JPH1063235A - 画像処理装置 - Google Patents
画像処理装置Info
- Publication number
- JPH1063235A JPH1063235A JP8217168A JP21716896A JPH1063235A JP H1063235 A JPH1063235 A JP H1063235A JP 8217168 A JP8217168 A JP 8217168A JP 21716896 A JP21716896 A JP 21716896A JP H1063235 A JPH1063235 A JP H1063235A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- transmissivity
- display
- overlay
- mask
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディスプレイ上で画像にオーバーレイを重ね
る際、その位置合せを簡単且つ正確に行うことを可能と
する。 【解決手段】 ディスプレイ上に表示されている原画像
にマスク画像（オーバーレイ）を重ねて表示する機能を
有する画像処理装置において、マスク画像に対して透過
率を設定する手段を設け、マスク画像を透して下の水や
雲が描れた原画像を見えるようにした。
る際、その位置合せを簡単且つ正確に行うことを可能と
する。 【解決手段】 ディスプレイ上に表示されている原画像
にマスク画像（オーバーレイ）を重ねて表示する機能を
有する画像処理装置において、マスク画像に対して透過
率を設定する手段を設け、マスク画像を透して下の水や
雲が描れた原画像を見えるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ上
で、画像上に重ねて表示するオーバーレイを、下の画像
に対して位置合せする際に適用して好適な画像処理装置
に関する。
で、画像上に重ねて表示するオーバーレイを、下の画像
に対して位置合せする際に適用して好適な画像処理装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ディスプレイに表示されている画像に対
して、その一部を切り抜くために、該画像上に切り抜き
マクスをオーバーレイとして重ねたり、２つの画像を合
成する場合等に両画像間の位置記決めの当りをとるため
に、一方の画像の上に他方の画像をオーバーレイとして
重ねたり、又、画像上の所定領域を指定するためにその
領域にオーバーレイを重ねて表示したりするように、画
像処理を行う際には、ディスプレイ上で一方の画像に対
して他方の画像をオーバーレイとして重ねることが一般
的に行われている。
して、その一部を切り抜くために、該画像上に切り抜き
マクスをオーバーレイとして重ねたり、２つの画像を合
成する場合等に両画像間の位置記決めの当りをとるため
に、一方の画像の上に他方の画像をオーバーレイとして
重ねたり、又、画像上の所定領域を指定するためにその
領域にオーバーレイを重ねて表示したりするように、画
像処理を行う際には、ディスプレイ上で一方の画像に対
して他方の画像をオーバーレイとして重ねることが一般
的に行われている。
【０００３】このようにオーバーレイをディスプレイ上
の画像に重ねる場合、該画像に対して正確に位置決めす
ることが極めて重要である。この位置決めを、オーバー
レイが切り抜きマスクである場合を例に説明する。
の画像に重ねる場合、該画像に対して正確に位置決めす
ることが極めて重要である。この位置決めを、オーバー
レイが切り抜きマスクである場合を例に説明する。
【０００４】いま、ディスプレイ上に、図６に模式的に
示すような、家と木と雲が描かれた原画像が表示されて
いるとした場合、この原画像の家の部分だけを切り抜く
ために、図７のようなマクス画像（オーバーレイ）を、
図８に示すように、その切り抜き部分を原画像の家の部
分に正確に位置合せして重ねる必要がある。
示すような、家と木と雲が描かれた原画像が表示されて
いるとした場合、この原画像の家の部分だけを切り抜く
ために、図７のようなマクス画像（オーバーレイ）を、
図８に示すように、その切り抜き部分を原画像の家の部
分に正確に位置合せして重ねる必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ディス
プレイ上で原画像にマスク画像を重ねると、その切り抜
き部分を除き、該マスク画像によって下の原画像が完全
に隠れてしまうため、原画像に対してマスク画像を移動
させて重ねる場合、図８のような状態に簡単に位置合せ
することができず、そのため切り抜きの作業効率が悪い
という問題があった。
プレイ上で原画像にマスク画像を重ねると、その切り抜
き部分を除き、該マスク画像によって下の原画像が完全
に隠れてしまうため、原画像に対してマスク画像を移動
させて重ねる場合、図８のような状態に簡単に位置合せ
することができず、そのため切り抜きの作業効率が悪い
という問題があった。
【０００６】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、ディスプレイ上で画像にオーバーレ
イを重ねる際、その位置合せを簡単且つ正確に行うこと
ができるため、切り抜きや領域指定等の作業の効率を大
幅に向上することができる、画像処理装置を提供するこ
とを課題とする。
くなされたもので、ディスプレイ上で画像にオーバーレ
イを重ねる際、その位置合せを簡単且つ正確に行うこと
ができるため、切り抜きや領域指定等の作業の効率を大
幅に向上することができる、画像処理装置を提供するこ
とを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ディスプレイ
上に表示されている画像の少なくとも一部にオーバーレ
イを重ねて表示する機能を有する画像処理装置におい
て、オーバーレイに対して透過率を設定する手段を備え
た構成とすることにより、前記課題を解決したものであ
る。
上に表示されている画像の少なくとも一部にオーバーレ
イを重ねて表示する機能を有する画像処理装置におい
て、オーバーレイに対して透過率を設定する手段を備え
た構成とすることにより、前記課題を解決したものであ
る。
【０００８】即ち、本発明においては、オーバーレイに
対して透過率を任意に設定できるようにしたので、該オ
ーバーレイをディスプレイ上で下の画像に重ねて表示し
た場合でも、それを透して下の画像を見ることが可能と
なるため、両者の位置合せを容易且つ正確に行うことが
できる。
対して透過率を任意に設定できるようにしたので、該オ
ーバーレイをディスプレイ上で下の画像に重ねて表示し
た場合でも、それを透して下の画像を見ることが可能と
なるため、両者の位置合せを容易且つ正確に行うことが
できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。
実施の形態を詳細に説明する。
【００１０】図１は、本発明に係る一実施の形態の画像
処理装置の概略構成を示すブロック図である。
処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００１１】本実施形態の画像処理装置は、前記図６に
示したような階調絵柄画像からなる原画像を入力する入
力スキャナ１０と、原画像上に別途作成した切り抜きマ
クス画像（オーバーレイ）を重ね合せて行う切り抜き処
理等の各種画像処理の制御を行う制御装置（コンピュー
タ）１２と、処理後の画像を出力する出力スキャナ１４
と、入力画像、マスク画像等を表示するディスプレイ１
６と、これら画像データを記憶する記憶装置１８とマク
ス画像に対して設定する透過率の演算を実行する透過率
演算装置２０と、原画像及びマスク画像を相対的に移動
させたり、位置合せしたりする際に座標を入力するため
の、例えばマウス等の座標入力装置２２とを備えてい
る。
示したような階調絵柄画像からなる原画像を入力する入
力スキャナ１０と、原画像上に別途作成した切り抜きマ
クス画像（オーバーレイ）を重ね合せて行う切り抜き処
理等の各種画像処理の制御を行う制御装置（コンピュー
タ）１２と、処理後の画像を出力する出力スキャナ１４
と、入力画像、マスク画像等を表示するディスプレイ１
６と、これら画像データを記憶する記憶装置１８とマク
ス画像に対して設定する透過率の演算を実行する透過率
演算装置２０と、原画像及びマスク画像を相対的に移動
させたり、位置合せしたりする際に座標を入力するため
の、例えばマウス等の座標入力装置２２とを備えてい
る。
【００１２】本実施の形態においては、透過率設定画面
を選択すると、ディスプレイ１６にオーバーレイの透過
率を設定するための０〜１００％のスケール（図示せ
ず）が書込まれた、図２に示すような透過率設定用バー
が表示され、その設定用バーを使って希望する透過率を
設定できるようになっている。
を選択すると、ディスプレイ１６にオーバーレイの透過
率を設定するための０〜１００％のスケール（図示せ
ず）が書込まれた、図２に示すような透過率設定用バー
が表示され、その設定用バーを使って希望する透過率を
設定できるようになっている。
【００１３】上記設定用バーにより所定の透過率ｔ（×
１００％）が設定されると、前記演算装置２０では、こ
の透過率ｔで実際にディスプレイ１６上の座標（ｘ，
ｙ）の位置に表示される各画素値Ｐxyが次の（１）式に
より演算される。
１００％）が設定されると、前記演算装置２０では、こ
の透過率ｔで実際にディスプレイ１６上の座標（ｘ，
ｙ）の位置に表示される各画素値Ｐxyが次の（１）式に
より演算される。
【００１４】 Ｐxy＝ｔ×Ｍxy＋（１−ｔ）×Ａxy …（１）
【００１５】ここで、Ｍxyはマスク画像の、又、Ａxyは
原画像の、同座標（ｘ、ｙ）の位置における画素値を、
それぞれ表わしている。
原画像の、同座標（ｘ、ｙ）の位置における画素値を、
それぞれ表わしている。
【００１６】この実施の形態では、上記（１）式に従っ
て上記演算装置２０で演算された画像データは、制御装
置１２に入力され、該制御装置１２により透過率ｔのマ
スク画像が原画像に重ねられると、上記画像データに基
づいて該マスク画像を透して下の原画像が見える状態で
表示されるようになっている。
て上記演算装置２０で演算された画像データは、制御装
置１２に入力され、該制御装置１２により透過率ｔのマ
スク画像が原画像に重ねられると、上記画像データに基
づいて該マスク画像を透して下の原画像が見える状態で
表示されるようになっている。
【００１７】次に、上記画像処理装置による原画像に対
するマスク画像の位置合せ方法を、図３のフローチャー
トに従って、原画像が前記図６と同一である場合を例に
具体的に説明する。
するマスク画像の位置合せ方法を、図３のフローチャー
トに従って、原画像が前記図６と同一である場合を例に
具体的に説明する。
【００１８】まず、入力スキャナ１０で前記図６の原画
像（階調絵柄データ）を入力し（ステップＳ１）、ディ
スプレイ１６上に表示する（ステップＳ２）。次いで、
別途作成してある前記図７に示したマスク画像（階調デ
ータ）を、例えば、記憶装置１８から読出して入力し
（ステップＳ３）、同様にディスプレイ１６上に表示す
る（ステップＳ４）。そして、該マスク画像に対する透
過率を、例えば５０％（ｔ＝０．５）に設定する（ステ
ップＳ５）。図４は、透過率５０％のマスク画像を模式
的に示したものである。
像（階調絵柄データ）を入力し（ステップＳ１）、ディ
スプレイ１６上に表示する（ステップＳ２）。次いで、
別途作成してある前記図７に示したマスク画像（階調デ
ータ）を、例えば、記憶装置１８から読出して入力し
（ステップＳ３）、同様にディスプレイ１６上に表示す
る（ステップＳ４）。そして、該マスク画像に対する透
過率を、例えば５０％（ｔ＝０．５）に設定する（ステ
ップＳ５）。図４は、透過率５０％のマスク画像を模式
的に示したものである。
【００１９】次いで、マウス等のポインティングデバイ
スにより、ディスプレイ１６上で上記マスク画像を移動
させ（ステップＳ６）、原画像に位置合せし（ステップ
Ｓ７）、両者を重ねて表示する（ステップＳ８）。図５
には、上記原画像に、マスク画像を重ねて表示した状態
を示したが、この図から分るようにマスク画像を透して
下の原画像を見ることできるため、ここでは原画像を見
ながら、該原画像にマスク画像を正確に位置合せするこ
とができる。
スにより、ディスプレイ１６上で上記マスク画像を移動
させ（ステップＳ６）、原画像に位置合せし（ステップ
Ｓ７）、両者を重ねて表示する（ステップＳ８）。図５
には、上記原画像に、マスク画像を重ねて表示した状態
を示したが、この図から分るようにマスク画像を透して
下の原画像を見ることできるため、ここでは原画像を見
ながら、該原画像にマスク画像を正確に位置合せするこ
とができる。
【００２０】次いで、透過率の設定を解除し（ステップ
Ｓ９）、前記図８と同一の状態にし、その後、従来と同
様の切り抜き等の作業を行う。
Ｓ９）、前記図８と同一の状態にし、その後、従来と同
様の切り抜き等の作業を行う。
【００２１】このように、本実施の形態では、原画像上
に重ねて表示するマスク画像に対して透過率は設定でき
るようにしたので、オペレータは該マスク画像を透して
下にある原画像を見ることができるため、これら両者の
位置合せを、それぞれの位置関係を視覚的に確認しなが
ら行うことができる。
に重ねて表示するマスク画像に対して透過率は設定でき
るようにしたので、オペレータは該マスク画像を透して
下にある原画像を見ることができるため、これら両者の
位置合せを、それぞれの位置関係を視覚的に確認しなが
ら行うことができる。
【００２２】従って、従来行われていた感覚的な位置合
せでは、下の画像は実際に画面に表示されないため、オ
ペレータの熟練が要求されたのに対し、本実施の形態に
よれば、両画像の位置関係を画面上で実際に目で確認で
きるため、原画像から目的の家の部分のみを切り抜くと
いう作業が簡単に行うことが可能となるため、作業効率
を大幅に向上することが可能となる。
せでは、下の画像は実際に画面に表示されないため、オ
ペレータの熟練が要求されたのに対し、本実施の形態に
よれば、両画像の位置関係を画面上で実際に目で確認で
きるため、原画像から目的の家の部分のみを切り抜くと
いう作業が簡単に行うことが可能となるため、作業効率
を大幅に向上することが可能となる。
【００２３】又、本実施の形態によれば、切り抜きマス
ク作成の間違いの確認も簡単にできる。即ち、前記図７
に示したマスク画像は、図６に示した原画像の家に付い
ている煙突を切り抜かないマスクになっているが、この
煙突も一緒に切り抜くためにはマスク画像を修正する必
要がある。本実施の形態によれば、図５に示すように煙
突がマスク画像に隠れていることが容易に判別できるた
め、その修正も確実に行うことができる。
ク作成の間違いの確認も簡単にできる。即ち、前記図７
に示したマスク画像は、図６に示した原画像の家に付い
ている煙突を切り抜かないマスクになっているが、この
煙突も一緒に切り抜くためにはマスク画像を修正する必
要がある。本実施の形態によれば、図５に示すように煙
突がマスク画像に隠れていることが容易に判別できるた
め、その修正も確実に行うことができる。
【００２４】以上、本発明を具体的に説明したが、本発
明は、前記実施の形態に示したものに限られるものでな
く、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
明は、前記実施の形態に示したものに限られるものでな
く、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
【００２５】例えば、上に重ねるオーバーレイは、切り
抜き用の前記マスク画像に限らず、合成用画像や、領域
指定用の画像であってもよい。
抜き用の前記マスク画像に限らず、合成用画像や、領域
指定用の画像であってもよい。
【００２６】又、原画像としては、前記階調画像に限ら
ず線画画像であってもよい。
ず線画画像であってもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
ディスプレイ上で画像にオーバーレイを重ねる際、その
位置合せを簡単且つ正確に行うことができるため、切り
抜きや領域指定等の作業の効率を大幅に向上することが
できる。
ディスプレイ上で画像にオーバーレイを重ねる際、その
位置合せを簡単且つ正確に行うことができるため、切り
抜きや領域指定等の作業の効率を大幅に向上することが
できる。
【図１】本発明に係る一実施形態の画像処理装置の概略
構成を示すブロック図
構成を示すブロック図
【図２】透過率設定画面を示す説明図
【図３】上記実施形態の作用を示すフローチャート
【図４】透過率５０％に設定したマスク画像を模式的に
示す説明図
示す説明図
【図５】ディスプレイに表示された原画像に透過率５０
％のマスク画像を重ねた状態を模式的に示す説明図
％のマスク画像を重ねた状態を模式的に示す説明図
【図６】ディスプレイに表示されたは原画像を模式的に
示す説明図
示す説明図
【図７】ディスプレイに表示された従来のマスク画像を
模式的に示す説明図
模式的に示す説明図
【図８】ディスプレイに表示された原画像に従来のマス
ク画像を重ねた状態を模式的に示した説明図
ク画像を重ねた状態を模式的に示した説明図
１０…入力スキャナ １２…制御装置 １４…出力スキャナ １６…ディスプレイ １８…記憶装置 ２０…透過率演算装置 ２２…座標入力装置
Claims (1)
- 【請求項１】ディスプレイ上に表示されている画像の少
なくとも一部にオーバーレイを重ねて表示する機能を有
する画像処理装置において、 オーバーレイに対して透過率を設定する手段を備えたこ
とを特徴とする画像処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8217168A JPH1063235A (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 画像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8217168A JPH1063235A (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 画像処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1063235A true JPH1063235A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=16699931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8217168A Pending JPH1063235A (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 画像処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1063235A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006137415A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | 半導体不良解析装置、不良解析方法、不良解析プログラム、及び不良解析システム |
| US7805691B2 (en) | 2006-06-14 | 2010-09-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor failure analysis apparatus, failure analysis method, and failure analysis program |
| US7865012B2 (en) | 2006-06-14 | 2011-01-04 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor failure analysis apparatus which acquires a failure observed image, failure analysis method, and failure analysis program |
-
1996
- 1996-08-19 JP JP8217168A patent/JPH1063235A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006137415A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | 半導体不良解析装置、不良解析方法、不良解析プログラム、及び不良解析システム |
| JP2007003306A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体不良解析装置、不良解析方法、不良解析プログラム、及び不良解析システム |
| US7752594B2 (en) | 2005-06-22 | 2010-07-06 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor failure analysis apparatus, failure analysis method, failure analysis program, and failure analysis system |
| EP1901080A4 (en) * | 2005-06-22 | 2015-10-14 | Hamamatsu Photonics Kk | SEMICONDUCTOR FAILURE ANALYSIS APPARATUS, SEMICONDUCTOR FAILURE ANALYSIS METHOD, SEMICONDUCTOR FAILURE ANALYSIS PROGRAM, AND SEMICONDUCTOR FAILURE ANALYSIS SYSTEM |
| US7805691B2 (en) | 2006-06-14 | 2010-09-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor failure analysis apparatus, failure analysis method, and failure analysis program |
| US7865012B2 (en) | 2006-06-14 | 2011-01-04 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor failure analysis apparatus which acquires a failure observed image, failure analysis method, and failure analysis program |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040126 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040803 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041130 |