JPH11102508A - 薄膜磁気変換器 - Google Patents
薄膜磁気変換器Info
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- JPH11102508A JPH11102508A JP10137395A JP13739598A JPH11102508A JP H11102508 A JPH11102508 A JP H11102508A JP 10137395 A JP10137395 A JP 10137395A JP 13739598 A JP13739598 A JP 13739598A JP H11102508 A JPH11102508 A JP H11102508A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- transducer according
- sensing element
- film magnetic
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3929—Disposition of magnetic thin films not used for directly coupling magnetic flux from the track to the MR film or for shielding
- G11B5/3932—Magnetic biasing films
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多層GMR構造において、交互に積層さ
れた磁性層の磁化配向が互いに直角をなすバイアス状態
を作り出す構造を提供する。 【解決手段】 巨大磁気抵抗(GMR)を用いた薄膜磁
気ヘッドは、交互に積層された強磁性材料層12、14
と非磁性材料層13、15とを有し、これらは、外部磁
場の存在しない状態で前記磁性層間の配向が反平行状態
となるように静磁・交換相互作用により結合されてい
る。強磁性/非磁性材料積層構造に磁気バイアスを印加
して、隣接する磁性層にはさみ形の磁化配置を得る。磁
気バイアス手段21は、空気ベアリング面から遠い位置
にある積層GMR構造のエッジに隣接して配置され、非
磁性非導電性スペーサ26によりセンサ10から分離さ
れる。
れた磁性層の磁化配向が互いに直角をなすバイアス状態
を作り出す構造を提供する。 【解決手段】 巨大磁気抵抗(GMR)を用いた薄膜磁
気ヘッドは、交互に積層された強磁性材料層12、14
と非磁性材料層13、15とを有し、これらは、外部磁
場の存在しない状態で前記磁性層間の配向が反平行状態
となるように静磁・交換相互作用により結合されてい
る。強磁性/非磁性材料積層構造に磁気バイアスを印加
して、隣接する磁性層にはさみ形の磁化配置を得る。磁
気バイアス手段21は、空気ベアリング面から遠い位置
にある積層GMR構造のエッジに隣接して配置され、非
磁性非導電性スペーサ26によりセンサ10から分離さ
れる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、巨大磁気抵抗効果
を用いた薄膜磁気ヘッドに関し、特に永久磁石を用いて
バイアスを与えるようにした構造を有する薄膜磁気ヘッ
ドに関する。
を用いた薄膜磁気ヘッドに関し、特に永久磁石を用いて
バイアスを与えるようにした構造を有する薄膜磁気ヘッ
ドに関する。
【0002】
【従来の技術】本願出願人に譲渡された1996年11月19日
発行のロットメイヤー(Rottmayer)他による米国特許
第5,576,914号、発明の名称「Compact Read/Wri
te Head Having Biased GMR Element」の明細書には、
バイアスされた巨大磁気抵抗(GMR)変換器が開示さ
れている。この米国特許の要旨は本願発明に関連するも
のであり、本明細書においてこれを参照することができ
る。
発行のロットメイヤー(Rottmayer)他による米国特許
第5,576,914号、発明の名称「Compact Read/Wri
te Head Having Biased GMR Element」の明細書には、
バイアスされた巨大磁気抵抗(GMR)変換器が開示さ
れている。この米国特許の要旨は本願発明に関連するも
のであり、本明細書においてこれを参照することができ
る。
【0003】従来技術によれば、磁気媒体からデータを
高線記録密度で読み取ることができる磁気抵抗(MR)
センサまたはヘッドと呼ばれる磁気読取り変換器が知ら
れている。MRセンサは、読取り素子が感知する磁束の
強さ及び向きの関数としてMR読取り素子における抵抗
の変化を用いて磁場信号を検出する。これら従来技術の
MRセンサは、読取り素子の抵抗成分が読取り素子を流
れるセンス電流の向きと磁化の向きとの角度のコサイン
の二乗として変化する異方性磁気抵抗(AMR)効果に
基づいて動作する。
高線記録密度で読み取ることができる磁気抵抗(MR)
センサまたはヘッドと呼ばれる磁気読取り変換器が知ら
れている。MRセンサは、読取り素子が感知する磁束の
強さ及び向きの関数としてMR読取り素子における抵抗
の変化を用いて磁場信号を検出する。これら従来技術の
MRセンサは、読取り素子の抵抗成分が読取り素子を流
れるセンス電流の向きと磁化の向きとの角度のコサイン
の二乗として変化する異方性磁気抵抗(AMR)効果に
基づいて動作する。
【0004】多層構造の磁気センサにおける抵抗の変化
が、磁性層間における伝導電子のスピンによる非磁性層
の通過、及びこれに伴う層界面におけるスピンによる電
子の散乱に起因する、より顕著な磁気抵抗効果が知られ
ている。この磁気抵抗効果は一般に「巨大磁気抵抗効
果」(GMR)と呼ばれている。このような磁気抵抗セ
ンサは、適当な材料で製造することにより、AMR効果
を用いたセンサの場合よりも感度が向上しかつ抵抗変化
が大きくなる。このようなGMR型センサでは、非磁性
層により分離された一対の強磁性層間の面内抵抗が、両
層間の磁化の角度のコサインとして変化する。このよう
なGMR構造を用いた変換器の例がディーニ(Dieny)
他による米国特許第5,206,590号明細書に記載さ
れている。
が、磁性層間における伝導電子のスピンによる非磁性層
の通過、及びこれに伴う層界面におけるスピンによる電
子の散乱に起因する、より顕著な磁気抵抗効果が知られ
ている。この磁気抵抗効果は一般に「巨大磁気抵抗効
果」(GMR)と呼ばれている。このような磁気抵抗セ
ンサは、適当な材料で製造することにより、AMR効果
を用いたセンサの場合よりも感度が向上しかつ抵抗変化
が大きくなる。このようなGMR型センサでは、非磁性
層により分離された一対の強磁性層間の面内抵抗が、両
層間の磁化の角度のコサインとして変化する。このよう
なGMR構造を用いた変換器の例がディーニ(Dieny)
他による米国特許第5,206,590号明細書に記載さ
れている。
【0005】上述した米国特許5,576,914号によ
れば、小型の読取り/書取りヘッドは磁気バイアスされ
たGMR素子を有し、これにより読み出し信号のノイズ
が低減され、かつ磁束感知の線形性及び利得が改善され
る。GMR素子は、隣接する記録媒体による励起磁場が
無い場合に、GMR素子の積層された多層膜の主磁区が
はさみ形の配置を画定するように磁気バイアスされてい
る。励起磁場が隣接する記録媒体から与えられたとき、
これは励起磁場の極性によって、はさみ形の配置を90
度の交差状態から0度の閉じた状態または180度の反
平行な状態に回転させる。従って、その結果得られるコ
サインの変化(及びコサインの関数であるGMR素子の
抵抗)は、0(コサイン90度)からプラス1(コサイ
ン0度)またはマイナス1(コサイン180度)に変化
する。
れば、小型の読取り/書取りヘッドは磁気バイアスされ
たGMR素子を有し、これにより読み出し信号のノイズ
が低減され、かつ磁束感知の線形性及び利得が改善され
る。GMR素子は、隣接する記録媒体による励起磁場が
無い場合に、GMR素子の積層された多層膜の主磁区が
はさみ形の配置を画定するように磁気バイアスされてい
る。励起磁場が隣接する記録媒体から与えられたとき、
これは励起磁場の極性によって、はさみ形の配置を90
度の交差状態から0度の閉じた状態または180度の反
平行な状態に回転させる。従って、その結果得られるコ
サインの変化(及びコサインの関数であるGMR素子の
抵抗)は、0(コサイン90度)からプラス1(コサイ
ン0度)またはマイナス1(コサイン180度)に変化
する。
【0006】ウチダ他の米国特許第4,524,401号
明細書には、MRセンサと同一平面上にかつ空気ベアリ
ング面(ABS)から離隔して配置されたバイアス磁石
を用いたMRヘッドが示されている。このバイアス磁石
は、ABSに近いMRセンサ領域に(MRストライプの
高さ方向に沿って)比較的強く、かつABSから離れた
センサ領域ではそれより弱い反磁界を生じさせる。バイ
アス磁石から発生したバイアス磁場は、ABSから離れ
たMR素子の中央部分を飽和させるだけの強さを有する
が、ABSに近いMR素子の領域では、磁気記録媒体の
記録トラックからの信号磁場に対する感度を維持してい
る。上記ウチダ他の米国特許は、本発明において提案す
る多層構造ではなく、単層構造を目的としている。
明細書には、MRセンサと同一平面上にかつ空気ベアリ
ング面(ABS)から離隔して配置されたバイアス磁石
を用いたMRヘッドが示されている。このバイアス磁石
は、ABSに近いMRセンサ領域に(MRストライプの
高さ方向に沿って)比較的強く、かつABSから離れた
センサ領域ではそれより弱い反磁界を生じさせる。バイ
アス磁石から発生したバイアス磁場は、ABSから離れ
たMR素子の中央部分を飽和させるだけの強さを有する
が、ABSに近いMR素子の領域では、磁気記録媒体の
記録トラックからの信号磁場に対する感度を維持してい
る。上記ウチダ他の米国特許は、本発明において提案す
る多層構造ではなく、単層構造を目的としている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】磁気記録のリードバッ
クで多層GMRセンサを用いるためには、印加磁場に関
して電気的リードバック信号が線形応答を有することが
望ましい。電気信号は、隣接する磁性層間における磁化
方向の角度のコサインに比例するので、磁気ディスクの
ような磁気媒体の磁場励起により線形出力信号が発生す
るようなバイアス状態を作り出す必要がある。
クで多層GMRセンサを用いるためには、印加磁場に関
して電気的リードバック信号が線形応答を有することが
望ましい。電気信号は、隣接する磁性層間における磁化
方向の角度のコサインに比例するので、磁気ディスクの
ような磁気媒体の磁場励起により線形出力信号が発生す
るようなバイアス状態を作り出す必要がある。
【0008】バイアスされた磁化の向きが、交互に積層
した各層間における磁化の角度を二分する方向を磁気媒
体からの磁場が向くようになっている場合、前記各層の
抵抗は、外部磁場に関して線形に変化する。本発明によ
れば、交互に積層した各層の磁化が互いに直角をなすバ
イアス状態を作るための構造が提供される。
した各層間における磁化の角度を二分する方向を磁気媒
体からの磁場が向くようになっている場合、前記各層の
抵抗は、外部磁場に関して線形に変化する。本発明によ
れば、交互に積層した各層の磁化が互いに直角をなすバ
イアス状態を作るための構造が提供される。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明では、反強磁性材
料の層に非磁性材料の層を挟むことにより、前記各層の
磁化がそれらの間の静磁相互作用によりかつ各層間の交
換相互作用により結合され、各層の配向が反平行となる
ようにされている。バイアス用の永久磁石は、ABSか
ら遠い位置にある多層GMR構造のエッジに接触させて
配置される。
料の層に非磁性材料の層を挟むことにより、前記各層の
磁化がそれらの間の静磁相互作用によりかつ各層間の交
換相互作用により結合され、各層の配向が反平行となる
ようにされている。バイアス用の永久磁石は、ABSか
ら遠い位置にある多層GMR構造のエッジに接触させて
配置される。
【0010】このバイアスの目的は、上記ウチダ他の米
国特許の構造のようにセンサの中央部分を飽和させるの
ではなく、最大の応答感度を得るために、GMR多層膜
の磁化をはさみ形の状態に設定することである。接触接
合(contiguous junction)製造技術をバイアス磁石に
用いて、多層GMRセンサ素子とバイアス磁石とを近接
させるが、これは小さい読取りギャップで動作する装置
にとって重要である。
国特許の構造のようにセンサの中央部分を飽和させるの
ではなく、最大の応答感度を得るために、GMR多層膜
の磁化をはさみ形の状態に設定することである。接触接
合(contiguous junction)製造技術をバイアス磁石に
用いて、多層GMRセンサ素子とバイアス磁石とを近接
させるが、これは小さい読取りギャップで動作する装置
にとって重要である。
【0011】
【発明の実施の形態】図1に於いて、参照符号11で示
す基板の上にGMR感知素子10の構造を形成すること
ができる。この構造は、強磁性材料層12、14の間に
非磁性材料層13、15が挟まれた多層膜からなる。強
磁性材料層12、14は、NiFeまたはCoのような
適当な材料で形成することができ、かつ非磁性材料層1
3、15は銅で形成するのが好ましい。図1には2つの
強磁性材料層と2つの非磁性材料層とが記載されている
だけであるが、このように交互に積層した強磁性材料層
と非磁性材料層との対は適当な数だけ用いれば良いこと
が理解される。
す基板の上にGMR感知素子10の構造を形成すること
ができる。この構造は、強磁性材料層12、14の間に
非磁性材料層13、15が挟まれた多層膜からなる。強
磁性材料層12、14は、NiFeまたはCoのような
適当な材料で形成することができ、かつ非磁性材料層1
3、15は銅で形成するのが好ましい。図1には2つの
強磁性材料層と2つの非磁性材料層とが記載されている
だけであるが、このように交互に積層した強磁性材料層
と非磁性材料層との対は適当な数だけ用いれば良いこと
が理解される。
【0012】次に、このように組み立てられた膜をエッ
チングして矩形に形成する。各層12〜15の磁化が、
各層間の静磁相互作用によりかつそれらの間の交換相互
作用により結合されて、隣接する磁性層間の配向を反平
行にしている。図1には、バイアス磁石が存在しない状
態での磁化配置が示されており、ここで好ましい方向
は、逆向きの矢印20で示されるように、長方形の長手
方向軸に平行である。
チングして矩形に形成する。各層12〜15の磁化が、
各層間の静磁相互作用によりかつそれらの間の交換相互
作用により結合されて、隣接する磁性層間の配向を反平
行にしている。図1には、バイアス磁石が存在しない状
態での磁化配置が示されており、ここで好ましい方向
は、逆向きの矢印20で示されるように、長方形の長手
方向軸に平行である。
【0013】図2に示すように、磁気バイアス手段をセ
ンサ10のトラック幅方向に対して直角に形成する。こ
のようなバイアス手段は、図2の矢印22で示す方向に
沿って初期化した場合に前記多層膜にバイアス状態を付
与する永久磁石21で形成することができる。この状態
では、交互に積層されてセンサ素子を形成する磁性層1
2、14の磁化の向きが、直交する矢印25、25′で
表されるように、はさみ形の状態で互いに概ね直角を成
す。Al2O3のような非磁性導電性材料の薄いスペーサ
層26により、多層膜センサ素子と永久磁石21との間
の交換相互作用が遮断される。永久磁石21とスペーサ
層26とは、交互に積層された各層12〜15に接触接
合により結合されている。このような接触接合(contig
uous junction)としては、例えばクローンビィ(Kroun
bi)他の米国特許第5,018,037号明細書に教示さ
れるようなものがある。
ンサ10のトラック幅方向に対して直角に形成する。こ
のようなバイアス手段は、図2の矢印22で示す方向に
沿って初期化した場合に前記多層膜にバイアス状態を付
与する永久磁石21で形成することができる。この状態
では、交互に積層されてセンサ素子を形成する磁性層1
2、14の磁化の向きが、直交する矢印25、25′で
表されるように、はさみ形の状態で互いに概ね直角を成
す。Al2O3のような非磁性導電性材料の薄いスペーサ
層26により、多層膜センサ素子と永久磁石21との間
の交換相互作用が遮断される。永久磁石21とスペーサ
層26とは、交互に積層された各層12〜15に接触接
合により結合されている。このような接触接合(contig
uous junction)としては、例えばクローンビィ(Kroun
bi)他の米国特許第5,018,037号明細書に教示さ
れるようなものがある。
【0014】永久磁石21に代わるものとして、その端
部にフリーポールを形成することが可能でセンサに静磁
場を発生させる、交換結合された反強磁性/強磁性多層
膜構造を置き換えることができる。
部にフリーポールを形成することが可能でセンサに静磁
場を発生させる、交換結合された反強磁性/強磁性多層
膜構造を置き換えることができる。
【0015】次に、電流を流すためのリード31を形成
し、当業者に知られているように、感知した磁場の強さ
及び方向を表すために、図示しないセンス電流供給源か
ら電流をGMR素子に供給する。リード31は、センサ
素子のエッジにリードを重ねることにより、または図2
に示すようにセンサ素子の端部に突き合わせて接合部を
形成することにより、前記センサに接続することができ
る。リード31を形成して、前記多層膜の各層12〜1
5の端部と接触接合させる。この構造により、各層12
〜15を面内電流(CIP)が流れることになる。前記
センサは、当業者に知られているように、その両側に、
電気的絶縁体によりセンサ素子から絶縁されてセンサの
分解能を改善する磁気シールドを形成することができ
る。
し、当業者に知られているように、感知した磁場の強さ
及び方向を表すために、図示しないセンス電流供給源か
ら電流をGMR素子に供給する。リード31は、センサ
素子のエッジにリードを重ねることにより、または図2
に示すようにセンサ素子の端部に突き合わせて接合部を
形成することにより、前記センサに接続することができ
る。リード31を形成して、前記多層膜の各層12〜1
5の端部と接触接合させる。この構造により、各層12
〜15を面内電流(CIP)が流れることになる。前記
センサは、当業者に知られているように、その両側に、
電気的絶縁体によりセンサ素子から絶縁されてセンサの
分解能を改善する磁気シールドを形成することができ
る。
【0016】永久磁石21(一般に導電体である)を流
れるシャント電流の作用を低減させるために、前記構造
は図3A〜図3Cに示されるような形状に変更すること
ができる。まず、シート状の膜からなる多層センサ構造
10′を付着させる。次に、図3Aに示すように、リー
ド31をセンサ素子構造10′の両側に接触接合させて
形成する。これにより、前記リードの下側のセンサ素子
材料が除去され、トラック幅が画定される。次に、図3
Bに示されるように、リード31及びセンサ素子材料1
0′の部分をマスクし、露出した領域をエッチングして
その内側即ち領域40の全ての金属を除去する。これに
より、センサ素子材料10の残存部分の上面、及びセン
サ素子10の両側と接触接合するリード構造31の部分
の上に平坦な面が残る。
れるシャント電流の作用を低減させるために、前記構造
は図3A〜図3Cに示されるような形状に変更すること
ができる。まず、シート状の膜からなる多層センサ構造
10′を付着させる。次に、図3Aに示すように、リー
ド31をセンサ素子構造10′の両側に接触接合させて
形成する。これにより、前記リードの下側のセンサ素子
材料が除去され、トラック幅が画定される。次に、図3
Bに示されるように、リード31及びセンサ素子材料1
0′の部分をマスクし、露出した領域をエッチングして
その内側即ち領域40の全ての金属を除去する。これに
より、センサ素子材料10の残存部分の上面、及びセン
サ素子10の両側と接触接合するリード構造31の部分
の上に平坦な面が残る。
【0017】次に、図3Cに示すように、リード31及
びセンサ構造10の表面を、エッチング又は他の適当な
手法により成形して、リード31に肩部を形成する。こ
の後に、永久磁石21を、該永久磁石とセンサ素子10
及びリード31との接合部が非磁性非導電性材料の薄い
層26(100〜400Å)を介してリード構造31及
びセンサ素子構造10と接触接合するように、形成す
る。
びセンサ構造10の表面を、エッチング又は他の適当な
手法により成形して、リード31に肩部を形成する。こ
の後に、永久磁石21を、該永久磁石とセンサ素子10
及びリード31との接合部が非磁性非導電性材料の薄い
層26(100〜400Å)を介してリード構造31及
びセンサ素子構造10と接触接合するように、形成す
る。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、以上のように構成する
ことにより、多層膜GMRセンサ構造において、隣接す
る磁性層の磁化が互いに直交するようなバイアス状態が
得られるので、磁気媒体からの外部磁場に対して線形な
出力信号が得られ、より高感度で高性能な読取りヘッド
が実現される。
ことにより、多層膜GMRセンサ構造において、隣接す
る磁性層の磁化が互いに直交するようなバイアス状態が
得られるので、磁気媒体からの外部磁場に対して線形な
出力信号が得られ、より高感度で高性能な読取りヘッド
が実現される。
【図1】本発明の構造を形成するために交互に積層され
る強磁性材料層及び非磁性材料層を示す分解斜視図であ
る。
る強磁性材料層及び非磁性材料層を示す分解斜視図であ
る。
【図2】交互に積層された強磁性材料層及び非磁性材料
層と、それらに結合された永久磁石バイアス部材及び導
電リードとからなる構造を部分的に断面視して示す斜視
図である。
層と、それらに結合された永久磁石バイアス部材及び導
電リードとからなる構造を部分的に断面視して示す斜視
図である。
【図3】本発明の別の実施例を製造する過程を工程順に
示すA図〜C図からなる平面図である。
示すA図〜C図からなる平面図である。
10、10′ センサ 11 基板 12 強磁性材料層 13 非磁性材料層 14 強磁性材料層 15 非磁性材料層 21 永久磁石 22 矢印 25、25′ 矢印 26 スペーサ層 31 リード 40 領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サミュエル・ダブリュ・ユーアン アメリカ合衆国・カリフォルニア州・ 94070,サン・カルロス,オークス・ビュ ー・ドライブ・160
Claims (9)
- 【請求項1】 磁気配向された領域を有する磁気記録
媒体の磁束遷移を検出するための薄膜磁気変換器であっ
て、 前記記録媒体の磁気配向領域を感知するために、互いに
それらの間の静磁相互作用により結合されて巨大磁気抵
抗効果を生じる材料の層を交互に積層した多層膜を有す
る面内電流巨大磁気抵抗感知素子と、 前記磁気抵抗感知素子に磁気バイアス磁場を発生される
ために該磁気抵抗感知素子の前記多層膜に磁気結合され
た磁気バイアス手段と、 前記磁気抵抗感知素子と前記磁気バイアス手段との間に
配置された非磁性・非導電性スペーサ手段とを有するこ
とを特徴とする薄膜磁気変換器。 - 【請求項2】 前記スペーサ手段が、接触接合により
前記磁気バイアス手段及び前記磁気抵抗感知手段に接続
されていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気
変換器。 - 【請求項3】 前記スペーサ手段がAl2O3であるこ
とを特徴とする請求項2に記載の薄膜磁気変換器。 - 【請求項4】 前記磁気抵抗感知素子が、磁性材料層
と非磁性材料層とを交互に積層した多層膜からなること
を特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気変換器。 - 【請求項5】 前記磁性材料がNiFeまたはCoで
あり、かつ前記非磁性材料がCuであることを特徴とす
る請求項4に記載の薄膜磁気変換器。 - 【請求項6】 前記磁気バイアス手段が永久磁石であ
ることを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気変換器。 - 【請求項7】 前記磁気抵抗感知素子に接続された導
電手段を有することを特徴とする請求項6に記載の薄膜
磁気変換器。 - 【請求項8】 前記永久磁石が、前記スペーサ手段に
より前記磁気抵抗感知素子及び前記導電手段から分離さ
れていることを特徴とする請求項7に記載の薄膜磁気変
換器。 - 【請求項9】 前記磁気バイアス手段が、交換結合さ
れた強磁性材料層と反強磁性材料層との積層構造からな
ることを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気変換器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/851,265 | 1997-05-05 | ||
US08/851,265 US5818685A (en) | 1997-05-05 | 1997-05-05 | CIP GMR sensor coupled to biasing magnet with spacer therebetween |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11102508A true JPH11102508A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=25310374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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