JPH107684A - アリルシラン類の製造方法 - Google Patents

アリルシラン類の製造方法

Info

Publication number
JPH107684A
JPH107684A JP9057249A JP5724997A JPH107684A JP H107684 A JPH107684 A JP H107684A JP 9057249 A JP9057249 A JP 9057249A JP 5724997 A JP5724997 A JP 5724997A JP H107684 A JPH107684 A JP H107684A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
allyl
allylsilane
magnesium
halosilane
halide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9057249A
Other languages
English (en)
Inventor
Howard M Bank
マービン バンク ハワード
Sean P Davern
パトリック ダバーン ショーン
Binh T Nguyen
サン ギュイェン ビン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Silicones Corp
Original Assignee
Dow Corning Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Corp filed Critical Dow Corning Corp
Publication of JPH107684A publication Critical patent/JPH107684A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/0825Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
    • C07F7/0827Syntheses with formation of a Si-C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0896Compounds with a Si-H linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/121Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
    • C07F7/122Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【解決手段】 中間体として用いるグリニャール試薬を
流動性で容易に攪拌できる反応混合物として作りだすア
リルシランの調製方法であって、金属マグネシウムを、
ジエチレングリコールジブチルエーテル、ハロゲン化ア
リル及び式MeSiX4−A−b(Meはメチ
ル、Xは塩素又は臭素、a=0〜3、b=0又は1、a
+b=1〜3である)のハロシランを含む混合物と5〜
200℃で接触させる。 【効果】 この方法は容易に回収でき、高収率のアリル
シラン生成物を提供し、ヘキサジエン副生物に対するア
リルシランの高い割合をも生じる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアリルシラン類の調
製方法である。この方法は、金属マグネシウムを、5〜
200℃の温度で、ジエチレングリコールジブチルエー
テル、ハロゲン化アリル及びハロシランを含む混合物と
接触させることを含む。本発明は容易に回収できるアリ
ルシランの高い収率を提供し、また、ヘキサジエンに対
するアリルシランの高い割合をももたらす。
【0002】
【従来の技術】ジアルキルエーテルのような溶媒の存在
の下で、有機ハロゲン化物を金属マグネシウムと反応さ
せて、反応性複合体、一般にはグリニャール試薬と呼ば
れているもの、を形成することは周知である。グリニャ
ール試薬の製造と反応は、書籍及び多数の論文の主題と
なってきた。例えば、Coates et al.,O
RGANOMETALLIC COMPOUNDS,V
ol.1,p.76−103(1967),Methu
en and Co.LTD,London,U.
K.;及びKirk and Othmer,ENCY
CLOPEDIA OF CHEMICAL TECH
NOLOGY,Vol.10,721−734(196
6),The Interscience Encyc
lopedia,Inc.,NY,NYを参照のこと。
このグリニャール試薬の構造は未だはっきりとは決定さ
れていない。しかしながら、それは溶液中で複合体とし
て存在し、溶媒が複合物形成に重要な役割を果たすと、
一般に考えられている。グリニャール試薬の形成と反応
性に対する溶媒の予測できない効果は、上記記事にも述
べられている。
【0003】グリニャール試薬とハロシラン類の反応も
周知であり、多数のそのような反応が、Kharash
et al.,Grignard Reaction
sof Nonmetallic Substance
s,Prentice−Hall,Inc.NY,19
54,P.1306−1331に記載されている。
【0004】中間体としての塩化アリルを用いる方法に
より、1,5−ヘキサジエンの調製は知られている。例
えば、Turk et al.,Organic Sy
nthesis,Vol.27,7−8,1947は、
塩化アリルを無水エーテル中でマグネシウム削り屑と反
応させることにより1,5−ヘキサジエンを調製する方
法を教えている。この反応は攪拌のできない粘稠なスラ
リーを形成することを、彼らは示している。次いで、こ
のスラリーは塩酸溶液で処理され、塩化マグネシウム副
生物が溶液中に存在し、このスラリーが攪拌されるよう
に充分に流動性になるまでにされる。
【0005】上に教えられた方法は商業的方法として一
般に受け入れられない。反応を行っている間に攪拌でき
ないスラリーが生成すると、物質移動及び熱移動が減る
ことになり、それ故、生成物の収率が減る。更に、この
スラリーの性質は、生成物の単離を可能にするために、
追加のステップでこのスラリーを可溶化する薬剤で処理
することが必要になる。一般に大部分の生成物は攪拌で
きないスラリー中に閉じ込められている。加えて、この
スラリーの非流動性は反応が連続的プロセスとして運行
することを妨げる。
【0006】Turnbull et alの米国特許
No.5358670は、ジエチレングリコールジブチル
エーテル(DEGDBE)中でアルキルグリニャール試
薬を形成することを開示している。彼らは、DEGDB
Eの存在下で調製されたグリニャール試薬は改善された
収率と安定性を有することを報告している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、中間
体としてのグリニャール型試薬を使用してアリルシラン
類を調製する方法を提供することであり、ここでこの方
法は、流動性であり、容易に攪拌される反応混合物を作
りだすことによりグリニャール型試薬に伴う上記問題の
多数を回避するものである。こうして、物質移動及び熱
移動は本発明混合物において改善され、アリルシラン類
の改善された収率を提供する。加えて、本発明方法は2
相系を提供し、それからアリルシランは容易に分離され
る。更に、本発明は、有機置換シラン類を調製するため
の公知のグリニャール型プロセスに較べたとき、ヘキサ
ジエン副生物に対するアリルシランの改善された割合を
提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明はアリルシラン類
の調製方法である。この方法は、金属マグネシウムを、
5〜200℃の温度で、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、ハロゲン化アリル及び式Mea b SiX
4-a-b (ここに、Meはメチルであり、Xは塩素原子及
び臭素原子から選ばれるハロゲンであり、a=0〜3で
あり、b=0又は1であり、a+b=1〜3である)で
示されるハロシランを含む混合物と接触させることを含
む。
【0009】本発明方法においては、この方法において
中間体グリニャール型試薬を単離し、このグリニャール
試薬をハロシランと更に反応させてアリルシランを形成
することは必要でない。更に、アリルシランの回収を容
易にするための、得られた生成物混合物に別の可溶化ス
テップを行う必要はない。
【0010】本発明方法は、金属マグネシウムを、ハロ
シランとジエチレングリコールジブチルエーテル(DE
GDBE)の存在下にハロゲン化アリルと反応させるこ
とを含む。金属マグネシウムの調製方法及び金属マグネ
シウムの物理的形態は当技術分野において知られた何で
もよい。この金属マグネシウムは、例えば、粉末、チッ
プ、又は削りくずであり得る。金属マグネシウムの好ま
しい形態は削りくずの形状をしている。
【0011】金属マグネシウムとハロゲン化アリルの接
触は、グリニャール型反応を実施するのに適した標準の
反応器中で行われる。この反応器はバッチ型でも、半バ
ッチ型でも、連続型でもよい。好ましい反応器は連続反
応器である。本発明方法は、不活性雰囲気中で実施され
る。それ故、好ましい方法において、この反応器は窒素
又はアルゴンのような不活性ガスでパージされ、ガスシ
ールされる。
【0012】反応器に供給されるハロゲン化アリルに対
するマグネシウムのモル比は臨界的なものでなく、広い
限界内で変化することができる。バッチ法では、ハロゲ
ン化アリルに対するマグネシウムのモル比は、マグネシ
ウムのアリルマグネシウムハライド複合体への本質的に
全体的な転化を確保するために充分過剰のハロゲン化ア
リルを与えることが好ましい。本発明を連続法で行うと
きは、金属マグネシウムは、反応器に供給されるハロゲ
ン化アリルに関して一般に過剰に存在する。そのような
場合には、反応器へのハロゲン化アリル及びハロシラン
の供給割合は、ハロゲン化アリルのアリルシランへの転
化の許容できるレベルを確保し、未反応アリルマグネシ
ウムハライド複合体の存在を最小にするように調節され
る。このハロシラン供給原料は分割され、アリルマグネ
シウムハライド複合体の完全な反応を確保するために、
その一部はマグネシウム床の後に反応器に加えられても
よい。好ましい具体例においては、過剰のハロゲン化ア
リル及びハロシランは回収され、プロセスへ再循環され
る。
【0013】本発明方法において、有用なハロゲン化ア
リルは塩化アリル及び臭化アリルを含む。好ましいハロ
ゲン化アリルは、塩化アリルである。
【0014】本発明方法において有用なハロシランは、
式Mea b SiX4-a-b (ここに、Meはメチルであ
り、Xは塩素原子及び臭素原子から選ばれるハロゲンで
あり、a=0〜3であり、b=0又は1であり、a+b
=1〜3である)で表される。好ましいのはXが塩素で
あるときである。このハロシランは、例えばトリメチル
クロロシラン、ジメチルクロロシラン、メチルジクロロ
シラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシ
ラン、及びそのようなクロロシランの臭素相似体(an
alogs)を含む。
【0015】ハロシランに対するハロゲン化アリルのモ
ル比は0.1〜10の範囲で変化させることができる。
好ましいのは、ハロシランに対するハロゲン化アリルの
モル比が0.8〜3の範囲内にあるときである。好まし
い方法は、マグネシウムがハロゲン化アリルに対して過
剰にプロセスに加えられ、ハロシランが、得られたアリ
ルマグネシウムハライド中間体に対して過剰に加えられ
るときである。しかしながら、安全の理由で、ある種の
ハロシランに関しては、本発明方法を、アリルマグネシ
ウムハライド中間体を過剰にして実施するのが望ましい
ことがある。
【0016】本発明方法はDEGDBEの存在下に行わ
れる。通常、ハロゲン化アリル1モルあたり1〜15モ
ルのDEGDBEを本発明方法に加える。好ましいの
は、ハロゲン化アリル1モルあたり1〜10モルのDE
GDBEが加えられるときである。一層好ましいのは、
ハロゲン化アリル1モルあたり1〜5モルのDEGDB
Eであるときである。
【0017】本発明方法は、5〜200℃の範囲の温度
で実施される。本発明方法は、30〜170℃の範囲の
温度で実施されるのが好ましい。本発明方法が実施され
るゲージ圧は、臨界的でなく、周囲圧力ないし1.38
MPa(200psi)であってよい。好ましいゲージ
圧は0〜861.9kPa(0〜125psi)の範囲
内である。
【0018】本発明方法の生成物はハロシランのケイ素
原子上のハロゲン置換基がアリル基で置換されたアリル
シランである。本発明方法で調製されたアリルシラン類
の例としては、アリルトリメチルシラン、アリルジメチ
ルシラン、アリルメチルクロロシラン、アリルジメチル
クロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、及びジア
リルジメチルシランがある。
【0019】本発明方法の実施によって得られる混合物
は、放置すると、2相に分離し、1つの相はDEGDB
E中のアリルシランを、他の相はDEGDBE中に可溶
化されたジハロゲン化マグネシウム複合体を含むであろ
う。次いで、前記アリルシランは、例えば、蒸留によっ
てDEGDBEから分離される。このDEGDBEは一
方の、又は両方の相から回収され、本発明方法に再循環
される。
【0020】以下の例は、特許請求の範囲に定義された
本発明を説明するために与えたものである。
【0021】(例1)(参考) 最初に、ジエチルエーテル中での金属マグネシウム、塩
化アリル及びトリメチルクロロシランの反応を評価し
た。マグネシウム削り屑(0.067モル)、ジエチル
エーテル(0.138モル)、及びトリメチルクロロシ
ラン(0.015モル)をガラス瓶中に装填し、混合し
た。内標準としてオクタン(0.0013モル)をこの
瓶に加えた。この瓶を窒素でパージし、次いでジエチル
エーテル(0.005モル)中の塩化アリル(0.02
モル)を混合しながらこの瓶に加えた。室温で4時間後
に、形成された粘稠なスラリーを水素炎イオン化検出器
を用いるガスクロマトグラフィー(GC−FID)によ
って分析した。このGC−FID分析は、このプロセス
に供給したトリメチルクロロシランの量を基準として、
アリルトリメチルシランの収率71%及び1,5−ヘキ
サジエン副生物に対するアリルトリメチルシランのモル
比約10:1を示した。
【0022】(例2)金属マグネシウム、塩化アリル及
びジエチレングリコールジブチルエーテル(DEGDB
E)中のトリメチルクロロシランの反応を評価した。マ
グネシウム削り屑(0.7モル)、DEGDBE(1.
53モル)、及び内標準としてのオクタン(0.024
モル)を、還流コンデンサー、添加ロート、機械的攪拌
機、加熱マントル及び窒素入口を備えたガラスフラスコ
中に装填した。このフラスコを窒素でパージし、次いで
44℃に加熱した。DEGDBE(1.53モル)、ト
リメチルクロロシラン(0.68モル)及び塩化アリル
(0.51モル)を含む混合物を前記添加ロートに入
れ、2時間かけて前記ガラスフラスコにゆっくりと加え
た。添加終了の1時間後に、発熱が観測され、温度が1
10℃に上昇した。次いで、この混合物を44℃に冷却
するために、氷浴を適用した。
【0023】この時点で2相系が観察された。反応混合
物を44℃で追加の6時間攪拌し、次いで分液ロートに
移し、2相に分けた。上の相のGC−FID分析は、
0.1面積%の塩化アリル、1.5面積%のトリメチル
クロロシラン、13.2面積%のアリルトリメチルシラ
ン、79.2面積%のDEGDBE、2.3面積%のオ
クタン、及び2面積%のヘキサメチルジシロキサンの存
在を示した。底の相の部分をトルエンで抽出した。この
トルエン抽出物のGC−FIDによる分析は、0.0面
積%の塩化アリル、0.2面積%のトリメチルクロロシ
ラン、0.5面積%のアリルトリメチルシラン、24面
積%のDEGDBE、及び75.1面積%のトルエンの
存在を示した。底の層の別の部分を蒸発したところ、2
8wt%のMgCl2 を含んでいることが見いだされ
た。ヘキサジエンに対するアリルトリメチルシランのモ
ル比を測定したところ、71:1であった。
【0024】(例3)金属マグネシウム、塩化アリル及
びDEGDBE中の種々のクロロシランを評価した。ク
ロロシラン上の置換可能な塩素に対して、小過剰のマグ
ネシウム削り屑を複数のガラス管に加えた。モル比3/
2/1のDEGDBE、クロロシラン及び塩化アリルを
含む混合物を調製し、これらガラス管に加えた。試験し
たクロロシランを表1に記載する。次いで、これら管を
窒素でパージし、イソプロピルアルコール(IPA)/
ドライアイス浴中で冷却し、シールした。これらシール
した管を100℃で、表1に示す時間加熱した。加熱の
期間の後、これら管を冷却し、管中の混合物の上相をG
C−FIDで分析した。その結果を、アリルシランに転
化したクロロシラン供給原料のモル%(収率%)として
表1に報告する。この方法で形成されたヘキサジエンに
対するアリルシランのモル比(シラン/ジエン)も表1
に報告する。
【0025】 〔表1〕ハロシラン アリルシラン 時間(h) 収率% シラン/ジエン Me3SiCl アリルSiMe3 16 70 35 Me2HSiCl アリルSiMe2H 3 92 70 MeHSiCl2 アリルSiMeHCl 19 50 22 Me2SiCl2 アリルSiMe2Cl 19 60 78 MeSiCl3 アリルSiMeCl2 19 60 50
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ビン サン ギュイェン アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,オタワ ストリート 4511

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属マグネシウムを、5〜200℃の温
    度で、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ハロゲ
    ン化アリル及び式Mea b SiX4-a-b (ここに、M
    eはメチルであり、Xは塩素原子及び臭素原子から選ば
    れるハロゲンであり、a=0〜3であり、b=0又は1
    であり、a+b=1〜3である)で示されるハロシラン
    を含む混合物と接触させることを含むアリルシラン類の
    製造方法。
JP9057249A 1996-03-28 1997-03-12 アリルシラン類の製造方法 Withdrawn JPH107684A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/624,860 US5629439A (en) 1996-03-28 1996-03-28 Method for preparation of allylsilanes
US08/624860 1996-03-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH107684A true JPH107684A (ja) 1998-01-13

Family

ID=24503633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9057249A Withdrawn JPH107684A (ja) 1996-03-28 1997-03-12 アリルシラン類の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5629439A (ja)
EP (1) EP0798302B1 (ja)
JP (1) JPH107684A (ja)
DE (1) DE69700509T2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4884144A (en) * 1986-05-21 1989-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Electronic camera
JP2013133315A (ja) * 2011-12-27 2013-07-08 Dow Corning Toray Co Ltd 有機珪素化合物の製造方法
JP2014009170A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Toray Fine Chemicals Co Ltd ケイ素化合物の製造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5756796A (en) * 1997-05-19 1998-05-26 Dow Corning Corporation Method for preparation of alkenylsilanes
US5872274A (en) * 1998-06-11 1999-02-16 Dow Corning Corporation Method for preparation of tertiary-hydrocarbylsilyl compounds
US6440876B1 (en) 2000-10-10 2002-08-27 The Boc Group, Inc. Low-K dielectric constant CVD precursors formed of cyclic siloxanes having in-ring SI—O—C, and uses thereof
US6649540B2 (en) 2000-11-09 2003-11-18 The Boc Group, Inc. Organosilane CVD precursors and their use for making organosilane polymer low-k dielectric film
US6572923B2 (en) 2001-01-12 2003-06-03 The Boc Group, Inc. Asymmetric organocyclosiloxanes and their use for making organosilicon polymer low-k dielectric film
KR20060123433A (ko) * 2004-01-06 2006-12-01 다우 코닝 코포레이션 생성물로서의 디페닐클로로실란의 수율이 향상된 그리냐르방법
WO2005068476A1 (en) * 2004-01-06 2005-07-28 Dow Corning Corporation Grignard processes with increased content of diphenylchlorosilanes
FR2908412B1 (fr) * 2006-11-10 2010-10-15 Rhodia Recherches & Tech Procede de preparation d'organomonoalcoxy (ou monohydroxy) silanes fonctionnalises, en particulier alcenyles
JP5015705B2 (ja) * 2007-09-18 2012-08-29 ルネサスエレクトロニクス株式会社 層間絶縁膜形成方法、層間絶縁膜、半導体デバイス、および半導体製造装置
WO2016032767A1 (en) * 2014-08-27 2016-03-03 Arkema Inc. Preparation of fluorosilicon compounds
WO2023222245A1 (de) 2022-05-20 2023-11-23 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung von organosiliciumverbindungen

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2465731A (en) * 1944-08-01 1949-03-29 American Cyanamid Co Allyl halogeno silicanes and processes of preparing same
JPH0786115B2 (ja) * 1989-06-28 1995-09-20 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法
JP2838342B2 (ja) * 1991-11-13 1998-12-16 信越化学工業株式会社 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法
US5358670A (en) * 1993-07-02 1994-10-25 Ferro Corporation Process for preparing grignard reagents in diethylene glycol dibutyl ether
JP2854832B2 (ja) * 1995-03-10 1999-02-10 日東化成株式会社 立体障害をもつケイ素化合物の製造方法
JP2867118B2 (ja) * 1995-03-16 1999-03-08 日東化成株式会社 ケイ素化合物の製造方法
JP3656168B2 (ja) * 1995-06-12 2005-06-08 日東化成株式会社 ハロゲン原子の結合したケイ素化合物の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4884144A (en) * 1986-05-21 1989-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Electronic camera
JP2013133315A (ja) * 2011-12-27 2013-07-08 Dow Corning Toray Co Ltd 有機珪素化合物の製造方法
JP2014009170A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Toray Fine Chemicals Co Ltd ケイ素化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0798302B1 (en) 1999-09-15
US5629439A (en) 1997-05-13
DE69700509D1 (de) 1999-10-21
EP0798302A1 (en) 1997-10-01
DE69700509T2 (de) 2000-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4276424A (en) Methods for the production of organic polysilanes
JP2558284B2 (ja) アルコキシシランの製造方法
EP0798302B1 (en) Method for preparation of allylsilanes
JP3856081B2 (ja) ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法
Beckers et al. Synthesis and properties of (trifluoromethyl) trichlorosilane, a versatile precursor for CF3Si compounds
US5756796A (en) Method for preparation of alkenylsilanes
JPH03223294A (ja) 有機官能性アルコキシシランの製法
US5596120A (en) Process for preparation of organosilanes
US10005798B2 (en) Plasma-assisted organofunctionalization of silicon tetrahalides or organohalosilanes
KR100253897B1 (ko) 알킬클로로실란의 직접합성의 잔류물로부터 알킬클로로실란의제조방법
JP4435572B2 (ja) フェニルオルガノシリコン中間体を製造する方法
JP4485631B2 (ja) 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法
KR100979578B1 (ko) 유기실레인 및 이의 유도체를 신규한 그리냐르 공정으로 제조하는 방법
EP0812851B1 (en) Conversion of high-boiling residue from direct process to monosilanes
JPH107686A (ja) オルガノジシラン類の製造方法
JP2000044581A (ja) 第3級ヒドロカルビルシリル化合物の製造方法
KR20060123433A (ko) 생성물로서의 디페닐클로로실란의 수율이 향상된 그리냐르방법
JPS6396192A (ja) アルコキシシラン類の製造方法
EP0902031A2 (en) Aminosilanes and method of preparation
KR100469945B1 (ko) 비닐클로로실란의제조방법
EP0659754B1 (en) Method for introducing hydrocarbons into chlorosilanes
EP0767173A1 (en) Benzosilacyclobutenes and methods of making
KR20150027905A (ko) 메틸클로로실란의 직접합성법에서 부산물로 생성되는 고비점 잔류물의 연속적 재분배 방법
Itoh et al. Preparation of vinylsilane from monosilane and vinyl chloride
JPH0764855B2 (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040601