JPH1070024A - アモルファス磁性合金 - Google Patents
アモルファス磁性合金Info
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- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 44
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 44
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 28
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 229910019236 CoFeB Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001325 element alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002070 thin film alloy Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15308—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Fe/Ni
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- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15316—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Co
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 Ｃｏを主成分とする合金の磁性金属組成に
は、合金中にアモルファス（非晶質）状態を生じさせる
添加物が含まれ、かつ合金の耐食性を高める量のＲｈが
含まれる。 【効果】 アモルファス生成物質及び選択した量のＲｈ
を添加することにより、結果物であるＣｏ基合金の耐食
性が、ロジウムを含まない基礎となるアモルファスＣｏ
合金のそれよりも大幅に改善される。
は、合金中にアモルファス（非晶質）状態を生じさせる
添加物が含まれ、かつ合金の耐食性を高める量のＲｈが
含まれる。 【効果】 アモルファス生成物質及び選択した量のＲｈ
を添加することにより、結果物であるＣｏ基合金の耐食
性が、ロジウムを含まない基礎となるアモルファスＣｏ
合金のそれよりも大幅に改善される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐食性を改良した
アモルファス磁性合金組成に関する。
アモルファス磁性合金組成に関する。
【０００２】
【従来の技術】本願発明に関連する先行技術として、本
願と同じ出願人に譲渡された１９９３年９月２日付け米
国特許出願番号第０８／１１４，６２９号明細書には、
腐食度の減少のために或る量のＲｈを含むＮｉＦｅから
なる軟磁性合金が開示されている。
願と同じ出願人に譲渡された１９９３年９月２日付け米
国特許出願番号第０８／１１４，６２９号明細書には、
腐食度の減少のために或る量のＲｈを含むＮｉＦｅから
なる軟磁性合金が開示されている。
【０００３】磁性材料における腐食防止技術の分野で
は、長年に亘って広範な活動が行われてきた。その中で
特に興味ある領域の１つが、磁気ディスクドライブ、磁
気テープ装置又はこれらの類似物のような磁気記録装置
に使用するための磁気変換器即ち磁気ヘッドの製造であ
る。このような変換器の最新のものは、最終製品の製造
においてデポジション、エッチング又はミリング若しく
はこれらの工程の組合せにより形成される薄膜材料の単
数又は複数の膜層及び様々な形状のものを組み込むのが
通例である。これらの装置は製造後、使用における様々
な腐食し易い環境に曝されるので、この腐食作用が防止
され又は少なくとも軽減されないならば、変換器の性能
について重大な問題がいつまでも生じる虞がある。
は、長年に亘って広範な活動が行われてきた。その中で
特に興味ある領域の１つが、磁気ディスクドライブ、磁
気テープ装置又はこれらの類似物のような磁気記録装置
に使用するための磁気変換器即ち磁気ヘッドの製造であ
る。このような変換器の最新のものは、最終製品の製造
においてデポジション、エッチング又はミリング若しく
はこれらの工程の組合せにより形成される薄膜材料の単
数又は複数の膜層及び様々な形状のものを組み込むのが
通例である。これらの装置は製造後、使用における様々
な腐食し易い環境に曝されるので、この腐食作用が防止
され又は少なくとも軽減されないならば、変換器の性能
について重大な問題がいつまでも生じる虞がある。
【０００４】
【発明がを解決しようとする課題】耐食性及び腐食防止
の考えられる方法の１つは、装置の露出面を保護材料の
膜層で被覆し、素子を腐食性の環境から効果的にシール
することである。しかしながら、本明細書において議論
される磁気変換器の場合には、この方法は、変換器の磁
気読出し及び書込み要素が、再生しようとする信号を記
録した磁気記録媒体及び最大の記録及び再生密度を達成
するために信号を書込み又は記録しようとする磁気記録
媒体にできる限り近接して配置しなければならないこと
から、実用的ではない。このように、変換器の構成要素
と記録媒体間に腐食防止層が存在すると、利用し得る記
録密度が減少することになる。
の考えられる方法の１つは、装置の露出面を保護材料の
膜層で被覆し、素子を腐食性の環境から効果的にシール
することである。しかしながら、本明細書において議論
される磁気変換器の場合には、この方法は、変換器の磁
気読出し及び書込み要素が、再生しようとする信号を記
録した磁気記録媒体及び最大の記録及び再生密度を達成
するために信号を書込み又は記録しようとする磁気記録
媒体にできる限り近接して配置しなければならないこと
から、実用的ではない。このように、変換器の構成要素
と記録媒体間に腐食防止層が存在すると、利用し得る記
録密度が減少することになる。
【０００５】耐食性又は腐食防止の別の対策は、薄膜材
料に１種又は２種以上の異なる材料を添加すること、又
は変換器の製造時に異なる工程を用いることに関連した
ものである。しかしながら、これらの技術はいずれも今
日まで十分に満足できることが証明されたものはない。
料に１種又は２種以上の異なる材料を添加すること、又
は変換器の製造時に異なる工程を用いることに関連した
ものである。しかしながら、これらの技術はいずれも今
日まで十分に満足できることが証明されたものはない。
【０００６】スーツ（Suits）による米国特許第４，０
２３，６９５号明細書には、耐食性のためにＲｈを添加
したＮｉＦｅ磁性薄膜合金が記載されている。この特許
明細書は、Ｃｏ基合金の使用は教示していない。
２３，６９５号明細書には、耐食性のためにＲｈを添加
したＮｉＦｅ磁性薄膜合金が記載されている。この特許
明細書は、Ｃｏ基合金の使用は教示していない。
【０００７】タキノ他による米国特許第４，６１５，７
４８号明細書には、飽和磁束密度Ｂｓが１５，０００ガ
ウス近くに達し、かつ飽和磁気ひずみ定数λｓが１．５
×１０-6未満であるＣｏ、Ｈｆ及びＰｄの合金からなる
アモルファス軟磁性薄膜が記載されている。
４８号明細書には、飽和磁束密度Ｂｓが１５，０００ガ
ウス近くに達し、かつ飽和磁気ひずみ定数λｓが１．５
×１０-6未満であるＣｏ、Ｈｆ及びＰｄの合金からなる
アモルファス軟磁性薄膜が記載されている。
【０００８】クドウ他による米国特許第４，６６８，３
１０号明細書には、Ｚｒ、Ｔｉ及びＹを含むメタロイド
合金と磁性金属を含むアモルファス磁性合金が記載され
ている。
１０号明細書には、Ｚｒ、Ｔｉ及びＹを含むメタロイド
合金と磁性金属を含むアモルファス磁性合金が記載され
ている。
【０００９】ブランシュ（Brunsch）による論文「Magne
tic Properties And Corrosion Resistance Of (CoFeB)
100-x Cr x Thin Films」、Journal of Applied Physi
cs、50 (11)、1979年11月、第7603頁には、ＣｏＦｅＢ
合金のＣｒ量を変化させることの合金の腐食度への効果
を測定する試験が記載されている。この論文の結論によ
れば、Ｃｒ量が４乃至１５原子％（Ａｔ％）の範囲内に
あるとき、前記合金には腐食度の顕著な増加が認めら
れ、それより低いＣｒ濃度では、基礎となる合金の腐食
度に大きな減少は見られなかった。
tic Properties And Corrosion Resistance Of (CoFeB)
100-x Cr x Thin Films」、Journal of Applied Physi
cs、50 (11)、1979年11月、第7603頁には、ＣｏＦｅＢ
合金のＣｒ量を変化させることの合金の腐食度への効果
を測定する試験が記載されている。この論文の結論によ
れば、Ｃｒ量が４乃至１５原子％（Ａｔ％）の範囲内に
あるとき、前記合金には腐食度の顕著な増加が認めら
れ、それより低いＣｒ濃度では、基礎となる合金の腐食
度に大きな減少は見られなかった。
【００１０】ライス（Rice）他による論文「Magnetic C
orrosion and Surface Propertiesof NiFeCr Thin Film
s」、Journal of Applied Physics、 Vol 47、 No. 3、
1976年3月、第1158頁には、８２原子％（Ａｔ％）Ｎｉ
と１８Ａｔ％Ｆｅで構成されるパーマロイ（Permallo
y）にＣｒを添加した効果が記載されている。この論文
に記載されているパーマロイへのＣｒの添加及びそれに
ついて観察された腐食度への効果は、本明細書において
図１に示す従来技術として要約されている。
orrosion and Surface Propertiesof NiFeCr Thin Film
s」、Journal of Applied Physics、 Vol 47、 No. 3、
1976年3月、第1158頁には、８２原子％（Ａｔ％）Ｎｉ
と１８Ａｔ％Ｆｅで構成されるパーマロイ（Permallo
y）にＣｒを添加した効果が記載されている。この論文
に記載されているパーマロイへのＣｒの添加及びそれに
ついて観察された腐食度への効果は、本明細書において
図１に示す従来技術として要約されている。
【００１１】ライス他による別の論文「Properties of
Thin Permalloy Films with Rhodium Addition For Cor
rosion Resistance」、Journal of Applied Physics、
Vol50(a)、1979年9月、第5899頁には、パーマロイへの
Ｒｈ添加のそのような合金の耐食性への効果が記載され
ている。この論文の結果は、本明細書において図２に示
す従来技術として要約されている。
Thin Permalloy Films with Rhodium Addition For Cor
rosion Resistance」、Journal of Applied Physics、
Vol50(a)、1979年9月、第5899頁には、パーマロイへの
Ｒｈ添加のそのような合金の耐食性への効果が記載され
ている。この論文の結果は、本明細書において図２に示
す従来技術として要約されている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に関連する基本的
な発見の１つは、相対的な耐食性及び磁気ひずみの変化
双方が、Ｃｏ基アモルファス合金系に添加される様々な
元素について評価できることである。その目的は、λｓ
≪１×１０-6の磁気ひずみ値と、８０：２０のＮｉＦｅ
（パーマロイ）と同等又はそれより大きな相対的耐食性
を同時に達成することである。
な発見の１つは、相対的な耐食性及び磁気ひずみの変化
双方が、Ｃｏ基アモルファス合金系に添加される様々な
元素について評価できることである。その目的は、λｓ
≪１×１０-6の磁気ひずみ値と、８０：２０のＮｉＦｅ
（パーマロイ）と同等又はそれより大きな相対的耐食性
を同時に達成することである。
【００１３】一般的なＣｏ基即ちＣｏを主成分とするア
モルファス合金、即ち、７０〜９６Ａｔ％のＣｏと約６
Ａｔ％までのＦｅを含み、残部がＺｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈ
ｆ、Ｔｉ及びＢからなる従来技術のアモルファス組成の
場合に、そのような合金の腐食度は一般に、通常の腐食
性環境下でパーマロイ、即ち８１：１９Ａｔ％のＮｉＦ
ｅのそれより約６倍大きい。
モルファス合金、即ち、７０〜９６Ａｔ％のＣｏと約６
Ａｔ％までのＦｅを含み、残部がＺｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈ
ｆ、Ｔｉ及びＢからなる従来技術のアモルファス組成の
場合に、そのような合金の腐食度は一般に、通常の腐食
性環境下でパーマロイ、即ち８１：１９Ａｔ％のＮｉＦ
ｅのそれより約６倍大きい。
【００１４】これらのＣｏが７０〜９６Ａｔ％である一
般的なアモルファスＣｏ基合金については、そのような
合金のパーマロイに関する基準腐食度は、基準値＝（ア
モルファスＣｏ合金の腐食度／パーマロイの腐食度）と
して認識される。Ｃｏ９０Ａｔ％、Ｚｒ４.５Ａｔ％及
びＲｈ５.５Ａｔ％である本発明の合金を、Ｒｈを添加
しないで作った場合の基準腐食度は、パーマロイのそれ
の約６倍である。本発明によりＲｈを５.５Ａｔ％添加
した場合には、腐食度は６×１０-xAt%Rhであることが
認められ、ここでｘ＝０.０６５であり、パーマロイの
それの約２.７倍の腐食度が得られることが分かる。
般的なアモルファスＣｏ基合金については、そのような
合金のパーマロイに関する基準腐食度は、基準値＝（ア
モルファスＣｏ合金の腐食度／パーマロイの腐食度）と
して認識される。Ｃｏ９０Ａｔ％、Ｚｒ４.５Ａｔ％及
びＲｈ５.５Ａｔ％である本発明の合金を、Ｒｈを添加
しないで作った場合の基準腐食度は、パーマロイのそれ
の約６倍である。本発明によりＲｈを５.５Ａｔ％添加
した場合には、腐食度は６×１０-xAt%Rhであることが
認められ、ここでｘ＝０.０６５であり、パーマロイの
それの約２.７倍の腐食度が得られることが分かる。
【００１５】本明細書において表３及び図１、図２に示
され、かつＲｈ及びＣｒ添加物双方のパーマロイ（結晶
質材料）への効果を示す従来技術の結果から、Ｃｒ及び
Ｒｈ双方が、その上にアモルファスＣｏ合金の腐食度を
減少させるのに有効であることが期待される。しかしな
がら、従来技術に示されるように、アモルファスＣｏ合
金にＣｒ添加物を使用することは、せいぜい腐食度を全
く変化させないだけのことで、実際には、このような合
金の腐食度を幾分増加させることが示されている。即
ち、このような系におけるＣｒについてのｘは実質的に
０に等しく、即ち腐食度に対して何ら効果が無い。対象
的に、本発明は、このようなアモルファスＣｏ基合金へ
のＲｈの添加が、Ｃｏ基アモルファス合金の腐食度を低
減させるのに予期しない効果を有することを示してい
る。
され、かつＲｈ及びＣｒ添加物双方のパーマロイ（結晶
質材料）への効果を示す従来技術の結果から、Ｃｒ及び
Ｒｈ双方が、その上にアモルファスＣｏ合金の腐食度を
減少させるのに有効であることが期待される。しかしな
がら、従来技術に示されるように、アモルファスＣｏ合
金にＣｒ添加物を使用することは、せいぜい腐食度を全
く変化させないだけのことで、実際には、このような合
金の腐食度を幾分増加させることが示されている。即
ち、このような系におけるＣｒについてのｘは実質的に
０に等しく、即ち腐食度に対して何ら効果が無い。対象
的に、本発明は、このようなアモルファスＣｏ基合金へ
のＲｈの添加が、Ｃｏ基アモルファス合金の腐食度を低
減させるのに予期しない効果を有することを示してい
る。
【００１６】金属薄膜では、アモルファス状態が主とし
て原子の大きさの関数として形成され、原子の直径が大
きければ大きい程、その原子の合金中にアモルファス状
態を形成するのに必要な量が少なくなるという一般的な
規則がある。例えば、Ｔｉの原子の直径が２．８８Åで
あると、ＣｏＴｉのアモルファス合金を得るのに最小１
５Ａｔ％のＴｉが必要であり、Ｚｒの原子の直径が３．
１７Åであると、ＣｏＺｒからなる合金にアモルファス
状態を生成するのに最低３〜４Ａｔ％のＺｒが必要であ
る。
て原子の大きさの関数として形成され、原子の直径が大
きければ大きい程、その原子の合金中にアモルファス状
態を形成するのに必要な量が少なくなるという一般的な
規則がある。例えば、Ｔｉの原子の直径が２．８８Åで
あると、ＣｏＴｉのアモルファス合金を得るのに最小１
５Ａｔ％のＴｉが必要であり、Ｚｒの原子の直径が３．
１７Åであると、ＣｏＺｒからなる合金にアモルファス
状態を生成するのに最低３〜４Ａｔ％のＺｒが必要であ
る。
【００１７】Ｃｏアモルファスを与える好適な元素はＺ
ｒ、Ｔａ、Ｙ、Ｍｇ及びＮｂ、又は他の希土類金属であ
るが、それはこれらが、Ｃｏ内にアモルファス状態を生
成するのに必要な濃度が比較的低い、即ちＺｒについて
約２．５〜４．５Ａｔ％及びＴａ及びＮｂについて約８
〜１０Ａｔ％であることによりモーメントの損失を最小
にするからである。Ｚｒ及び／又はＴａ又はＮｂの組合
せにおいて、組合わせた元素が７〜９Ａｔ％である場合
にアモルファス状態が達成される。Ｚｒ単独又はＴａ若
しくはＮｂとの組合せを添加することによりアモルファ
ス状態を達成した合金の場合、本発明によれば磁気ひず
みを制御することができる。
ｒ、Ｔａ、Ｙ、Ｍｇ及びＮｂ、又は他の希土類金属であ
るが、それはこれらが、Ｃｏ内にアモルファス状態を生
成するのに必要な濃度が比較的低い、即ちＺｒについて
約２．５〜４．５Ａｔ％及びＴａ及びＮｂについて約８
〜１０Ａｔ％であることによりモーメントの損失を最小
にするからである。Ｚｒ及び／又はＴａ又はＮｂの組合
せにおいて、組合わせた元素が７〜９Ａｔ％である場合
にアモルファス状態が達成される。Ｚｒ単独又はＴａ若
しくはＮｂとの組合せを添加することによりアモルファ
ス状態を達成した合金の場合、本発明によれば磁気ひず
みを制御することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｙ又は
希土類元素、若しくはこれらの組合せによりアモルファ
スを生じ、かつ約１×１０-6λｓを達成する合金では、
以下のように推定される飽和磁気ひずみλｓの変化が列
挙した各添加元素について生じる。即ち、多元系合金例
えば四元系及び五元系合金についてのλｓの補償を評価
することができる。これらを以下の表Ｉに示す。
希土類元素、若しくはこれらの組合せによりアモルファ
スを生じ、かつ約１×１０-6λｓを達成する合金では、
以下のように推定される飽和磁気ひずみλｓの変化が列
挙した各添加元素について生じる。即ち、多元系合金例
えば四元系及び五元系合金についてのλｓの補償を評価
することができる。これらを以下の表Ｉに示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】次の表IIは、様々な量のアモルファス金属
及び様々な組合せの金属を添加することによるＣｏ合金
の磁気モーメントへのおおよそのダイリューション効果
（dilutive effect）を列挙している。表IIは、Ｃｏに
ついて１７.５キロガウスの飽和磁束密度４πＭｓを使
用し、かつそれから前記合金に添加した特定の単数又は
複数の元素の原子重量％について希薄性（dilutive）の
４πＭｓをそれから引いて計算した。
及び様々な組合せの金属を添加することによるＣｏ合金
の磁気モーメントへのおおよそのダイリューション効果
（dilutive effect）を列挙している。表IIは、Ｃｏに
ついて１７.５キロガウスの飽和磁束密度４πＭｓを使
用し、かつそれから前記合金に添加した特定の単数又は
複数の元素の原子重量％について希薄性（dilutive）の
４πＭｓをそれから引いて計算した。
【００２１】
【表２】
【００２２】（実施例１）以下は、その腐食度がパーマ
ロイの０.８倍であり、かつ４πＭｓが約１４.３ＫＧ
で、λｓ≦１×１０-6である合金の実施例である。
ロイの０.８倍であり、かつ４πＭｓが約１４.３ＫＧ
で、λｓ≦１×１０-6である合金の実施例である。
【００２３】
【化１】
【００２４】表IIに示す数値に関して、この合金の４π
Ｍｓの値は次のようにして計算することができる。 ４πＭｓ ＝ １７,５００（Ｃｏ） ＋ ７４０（Ｆｅ）
− １,７２８（ＰｔＰｄ） − １,３１２（Ｚｒ） −
４８２（Ｒｈ） ＝ １４.３ ＫＧ
Ｍｓの値は次のようにして計算することができる。 ４πＭｓ ＝ １７,５００（Ｃｏ） ＋ ７４０（Ｆｅ）
− １,７２８（ＰｔＰｄ） − １,３１２（Ｚｒ） −
４８２（Ｒｈ） ＝ １４.３ ＫＧ
【００２５】優れた耐食性及び約１×１０-6以下のλｓ
を得ることができる三元系、四元系及び五元系合金の例
を以下に示す。これ以上の多元系であっても、本発明の
教示するところを用いて可能なことは明らかである。
を得ることができる三元系、四元系及び五元系合金の例
を以下に示す。これ以上の多元系であっても、本発明の
教示するところを用いて可能なことは明らかである。
【００２６】（実施例２）Ｃｏ９０、Ｚｒ４.５、Ｒｈ
５.５の合金を準備しかつ試験した。この合金について
測定した特性は次の通りであった。 ４πＭｓ ＝ １５,０００ ガウス 磁気ひずみ λｓ ＝ ４×１０-8 Ｈｃ ＝ ０.０８ オーステード Ｈｋ（２３５℃で磁界中冷却） ＝ ５ オーステッド 透磁率 ＝ ３,０００
５.５の合金を準備しかつ試験した。この合金について
測定した特性は次の通りであった。 ４πＭｓ ＝ １５,０００ ガウス 磁気ひずみ λｓ ＝ ４×１０-8 Ｈｃ ＝ ０.０８ オーステード Ｈｋ（２３５℃で磁界中冷却） ＝ ５ オーステッド 透磁率 ＝ ３,０００
【００２７】このアモルファス合金の耐食性は８１：１
９のＮｉＦｅ（パーマロイ）の０．４４倍であった。
９のＮｉＦｅ（パーマロイ）の０．４４倍であった。
【００２８】Ｚｒ濃度は、実施例１及び２で示されるよ
りも大きい＋１〜１．５Ａｔ％で変化させることがで
き、かつそれでも低い磁気ひずみ及び良好な耐食性を維
持することができる。実施例１及び２双方において、４
πＭｓは１２，０００ガウスより大きい。
りも大きい＋１〜１．５Ａｔ％で変化させることがで
き、かつそれでも低い磁気ひずみ及び良好な耐食性を維
持することができる。実施例１及び２双方において、４
πＭｓは１２，０００ガウスより大きい。
【００２９】前述したように、前記ブランシュの論文に
は、Ｃｏ７９、Ｆｅ６.５、Ｂ１４.５のアモルファスＣ
ｏ基合金への〜１４Ａｔ％のＣｒの添加により腐食度が
全く減少しなかったことが報告されている。即ち、パー
マロイへの添加におけるＣｒとＲｈ間の関係は、以下の
表III に示されるように、アモルファスＣｏ基合金につ
いて予期しないものである。
は、Ｃｏ７９、Ｆｅ６.５、Ｂ１４.５のアモルファスＣ
ｏ基合金への〜１４Ａｔ％のＣｒの添加により腐食度が
全く減少しなかったことが報告されている。即ち、パー
マロイへの添加におけるＣｒとＲｈ間の関係は、以下の
表III に示されるように、アモルファスＣｏ基合金につ
いて予期しないものである。
【００３０】
【表３】
【００３１】このように、Ｃｏ基アモルファス合金にお
けるＲｈの腐食度への効果は予期しない優れた結果を有
する。
けるＲｈの腐食度への効果は予期しない優れた結果を有
する。
【００３２】
【図１】従来技術において示されるように、パーマロ
イ、即ち８０％Ｎｉ、２０％Ｆｅ合金におけるＣｒの原
子％の関数として耐食性の変化を示す線図である。
イ、即ち８０％Ｎｉ、２０％Ｆｅ合金におけるＣｒの原
子％の関数として耐食性の変化を示す線図である。
【図２】従来技術において示されるように、パーマロイ
におけるＲｈの原子％の関数として耐食性の変化を示す
線図である。
におけるＲｈの原子％の関数として耐食性の変化を示す
線図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 ａ原子％の少なくともＦｅ及びＣｏの一
方を含むＴａと、ｂ原子％のＲｈを含むＴｂと、ｃ原子
％のＺｒを含むＴｃとからなる高耐食性のアモルファス
磁性合金であって、 前記ａ、ｂ、ｃが、７５≦ａ≦９８、２≦ｂ≦２０、２
≦ｃ≦１５であり、 選択した前記元素の総原子％が合計１００％であり、そ
の飽和磁束密度Ｂｓが少なくとも１２，０００ガウスで
あり、かつ飽和磁気ひずみ定数λｓが１．０×１０-6未
満であることを特徴とするアモルファス磁性合金。 - 【請求項２】 その耐食性が８０：２０のＮｉＦｅから
なる合金のそれと少なくとも同等であることを特徴とす
る請求項１記載のアモルファス磁性合金。 - 【請求項３】 ａ原子％の少なくともＦｅ及びＣｏの一
方を表すＴａと、ｂ原子％のＲｈを表すＴｂと、ｃ原子
％のＺｒを表すＴｃと、ｄ原子％の少なくともＰｔ又は
Ｐｄの一方を表すＰｄとからなる高耐食性のアモルファ
ス磁性合金であって、 前記ａ、ｂ、ｃ、ｄが、７５≦ａ≦９８、２≦ｂ≦１
５、２≦ｃ≦１５、３≦ｄ≦２０であり、 選択した前記元素の総原子％が合計１００％であり、そ
の飽和磁束密度Ｂｓが少なくとも１２，０００ガウスで
あり、かつ磁気ひずみ定数λｓが１．０×１０-6未満で
あることを特徴とするアモルファス磁性合金。 - 【請求項４】 その耐食性が８０：２０のＮｉＦｅから
なる合金のそれと少なくとも同等であることを特徴とす
る請求項３記載のアモルファス磁性合金。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US63560996A | 1996-04-22 | 1996-04-22 | |
| US08/635,609 | 1996-04-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1070024A true JPH1070024A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=24548460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9118816A Pending JPH1070024A (ja) | 1996-04-22 | 1997-04-22 | アモルファス磁性合金 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5961746A (ja) |
| EP (1) | EP0803882A1 (ja) |
| JP (1) | JPH1070024A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19920466A1 (de) * | 1999-05-04 | 2000-11-09 | Erich Kraemer | Verfahren zum Abreinigen eines Innenraums einer Beschichtungskabine, insbesondere einer Pulverbeschichtungskabine sowie Beschichtungskabine, insbesondere Pulverbeschichtungskabine mit Reinigungseinrichtung |
| US6891461B2 (en) * | 1999-11-23 | 2005-05-10 | Intel Corporation | Integrated transformer |
| US6870456B2 (en) | 1999-11-23 | 2005-03-22 | Intel Corporation | Integrated transformer |
| US6452247B1 (en) * | 1999-11-23 | 2002-09-17 | Intel Corporation | Inductor for integrated circuit |
| US6856228B2 (en) * | 1999-11-23 | 2005-02-15 | Intel Corporation | Integrated inductor |
| US6815220B2 (en) * | 1999-11-23 | 2004-11-09 | Intel Corporation | Magnetic layer processing |
| US20040074987A1 (en) * | 2001-01-31 | 2004-04-22 | Shutic Jeffrey R. | Apparatus and method for automatic powder spray booth cleaning |
| US7852185B2 (en) * | 2003-05-05 | 2010-12-14 | Intel Corporation | On-die micro-transformer structures with magnetic materials |
| US8134548B2 (en) * | 2005-06-30 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | DC-DC converter switching transistor current measurement technique |
| US20080085427A1 (en) * | 2006-10-10 | 2008-04-10 | Seagate Technology Llc | Amorphous soft magnetic layers for perpendicular magnetic recording media |
| US8449948B2 (en) * | 2009-09-10 | 2013-05-28 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for corrosion protection of layers in a structure of a magnetic recording transducer |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3856513A (en) * | 1972-12-26 | 1974-12-24 | Allied Chem | Novel amorphous metals and amorphous metal articles |
| WO1981000861A1 (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-02 | Hitachi Metals Ltd | Amorphous alloys |
| US4482400A (en) * | 1980-03-25 | 1984-11-13 | Allied Corporation | Low magnetostriction amorphous metal alloys |
| JPS5754251A (en) * | 1980-09-15 | 1982-03-31 | Tdk Corp | Amorphous magnetic alloy material |
| JPS587805A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-17 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド用非晶質合金 |
| JPS61188908A (ja) * | 1985-02-16 | 1986-08-22 | Sony Corp | 非晶質軟磁性薄膜 |
| JPH01125911A (ja) * | 1987-11-11 | 1989-05-18 | Hitachi Ltd | 高耐食性非晶質磁性膜 |
| US5151137A (en) * | 1989-11-17 | 1992-09-29 | Hitachi Metals Ltd. | Soft magnetic alloy with ultrafine crystal grains and method of producing same |
| JPH04187745A (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-06 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁性合金 |
| FR2691478B1 (fr) * | 1992-05-22 | 1995-02-17 | Neyrpic | Revêtements métalliques à base d'alliages amorphes résistant à l'usure et à la corrosion, rubans obtenus à partir de ces alliages, procédé d'obtention et applications aux revêtements antiusure pour matériel hydraulique. |
-
1997
- 1997-04-17 EP EP97106392A patent/EP0803882A1/en not_active Withdrawn
- 1997-04-22 JP JP9118816A patent/JPH1070024A/ja active Pending
- 1997-08-15 US US08/912,222 patent/US5961746A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5961746A (en) | 1999-10-05 |
| EP0803882A1 (en) | 1997-10-29 |
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