JPH1096012A - 高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法 - Google Patents
高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法Info
- Publication number
- JPH1096012A JPH1096012A JP8250676A JP25067696A JPH1096012A JP H1096012 A JPH1096012 A JP H1096012A JP 8250676 A JP8250676 A JP 8250676A JP 25067696 A JP25067696 A JP 25067696A JP H1096012 A JPH1096012 A JP H1096012A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- hole
- induction hardening
- conductor
- quenching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- General Induction Heating (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の高周波焼入装置であると、ワークの厚
さが薄い場合には、貫通孔の端面からの硬化距離の長さ
が十分にとれないという問題があった。 【解決手段】 貫通孔１４を有するワーク１０に対して
少なくとも貫通孔１４の内周端部Ａ2、Ｂ2を焼入するた
めの高周波焼入装置２０であって、ワーク１０を支持す
るための支持台２２と、貫通孔１４内に挿入可能に配置
された高周波電極２４とを具備してなり、ワーク１０の
端面からの焼入距離を規制するために、支持台２２に、
貫通孔１４内に挿入可能な導電体３０を設け、導電体３
０の表面３０ａをダミー焼入面とした。
さが薄い場合には、貫通孔の端面からの硬化距離の長さ
が十分にとれないという問題があった。 【解決手段】 貫通孔１４を有するワーク１０に対して
少なくとも貫通孔１４の内周端部Ａ2、Ｂ2を焼入するた
めの高周波焼入装置２０であって、ワーク１０を支持す
るための支持台２２と、貫通孔１４内に挿入可能に配置
された高周波電極２４とを具備してなり、ワーク１０の
端面からの焼入距離を規制するために、支持台２２に、
貫通孔１４内に挿入可能な導電体３０を設け、導電体３
０の表面３０ａをダミー焼入面とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、貫通孔を有するワ
ークに対して少なくとも貫通孔の内周端部を焼入するた
めの高周波焼入装置に関するものである。また、そのよ
うな高周波焼入方法に関するものであり、さらに、焼入
製品の製造方法に関するものである。
ークに対して少なくとも貫通孔の内周端部を焼入するた
めの高周波焼入装置に関するものである。また、そのよ
うな高周波焼入方法に関するものであり、さらに、焼入
製品の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、高周波電流による電磁誘導現
象を利用して、鋼をオーステナイト状態に加熱し焼入す
る方法は、高周波焼入として知られている。
象を利用して、鋼をオーステナイト状態に加熱し焼入す
る方法は、高周波焼入として知られている。
【０００３】このような高周波焼入の一例を図５に示
す。図において、符号１０はワーク、符号２０は高周波
焼入装置である。
す。図において、符号１０はワーク、符号２０は高周波
焼入装置である。
【０００４】図示例において、ワーク１０は、内輪１
１、外輪１２、連結部１３から構成されている。ここ
で、内輪１１の内周面は貫通孔１４を画成しており、外
輪１２の外周面にはギヤ１５が形成されている。また、
図示例において、高周波焼入装置２０は、回転可能とさ
れた支持軸２１、支持軸２１に固定された支持台２２、
高周波電極２３、２４から構成されている。
１、外輪１２、連結部１３から構成されている。ここ
で、内輪１１の内周面は貫通孔１４を画成しており、外
輪１２の外周面にはギヤ１５が形成されている。また、
図示例において、高周波焼入装置２０は、回転可能とさ
れた支持軸２１、支持軸２１に固定された支持台２２、
高周波電極２３、２４から構成されている。
【０００５】上記の高周波焼入装置２０を使用してワー
ク１０の内輪１１の端面部Ａ1 および貫通孔１４の内周
端部Ａ2 を焼入するには、まず、端面部Ａ1 を焼入する
ための高周波電極２３、および、内周端部Ａ2 を焼入す
るための高周波電極２４を、図示のように、硬化したい
部分Ａ1 、Ａ2 の表面に近接させる。そして、高周波電
極２２、２３に、例えば、１ｋＨｚ〜数百ｋＨｚの高周
波電流を通じる。すると、電磁誘導現象によって被硬化
部分Ａ1 、Ａ2 の表面層に誘導電流が流れてジュール熱
が発生し、目的部分Ａ1 、Ａ2 が加熱される。加熱後の
冷却には、水あるいは水溶性焼入剤が使用される。
ク１０の内輪１１の端面部Ａ1 および貫通孔１４の内周
端部Ａ2 を焼入するには、まず、端面部Ａ1 を焼入する
ための高周波電極２３、および、内周端部Ａ2 を焼入す
るための高周波電極２４を、図示のように、硬化したい
部分Ａ1 、Ａ2 の表面に近接させる。そして、高周波電
極２２、２３に、例えば、１ｋＨｚ〜数百ｋＨｚの高周
波電流を通じる。すると、電磁誘導現象によって被硬化
部分Ａ1 、Ａ2 の表面層に誘導電流が流れてジュール熱
が発生し、目的部分Ａ1 、Ａ2 が加熱される。加熱後の
冷却には、水あるいは水溶性焼入剤が使用される。
【０００６】次に、高周波電極２３、２４を一旦退避さ
せた後、ワーク１０の上下を反転させる。その後、同様
にして、高周波電極２３、２４を目的部分Ｂ1 、Ｂ2 に
近接させて、同様にして、焼入を行う。
せた後、ワーク１０の上下を反転させる。その後、同様
にして、高周波電極２３、２４を目的部分Ｂ1 、Ｂ2 に
近接させて、同様にして、焼入を行う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の高周波焼入装置２０であると、ワーク１０の厚さが
薄い場合には、以下のような問題が発生する。すなわ
ち、片面側の被硬化部分Ａの焼入を行った後、他面側の
被硬化部分Ｂの焼入を行う際に、ワーク１０の厚さが薄
いことにより、図６に示すように、焼入部分Ａ2 、Ｂ2
にオーバーラップ領域Ｃができてしまう。オーバーラッ
プ領域Ｃにおいては、既に焼入れされた箇所が再加熱さ
れることになるため、焼戻り現象が起こってしまい、所
定硬度が得られなくなってしまう。そのため、オーバー
ラップ領域Ｃについては、所定硬度が得られず、結局、
貫通孔１４の内周端部Ａ2、Ｂ2 については、端面から
の硬化距離の長さが十分にとれないという問題があっ
た。
来の高周波焼入装置２０であると、ワーク１０の厚さが
薄い場合には、以下のような問題が発生する。すなわ
ち、片面側の被硬化部分Ａの焼入を行った後、他面側の
被硬化部分Ｂの焼入を行う際に、ワーク１０の厚さが薄
いことにより、図６に示すように、焼入部分Ａ2 、Ｂ2
にオーバーラップ領域Ｃができてしまう。オーバーラッ
プ領域Ｃにおいては、既に焼入れされた箇所が再加熱さ
れることになるため、焼戻り現象が起こってしまい、所
定硬度が得られなくなってしまう。そのため、オーバー
ラップ領域Ｃについては、所定硬度が得られず、結局、
貫通孔１４の内周端部Ａ2、Ｂ2 については、端面から
の硬化距離の長さが十分にとれないという問題があっ
た。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、高周波焼入を行い得る領域を規制する機能を有する
ことにより、所定の領域に高周波焼入を行い得る高周波
焼入装置を提供することを目的とする。また、そのよう
な高周波焼入方法、ならびに、焼入製品の製造方法を提
供することもまた、本発明の目的である。
で、高周波焼入を行い得る領域を規制する機能を有する
ことにより、所定の領域に高周波焼入を行い得る高周波
焼入装置を提供することを目的とする。また、そのよう
な高周波焼入方法、ならびに、焼入製品の製造方法を提
供することもまた、本発明の目的である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の高周波焼
入装置においては、貫通孔を有するワークに対して少な
くとも前記貫通孔の内周端部を焼入するための高周波焼
入装置であって、前記ワークを支持するための支持台
と、前記貫通孔内に挿入可能に配置された高周波電極と
を具備してなり、前記ワークの端面からの焼入距離を規
制するために、前記支持台に、前記貫通孔内に挿入可能
な導電体を設け、該導電体の表面をダミー焼入面とした
ことを特徴としている。請求項２記載の高周波焼入装置
においては、請求項１記載の高周波焼入装置において、
前記導電体は、その導電性が、ワークと同等であるかま
たはワークよりも大きな材料から形成されていることを
特徴としている。請求項３記載の高周波焼入方法におい
ては、貫通孔を有するワークに対して少なくとも前記貫
通孔の内周端部を焼入するための高周波焼入方法であっ
て、前記ワークを支持台により支持し、前記ワークの前
記貫通孔内において、前記支持台に前記ワークの端面か
らの焼入距離を規制するための導電体を設けた状態で、
前記ワークの前記貫通孔内に、高周波電極を挿入し、前
記高周波電極により焼入を行うことを特徴としている。
請求項４記載の焼入製品の製造方法においては、貫通孔
を有するワークに対して少なくとも前記貫通孔の内周両
端部を焼入した焼入製品を製造するための方法であっ
て、前記ワークの一方側の内周端部を焼入し、その後、
請求項３記載の高周波焼入方法により前記ワークの他方
側の内周端部を焼入することにより、前記貫通孔の内周
両端部を焼入した焼入製品を得ることを特徴としてい
る。
入装置においては、貫通孔を有するワークに対して少な
くとも前記貫通孔の内周端部を焼入するための高周波焼
入装置であって、前記ワークを支持するための支持台
と、前記貫通孔内に挿入可能に配置された高周波電極と
を具備してなり、前記ワークの端面からの焼入距離を規
制するために、前記支持台に、前記貫通孔内に挿入可能
な導電体を設け、該導電体の表面をダミー焼入面とした
ことを特徴としている。請求項２記載の高周波焼入装置
においては、請求項１記載の高周波焼入装置において、
前記導電体は、その導電性が、ワークと同等であるかま
たはワークよりも大きな材料から形成されていることを
特徴としている。請求項３記載の高周波焼入方法におい
ては、貫通孔を有するワークに対して少なくとも前記貫
通孔の内周端部を焼入するための高周波焼入方法であっ
て、前記ワークを支持台により支持し、前記ワークの前
記貫通孔内において、前記支持台に前記ワークの端面か
らの焼入距離を規制するための導電体を設けた状態で、
前記ワークの前記貫通孔内に、高周波電極を挿入し、前
記高周波電極により焼入を行うことを特徴としている。
請求項４記載の焼入製品の製造方法においては、貫通孔
を有するワークに対して少なくとも前記貫通孔の内周両
端部を焼入した焼入製品を製造するための方法であっ
て、前記ワークの一方側の内周端部を焼入し、その後、
請求項３記載の高周波焼入方法により前記ワークの他方
側の内周端部を焼入することにより、前記貫通孔の内周
両端部を焼入した焼入製品を得ることを特徴としてい
る。
【００１０】請求項１記載の発明によると、高周波電極
には、導電体表面とワークの貫通孔の内壁露出面とが対
向することになる。高周波電極に通電した際には、これ
ら導電体表面とワークの貫通孔の内壁露出面とに高周波
電流が誘起される。一方、ワークの貫通孔の内壁面のう
ち、導電体よりも下方に位置する領域は、高周波電極に
対して、直接的に対向していないため、高周波電極の高
周波電界による影響を受けることがなく、この領域に
は、高周波電流が誘起されることはない。つまり、ワー
クの貫通孔内において、高周波電極の近傍に導電体を設
け、この導電体の表面をダミー焼入面として、このダミ
ー焼入面に優先的に高周波電流を誘起させることによ
り、ワークに対する高周波電流の誘起領域を規制するの
である。請求項２記載の発明によると、導電体の導電性
が、ワークと同等であるかまたはワークよりも大きいの
で、導電体に対して優先的に誘導電流が流れ、この導電
体によって高周波電極から遮蔽された領域への電磁放射
が、確実に阻止される。請求項３記載の発明によると、
ワークの貫通孔内において、支持台に導電体を設けた状
態で、焼入が行われる。この場合、ワークの貫通孔の内
壁面のうち導電体から上に位置する表面と導電体の上表
面とに高周波電流が誘起されて、これら表面においての
み焼入がなされ、ワークの貫通孔の内壁面のうち、導電
体によって高周波電極から遮蔽されている領域には、電
磁波が到達せず、焼入は行われない。請求項４記載の発
明によると、ワークの一方側の内周端部を焼入した後、
上記の高周波焼入方法によりワークの他方側の内周端部
を焼入するので、焼入のオーバーラップ領域の発生が阻
止された状態で焼入が達成され、ワークの内周両端部に
おいては、所定の焼入距離が確保される。
には、導電体表面とワークの貫通孔の内壁露出面とが対
向することになる。高周波電極に通電した際には、これ
ら導電体表面とワークの貫通孔の内壁露出面とに高周波
電流が誘起される。一方、ワークの貫通孔の内壁面のう
ち、導電体よりも下方に位置する領域は、高周波電極に
対して、直接的に対向していないため、高周波電極の高
周波電界による影響を受けることがなく、この領域に
は、高周波電流が誘起されることはない。つまり、ワー
クの貫通孔内において、高周波電極の近傍に導電体を設
け、この導電体の表面をダミー焼入面として、このダミ
ー焼入面に優先的に高周波電流を誘起させることによ
り、ワークに対する高周波電流の誘起領域を規制するの
である。請求項２記載の発明によると、導電体の導電性
が、ワークと同等であるかまたはワークよりも大きいの
で、導電体に対して優先的に誘導電流が流れ、この導電
体によって高周波電極から遮蔽された領域への電磁放射
が、確実に阻止される。請求項３記載の発明によると、
ワークの貫通孔内において、支持台に導電体を設けた状
態で、焼入が行われる。この場合、ワークの貫通孔の内
壁面のうち導電体から上に位置する表面と導電体の上表
面とに高周波電流が誘起されて、これら表面においての
み焼入がなされ、ワークの貫通孔の内壁面のうち、導電
体によって高周波電極から遮蔽されている領域には、電
磁波が到達せず、焼入は行われない。請求項４記載の発
明によると、ワークの一方側の内周端部を焼入した後、
上記の高周波焼入方法によりワークの他方側の内周端部
を焼入するので、焼入のオーバーラップ領域の発生が阻
止された状態で焼入が達成され、ワークの内周両端部に
おいては、所定の焼入距離が確保される。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
て、図面を参照して説明する。
【００１２】図１は、本発明の高周波焼入装置の一実施
形態を示すもので、図において従来と同様の部材には、
同一符号を付し、その説明を省略する。本実施形態にお
いては、ワーク１０は鉄製である。
形態を示すもので、図において従来と同様の部材には、
同一符号を付し、その説明を省略する。本実施形態にお
いては、ワーク１０は鉄製である。
【００１３】本実施形態の最大の特徴点は、支持軸２１
の上端に固定された導電体３０にある。
の上端に固定された導電体３０にある。
【００１４】導電体３０は、銅製であり、円盤の形態と
されている。この場合、導電体３０は、外径が貫通孔１
４の内径とほぼ等しく設定されており、そのため、図２
に示すように、貫通孔１４の内周面に当接し得るものと
されている。
されている。この場合、導電体３０は、外径が貫通孔１
４の内径とほぼ等しく設定されており、そのため、図２
に示すように、貫通孔１４の内周面に当接し得るものと
されている。
【００１５】次に、本実施形態の高周波焼入装置２０を
使用した場合の焼入方法について、また、焼入製品のそ
のような製造方法について説明する。
使用した場合の焼入方法について、また、焼入製品のそ
のような製造方法について説明する。
【００１６】まず、図１に示すように、支持台２２上に
ワーク１０を支持する。この場合、支持軸２１を貫通孔
１４内に挿入して、支持を確実にするとともに、所定位
置への位置決めを行う。そして、端面部Ａ1 を焼入する
ための高周波電極２３、および、内周端部Ａ2 を焼入す
るための高周波電極２４を、図示のように、硬化したい
部分Ａ1 、Ａ2 の表面に近接させる。その後、支持軸２
１を回転駆動してワーク１０を回転させつつ、高周波電
極２２、２３に高周波電流を通じる。これにより、電磁
誘導現象によって被硬化部分Ａ1 、Ａ2 の表面層に誘導
電流を誘起して目的部分Ａ1 、Ａ2 を加熱する。加熱後
の冷却には、水あるいは水溶性焼入剤を使用する。
ワーク１０を支持する。この場合、支持軸２１を貫通孔
１４内に挿入して、支持を確実にするとともに、所定位
置への位置決めを行う。そして、端面部Ａ1 を焼入する
ための高周波電極２３、および、内周端部Ａ2 を焼入す
るための高周波電極２４を、図示のように、硬化したい
部分Ａ1 、Ａ2 の表面に近接させる。その後、支持軸２
１を回転駆動してワーク１０を回転させつつ、高周波電
極２２、２３に高周波電流を通じる。これにより、電磁
誘導現象によって被硬化部分Ａ1 、Ａ2 の表面層に誘導
電流を誘起して目的部分Ａ1 、Ａ2 を加熱する。加熱後
の冷却には、水あるいは水溶性焼入剤を使用する。
【００１７】次に、高周波電極２３、２４を一旦退避さ
せた後、ワーク１０の上下を反転させる。その後、同様
にして、高周波電極２３、２４を目的部分Ｂ1 、Ｂ2 に
近接させて、同様にして、焼入を行う。
せた後、ワーク１０の上下を反転させる。その後、同様
にして、高周波電極２３、２４を目的部分Ｂ1 、Ｂ2 に
近接させて、同様にして、焼入を行う。
【００１８】この場合、図２に示すように、高周波電極
２４には、導電体３０の表面３０ａとワーク１０の貫通
孔１４の内壁露出面（Ｂ2 の領域に相当）とが対向する
ことになる。高周波電極２４に通電した際には、これら
導電体表面３０ａとワーク１０の貫通孔１４の内壁露出
面とに高周波電流が誘起される。一方、ワーク１０の貫
通孔１４の内壁面のうち、導電体３０よりも下方に位置
する領域Ｄは、高周波電極２４に対して、直接的に対向
していないため、高周波電極２４の高周波電界による影
響を受けることがなく、この領域Ｄには、高周波電流が
誘起されることはない。つまり、ワーク１０の貫通孔１
４内において、高周波電極２４の近傍に導電体３０を設
け、この導電体３０の表面３０ａをダミー焼入面とし
て、このダミー焼入面３０ａに優先的に高周波電流を誘
起させることにより、ワーク１０に対する高周波電流の
誘起領域を規制するのである。したがって、ワーク１０
の上端面からの焼入距離は、距離Ｌに規制される。
２４には、導電体３０の表面３０ａとワーク１０の貫通
孔１４の内壁露出面（Ｂ2 の領域に相当）とが対向する
ことになる。高周波電極２４に通電した際には、これら
導電体表面３０ａとワーク１０の貫通孔１４の内壁露出
面とに高周波電流が誘起される。一方、ワーク１０の貫
通孔１４の内壁面のうち、導電体３０よりも下方に位置
する領域Ｄは、高周波電極２４に対して、直接的に対向
していないため、高周波電極２４の高周波電界による影
響を受けることがなく、この領域Ｄには、高周波電流が
誘起されることはない。つまり、ワーク１０の貫通孔１
４内において、高周波電極２４の近傍に導電体３０を設
け、この導電体３０の表面３０ａをダミー焼入面とし
て、このダミー焼入面３０ａに優先的に高周波電流を誘
起させることにより、ワーク１０に対する高周波電流の
誘起領域を規制するのである。したがって、ワーク１０
の上端面からの焼入距離は、距離Ｌに規制される。
【００１９】よって、ワーク１０の厚さが図示のように
薄い場合であっても、既に焼入された領域Ａ2 と、その
後に焼入される領域Ｂ2 との間に、オーバーラップ領域
を発生させることを防止することができる。したがっ
て、焼戻り現象を生じさせることなく、所定の焼入距離
Ｌを確保することができる。
薄い場合であっても、既に焼入された領域Ａ2 と、その
後に焼入される領域Ｂ2 との間に、オーバーラップ領域
を発生させることを防止することができる。したがっ
て、焼戻り現象を生じさせることなく、所定の焼入距離
Ｌを確保することができる。
【００２０】また、導電体３０が、銅から形成されてい
るので、導電体３０に誘導電流を優先的に誘起させて、
ワーク１０の端面からの焼入距離の規制効果を確実かつ
有効的にもたらすことができる。
るので、導電体３０に誘導電流を優先的に誘起させて、
ワーク１０の端面からの焼入距離の規制効果を確実かつ
有効的にもたらすことができる。
【００２１】また、上記の方法によれば、ワーク１０の
一方側の内周端部Ａ2 を焼入した後、上記の高周波焼入
方法によりワーク１０の他方側の内周端部Ｂ2 を焼入す
るので、ワーク１０の厚さが薄い場合であっても、焼入
のオーバーラップ領域の発生を防止することができ、ワ
ーク１０の内周両端部Ａ2 、Ｂ2 において所定の焼入距
離Ｌを確保した焼入製品を得ることができる。
一方側の内周端部Ａ2 を焼入した後、上記の高周波焼入
方法によりワーク１０の他方側の内周端部Ｂ2 を焼入す
るので、ワーク１０の厚さが薄い場合であっても、焼入
のオーバーラップ領域の発生を防止することができ、ワ
ーク１０の内周両端部Ａ2 、Ｂ2 において所定の焼入距
離Ｌを確保した焼入製品を得ることができる。
【００２２】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、以下の形態とすることもできる。 ａ）導電体３０を支持軸２１の上端面に固定することに
代えて、導電体３０を支持軸２１の上端面に載置するこ
と。この場合においても同様の作用効果を奏することが
できる。 ｂ）導電体３０を貫通孔１４の内周面に当接させること
に代えて、電磁遮蔽効果をもたらし得る限りにおいて、
導電体３０を貫通孔１４の内周面に対して隙間を設けて
配置すること。この場合においても同様の作用効果を奏
することができる。 ｃ）円盤形状の導電体３０に代えて、図２および図３に
示すようなリング形状の導電体３１を使用すること。図
２および図３においては、導電体３１は、固定されてい
ても、載置されているだけであっても、どちらでも良
い。この場合、導電体３１の表面３１ａがダミー焼入面
となり、上記実施形態と同様の作用効果を奏することが
できる。 ｄ）導電体３０を銅から形成することに代えて、アルミ
ニウム、等、他の任意の導電性材料から形成すること。
この場合、導電体３０の導電性が、ワークの導電性と同
等であるかまたは大きいことが好ましい。 ｅ）１回目の焼入、および、２回目の焼入を共に上記高
周波焼入方法により行うことに代えて、１回目は通常の
焼入方法により焼入した後、２回目の焼入だけに上記高
周波焼入方法を適用すること。
るものではなく、以下の形態とすることもできる。 ａ）導電体３０を支持軸２１の上端面に固定することに
代えて、導電体３０を支持軸２１の上端面に載置するこ
と。この場合においても同様の作用効果を奏することが
できる。 ｂ）導電体３０を貫通孔１４の内周面に当接させること
に代えて、電磁遮蔽効果をもたらし得る限りにおいて、
導電体３０を貫通孔１４の内周面に対して隙間を設けて
配置すること。この場合においても同様の作用効果を奏
することができる。 ｃ）円盤形状の導電体３０に代えて、図２および図３に
示すようなリング形状の導電体３１を使用すること。図
２および図３においては、導電体３１は、固定されてい
ても、載置されているだけであっても、どちらでも良
い。この場合、導電体３１の表面３１ａがダミー焼入面
となり、上記実施形態と同様の作用効果を奏することが
できる。 ｄ）導電体３０を銅から形成することに代えて、アルミ
ニウム、等、他の任意の導電性材料から形成すること。
この場合、導電体３０の導電性が、ワークの導電性と同
等であるかまたは大きいことが好ましい。 ｅ）１回目の焼入、および、２回目の焼入を共に上記高
周波焼入方法により行うことに代えて、１回目は通常の
焼入方法により焼入した後、２回目の焼入だけに上記高
周波焼入方法を適用すること。
【００２３】
【発明の効果】本発明の高周波焼入装置および高周波焼
入方法ならびに焼入製品の製造方法によれば、以下の効
果を奏する。請求項１記載の高周波焼入装置によれば、
ワークを支持するための支持台には、ワークの貫通孔内
に挿入可能に導電体が設けられており、この導電体の表
面がダミー焼入面をなすので、ワークの端面からの焼入
距離を規制することができ、ワークの厚さが薄い場合で
あっても、焼入のオーバーラップ領域の発生を防止する
ことができる。よって、焼戻り現象を生じさせることな
く、所定の焼入距離を確保することができる。請求項２
記載の高周波焼入装置によれば、導電体の導電性が、ワ
ークと同等であるかまたはワークよりも大きいことによ
り、導電体に誘導電流を優先的に誘起させて、ワークの
端面からの焼入距離の規制効果を確実かつ有効的にもた
らすことができる。請求項３記載の高周波焼入方法によ
れば、ワークの貫通孔内において、支持台に導電体を設
けた状態で、焼入を行うので、ワークの端面からの焼入
距離の規制を行うことができる。請求項４記載の焼入製
品の製造方法によれば、ワークの一方側の内周端部を焼
入した後、上記の高周波焼入方法によりワークの他方側
の内周端部を焼入するので、ワークの厚さが薄い場合で
あっても、焼入のオーバーラップ領域の発生を防止する
ことができ、ワークの内周両端部において所定の焼入距
離を確保した焼入製品を得ることができる。
入方法ならびに焼入製品の製造方法によれば、以下の効
果を奏する。請求項１記載の高周波焼入装置によれば、
ワークを支持するための支持台には、ワークの貫通孔内
に挿入可能に導電体が設けられており、この導電体の表
面がダミー焼入面をなすので、ワークの端面からの焼入
距離を規制することができ、ワークの厚さが薄い場合で
あっても、焼入のオーバーラップ領域の発生を防止する
ことができる。よって、焼戻り現象を生じさせることな
く、所定の焼入距離を確保することができる。請求項２
記載の高周波焼入装置によれば、導電体の導電性が、ワ
ークと同等であるかまたはワークよりも大きいことによ
り、導電体に誘導電流を優先的に誘起させて、ワークの
端面からの焼入距離の規制効果を確実かつ有効的にもた
らすことができる。請求項３記載の高周波焼入方法によ
れば、ワークの貫通孔内において、支持台に導電体を設
けた状態で、焼入を行うので、ワークの端面からの焼入
距離の規制を行うことができる。請求項４記載の焼入製
品の製造方法によれば、ワークの一方側の内周端部を焼
入した後、上記の高周波焼入方法によりワークの他方側
の内周端部を焼入するので、ワークの厚さが薄い場合で
あっても、焼入のオーバーラップ領域の発生を防止する
ことができ、ワークの内周両端部において所定の焼入距
離を確保した焼入製品を得ることができる。
【図１】 本発明の高周波焼入装置の一実施形態を示す
断面図である。
断面図である。
【図２】 図１に示す高周波焼入装置の要部を拡大して
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】 本発明の高周波焼入装置の変形形態を示す断
面図である。
面図である。
【図４】 本発明の高周波焼入装置の他の変形形態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図５】 従来の高周波焼入装置を示す断面図である。
【図６】 図３に示す高周波焼入装置において、ワーク
の厚さが薄い場合を示す断面図である。
の厚さが薄い場合を示す断面図である。
１０ ワーク １４ 貫通孔 ２０ 高周波焼入装置 ２２ 支持台 ２４ 高周波電極 ３０ 導電体 ３０ａ ダミー焼入面 ３１ 導電体 ３１ａ ダミー焼入面 Ａ2 内周端部 Ｂ2 内周端部 Ｌ 焼入距離
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１０月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２２】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、以下の形態とすることもできる。 ａ）導電体３０を支持軸２１の上端面に固定することに
代えて、導電体３０を支持軸２１の上端面に載置するこ
と。この場合においても同様の作用効果を奏することが
できる。 ｂ）導電体３０を貫通孔１４の内周面に当接させること
に代えて、電磁遮蔽効果をもたらし得る限りにおいて、
導電体３０を貫通孔１４の内周面に対して隙間を設けて
配置すること。この場合においても同様の作用効果を奏
することができる。 ｃ）円盤形状の導電体３０に代えて、図３および図４に
示すようなリング形状の導電体３１を使用すること。図
３および図４においては、導電体３１は、固定されてい
ても、載置されているだけであっても、どちらでも良
い。この場合、導電体３１の表面３１ａがダミー焼入面
となり、上記実施形態と同様の作用効果を奏することが
できる。 ｄ）導電体３０を銅から形成することに代えて、アルミ
ニウム、等、他の任意の導電性材料から形成すること。
この場合、導電体３０の導電性が、ワークの導電性と同
等であるかまたは大きいことが好ましい。 ｅ）１回目の焼入、および、２回目の焼入を共に上記高
周波焼入方法により行うことに代えて、１回目は通常の
焼入方法により焼入した後、２回目の焼入だけに上記高
周波焼入方法を適用すること。
るものではなく、以下の形態とすることもできる。 ａ）導電体３０を支持軸２１の上端面に固定することに
代えて、導電体３０を支持軸２１の上端面に載置するこ
と。この場合においても同様の作用効果を奏することが
できる。 ｂ）導電体３０を貫通孔１４の内周面に当接させること
に代えて、電磁遮蔽効果をもたらし得る限りにおいて、
導電体３０を貫通孔１４の内周面に対して隙間を設けて
配置すること。この場合においても同様の作用効果を奏
することができる。 ｃ）円盤形状の導電体３０に代えて、図３および図４に
示すようなリング形状の導電体３１を使用すること。図
３および図４においては、導電体３１は、固定されてい
ても、載置されているだけであっても、どちらでも良
い。この場合、導電体３１の表面３１ａがダミー焼入面
となり、上記実施形態と同様の作用効果を奏することが
できる。 ｄ）導電体３０を銅から形成することに代えて、アルミ
ニウム、等、他の任意の導電性材料から形成すること。
この場合、導電体３０の導電性が、ワークの導電性と同
等であるかまたは大きいことが好ましい。 ｅ）１回目の焼入、および、２回目の焼入を共に上記高
周波焼入方法により行うことに代えて、１回目は通常の
焼入方法により焼入した後、２回目の焼入だけに上記高
周波焼入方法を適用すること。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の高周波焼入装置の一実施形態を示す
断面図である。
断面図である。
【図２】 図１に示す高周波焼入装置の要部を拡大して
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】 本発明の高周波焼入装置の変形形態を示す断
面図である。
面図である。
【図４】 本発明の高周波焼入装置の他の変形形態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図５】 従来の高周波焼入装置を示す断面図である。
【図６】 図５に示す高周波焼入装置において、ワーク
の厚さが薄い場合を示す断面図である。
の厚さが薄い場合を示す断面図である。
【符号の説明】 １０ ワーク １４ 貫通孔 ２０ 高周波焼入装置 ２２ 支持台 ２４ 高周波電極 ３０ 導電体 ３０ａ ダミー焼入面 ３１ 導電体 ３１ａ ダミー焼入面 Ａ2 内周端部 Ｂ2 内周端部 Ｌ 焼入距離
Claims (4)
- 【請求項１】 貫通孔を有するワークに対して少なくと
も前記貫通孔の内周端部を焼入するための高周波焼入装
置であって、 前記ワークを支持するための支持台と、前記貫通孔内に
挿入可能に配置された高周波電極とを具備してなり、 前記ワークの端面からの焼入距離を規制するために、前
記支持台に、前記貫通孔内に挿入可能な導電体を設け、
該導電体の表面をダミー焼入面としたことを特徴とする
高周波焼入装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の高周波焼入装置におい
て、 前記導電体は、その導電性が、ワークと同等であるかま
たはワークよりも大きな材料から形成されていることを
特徴とする高周波焼入装置。 - 【請求項３】 貫通孔を有するワークに対して少なくと
も前記貫通孔の内周端部を焼入するための高周波焼入方
法であって、 前記ワークを支持台により支持し、 前記ワークの前記貫通孔内において、前記支持台に前記
ワークの端面からの焼入距離を規制するための導電体を
設けた状態で、前記ワークの前記貫通孔内に、高周波電
極を挿入し、 前記高周波電極により焼入を行うことを特徴とする高周
波焼入方法。 - 【請求項４】 貫通孔を有するワークに対して少なくと
も前記貫通孔の内周両端部を焼入した焼入製品を製造す
るための方法であって、 前記ワークの一方側の内周端部を焼入し、 その後、請求項３記載の高周波焼入方法により前記ワー
クの他方側の内周端部を焼入することにより、前記貫通
孔の内周両端部を焼入した焼入製品を得ることを特徴と
する焼入製品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25067696A JP3257416B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25067696A JP3257416B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096012A true JPH1096012A (ja) | 1998-04-14 |
| JP3257416B2 JP3257416B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=17211396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25067696A Expired - Fee Related JP3257416B2 (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3257416B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007262549A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | High Frequency Heattreat Co Ltd | ドライブプレートの誘導加熱コイルと焼入治具及び焼入方法 |
| WO2019177111A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | Ntn株式会社 | 環状ワークの焼戻し方法 |
-
1996
- 1996-09-20 JP JP25067696A patent/JP3257416B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007262549A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | High Frequency Heattreat Co Ltd | ドライブプレートの誘導加熱コイルと焼入治具及び焼入方法 |
| JP4662275B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-03-30 | 高周波熱錬株式会社 | ドライブプレートの誘導加熱コイルと焼入治具及び焼入方法 |
| WO2019177111A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | Ntn株式会社 | 環状ワークの焼戻し方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3257416B2 (ja) | 2002-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6576877B2 (en) | Induction processing with the aid of a conductive shield | |
| JP3061648B2 (ja) | 誘導硬化装置 | |
| KR100557309B1 (ko) | 고주파 유도가열 코일체 | |
| JPH1096012A (ja) | 高周波焼入装置および高周波焼入方法ならびに焼入製品の製造方法 | |
| JP2001150178A (ja) | 溶接残留応力の低減方法とその装置 | |
| JPH0796683B2 (ja) | 高周波焼き入れ装置 | |
| JPS6273592A (ja) | シヨルダが小なるクランクシヤフト加熱用二次誘導子組合せ型誘和加熱コイル | |
| JP2002105532A (ja) | 歪形ワークの熱処理装置 | |
| JP4367770B2 (ja) | 誘導加熱方法及び誘導加熱コイル | |
| JP2009035779A (ja) | 高周波誘導加熱コイル及び高周波誘導加熱方法 | |
| JP2004292921A (ja) | 冷却ジャケットの冷却液飛散防止治具 | |
| JP2006207004A (ja) | 高周波加熱方法 | |
| JP2632106B2 (ja) | 高周波加熱コイル | |
| JP2008106307A (ja) | 金属リングの高周波焼入方法 | |
| JP2513054Y2 (ja) | 高周波加熱コイル体 | |
| JPH03191019A (ja) | 高周波焼入装置 | |
| JP2527792Y2 (ja) | 軸材鞍部の表面加熱装置 | |
| JP2006019230A (ja) | 誘導加熱装置及び誘熱焼入装置 | |
| JP2003213329A (ja) | ワークの誘導加熱方法 | |
| JPS5817244B2 (ja) | 歯車の高周波表面焼入法 | |
| SU897863A1 (ru) | Устройство дл термомагнитной обработки посто нных магнитов | |
| JPH0711161Y2 (ja) | 高周波加熱装置および高周波加熱用センターピン | |
| JPS591623A (ja) | 高周波焼入れ方法 | |
| JP2689647B2 (ja) | 溶接方法 | |
| JP2001081513A (ja) | 段付きシャフトの高周波加熱コイル |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20011106 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |