JPH1112033A - チタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物 - Google Patents
チタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物Info
- Publication number
- JPH1112033A JPH1112033A JP9203698A JP20369897A JPH1112033A JP H1112033 A JPH1112033 A JP H1112033A JP 9203698 A JP9203698 A JP 9203698A JP 20369897 A JP20369897 A JP 20369897A JP H1112033 A JPH1112033 A JP H1112033A
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- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 １６８〜４７３℃の温度で任意のキュリー点
を有し、高温での使用においても優れたＰＴＣＲ特性を
有するチタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物を提供す
ることを課題とする。 【解決手段】 （Ｂａ１−ｘＰｂｘ）ＴｉＯ３（０．１
≦ｘ＜１）を母体としたチタン酸バリウム鉛系半導体磁
器組成物において、半導体化剤を母体に対して０．０５
〜０．２モル％添加するとともに、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ
３）を母体に対して０．３〜２０モル％添加し、さらに
ＰｂＯを母体に対して１〜５モル％過剰に添加するチタ
ン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物を提供する。
を有し、高温での使用においても優れたＰＴＣＲ特性を
有するチタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物を提供す
ることを課題とする。 【解決手段】 （Ｂａ１−ｘＰｂｘ）ＴｉＯ３（０．１
≦ｘ＜１）を母体としたチタン酸バリウム鉛系半導体磁
器組成物において、半導体化剤を母体に対して０．０５
〜０．２モル％添加するとともに、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ
３）を母体に対して０．３〜２０モル％添加し、さらに
ＰｂＯを母体に対して１〜５モル％過剰に添加するチタ
ン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１６８〜４７３℃
の温度で任意のキュリー点を有し、高温での使用におい
ても優れたＰＴＣＲ特性を有するチタン酸バリウム鉛系
半導体磁器組成物に関するものである。
の温度で任意のキュリー点を有し、高温での使用におい
ても優れたＰＴＣＲ特性を有するチタン酸バリウム鉛系
半導体磁器組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、チタン酸バリウム系の半導体磁器
組成物において、キュリー点を高温側へシフトさせるた
めに、Ｂａの一部をＰｂで置換することが知られてい
る。しかしながら、Ｐｂ置換する場合には焼成時のＰｂ
の揮発による特性の劣化が問題となっている。特に、Ｐ
ｂ置換量が５０モル％を超えたキュリー点が３００℃以
上のものにおいては、室温抵抗の急激な増加によりＰＴ
ＣＲ特性の著しい劣化が生じる。この問題を解決するた
めに、特開平４−２１５６５号公報において、ＢＮ（窒
化ホウ素）を０．８〜４．５モル％添加することによ
り、焼結性が改善され半導体化が促進されることが開示
されている。
組成物において、キュリー点を高温側へシフトさせるた
めに、Ｂａの一部をＰｂで置換することが知られてい
る。しかしながら、Ｐｂ置換する場合には焼成時のＰｂ
の揮発による特性の劣化が問題となっている。特に、Ｐ
ｂ置換量が５０モル％を超えたキュリー点が３００℃以
上のものにおいては、室温抵抗の急激な増加によりＰＴ
ＣＲ特性の著しい劣化が生じる。この問題を解決するた
めに、特開平４−２１５６５号公報において、ＢＮ（窒
化ホウ素）を０．８〜４．５モル％添加することによ
り、焼結性が改善され半導体化が促進されることが開示
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記開
示された磁器組成物は、焼成により粒子径が異なる成長
をするため、大きな粒子の存在により耐電圧が低くＰＴ
ＣＲサーミスタとして用いる場合に信頼性の面で課題を
有していた。本発明は、１６８〜４７３℃の温度で任意
のキュリー点を有し、特に、Ｔｃが３００℃以上での使
用においても優れたＰＴＣＲ特性を有するチタン酸バリ
ウム鉛系半導体磁器組成物を提供することを目的とす
る。
示された磁器組成物は、焼成により粒子径が異なる成長
をするため、大きな粒子の存在により耐電圧が低くＰＴ
ＣＲサーミスタとして用いる場合に信頼性の面で課題を
有していた。本発明は、１６８〜４７３℃の温度で任意
のキュリー点を有し、特に、Ｔｃが３００℃以上での使
用においても優れたＰＴＣＲ特性を有するチタン酸バリ
ウム鉛系半導体磁器組成物を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｂａ１−ｘ
Ｐｂｘ）ＴｉＯ３（０．１≦ｘ＜１）を母体としたチタ
ン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物において、半導体化
剤を母体に対して０．０５〜０．２モル％添加するとと
もに、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）を母体に対して０．３〜
２０モル％添加し、さらにＰｂＯを母体に対して１〜５
モル％過剰に添加することを特徴とするチタン酸バリウ
ム鉛系半導体磁器組成物に関する。
Ｐｂｘ）ＴｉＯ３（０．１≦ｘ＜１）を母体としたチタ
ン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物において、半導体化
剤を母体に対して０．０５〜０．２モル％添加するとと
もに、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）を母体に対して０．３〜
２０モル％添加し、さらにＰｂＯを母体に対して１〜５
モル％過剰に添加することを特徴とするチタン酸バリウ
ム鉛系半導体磁器組成物に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のチタン酸バリウム鉛系半
導体磁器組成物における添加効果および組成範囲の限定
理由は次の通りである。Ｂ２Ｏ３は、チタン酸バリウム
鉛系半導体磁器組成物がペロブスカイト結晶構造を形成
する温度や半導体化温度を下げて、焼成時のＰｂの蒸発
を抑制する効果がある。また、添加したＢ２Ｏ３は、４
８０℃付近から融液を形成し、液相焼結により均一な粒
径の粒子成長を促す。Ｂ２Ｏ３の添加量は少なすぎると
液相焼結が十分に促進されず、多すぎると異相を形成す
るために室温抵抗の増加が起こる。このためＢ２Ｏ３の
添加量は母体であるチタン酸バリウム鉛１００モル％に
対して０．３〜２０モル％の範囲がよい。また、過剰に
添加されたＰｂＯは、半導体化温度を下げるとともに、
粒子の均一な成長を促進する。過剰ＰｂＯの添加量が過
度に多い場合には、耐電圧の低下や室温抵抗の急激な増
加が起こる。したがって、過剰に加えられるＰｂＯの添
加量は母体であるチタン酸バリウム鉛１００モル％に対
して５モル％以下、特に１〜５モル％が好ましい。
導体磁器組成物における添加効果および組成範囲の限定
理由は次の通りである。Ｂ２Ｏ３は、チタン酸バリウム
鉛系半導体磁器組成物がペロブスカイト結晶構造を形成
する温度や半導体化温度を下げて、焼成時のＰｂの蒸発
を抑制する効果がある。また、添加したＢ２Ｏ３は、４
８０℃付近から融液を形成し、液相焼結により均一な粒
径の粒子成長を促す。Ｂ２Ｏ３の添加量は少なすぎると
液相焼結が十分に促進されず、多すぎると異相を形成す
るために室温抵抗の増加が起こる。このためＢ２Ｏ３の
添加量は母体であるチタン酸バリウム鉛１００モル％に
対して０．３〜２０モル％の範囲がよい。また、過剰に
添加されたＰｂＯは、半導体化温度を下げるとともに、
粒子の均一な成長を促進する。過剰ＰｂＯの添加量が過
度に多い場合には、耐電圧の低下や室温抵抗の急激な増
加が起こる。したがって、過剰に加えられるＰｂＯの添
加量は母体であるチタン酸バリウム鉛１００モル％に対
して５モル％以下、特に１〜５モル％が好ましい。
【０００６】本発明における半導体化剤としては、Ｎｂ
２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３のような３
価または５価金属の酸化物のうち少なくとも１種が挙げ
られる。半導体化剤の添加量が過度に多い場合や過度に
少ない場合には、ＰＴＣＲ特性を示さなくなるので、半
導体化剤は母体に対して０．０５〜０．２モル％添加す
るのがよい。
２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３のような３
価または５価金属の酸化物のうち少なくとも１種が挙げ
られる。半導体化剤の添加量が過度に多い場合や過度に
少ない場合には、ＰＴＣＲ特性を示さなくなるので、半
導体化剤は母体に対して０．０５〜０．２モル％添加す
るのがよい。
【０００７】本発明の組成物により作製した半導体磁器
は、室温比抵抗が１０２〜１０４Ω・ｃｍの値を示し、
抵抗のジャンプ幅が３〜５桁と良好なＰＴＣＲ特性を有
する。また、耐電圧が高いことにより高信頼性を有し、
小型化が可能となる。
は、室温比抵抗が１０２〜１０４Ω・ｃｍの値を示し、
抵抗のジャンプ幅が３〜５桁と良好なＰＴＣＲ特性を有
する。また、耐電圧が高いことにより高信頼性を有し、
小型化が可能となる。
【０００８】
【実施例】出発原料として市販のＰｂＯ、ＢａＣＯ３、
ＴｉＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３の９９．
９％粉末を用いて表１および表３に示す組成になるよう
に秤量後、分散剤を添加した純水を使用してボールミル
混合を１８時間行った。脱水した後、８００〜９５０℃
で２０〜６０分仮焼を行った。仮焼粉は、ボールミルで
１８時間粉砕混合を行った。脱水した後、バインダー水
溶液を添加し、蒸発乾固後、フルイにより造粒し、２０
０ｋｇ／ｃｍ２の圧力で７ｍｍφ×１．２ｍｍのペレッ
トに成形した。それを大気中で１１００〜１２００℃の
温度で１時間保持する条件で焼成した。焼結体の両面に
オーミック性銀電極を塗布し、６２０℃、１０分の条件
で電極焼き付けを行った。得られた試料を用いて抵抗−
温度特性及び耐電圧の測定を行った。半導体化剤として
ＮｂやＳｂ以外の３価、５価の元素においても同様な効
果が得られた。なお、表１〜表４において※印を付した
ものは本発明範囲外のもので比較のために記載した。比
較試料の作製は実施例に記載した方法と同様に行った。
ＴｉＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３の９９．
９％粉末を用いて表１および表３に示す組成になるよう
に秤量後、分散剤を添加した純水を使用してボールミル
混合を１８時間行った。脱水した後、８００〜９５０℃
で２０〜６０分仮焼を行った。仮焼粉は、ボールミルで
１８時間粉砕混合を行った。脱水した後、バインダー水
溶液を添加し、蒸発乾固後、フルイにより造粒し、２０
０ｋｇ／ｃｍ２の圧力で７ｍｍφ×１．２ｍｍのペレッ
トに成形した。それを大気中で１１００〜１２００℃の
温度で１時間保持する条件で焼成した。焼結体の両面に
オーミック性銀電極を塗布し、６２０℃、１０分の条件
で電極焼き付けを行った。得られた試料を用いて抵抗−
温度特性及び耐電圧の測定を行った。半導体化剤として
ＮｂやＳｂ以外の３価、５価の元素においても同様な効
果が得られた。なお、表１〜表４において※印を付した
ものは本発明範囲外のもので比較のために記載した。比
較試料の作製は実施例に記載した方法と同様に行った。
【０００９】試料番号１〜１５はＰｂＯを６０モル％と
した母体に対し、過剰ＰｂＯを−５〜１０モル％、半導
体化剤としてＮｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５を０．０６５〜
０．１３モル％、Ｂ２Ｏ３を２モル％添加したものであ
る。
した母体に対し、過剰ＰｂＯを−５〜１０モル％、半導
体化剤としてＮｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５を０．０６５〜
０．１３モル％、Ｂ２Ｏ３を２モル％添加したものであ
る。
【００１０】試料番号１６〜２３はＰｂＯを６０モル％
とした母体に対し、過剰ＰｂＯを１モル％、半導体化剤
としてＮｂ２Ｏ５を０．０２５〜０．２５モル％、Ｂ２
Ｏ ３を２モル％添加したものである。
とした母体に対し、過剰ＰｂＯを１モル％、半導体化剤
としてＮｂ２Ｏ５を０．０２５〜０．２５モル％、Ｂ２
Ｏ ３を２モル％添加したものである。
【００１１】試料番号２４〜３０はＰｂＯを６０モル％
とした母体に対し、過剰ＰｂＯを１モル％、半導体化剤
としてＮｂ２Ｏ５を０．１３モル％、Ｂ２Ｏ３を０．２
〜４０モル％添加したものである。
とした母体に対し、過剰ＰｂＯを１モル％、半導体化剤
としてＮｂ２Ｏ５を０．１３モル％、Ｂ２Ｏ３を０．２
〜４０モル％添加したものである。
【００１２】試料番号３１〜３８はＰｂＯを１０〜９０
モル％とした母体に対し、過剰ＰｂＯを２モル％、半導
体化剤としてＮｂ２Ｏ５を０．０６５モル％、Ｂ２Ｏ３
を２モル％添加したものである。
モル％とした母体に対し、過剰ＰｂＯを２モル％、半導
体化剤としてＮｂ２Ｏ５を０．０６５モル％、Ｂ２Ｏ３
を２モル％添加したものである。
【００１３】表１および表３に原料仕込み組成を示す。
また、表２および表４に電気特性、密度を示す。
また、表２および表４に電気特性、密度を示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】
【表４】
【００１８】表１〜表４から明らかなようにチタン酸鉛
系の母体に対して半導体化剤を０．０５〜０．２モル
％、過剰ＰｂＯを１〜５モル％、Ｂ２Ｏ３を０．３〜２
０モル％の範囲で加えられた試料はＴｃが１６８〜４７
３℃の範囲で室温比抵抗が１０２〜１０４Ω・ｃｍの値
を有するＰＴＣＲ特性が得られた。
系の母体に対して半導体化剤を０．０５〜０．２モル
％、過剰ＰｂＯを１〜５モル％、Ｂ２Ｏ３を０．３〜２
０モル％の範囲で加えられた試料はＴｃが１６８〜４７
３℃の範囲で室温比抵抗が１０２〜１０４Ω・ｃｍの値
を有するＰＴＣＲ特性が得られた。
【００１９】図１および図２は、それぞれＰｂＯを過剰
に添加し且つＢ２Ｏ３を添加した試料（試料番号４）と
従来公知の試料の焼結体の粒子構造を示すＳＥＭ写真図
を示したものである。従来公知の試料はＮｂ２Ｏ５を
０．１３モル％とし、Ｂ２Ｏ３に代えてＢＮを１モル％
としたほかは試料番号２と同様な方法により作製した。
従来公知の試料では２μｍと２０μｍ程度の粒子が混在
しているのに対して、Ｂ２Ｏ３を添加し且つＰｂＯを過
剰に添加したものは５〜１０μｍ程度の均一な粒子を形
成する。
に添加し且つＢ２Ｏ３を添加した試料（試料番号４）と
従来公知の試料の焼結体の粒子構造を示すＳＥＭ写真図
を示したものである。従来公知の試料はＮｂ２Ｏ５を
０．１３モル％とし、Ｂ２Ｏ３に代えてＢＮを１モル％
としたほかは試料番号２と同様な方法により作製した。
従来公知の試料では２μｍと２０μｍ程度の粒子が混在
しているのに対して、Ｂ２Ｏ３を添加し且つＰｂＯを過
剰に添加したものは５〜１０μｍ程度の均一な粒子を形
成する。
【００２０】図３は、Ｂ２Ｏ３を添加し且つＰｂＯを過
剰に添加した試料と従来公知の試料の室温比抵抗と耐電
圧との関係を示す。これより、Ｂ２Ｏ３を添加すること
により均一な粒子成長が生じ、従来公知の試料に比べ耐
電圧の向上がみられた。
剰に添加した試料と従来公知の試料の室温比抵抗と耐電
圧との関係を示す。これより、Ｂ２Ｏ３を添加すること
により均一な粒子成長が生じ、従来公知の試料に比べ耐
電圧の向上がみられた。
【００２１】図４は、本発明にかかる母体に対してＰｂ
を６１モル％（過剰ＰｂＯ：１モル％）添加した半導体
磁器（試料番号１９）の比抵抗−温度特性を示したもの
である。
を６１モル％（過剰ＰｂＯ：１モル％）添加した半導体
磁器（試料番号１９）の比抵抗−温度特性を示したもの
である。
【００２２】
【発明の効果】チタン酸バリウム鉛にＢ２Ｏ３と過剰Ｐ
ｂＯとを添加することにより、Ｔｃ＝１６８〜４７３
℃、室温比抵抗１０２〜１０４Ω・ｃｍの範囲で良好な
ＰＴＣＲ特性を有する半導体磁器を提供できる。また、
Ｂ２Ｏ３と過剰ＰｂＯとを添加することによって均一な
粒子径を有する磁器が得られ、耐電圧が高い半導体磁器
を提供できる。さらに、このチタン酸バリウム鉛系半導
体磁器組成物は安価な原料で容易に製造できるため、特
に高温用のＰＴＣＲ材料として工業的価値は極めて大き
い。
ｂＯとを添加することにより、Ｔｃ＝１６８〜４７３
℃、室温比抵抗１０２〜１０４Ω・ｃｍの範囲で良好な
ＰＴＣＲ特性を有する半導体磁器を提供できる。また、
Ｂ２Ｏ３と過剰ＰｂＯとを添加することによって均一な
粒子径を有する磁器が得られ、耐電圧が高い半導体磁器
を提供できる。さらに、このチタン酸バリウム鉛系半導
体磁器組成物は安価な原料で容易に製造できるため、特
に高温用のＰＴＣＲ材料として工業的価値は極めて大き
い。
【図１】試料の焼結体の粒子構造を示す図面に代わる写
真図である。
真図である。
【図２】試料（比較例）の焼結体の粒子構造を示す図面
に代わる写真図である。
に代わる写真図である。
【図３】試料の室温比抵抗と耐電圧との関係を示す図で
ある。
ある。
【図４】試料の比抵抗と温度特性との関係を示す図であ
る。
る。
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ｂａ１−ｘＰｂｘ）ＴｉＯ
３（０．１≦ｘ＜１）を母体としたチタン酸バリウム鉛
系半導体磁器組成物において、半導体化剤を母体に対し
て０．０５〜０．２モル％添加するとともに、酸化ホウ
素（Ｂ２Ｏ３）を母体に対して０．３〜２０モル％添加
し、さらにＰｂＯを母体に対して１〜５モル％過剰に添
加することを特徴とするチタン酸バリウム鉛系半導体磁
器組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9203698A JPH1112033A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | チタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9203698A JPH1112033A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | チタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112033A true JPH1112033A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=16478375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9203698A Pending JPH1112033A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | チタン酸バリウム鉛系半導体磁器組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1112033A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911102B2 (en) | 1999-08-09 | 2005-06-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated type semiconductor ceramic element and production method for the laminated type semiconductor ceramic element |
| US7736433B2 (en) | 2000-12-15 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | BaTiO3—PbTiO3 series single crystal and method of manufacturing the same, piezoelectric type actuator and liquid discharge head using such piezoelectric type actuator |
-
1997
- 1997-06-25 JP JP9203698A patent/JPH1112033A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911102B2 (en) | 1999-08-09 | 2005-06-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated type semiconductor ceramic element and production method for the laminated type semiconductor ceramic element |
| DE10038425B4 (de) * | 1999-08-09 | 2013-04-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminiertes Halbleiter-Keramikbauelement und Herstellungsverfahren für das laminierte Halbleiter-Keramikbauelement |
| US7736433B2 (en) | 2000-12-15 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | BaTiO3—PbTiO3 series single crystal and method of manufacturing the same, piezoelectric type actuator and liquid discharge head using such piezoelectric type actuator |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040406 |