JPH1112099A - 合成コランダムの接合方法及び合成コランダムセルの製造方法 - Google Patents

合成コランダムの接合方法及び合成コランダムセルの製造方法

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JPH1112099A
JPH1112099A JP16677597A JP16677597A JPH1112099A JP H1112099 A JPH1112099 A JP H1112099A JP 16677597 A JP16677597 A JP 16677597A JP 16677597 A JP16677597 A JP 16677597A JP H1112099 A JPH1112099 A JP H1112099A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 接合面に干渉縞のない合成コランダムセルを
得る。 【解決手段】 押え治具にて押圧した部分においては、
スペーサ4,4の一端側下面と透光板5の上面とはオプ
ティカルコンタクト状態11となり、これ以外の部分に
おいては、スペーサ4,4の下面と透光板5の上面との
間に空気層が介在して干渉縞12が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は合成コランダムの接
合方法とこの接合方法を利用した合成コランダムセルの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】六方晶系の合成コランダム(合成サファ
イア)は、硬度、透光性及び耐薬品性に優れているた
め、例えば微粒子計に組み込むフローセル等として用い
られている。
【0003】上記の合成コランダムからなる製品を製造
するには、所定寸法に切り出した合成コランダム片を接
合することになるが、合成コランダム片のような単結晶
体にあっては、結晶の方向によって熱膨張係数が異なる
ので、単に接合しただけでは剥離が生じやすい。
【0004】そこで、特公平5−79640号公報に
は、互いに接合される合成コランダム片の接合される面
を赤色光波長のλ/8まで研磨し、次いで組入れ治具を
用いて合成コランダム片同士を結晶同平面、同稜、同
軸、同軸角に一致させて重ね合わせ、この状態で微小圧
力をかけて互いに接合される合成コランダム片の境界面
(接合面)の干渉縞を完全に消滅させ、この後、120
0℃で加熱して一体同化させる内容が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した方法にあって
は、合成コランダムの接合される面を赤色光波長のλ/
8まで研磨し、組入れ治具を用いて合成コランダム片同
士を結晶同平面、同稜、同軸、同軸角に一致させて重ね
合わせ、微小圧力をかけて互いに接合される合成コラン
ダム片の境界面に存在する干渉縞を消すようにしている
が、実際には、合成コランダム片の形状によってはλ/
8まで研磨することは難しく、また、微小圧力をかけた
だけでは干渉縞を完全に消すことはできず、一部に干渉
縞が残ってしまう。そして、合成コランダム片同士を結
晶同平面、同稜、同軸、同軸角に完全に一致させるの
は、極めて難しい。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明に係る合成コランダムの接合方法は、互いに接合
される合成コランダム片の所定の面を研磨した後、結晶
同平面、同稜、同軸、同軸角に完全に一致させることな
く研磨した面を合せて一端側を押圧することで、合成コ
ランダム片同士の接触面の一端側をオプティカルコンタ
クト状態とし、且つ接触面の残りの部分に干渉縞が生じ
る状態とし、この状態で合成コランダムの融点以下の温
度で加熱して、合成コランダム片同士の接触面全面をオ
プティカルコンタクト状態とするようにした。
【0007】また、本発明に係る合成コランダムセルの
製造方法は、以下の第1〜第6の工程からなる。 第1工程 合成コランダムの結晶ブロックからスペーサ及び透光板
を切り出す。 第2工程 切り出したスペーサの少なくとも上下面と一側面を研磨
するとともに、透光板の少なくとも上下面を研磨する。 第3工程 透光板の研磨した上面に一対のスペーサを間隔をあけて
セットするとともに、一対のスペーサの一端部を上方か
ら透光板に押し付けることで、スペーサの一端部と透光
板の上面とをオプティカルコンタクト状態とし、スペー
サの残りの部分と透光板の上面との接触面には干渉縞が
発生する状態とする。 第4工程 第3工程で得られた積層体を合成コランダムの融点以下
の温度で加熱して、スペーサと透光板との接触面全面を
オプティカルコンタクト状態とする。 第5工程 第4工程で得られた積層体の一対のスペーサの上に別の
透光板をセットし、この別の透光板の一端部をスペーサ
に押し付けることで、当該別の透光板の一端部とスペー
サの上面とをオプティカルコンタクト状態とし、且つ当
該別の透光板の残りの部分とスペーサの上面との接触面
には干渉縞が発生する状態とする。 第6工程 第5工程で得られた積層体を合成コランダムの融点以下
の温度で加熱して、スペーサと透光板との接触面全面を
オプティカルコンタクト状態とする。
【0008】前記合成コランダムセルの製造方法の第1
工程では、合成コランダムの結晶ブロックは円柱状をな
し、この円柱状の結晶ブロックからスペーサ用の円板と
透光板用の円板とを切り出し、これらスペーサ用の円板
及び透光板用の円板からスペーサ及び透光板を切り出す
ようにすることが可能である。
【0009】前記合成コランダムセルの製造方法の第2
工程では、研磨精度を約λ/4(λは赤色光の波長)と
することが好ましい。
【0010】前記合成コランダムセルの製造方法の第5
工程では、一対のスペーサの上面を研磨してスペーサの
厚みを調整した後に、スペーサの上に別の透光板をセッ
トするようにしてもよい。
【0011】また、前記合成コランダムセルの製造方法
の第3工程及び第5工程では、スペーサと透光板とを積
層するにあたり、結晶の軸、稜線及び軸角のずれを5°
以内にするのが好ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。尚、実施例としては合成コラ
ンダムセルの製造について説明する。先ず、図1に示す
ように、円柱状の合成コランダムの結晶ブロック1を軸
線と直交する方向に切断して、スペーサ用の円板2とこ
のスペーサ用の円板2とは厚さの異なる透光板用の円板
3を切り出す。
【0013】次いで、図2に示すように、スペーサ用の
円板2からスペーサ4を切り出し、透光板用の円板3か
ら透光板5を切り出す。
【0014】この後、図3に示すように、スペーサ4の
上下面4a,4b及びフローセルの孔を形成する側面4
cをλ/4の平滑度となるように研磨する。ここで、λ
は赤色光の波長であり、λ/4は約1.27μmであ
る。尚、スペーサ4の上面4aについては、後にスペー
サ4の厚みを調整するために研磨するので、この段階で
は研磨しなくともよい。
【0015】また、透光板5については、上下面5a,
5bをλ/4の平滑度となるように研磨する。そして、
図4に示すように、透光板5の上面に一対のスペーサ
4,4を間隔をあけて載置し積層体6とする。
【0016】この後、図5に示すように、治具台7上の
直交する位置決めブロック8,9に前記積層体6を突き
当て、更に一対のスペーサ4,4の一端側を押え治具1
0にて押圧する。
【0017】この操作によって、側面図である図6に示
すように、スペーサ4,4の一端側下面と透光板5の上
面とは密着し、スペーサ4,4の他端側下面と透光板5
の上面とは僅かな隙間gが生じる。ここで、図6は説明
を分りやすくするため隙間gを誇張して描いているが、
実際には隙間gを視認することは困難である。
【0018】図7は上記の積層体6の平面図であり、押
え治具10にて押圧した部分においては、スペーサ4,
4の一端側下面と透光板5の上面とはオプティカルコン
タクト状態11となり、これ以外の部分においては、ス
ペーサ4,4の下面と透光板5の上面との間に空気層が
介在して干渉縞12が形成される。
【0019】上記したように、スペーサ4,4と透光板
5とが一部においてオプティカルコンタクト状態にある
と、当該部分において物理吸着し、積層体6はその形状
を維持し得る。そこで、積層体6を炉の中に入れ、合成
コランダムの融点2030℃よりも低い温度、例えば1
300℃にて加熱する。すると、スペーサ4の下面と透
光板5の上面との間に存在していた溶剤が揮発するにつ
れ干渉縞12がなくなり、スペーサ4と透光板5との接
触面全面がオプティカルコンタクト状態になる。
【0020】この後、炉から積層体6を取り出し、図8
に示すようにスペーサ4,4の上面をλ/4の平滑度と
なるように研磨するとともに、スペーサ4,4の厚み調
整を行なう。
【0021】そして、図9に示すように厚み調整が終了
したスペーサ4,4の上に別の透光板13を載置し、筒
体14を形成する。この後、透光板13の一端側を前記
と同様にして押え治具10にて押圧し、スペーサ4,4
の上面と透光板13の下面の接触面のうち、一端側をオ
プティカルコンタクト状態とし、残りの接触面には干渉
縞が生じる状態とする。
【0022】この後、前記と同様にして筒体14を炉の
中に入れ加熱することで、スペーサ4,4の上面と透光
板13の下面の接触面の前面をオプティカルコンタクト
状態とする。
【0023】次いで筒体14を炉から取り出し、図10
(a)及び(b)に示すように、筒体14の両端面にテ
ーパ加工を施すことで、目的とする合成コランダム製フ
ローセルが得られる。
【0024】実施例にあっては、スペーサ4の下面と透
光板5の上面との加熱接合と、スペーサ4の上面と透光
板13の下面との加熱接合とを別々の工程で行なうよう
にしたが、同時に行なうことも可能である。
【0025】更に、実施例としては、本発明に係る合成
コランダムの接合方法を合成コランダムセルの製造方法
に応用した例を示したが、合成コランダムセル以外の製
品を製造する場合にも本発明に係る合成コランダムの接
合方法を適用できるのは勿論である。
【0026】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係る合
成コランダムの接合方法によれば、互いに接合される合
成コランダム片を合せて接合するにあたり、当該合せた
部分の一端側のみを押圧し、この一端側をオプティカル
コンタクト状態とし、且つ接触面の残りの部分に干渉縞
が生じる状態とし、この状態で合成コランダムの融点以
下の温度で加熱することで、接触面全面をオプティカル
コンタクト状態にすることができる。
【0027】また、上記の合成コランダムの接合方法を
利用した本発明に係る合成コランダムセルの製造方法に
よれば、接合面に干渉縞のないセルが得られ、しかも、
この合成コランダムセルを製造するにあたって、稜、
軸、軸角が一致せず5°程度ずれていても、光学的に問
題のないセルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】合成コランダムの結晶ブロックからスペーサ用
の円板と透光板用の円板とを切り出した状態を示す図
【図2】スペーサ用の円板及び透光板用の円板からそれ
ぞれスペーサと透光板を切り出した状態を示す図
【図3】スペーサと透光板を研磨した状態を示す図
【図4】透光板上にスペーサをセットした積層体の斜視
【図5】治具台上で透光板上にスペーサをセットした積
層体の一端側を押圧している状態の斜視図
【図6】一端側が押圧された積層体の他端側の隙間を誇
張して示した図
【図7】一端側が押圧された積層体の平面図
【図8】加熱処理後の積層体のスペーサ上面を研磨した
状態を示す図
【図9】図8に示した積層体のスペーサ上に別の透光板
を重ねた状態を示す図
【図10】(a)は本発明方法によって製造した合成コ
ランダムセルの断面図、(b)は同合成コランダムセル
の端面図
【符号の説明】
1…合成コランダムの結晶ブロック、2…スペーサ用の
円板、3…透光板用の円板、4…スペーサ、4a,4b
…スペーサの上下面、4c…スペーサの側面、5…透光
板、5a,5b…透光板の上下面、6…積層体、7…治
具台、8,9…位置決めブロック、10…押え治具、1
1…オプティカルコンタクト状態の部分、12…干渉
縞、13…別の透光板、14…筒体。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 合成コランダムの結晶ブロックから切り
    出した合成コランダム片を接合する方法であって、この
    接合方法は、互いに接合する合成コランダム片の所定の
    面を研磨した後、研磨した面を合せて一端側を押圧する
    ことで、合成コランダム片同士の接触面の一端側をオプ
    ティカルコンタクト状態とし、且つ接触面の残りの部分
    に干渉縞が生じる状態とし、この状態で合成コランダム
    の融点以下の温度で加熱して、合成コランダム片同士の
    接触面全面をオプティカルコンタクト状態とすることを
    特徴とする合成コランダムの接合方法。
  2. 【請求項2】 以下の工程からなることを特徴とする合
    成コランダムセルの製造方法。 第1工程 合成コランダムの結晶ブロックからスペーサ及び透光板
    を切り出す。 第2工程 切り出したスペーサの少なくとも上下面と一側面を研磨
    するとともに、透光板の少なくとも上下面を研磨する。 第3工程 透光板の研磨した上面に一対のスペーサを間隔をあけて
    セットするとともに、一対のスペーサの一端部を上方か
    ら透光板に押し付けることで、スペーサの一端部と透光
    板の上面とをオプティカルコンタクト状態とし、スペー
    サの残りの部分と透光板の上面との接触面には干渉縞が
    発生する状態とする。 第4工程 第3工程で得られた積層体を合成コランダムの融点以下
    の温度で加熱して、スペーサと透光板との接触面全面を
    オプティカルコンタクト状態とする。 第5工程 第4工程で得られた積層体の一対のスペーサの上に別の
    透光板をセットし、この別の透光板の一端部をスペーサ
    に押し付けることで、当該別の透光板の一端部とスペー
    サの上面とをオプティカルコンタクト状態とし、且つ当
    該別の透光板の残りの部分とスペーサの上面との接触面
    には干渉縞が発生する状態とする。 第6工程 第5工程で得られた積層体を合成コランダムの融点以下
    の温度で加熱して、スペーサと透光板との接触面全面を
    オプティカルコンタクト状態とする。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の合成コランダムセルの
    製造方法において、前記第1工程は、合成コランダムの
    結晶ブロックは円柱状をなし、この円柱状の結晶ブロッ
    クからスペーサ用の円板と透光板用の円板とを切り出
    し、これらスペーサ用の円板及び透光板用の円板からス
    ペーサ及び透光板を切り出すようにしたことを特徴とす
    る合成コランダムセルの製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項2に記載の合成コランダムセルの
    製造方法において、前記第2工程における研磨精度は、
    約λ/4(λは赤色光の波長)としたことを特徴とする
    合成コランダムセルの製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項2に記載の合成コランダムセルの
    製造方法において、前記第5工程は、一対のスペーサの
    上面を研磨してスペーサの厚みを調整した後に、スペー
    サの上に別の透光板をセットするようにしたことを特徴
    とする合成コランダムセルの製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項2に記載の合成コランダムセルの
    製造方法において、前記第3工程及び第5工程で、スペ
    ーサと透光板とを積層するにあたり、結晶の軸、稜線及
    び軸角のずれが5°以内になるようにしたことを特徴と
    する合成コランダムセルの製造方法。
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