圧回路13は始めて非活性と
なる。すなわち、内部降圧回路13が動作を停止する前に
スイッチ回路14が導通するため、電源電圧が一瞬たり
とも内部回路15に対して供給されない事態を防ぐこと
ができる。
【0021】また、外部電源電圧Vext の値が上昇する
場合でも、内部降圧回路13が動作を開始した後にスイッ
チ回路14が非導通となるため、電源電圧が一瞬たりとも
内部回路15に対して供給されない事態を防ぐことができ
る。
【0022】図5はこの発明の第3の実施例の構成を示
すブロック図である。この実施例回路は、前記外部電源
端子11に供給される電源電圧Vext の値に応じてスイッ
チ回路14の動作を制御すると共に、電源電圧Vext の値
と集積回路の外部から供給されるチップ選択信号(チッ
プ・イネーブル信号)/CEによって内部降圧回路13の
動作を制御するようにしたものである。なお、前記図1
と対応する箇所には同じ符号を付して説明を行う。
【0023】この実施例回路では、前記内部降圧回路13
が通常動作用の第1の内部降圧回路21と、スタンドバイ
動作用の第2の内部降圧回路22とから構成されている。
上記両内部降圧回路21,22には外部電源端子11に供給さ
れる電源電圧Vext が与えられる。
【0024】また、両内部降圧回路21,22には、基準電
圧発生回路23で発生される基準電圧Vref が供給されて
いる。この基準電圧発生回路23は、活性化されている期
間に外部電源電圧Vext から一定の基準電圧Vref を発
生する。
【0025】また、図において、24は集積回路の外部か
らチップ選択信号/CEが供給される外部制御端子であ
る。この端子24に供給されるチップ選択信号/CEは
NDゲート25の一方入力端及び遅延回路26に入力され
る。上記遅延回路26は、上記チップ選択信号/CEを所
定期間遅延する。そして、この遅延回路26の出力は上記
ANDゲート25の他方入力端に入力される。さらに、こ
ANDゲート25の出力はNANDゲート27及びNOR
ゲート28それぞれの一方入力端に供給される。
【0026】一方、外部電圧検出回路12で発生される制
御信号φ0はスイッチ回路14及び上記第2の内部降圧回
路22に直接に供給されると共に、インバータ29を介して
上記NANDゲート27及びNORゲート28それぞれの他
方入力端に供給される。
【0027】上記基準電圧発生回路23は上記NANDゲ
ート27の出力に基づき、通常動作用の第1の内部降圧回
路21は上記NORゲート28の出力に基づき、スタンドバ
イ動作用の第2の内部降圧回路22は制御信号φ0に基づ
きそれぞれ活性化される。
【0028】なお、上記両内部降圧回路21,22は共に同
様の回路構成にされているが、内部の対応するトランジ
スタの素子寸法等を異ならせることにより、スタンドバ
イ動作用の第2の内部降圧回路22の消費電流が通常動作
用の第1の内部降圧回路21のそれよりも少なくなるよう
にされている。
【0029】次に上記構成でなる回路の動作を図6の信
号波形図を用いて説明する。いま、電源ユニットからの
5Vの電圧が端子11に外部電源電圧Vext として供給さ
れており、かつチップ選択信号/CEが“L”レベルに
されている通常動作時では、電圧Vext の値が前記検出
値V0よりも大きいので、外部電圧検出回路12で発生さ
れる制御信号φ0は“H”レベルとなる。従って、スイ
ッチ回路14は非導通状態になる。また、制御信号φ0に
より第2の内部降圧回路22が活性化される。さらに、チ
ップ選択信号/CEが“L”レベルにされているので、
ANDゲート25の出力も“L”レベルとなる。また、イ
ンバータ29の出力が“L”レベルであるため、NAND
ゲート27及びNORゲート28それぞれの出力は共に
“H”レベルとなる。従って、基準電圧発生回路23及び
第1の内部降圧回路22が共に活性化される。そして、活
性化された基準電圧発生回路23で発生される基準電圧V
ref が第1、第2の内部降圧回路21,22に供給されるこ
とにより、両内部降圧回路21,22ではこの基準電圧Vre
f を基準として外部電源電圧Vext が降圧され、それぞ
れで降圧された内部電源電圧Vint が内部回路15に供給
される。すなわち、この状態の時は第1、第2の内部降
圧回路21,22によって並列に外部電源電圧Vext が降圧
され、降圧後の電圧Vint が内部回路15に供給される。
【0030】次に5Vの電圧が端子11に供給されている
期間にチップ選択信号/CEが“H”レベルにされる
と、ANDゲート25の出力が遅延回路26における遅延時
間の後に“H”レベルになる。このとき、インバータ29
の出力は“L”レベルのままであるため、NANDゲー
ト27の出力は“H”レベルのままであるが、NORゲー
ト28の出力は以前の“H”レベルから“L”レベルに反
転する。従って、チップ選択信号によるスタンドバイ動
作時は、内部降圧回路13内の消費電流が小さい方の第2
の内部降圧回路22のみが活性化され、この内部降圧回路
22によって外部電源電圧Vext が降圧され、降圧後の電
圧Vint が内部回路15に供給される。
【0031】さらに、バッテリーからの例えば3V程度
の電圧が端子11に外部電源電圧Vext として供給される
バッテリーバックアップ動作時には、電圧Vext の値が
外部電圧検出回路12における検出値V0よりも小さいの
で、図1の実施例回路の場合と同様に、制御信号φ0が
“L”レベルとなる。そして、制御信号φ0により内部
降圧回路13内の両内部降圧回路21,22が共に非活性状態
となり、さらに基準電圧発生回路23も非活性状態とな
り、無駄な消費電流の大幅な削減が図られる。
【0032】しかも、この場合は、制御信号φ0により
スイッチ回路14が導通状態になり、端子11に供給されて
いるバッテリーからの電圧がそのまま内部回路15に内部
電源電圧Vint として供給される。
【0033】図7に示すこの発明の第4の実施例回路で
は、上記図5の実施例回路の外部電圧検出回路12に換え
て、前記図3の実施例の場合と同様に2種類の制御信号
φ1、φ2を発生する新たな外部電圧検出回路16を設け
るようにしたものである。
【0034】上記外部電圧検出回路16で発生される一方
の制御信号φ1は前記第2の内部降圧回路22に直接に供
給されると共にインバータ29を介して上記NANDゲー
ト27及びNORゲート28それぞれの他方入力端に供給さ
れる。他方の制御信号φ2は前記スイッチ回路14に供給
される
【0035】なお、この実施例の場合、外部電圧検出回
路16における2つの検出値V1、V2それぞれには、外
部電源電圧Vext にノイズが混入したときの誤動作を防
止するため、図8に示すようなヒステリシス特性を持た
せている。なお、前記図3の実施例回路の場合にもこの
ようなヒステリシス特性を持たせることができる。次に
上記図5及び図7の各実施例回路における個々の回路の
詳細な構成について説明する。
【0036】図9は、前記基準電圧Vref を発生する基
準電圧発生回路23の詳細な回路図である。この回路はP
チャネルのMOSFET41,42及びNチャネルのMOS
FET43からなるカレントミラー回路で発生される一定
電流を、前記NANDゲート27の出力で制御されるNチ
ャネルのMOSFET44に流すことにより、外部電源電
圧Vext からPチャネルのMOSFET2個分の閾値電
圧を差し引いた電圧がノードAに得られる。また、定電
流源として動作するPチャネルのMOSFET45に上記
ノードAの電圧を供給し、このFET45の負荷として動
作するPチャネルのMOSFET46をNANDゲート27
の出力の反転信号で制御することにより、上記両FET
45,46の直列接続点であるノードBからほぼPチャネル
のMOSFET2個分の閾値電圧に相当する基準電圧V
ref が得られる。
【0037】図10は前記第1、第2の内部降圧回路2
1,22の詳細な回路図である。これらの回路は前記のよ
うに共に同様の回路構成にされており、前記基準電圧発
生回路23で発生される基準電圧Vref と内部電源電圧V
int とを比較する電圧コンパレータ51と、このコンパレ
ータ51から出力される差電圧により導通制御されるPチ
ャネルのMOSFET52とから構成されている。
【0038】この回路では、電圧コンパレータ51により
内部電源電圧Vint と基準電圧Vref とが比較され、V
int がVref よりも小さくなると、電圧コンパレータ51
の出力電圧が小さくなってFET52の導通抵抗が低下
し、Vint が上昇する。逆に、Vint がVref よりも大
きくと、電圧コンパレータ51の出力電圧が大きくなって
FET52の導通抵抗が低下し、Vint が降下する。この
ようにしてVint がVref と一致するように制御され
る。
【0039】図11は上記図10の内部降圧回路の電圧
コンパレータ51をさらに詳細に示したものである。ここ
で、上記電圧コンパレータ51は図示のように、Pチャネ
ルのMOSFET61,62及びNチャネルのMOSFET
63,64,65からなる通常のCMOS構成の電圧コンパレ
ータに対して、スタンドバイ動作時もしくはバッテリー
バックアップ動作時に直流電流が発生することを防止す
るため、前記NORゲート28の出力又は制御信号φ0も
しくはφ1が供給されるPチャネルのMOSFET66,
67とNチャネルのMOSFET68とが追加されたもので
ある。なお、前記のように、第1、第2の内部降圧回路
21,22の消費電流を異ならせるため、互いに対応するF
ETの素子寸法が異なるように形成されている。
【0040】図12は前記図7内の外部電圧検出回路16
の詳細な回路図である。この回路は、直列接続された3
個の抵抗により外部電源電圧Vext を分割してノードF
1、F2に値が異なる2つの基準電圧を発生する基準電
圧発生回路71と、上記一方のノードF1の電圧が供給さ
れこのノードの電圧と外部電源電圧Vext を比較して前
記のようなヒステリシス特性を有する制御信号φ1を出
力する第1の制御信号発生回路72と、上記他方のノード
F2の電圧が供給されこのノードの電圧と外部電源電圧
Vext とを比較して前記のようなヒステリシス特性を有
する制御信号φ2を出力する第2の制御信号発生回路73
とから構成されている。
【0041】上記第1、第2の制御信号発生回路72,73
は同様な構成にされており、一方の回路73で例示するよ
うに、電圧Vext とノードCとの間に挿入され、ノード
F2(もしくはF1)の電圧がゲートに供給されるPチ
ャネルのMOSFET81と、上記ノードCと接地電圧と
の間に挿入され、電圧Vext がゲートに供給されるNチ
ャネルのMOSFET82と、上記ノードCと接地電圧と
の間に挿入されたNチャネルのMOSFET83と、上記
ノードCの信号を反転するCMOS型のインバータ84
と、このインバータ84の出力を反転するCMOS型のイ
ンバータ85と、このインバータ85の出力を反転するイン
バータ86及びこのインバータ86の出力を反転して前記制
御信号φ2(もしくはφ1)を出力するインバータ87が
設けられている。そして、インバータ86の出力は上記F
ET83のゲートに帰還されている。
【0042】上記のような回路において、外部電源電圧
Vext が5Vの時は2つの制御信号発生回路72,73内の
各PチャネルのMOSFET81がオン状態であり、制御
信号φ1、φ2は共に“H”レベルになっている。そし
て、外部電源電圧Vext が3V程度に下がり、この電圧
Vext とノードF2の電圧との電位差が上記FET81の
閾値電圧よりも小さくなると、制御信号発生回路73内の
FET81がオフし、制御信号φ2が“L”レベルにな
る。さらに外部電源電圧Vext が下がり、電圧Vext と
ノードF1の電圧との電位差が上記FET81の閾値電圧
よりも小さくなると、制御信号発生回路72内のFET81
がオフし、制御信号φ1が“L”レベルになる。なお、
上記両制御信号発生回路72,73において、前記のような
ヒステリシス特性を持たせる必要がない場合には、帰還
用のFET83が省略される。
【0043】図13はこの発明の第5の実施例に係る構
成を示している。前記図7の実施例回路では基準電圧発
生回路23の動作を、前記ANDゲート25及びインバータ
29の各出力を受けるNANDゲート27の出力で制御する
ようにしている。これに対し、この図13の実施例回路
では、前記外部電圧検出回路16で発生される制御信号φ
1によって基準電圧発生回路23の動作を制御するように
回路接続を変更したものである。
【0044】従って、この実施例回路では、チップ選択
信号/CEのレベルにかかわらずに、外部電源電圧Vex
t の値がV1よりも大きいときに基準電圧発生回路23が
活性化され、基準電圧Vref が発生される。しかし、内
部降圧回路13内の第1の内部降圧回路21の動作は前記図
7の実施例回路の場合と同様にチップ選択信号/CEの
レベルに応じて決定される。
【0045】図14はこの発明の第6の実施例に係る構
成を示している。この図14の実施例回路では、前記図
7の実施例回路の場合と同様に基準電圧発生回路23の動
前記NANDゲート27の出力によって制御されると
共に、内部降圧回路13内の第2の内部降圧回路22の動作
もこのNANDゲート27の出力によって制御されるよう
に回路接続を変更したものである。
【0046】図15はこの発明の第7の実施例に係る構
成を示している。この実施例回路は前記図7の実施例回
路中の1個の基準電圧発生回路23に替えて2個の基準電
圧発生回路101 ,102 を設けるようにしたのである。な
お、ここでは前記チップ選択信号/CEと遅延回路26の
出力を受ける前記ANDゲート25の代わりにANDゲー
ト31が用いられている。
【0047】上記一方の基準電圧発生回路101 及び第1
の内部降圧回路21の動作はANDゲート103 の出力で制
御される。このANDゲート103 には前記ANDゲート
31の出力がインバータ104 を介して入力され、かつ前記
制御信号φ1が直接入力されている。また、上記他方の
基準電圧発生回路102 及び第2の内部降圧回路22の動作
は前記制御信号φ1で制御される。
【0048】すなわち、上記実施例回路では、制御信号
φ1が“H”レベルのときに他方の基準電圧発生回路10
2 が活性化され、この基準電圧発生回路102 で発生され
る基準電圧Vref2が第2の内部降圧回路22に供給され
る。そして、この第2の内部降圧回路22では、外部電源
電圧Vext 及び基準電圧Vref2に基づいて内部電源電圧
Vintが発生される。さらに、制御信号φ1が“H”レ
ベルでかつチップ選択信号/CEが“L”レベルのとき
は、一方の基準電圧発生回路101 も活性化され、この基
準電圧発生回路101 で発生される基準電圧Vref1が第1
の内部降圧回路21に供給される。そして、この第1の
内部降圧回路21では、外部電源電圧Vext 及び基準電
圧Vref1に基づいて内部電源電圧Vint が発生される。
【0049】図16はこの発明の第8の実施例に係る構
成を示している。この実施例回路では、上記図15の実
施例回路における第2の基準電圧発生圧回路102 の動作
を前記制御信号φ1で制御する代わりに、新たに前記イ
ンバータ104 及び制御信号φ1を受けるORゲート105
を設け、このORゲート105 の出力で第2の基準電圧発
生圧回路102 の動作が制御されるように回路接続を変更
したものである。なお、第2の内部降圧回路22の動作は
前記の場合と同様に制御信号φ1で制御される。
【0050】図17はこの発明の第9の実施例に係る構
成を示している。この実施例回路では、上記図16の実
施例の場合と同様に第2の基準電圧発生圧回路102 の動
作をORゲート105 の出力で制御すると共に、前記第2
の内部降圧回路22の動作もこのORゲート105 の出力で
制御するように変更したものである。
【0051】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
長期間のバッテリーバックアップ動作が可能な半導体集
積回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例の回路構成を示すブロ
ック図。
【図2】上記第1の実施例を説明するための信号波形
図。
【図3】この発明の第2の実施例の回路構成を示すブロ
ック図。
【図4】上記第2の実施例を説明するための信号波形
図。
【図5】この発明の第3の実施例の回路構成を示すブロ
ック図。
【図6】上記第3の実施例を説明するための信号波形
図。
【図7】この発明の第4の実施例の回路構成を示すブロ
ック図。
【図8】上記第4の実施例を説明するための信号波形
図。
【図9】上記図5及び図7の各実施例回路内の基準電圧
発生回路の詳細な構成を示す回路図。
【図10】上記図5及び図7の各実施例回路内の内部降
圧回路の詳細な構成を示す回路図。
【図11】上記図10の内部降圧回路のさらに詳細な構
成を示す回路図。
【図12】上記図3の実施例回路内の外部電圧検出回路
の詳細な構成を示す回路図。
【図13】この発明の第5の実施例の回路構成を示すブ
ロック図。
【図14】この発明の第6の実施例の回路構成を示すブ
ロック図。
【図15】この発明の第7の実施例の回路構成を示すブ
ロック図。
【図16】この発明の第8の実施例の回路構成を示すブ
ロック図。
【図17】この発明の第9の実施例の回路構成を示すブ
ロック図。
【図18】従来回路のブロック図。
【符号の説明】
11…外部電源端子、12…外部電圧検出回路、13…内部降
圧回路、14…スイッチ回路、15…内部回路、16…外部電
圧検出回路、21…第1の内部降圧回路、22…第2の内部
降圧回路、23…基準電圧発生回路、24…外部制御端子、
25…ANDゲート、26…遅延回路、27…NANDゲー
ト、28…NORゲート、29…インバータ、31…ANDゲ
ート、 101…第1の基準電圧発生回路、 102…第2の基
準電圧発生回路、 103…ANDゲート、 104…インバー
タ、 105…ORゲート。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の機能を有する内部回路と外部から電源電圧が供給される電源端子と上記電源端子の電圧値を検出し、この検出値が所定値よ
    りも小さいときには第1のレベルとなり大きいときには
    第2のレベルとなる制御信号を発生する電圧検出手段
    外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記制御信号が第2のレベルの
    ときに活性化され、上記電源端子に供給される外部電源
    電圧を降圧して上記内部回路に内部電源電圧として供給
    する第1の電圧降圧手段と上記制御信号が第2のレベルのときに活性化され、上記
    電源端子に供給される外部電源電圧を降圧して上記内部
    回路に内部電源電圧として供給し、上記内部回路に対す
    る電流供給能力が上記第1の電圧降圧手段よりも小さく
    された第2の電圧降圧手段と上記電源端子と上記内部回路との間に接続され、上記制
    御信号が第1のレベルのときに上記電源端子に供給され
    る外部電源電圧を上記内部回路に与える制御手段と を具
    備したことを特徴とする半導体集積回路
  2. 【請求項2】 前記制御手段がMOSFETからなるス
    イッチ回路で構成されている請求項1に記載の半導体集
    積回路。
  3. 【請求項3】 所定の機能を有する内部回路と外部から電源電圧が供給される電源端子と上記電源端子の電圧値を第1及び第2の電圧値と比較
    し、第1の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第1の制御信号
    と、第2の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第2の制御信号
    とを発生する電圧検出手段と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、上記電源端子に供給される外
    部電源電圧を降圧して上記内部回路に内部電源電圧とし
    て供給する第1 の電圧降圧手段と上記第1の制御信号が第2のレベルのときに活性化さ
    れ、上記電源端子に供給される外部電源電圧を降圧して
    上記内部回路に内部電源電圧として供給し、上記内部回
    路に対する電流供給能力が上記第1の電圧降圧手段より
    も小さくされた第2の電圧降圧手段と上記電源端子と上記内部回路との間に接続され、上記第
    2の制御信号が第1のレベルのときに上記電源端子に供
    給される外部電源電圧を上記内部回路に与える制御手段
    を具備したことを特徴とする半導体集積回路
  4. 【請求項4】 前記制御手段がMOSFETからなるス
    イッチ回路で構成されている請求項3に記載の半導体集
    積回路
  5. 【請求項5】 所定の機能を有する内部回路と外部から電源電圧が供給される電源端子と上記電源端子の電圧値を第1及び第2の電圧値と比較
    し、第1の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第1の制御信号
    と、第2の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第2の制御信号
    とを発生する電圧検出手段と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、第1の基準電圧を発生する第
    1の基準電圧発生回路と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、上記電源端子に供給される外
    部電源電圧を降圧して上記第1の基準電圧に応じた値の
    電圧を発生して上記内部回路に内部電源電圧として供給
    する第1の電圧降圧手段と上記第1の制御信号が第2のレベルのときに活性化さ
    れ、第2の基準電圧を発生する第2の基準電圧発生回路
    上記第1の制御信号が第2のレベルのときに活性化さ
    れ、上記電源端子に供給される外部電源電圧を降圧して
    上記第2の基準電圧に応じた値の電圧を発生して上記内
    部回路に内部電源電圧として供給し、上記内部回路に対
    する電流供給能力 が上記第1の電圧降圧手段よりも小さ
    くされた第2の電圧降圧手段と上記電源端子と上記内部回路との間に接続され、上記第
    1の制御信号が第1のレベルのときに上記電源端子に供
    給される外部電源電圧を上記内部回路に与える制御手段
    を具備したことを特徴とする半導体集積回路
  6. 【請求項6】 前記制御手段がMOSFETからなるス
    イッチ回路で構成されている請求項5に記載の半導体集
    積回路
  7. 【請求項7】 所定の機能を有する内部回路と外部から電源電圧が供給される電源端子と上記電源端子の電圧値を第1及び第2の電圧値と比較
    し、第1の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第1の制御信号
    と、第2の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第2の制御信号
    とを発生する電圧検出手段と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、第1の基準電圧を発生する第
    1の基準電圧発生回路と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、上記電源端子に供給される外
    部電源電圧を降圧して上記第1の基準電圧に応じた値の
    電圧を発生して上記内部回路に内部電源電圧として供給
    する第1の電圧降圧手段と上記チップ選択信号が通常動作時に対応したレベルのと
    きもしくは上記第1の制御信号が第2のレベルのときに
    活性化され、第2の基準電圧を発生する第2の基準電圧
    発生回路と上記第1の制御信号が第2のレベルのときに活性化さ
    れ、上記電源端子に供給される外部電源電圧を降圧して
    上記第2の基準電圧に応じた値の電圧を発生して上記内
    部回路に内部電源電圧として供給し、上記内部回路に対
    する電流供給能力が上記第1の電圧降圧手段よりも小さ
    くされた第2の電圧降圧手段と上記電源端子と上記内部回路との間に接続され、上記第
    1の制御信号が第1のレベルのときに上記電源端子に供
    給される外部電源電圧を上記内部回路に与える 制御手段
    を具備したことを特徴とする半導体集積回路
  8. 【請求項8】 前記制御手段がMOSFETからなるス
    イッチ回路で構成されている請求項7に記載の半導体集
    積回路
  9. 【請求項9】 所定の機能を有する内部回路と外部から電源電圧が供給される電源端子と上記電源端子の電圧値を第1及び第2の電圧値と比較
    し、第1の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第1の制御信号
    と、第2の電圧値よりも小さいときには第1のレベルと
    なり大きいときには第2のレベルとなる第2の制御信号
    とを発生する電圧検出手段と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、第1の基準電圧を発生する第
    1の基準電圧発生回路と外部から供給されるチップ選択信号が通常動作時に対応
    したレベルのときでかつ上記第1の制御信号が第2のレ
    ベルのときに活性化され、上記電源端子に供給される外
    部電源電圧を降圧して上記第1の基準電圧に応じた値の
    電圧を発生して上記内部回路に内部電源電圧として供給
    する第1の電圧降圧手段と上記チップ選択信号が通常動作時に対応したレベルのと
    きもしくは上記第1の制御信号が第2のレベルのときに
    活性化され、第2の基準電圧を発生する第2の基準電圧
    発生回路と上記チップ選択信号が通常動作時に対応したレベルのと
    きもしくは上記第1の制御信号が第2のレベルのときに
    活性化され、上記電源端子に供給される外部電源電圧を
    降圧して上記第2の基準電圧に応じた値の電圧を発生し
    て上記内部回路に内部電源電圧として供給し、上記内部
    回路に対する電流供給能力が上記第1の電圧降圧手段よ
    りも小さくされた第2の電圧降圧手段と上記電源端子と上記内部回路との間に接続され、上記第
    1の制御信号が第1のレベルのときに上記電源端子に供
    給される外部電源電圧を上記内部回路に与える制御手段
    を具備したことを特徴とする半導体集積回路
  10. 【請求項10】 前記制御手段がMOSFETからなる
    スイッチ回路で構成されている請求項9に記載の半導体
    集積回路
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR19990010546A (ko) * 1997-07-16 1999-02-18 윤종용 저전압 반도체 장치의 전원 구동 회로
JP4488800B2 (ja) * 2004-06-14 2010-06-23 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
US7248531B2 (en) * 2005-08-03 2007-07-24 Mosaid Technologies Incorporated Voltage down converter for high speed memory
JP5605143B2 (ja) * 2010-10-01 2014-10-15 ミツミ電機株式会社 電流制御回路
JP7327980B2 (ja) * 2019-04-11 2023-08-16 ローム株式会社 電圧監視装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4730122A (en) * 1986-09-18 1988-03-08 International Business Machines Corporation Power supply adapter systems
JPH03209695A (ja) * 1990-01-12 1991-09-12 Nec Corp 集積回路装置

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