JPH1068091A - 親水性被膜およびその製造方法 - Google Patents
親水性被膜およびその製造方法Info
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Abstract
膜を形成することにより、その親水性を長く持続させる
と共に、特に耐摩耗性に優れる親水性被膜およびその製
造方法を提供すること。 【解決手段】 基板上に設けられた最外層がチタニアと
非晶質の金属酸化物とを含む複合体膜であって、かつ該
複合体膜がシリカおよび/またはアルミナの微粒子を含
有することを特徴とする親水性被膜。
Description
その製造方法に関し、特にガラス、ミラー、金属などの
表面に親水性被膜を形成することにより、その親水性を
長く持続させると共に、特に耐摩耗性に優れる親水性被
膜およびその製造方法に関する。
ての性質を活かして、例えば窓ガラス、鏡面、眼鏡レン
ズなどの物品に広く利用されている。
品は、高温高湿の場所または温度や湿度差の大きい境界
面などにおいて使用すると、物品の表面に結露を生じ、
これに起因して物品の表面に曇りを帯びるという欠点を
有する。特に透明基材のうちでも、窓ガラス、眼鏡レン
ズ、鏡などは、製品の表面が曇ったり、あるいは傷がつ
きやすいという重大な問題がある。特に自動車のアウト
サイドミラーにあっては、雨天時には鏡面に雨滴が多数
付着し、明瞭な後方視界を得ることが困難になるといっ
た問題点があった。従って各方面からこれらの改良に関
する要望がなされており、これまでに透明基材をはじめ
とする各種物品に対して防曇性、水滴付着防止性、およ
び耐久性を付与しようとする試みが種々提案されてい
る。
法としては、ガラス等の表面に親水性の被膜を形成する
ことが行われている。最も簡単な手段としては、界面活
性剤を表面に塗布することで曇りや水滴の付着を防ぐこ
とができることが古くから知られており、界面活性剤に
ポリアクリル酸やポリビニルアルコールなどの水溶性ポ
リマーを配合することでその効果の持続性を上げる試み
がなされている(例えば、特開昭52−101680号
公報等)。しかしながら、この様な方法においては一時
的に親水性を付与するのみであり連続的な効果を期待す
ることはできない。
は、ガラス基材表面に、モリブデン酸化物とタングステ
ン酸化物とのうちいずれか一種以上とリン酸化物とを含
む薄膜を物理蒸着や化学蒸着等で形成することにより親
水性に優れた親水性薄膜を得る方法が提案されている。
また、特開昭54−105120号公報には、P2 Oを
含むガラスに、P2 O5 の液体または蒸気を接触させる
ことにより親水性を付与する方法が提案されている。さ
らに、特開昭53−58492号公報には、スルホン酸
型両性界面活性剤および無機塩あるいは酢酸塩を含む組
成物を低級アルコール溶液を用いて基材に塗布すること
により密着性に優れた親水膜を形成する方法が提案され
ている。しかしながら、いずれの方法においても親水性
能の長期持続性に劣るという欠点があった。
従来の技術においては、持続性を有する親水性や耐久性
を満足する親水性被膜を得ることができなかった。従っ
て本発明は、このような従来技術の欠点を解消するため
になされたものであり、親水性や耐久性に優れると共
に、耐摩耗性にも優れた親水性被膜およびその製造方法
を提供することを目的とする。
基板上に設けられた最外層がチタニアと非晶質の金属酸
化物とを含む複合体膜であって、かつ該複合体膜がシリ
カおよび/またはアルミナの微粒子を含有することを特
徴とする親水性被膜およびその製造方法により達成され
た。以下、本発明について更に詳細に説明する。
により、チタニアが有する光触媒活性を利用した表面に
付着した汚れの分解除去性が付与されると共に、非晶質
の金属酸化物によって膜の連続性を向上させることによ
って耐摩耗性に優れた親水性被膜を得ることができる。
また、親水性被膜が含有するシリカおよび/またはアル
ミナの微粒子を含有させることによって、親水維持性を
向上させることができる。
板の中から適宜選択して使用することができ、例えば金
属、ガラス、無機、有機樹脂等の材料が挙げられる。チ
タニアはアモルファスであってもアナターゼ型やルチル
型の結晶であっても良いが、光触媒活性が最も高いこと
からアナターゼ型が特に好ましい。
成する金属酸化物ゾルとしては、シリカゾルが最も代表
的であるが、シリカ−アルミナ、シリカ−ジルコニアな
どの複合酸化物ゾルなどを用いても良い。この金属酸化
物は、焼成後に非晶質の膜を形成し、親水性膜の耐摩耗
性を大幅に向上させることができる。
以下のように考えることができる。焼成後のチタニアは
結晶性のため、結晶粒が形成され、粒界には空隙が多数
存在する場合が多いため、膜自体が脆い。従って外部か
ら応力を加えられると、脆性破壊を起こし、ついには基
板から剥離してしまう。しかし、チタニアに非晶質膜が
加わると、非晶質膜がバインダーの役割を果たし、外部
応力に耐えるようになる。
ゾルゲル法によって形成した場合の走査電子顕微鏡(S
EM)写真である。この図から、多くの粒子状のものが
観察されているのがわかる。一方、図2は、本発明の方
法によって非晶質のシリカ膜とハイブリッドになったも
ののSEM写真である。この図から、微小な粒子の間に
シリカの連続膜が形成されているのがわかる。なお、白
く見える塊は、同時に添加したシリカ微粒子の凝集物で
ある。
ニアゾルとシリカゾルとの混合溶液からゾルゲル法によ
って薄膜を形成するとSi−O−Tiの結合が生成し、
チタニアの結晶化が阻害されると考えられる。しかし、
実際にはチタニアゾルの方がシリカゾルに比較して脱水
縮重合速度が極めて大きいため、シリカゾルの添加量が
一定以下の範囲では結晶化が可能であり、光分解性も維
持されることがわかった。本発明の親水性被膜において
は、非晶質金属酸化物とチタニアとの含有率は、非晶質
金属酸化物が10〜25モル%、チタニアが90〜75
モル%の範囲であることが好ましい。非晶質金属酸化物
が10モル%より少ないと、親水性被膜の耐摩耗性が不
足し、トラバース式耐摩耗試験などにおいて剥離が生じ
る。逆に、非晶質金属酸化物が25モル%より多いと、
被膜中のチタニアの量が相対的に少なくなり、十分な光
分解性能が得られなくなる。
性が極めて高いため空気中に放置しておくと、ハイドロ
カーボンなどの汚染物質が吸着されて親水性を失いやす
い。紫外線照射強度の大きな環境下では表面に吸着され
た有機汚染物質は分解されて親水性を維持することがで
きる。しかし、紫外線の少ない夜間や雨天時などにおい
てはもはや親水性を維持することが困難となる。この問
題は、被膜に物理吸着水を多く有する微粒子を添加する
ことによって解消される。親水維持性能の観点から添加
する微粒子としては、特にシリカおよび/またはアルミ
ナの微粒子が好ましい。シリカおよび/またはアルミナ
の微粒子の含有率は、被膜全体に対して10〜50重量
%の範囲であることが好ましい。含有率が10重量%よ
り少ないと十分な親水維持性能が得られず、逆に50重
量%より多いと十分な光分解性能が得られないと共に、
十分な耐摩耗性も得られなくなる。
いる場合には、この基板と基板上にに設けられた最上層
の親水性被膜との界面に中間層として金属酸化物層を設
けててもよい。この中間層としては、ソーダライムガラ
スからのナトリウムイオンのマイグレーションを防止で
きるものならなんでも良いが、特にシリカ、アルミナ、
シリカ−アルミナ複合酸化物などが好適に用いられる。
ナトリウムイオンがチタニア膜中に存在すると、TiO
2-x Nax を形成し、紫外線によって発生した正孔と電
子の再結合サイトとなるため、光分解性能が低下するこ
とがあるからである。
するための光源としては、400nm以下の紫外線を含
むものが良く、例えば太陽光、水銀灯、蛍光灯、ハロゲ
ンランプ、ショートアークキセノン光、レーザー光等が
挙げられる。本発明では、防雲性被膜を形成した部分に
直接光が照射されるように光源を設けてもよいが、通常
は特別に光源を要せず、例えば太陽などの自然光によっ
て充分に性能を得ることができる。
チタニアゾルと脱水縮重合して非晶質性の金属酸化物を
形成する金属酸化物ゾルとシリカおよび/またはアルミ
ナのコロイド溶液とを含む複合ゾル溶液を基板上に塗布
し、次いでこの塗布液を400℃〜850℃で焼成する
ことにより得られるシリカおよび/またはアルミナの微
粒子を含有するチタニアと非晶質の金属酸化物とを含む
複合体膜を前記基板上に設けることにより製造すること
ができる。
耗性が得られず、850℃より高いと、チタニアの結晶
型がアナターゼ型からルチル型へ移行するため、光分解
性能が大幅に低下することになる。
作製することができる。チタニアゾルは、例えばチタン
テトライソプロポキシドやテトラエトキシチタンなどの
ようなチタンアルコキシドを加水分解や脱水縮重合して
得ることもできる。この反応に際しては、反応性を制御
するために配位子を用いてもよい。
溶液に、金属の硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、酢酸塩、ステ
アリン酸塩、また塩化物や臭化物などのハロゲン化物や
その縮合物などを添加してもよい。また、金属酸化物と
しては、市販されているものを用いることもできる。具
体的には、例えばシリカゾルとしてはスーパーセラ(大
八化学工業所製の商品名)、セラミカ(日板研究所製の
商品名)、HAS(コルコート株式会社製の商品名)、
アトロンNSi−500(日本曹達株式会社製の商品
名)、CGS−DI−0600(チッソ株式会社製の商
品名)などを用いることができる。また、TA−10,
TA−15(日産化学工業株式会社製の商品名)、アト
ロンNTi−500(日本曹達株式会社製の商品名)な
どのチタニアゾル、NZS−30A,NZS−30B
(日産化学工業株式会社製の商品名)やAZS−A,A
ZS−NB,AZS−B(日本触媒化学工業株式会社製
の商品名)などのジルコニアゾル、アルミナゾル−10
0、アルミナゾル−200、アルミナゾル−520(日
産化学工業株式会社製の商品名)、カタロイドAS−3
(触媒化成工業株式会社製の商品名)などのアルミナゾ
ルなども用いることができる。
溶媒などで希釈して用いることができる。使用する有機
溶媒としては、金属酸化物を溶解するものであれば何で
もよく、例えば、メタノール、エタノールおよびプロピ
ルアルコール等の1級アルコール、イソプロピルアルコ
ール等の2級アルコール、ターシャルブタノール等の3
級アルコール、アセトンやメチルエチルケトン等のケト
ン類、エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロホルム、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の
脂肪族、芳香族、脂環式の炭化水素等の一般的な溶媒が
挙げられ、これらを単独でまたは混合して用いることが
できる。
しては、公知の塗布手段の中から適宜選択して使用する
ことができ、例えば浸漬引き上げ法(ディッピング
法)、スプレー法、フローコート法、スピンコート法な
どを挙げることができる。
ば、シリカおよび/またはアルミナの微粒子を含有する
チタニアと非晶質の金属酸化物とを含む複合体膜を設け
ることによって親水性が長く持続すると共に、耐摩耗性
に優れる親水性被膜を得ることができる。
明するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
ガラス基板を中性洗剤、水、エタノールで順次洗浄し、
乾燥して被膜用基板とした。
ソプロポキシドをエタノールに0.5モル/Lとなるよ
うに溶解し、この溶液に2−メチル−2,4−ペンタン
ジオールをアルコキシド1モルに対して1モル加えて1
時間還流した。室温まで冷却し、この溶液に硝酸を添加
して酸性になるように調整した後、更にこの溶液に水を
アルコキシドと等モル量滴下し、室温で1時間の還流を
行い、チタニアゾルを得た。
液に市販のシリカゾル(アトロンNSi−500、日本
曹達株式会社製の商品名)を添加し、焼成後のTiO2
とSiO2 換算でSiO2 が17モル%となるように調
整した。
ダルシリカ(ST−O、日産化学株式会社製の商品名)
を添加し、焼成後の被膜に対して微粒子シリカが20重
量%になるように調整した後に、1時間攪拌し塗布溶液
を得た。
ィング法により、1000rpmの条件でコーティング
し、風乾後に500℃で30分間焼成した。得られた被
膜は膜厚100nmの透明なものであった。
角は4.5°であった。この供試体を半分に切断し、一
方を暗室に14時間放置したところ、接触角は6.0°
と親水性が維持されていた。
たときの接触角をθ1 、その後紫外線照射装置により紫
外線強度0.5mW/cm2 で30分間照射した後の接
触角をθ2 としたときの光分解率ηをη=(θ1 −
θ2 )/(θ1 −5°)で定義した。なお、θ2 <5°
のときはη=100%とした。ηの良否は50%を境に
行った。供試体の残りの半分に対してηを求めたとこ
ろ、η=92%であり、優れた光分解性能を示した。
に対してトラバース試験を実施した。なお、トラバース
試験は摺動子にキャンバス布を被せ、荷重100gを加
えながら5000往復させることによって行った。表1
に示すように、試験後に膜の剥離は見られなかった。
カゾル(アトロンNSi−500、日本曹達株式会社製
の商品名)を塗布し、400℃で仮焼成を行って150
nmのシリカの中間層を形成した他は、実施例1と全く
同様にして、この中間層上に親水性被膜を形成した。表
1に示すように、シリカゾルの添加量は焼成後のTiO
2 とSiO2 換算でSiO2 が10〜25モル%、コロ
イダルシリカの固形分が被膜全体に対し10〜50重量
%となるように調整し、焼成温度400〜850℃とし
た。
て評価した。その結果は表1に示したとおりであり、親
水維持性、耐摩耗性および光分解率のすべての面で良好
であった。
用い、固形分が被膜全体に対し20重量%となるように
した他は、実施例3と全く同様にして親水性被膜を有す
る供試体を作製した。この供試体を実施例1と全く同様
にして評価した。その結果は、表1に示すように、親水
維持性、耐摩耗性および光分解率のすべての面で良好で
あった。
シリカゾル(アトロンNSi−500、日本曹達株式会
社製の商品名)を塗布し、400℃で仮焼成を行って1
50nmのシリカの中間層を形成した。この中間層上に
実施例1で準備したチタニアゾルを塗布し、500℃で
30分間焼成して、膜厚100nmのチタニア膜を形成
した。
4.5°で暗室に14時間放置した後の接触角は25.
0°で十分な親水性は維持されていなかった。また、ト
ラバース試験では膜に剥離が発生した。
施例3と全く同様にして親水性膜を作製した。この供試
体を実施例1と全く同様にして評価したところ、初期接
触角は4.5°であったが、14時間暗室放置後の接触
角は22.0°であり、十分な親水性が維持されていな
かった。また、トラバース試験では膜の剥離は生じなか
ったが、ηは30%と極めて低いものであった。
になるようにシリカゾルの添加量を調整した他は、実施
例2と全く同様にして親水性被膜を得た。この被膜を供
試体として実施例1と全く同様にして評価したところ、
初期接触角5.5°、14時間暗室放置後の接触角6.
5°と親水維持性に優れ、η=91%と高い光分解性能
を示したが、トラバース試験によって膜に剥離が発生し
た。
%になるようにシリカゾルの添加量を調整した他は、実
施例2と全く同様にして親水性被膜を得た。この被膜を
供試体として実施例1と全く同様にして評価したとこ
ろ、初期接触角6.0°、14時間暗室放置後の接触角
7.0°と親水維持性に優れ、トラバース試験によって
も膜に剥離は発生しなかったが、η=42%と光分解性
能が大幅に低下していた。
ルシリカの添加量を調整した他は、実施例3と全く同様
にして親水性被膜を得た。この被膜を供試体として実施
例1と全く同様にして評価したところ、トラバース試験
によっても膜に剥離は発生せず良好な耐摩耗性を示し、
η=95%と高い光分解性能を示したが、初期接触角
5.5°、14時間暗室放置後の接触角21.5°と親
水維持性の悪いものであった。
ダルシリカの添加量を調整した他は、実施例3と全く同
様にして親水性被膜を得た。この被膜を供試体として実
施例1と全く同様にして評価したところ、初期接触角
7.0°、14時間後の接触角7.0と良好な親水維持
性能を示したが、トラバース試験によって膜に剥離が発
生し、η=38%と光分解性能も低いものであった。
様にして親水性被膜を得た。この被膜を供試体として実
施例1と全く同様にして評価を行ったところ、初期接触
角6.0°、14時間暗室放置後の接触角8.0°と優
れた親水維持性が得られていたが、トラバース試験によ
り膜に剥離が生じ、η=25%と光分解性能もよくない
ものであった。
様にして親水性被膜を得た。この被膜を供試体として実
施例1と全く同様にして評価したところ、初期接触角
4.5°、14時間暗室放置後の接触角5.0°と優れ
た親水維持性を示し、トラバース試験によっても膜に剥
離が生ぜず良好な耐摩耗性を示したが、η=32%と光
分解性能は低くなっていた。
て示す。
に優れると共に、耐磨耗性にも優れ、さらには光触媒機
能により防汚染性という効果もある。
SEM観察図である。
る。
Claims (8)
- 【請求項1】 基板上に設けられた最外層がチタニアと
非晶質の金属酸化物とを含む複合体膜であって、かつ該
複合体膜がシリカおよび/またはアルミナの微粒子を含
有することを特徴とする親水性被膜。 - 【請求項2】 チタニアと非晶質の金属酸化物とを含む
複合体膜のうち、該非晶質の金属酸化物が10〜25モ
ル%の範囲であることを特徴とする請求項1記載の親水
性被膜。 - 【請求項3】 シリカおよび/またはアルミナの微粒子
の含有率が被膜全体に対して10〜50重量%の範囲で
あることを特徴とする請求項1乃至2記載の親水性被
膜。 - 【請求項4】 基板と該基板上に設けられた複合体膜と
の界面に中間層として金属酸化物層を設けてなることを
特徴とする請求項1乃至3記載の親水性被膜。 - 【請求項5】 基板がソーダライムガラスであることを
特徴とする請求項1乃至4記載の親水性被膜。 - 【請求項6】 脱水縮重合可能なチタニアゾルと脱水縮
重合して非晶質性の金属酸化物を形成する金属酸化物ゾ
ルとシリカおよび/またはアルミナのコロイド溶液とを
含む複合ゾル溶液を基板上に塗布し、次いでその塗布液
を400〜850℃で焼成することにより得られるシリ
カおよび/またはアルミナの微粒子を含有するチタニア
と非晶質の金属酸化物とを含む複合体膜を前記基板上に
設けることを特徴とする親水性被膜の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1乃至5記載の親水性被膜が防曇
処理されていることを特徴とする自動車用窓ガラス。 - 【請求項8】 請求項1乃至5記載の親水性被膜が雨滴
付着防止処理されていることを特徴とする自動車用アウ
トサイドミラー。
Priority Applications (4)
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1996
- 1996-08-26 JP JP24101896A patent/JP3400259B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP3400259B2 (ja) | 2003-04-28 |
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