JPH10510656A - メモリ制御パラメータ用の不揮発性データ記憶構造を有するメモリ・システム及びその方法 - Google Patents

メモリ制御パラメータ用の不揮発性データ記憶構造を有するメモリ・システム及びその方法

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Abstract

(57)【要約】 最適に動作するように、製造後に構成できるメモリ・システム(10)及びこのシステムを制御する方法。このシステムは、多数の行及び多数の列の形態で配列された複数のメモリ・セルから成るアレイであり、前記行の内の各1行内に配置さた各セルが共通ワード線に結合され、前記列の各1列内に配置さた各セルが共通ビット線に結合されていることから成るアレイを含む。メモリ・セルをプログラムする動作、メモリ・セルを読み出す動作を含むメモリ動作(16)を制御し、好ましくはメモリ・セルをプログラムする制御回路(19)が含まれる。メモリ動作を制御する制御手段が使用する制御パラメータ・データを記憶するために、複数の不揮発性のデータ記憶ユニット(12A)が提供される。このような制御パラメータには例えば、プログラム動作及び消去動作を実行するためにメモリ(10)に印加される電圧パルスの大きさ及び持続時間を調整するパラメータが含まれる。

Description

【発明の詳細な説明】 メモリ制御パラメータ用の不揮発性データ記憶構造を有する メモリ・システム及びその方法 発明の背景 1.発明の分野 本発明は、一般にメモリ・システムに関し、特に、メモリ・システムの製造後 にプログラムし直すことができるメモリ動作制御用のプログラマブル制御パラメ ータを有するメモリ・システムに関する。 2.背景技術 開発が進み、集積回路メモリ・システムは、非常に大きな記憶容量を有するよ うになってきている。歩留まりを向上させるために、これらのメモリ・システム の製造を綿密に制御する努力が続けられてきているが、たとえ同じ設計を利用し たメモリ・システムであっても、その特性に差異が生じることは避けられない。 これらの特性の差異は多くの要因から生じるが、そのほとんどは、プロセスのば らつきによるものである。このように、1つの半導体ウェーハから取り出された 複数のメモリ・システムが、別のウェーハから取り出された複数のメモリ・シス テムと著しく異なることがある。 メモリ・システムの製造が完了する前に該メモリ・システムを完全に特性付け ることは通常、不可能である。メモリ・システムの製造が完了した時点で、その メモリの特性を考慮してメモリ・システムを修正することはできない。例えば、 フラッシュ・メモリ・システムでは、フラッシュ・セルを電気的にプログラムし 、読出し、消去することができる。セルの論理状態は、セルの閾電圧を変更する プログラム及び消去機能を使って、セルをプログラムするか或いは消去するかに よって設定される。セルを読み出す際には、セルの論理状態を確認するためにセ ルの閾電圧が決定される。しかし、プログラミング・パルス或いは消去パルスに フラッシュ・セルが応答する細部の様子などのフラッシュ・セルの特性を確かめ るのは容易ではない。1つのプログラミング・パルスが印加された後に、ある1 つのメモリ・システムのセルの閾電圧がある量変化し、全く同じと考えられるも う1つのメモリ・システムでは、同じプログラミング・パルスが印加された後に 先のものとは異なる量変化することがある。 メモリ・システムの特性におけるこれらのばらつきに対応するために、最悪の ケースを仮定してシステムを設計することが一般に必要である。その場合、シス テム全体の性能は略必然的に低下する。 また、関連されたメモリとともに動作する多くのプロセッサ・システムは、適 正に動作するのに特定のメモリ構成を必要とする。例えば、あるシステムは、ワ ード長が8ビットであることを要求し、他のシステムはワード長が16ビットで あることを要求する。エンド・ユーザがワードの大きさをある程度まで制御でき るメモリ・システムは従来からある。しかしながら、これは、ワード長を制御す るのに必要な信号をエンド・ユーザがメモリに与えなければならないので、複雑 さがいくぶん増し、メモリのエンド・ユーザの負担となる。別の例では、殆どの プロセッサ・システムは、電源投入時にブート・データ用のメモリのある部分に 参照する。このようなブート・データは、プロセッサが系統的に機能するのに必 要である。ブート・データが、特定のメモリ・アドレスにあることを期待するよ うに、プロセッサは実装されることとなる。プロセッサには、ブート・データが 、メモリの低位アドレス(ボトム・ブート)にあることを期待するものや、ブー ト・データが、メモリの高位アドレス(トップ・ブート)にあることを期待する ものがある。 異なる種類のプロセッサ・システムに対応した機能を提供するために、異なる メモリ・システムを用途ごとに製造することも可能である。しかし、製造しなけ ればならないメモリの種類数を制限することは、どんな場合にも望ましい。 望ましいメモリ・システムは、製造後にそのシステムが完全に特性付けられる ことができ、次いで、そのシステムの特定の特性を考慮するように最適化されて いるメモリ・システムを提供すべく、特定の動作パラメータが恒久的に調整され るようなメモリ・システムである。製造しなければならないメモリの種類数を低 減すべく、製造後に、メモリ・システムの構成を修正する機能が提供されること が望ましい。本発明が提供するこれらの特徴及びその他の改良された特徴は、当 業者が、図面に参照して『発明の詳細な説明』を読むことにより明らかとなるで あろう。 発明の概要 最適に動作するように製造後に構成できるメモリ・システムを開示する。この システムは多数の行と多数の列の形態で配列された複数のメモリ・セルから成る アレイを含み、任意の行内に配置された各セルが共通ワード線に結合されており 、任意の列内に配置された各セルが共通ビット線に結合されている。制御手段が 含まれて、メモリ・セルの読み出し及び好ましくはそれらメモリ・セルのプログ ラミング等のメモリ・セルのプログラムを伴う複数のメモリ動作を制御する。 このシステムは、メモリ動作を制御する前記制御手段が使用する制御パラメー タ・データを記憶する複数の不揮発性データ記憶ユニットを更に含む。このよう な制御パラメータには、プログラム動作及び消去動作を実行するためにメモリに 印加される電圧パルスの大きさ及び持続時間を調整するためのパラメータが含ま れる。それらパラメータには、読み出されてメモリにプログラムされるワードの 長さ(ビット数)を制御するパラメータが更に含まれる。また、制御パラメータ は、メモリ・システムのアドレス指定を制御し、例えば、外部アドレスが変更さ れて、メモリに与えられる実アドレスが反転されるように為すパラメータが含ま れる。 制御パラメータは、メモリ・セルのアレイとは別のデータ記憶構造中に記憶さ れる。データ記憶構造は、好ましくは、個々の制御パラメータを記憶するデータ 記憶ユニットを含む。各データ記憶ユニットは、揮発性記憶要素及び不揮発性記 憶要素を含む。電源投入時、制御パラメータ・データが、不揮発性記憶要素から 揮発性記憶要素に自動的に転送され、制御手段が、揮発性記憶ユニット中の制御 パラメータ・データに応答する。最初に、揮発性記憶要素に制御パラメータ・デ ータをロードし、次いで、このデータを、揮発性記憶要素から不揮発性記憶要素 に転送することによって、該制御パラメータ・データがデータ記憶ユニットに記 憶される。 図面の簡単な説明 第1図は、ワード長制御機能のある態様を示す、本発明に基づくメモリ・シス テムの全体ブロック図である。 第2図は、記憶された制御パラメータに基づく、ワード長の制御に関係する回 路を示す、このメモリ・システムの部分概略図である。 第3図は、記憶された制御パラメータに基づきく、アドレス指定極性の制御に 関係する回路を示す、このメモリ・システムの部分概略図である。 第4A図及び第4B図は、メモリ・システムの状態機械の動作を示す流れ図で ある。 第5図は、記憶された制御パラメータに基づく、センス増幅器の基準の制御に 関係する回路を示す、このメモリ・システムの部分概略図である。 第6図は、記憶された制御パラメータに基づく、メモリ動作に使用される高電 圧の大きさの制御に関係する回路を示す、このメモリ・システムの部分概略図で ある。 第7図は、メモリ動作に使用されるパルスの持続時間を変えるために選択され るタイミング・デコードを生成すべく使用される回路の部分ブロック図である。 第8図は、記憶された制御パラメータに基づき、パルス持続時間の差異を生じ させる第7図の線図で生成されたデコードを選択すべく用いられる回路を示す概 略図である。 第9図は、第7図で生成されたデコードを論理的に結合する回路の概略図であ る。 第10図は、第8図で使用されたマルチプレクサのうちの1つの回路詳細を示 す概略図である。 第11図は、例示的なプログラミング・パルスが生成される様子を示すタイミ ング図である。 第12図は、制御パラメータを記憶するのに使用されるデータ記憶ユニットの 概略図である。 第13図は、第12図のデータ記憶ユニットが実行できる各種機能を示すタイ ミング図である。 第14図は、このメモリ・システムがテスト・モードに置かれたことを検出し 、どのテスト・モードが検出されたかを決定するのに使用する回路のブロック図 で ある。 第15A図乃至第15C図は、例示的な9つのデータ記憶ユニット及びこれら の記憶ユニットを制御する関連回路を示す概略図である。 第16図は、データ記憶ユニットをプログラミングするための高電圧パルスの 生成、及びその他のデータ記憶ユニット動作に使用される回路の概略図である。 第17図は、データ記憶ユニット上で各種機能が実行される様子をさらに示す タイミング図である。 発明の詳細な説明 図面で参照されるように、図1は、本発明の各種態様を含むフラッシュ・メモ リ・システム10を示す図である。このシステムの中心は、行及び列に配置され たフラッシュ・メモリ・セルのアレイ12である。このメモリ・システムの動作 は、該メモリ・システム製造後いつでも変更できる記憶済み制御パラメータCP Nを介して変更することができる。このようにして制御できる各種の異なるタイ プの例示的な動作を次に説明する。ワード長(バス・サイズ) メモリ・システム10は、記憶したプログラマブル 制御パラメータCP1を使用して永続的に構成可能で、全体で256kの8ビッ ト・ワード或いは全体で128kの16ビット・ワードを提供する。制御パラメ ータCP1を含む制御パラメータ・ビットの状態は不揮発性データ記憶ユニット 14Aに記憶される。データ記憶ユニットは、本願の基礎となる米国出願と同日 に提出された「NON-VOLATILE DATA STORAGE UNITAND METHOD OF CONTROLLING SA ME」という名称の米国出願第08/508,864号に説明されているものと同 じ種類のものとすることができ、ここに引用することによってその内容を本明細 書に合体する。この出願は、メモリ・システムの製造が完了した後に、パラメー タCPIなどの制御パラメータを所望の状態にプログラムすることができるフラ ッシュ・メモリ・セルを有する不揮発性データ記憶ユニットを開示している。デ ータ記憶ユニットの構造及び動作に関する詳細を以下に更に説明する。 したがって、制御パラメータCP1は、このメモリ・システムのデータ・バス の大きさ、即ちメモリのデータ・ワードの大きさを制御するのに使用される。こ の例では、この大きさは、8ビット・ワード或いは16ビット・ワードである。 記憶ユニット14Aの出力は、16ビット・ワード動作成いは8ビット・ワード 動作を提供するためにメモリ・システムの入出力機能を制御する入出力制御論理 ユニット(又は入出力制御論理演算装置)15に接続される。 プログラミング、読出し、消去を含むメモリ動作は様々な方法で開始される。 にされなければならない。また、読出し動作を実行するためには、書込みイネー タが偶発的に修正される可能性を低減するために、消去動作及びプログラム動作 では、連続する2つのコマンドを受け取り、コマンド実行論理ユニット(又はコ マンド実行論理演算装置)16で処理する必要がある。プログラム・コマンド及 び消去コマンドは、関連されたプロセッサによってデータ入出力端子DQ0〜D Q7に供給され、次いで入力バッファ13に送られ、さらにコマンド実行論理演 算装置16に転送されて処理される。 メモリが、256Kの8ビット・ワードを提供するように構成されている場合 には、合計19個のアドレス・ビットが関連されたプロセッサによって供給され る。18個のアドレス・ビットは、アドレス端子A0〜A17、次いでアドレス ・バッファ17に送られる。最後のアドレスはA−1/DQ15端子に供給され る。この端子は、メモリが8ビット・ワード構成の場合には最下位のアドレスA −1として、メモリが16ビット・ワード構成の場合には16個のデータ入出力 (DQ0〜DQ15)のうちの入出力DQ15として使用される。 アドレスA0〜A17は、Xデコーダ20及びYデコーダ22に転送され、ア レイ12の中から1つの16ビット・ワードが選択される。読出し動作を実行中 の場合には、アレイ12から読み出された16ビットはデータ・マルチプレクサ 24に転送される。入出力制御論理ユニット15はアドレスA−1をマルチプレ クサ24に転送するよう入力バッファ18に指示し、マルチプレクサ24はこれ に応答して、メモリから読出した16ビットの中から、アドレス・ビットA−1 の状態に応じて下位或いは上位いずれかの8ビット・ワードを選択する。8ビッ トの出力データは出力バッファ26に転送され、出力バッファ26は次いで、こ の出力データをメモリ端子DQ0〜DQ7に結合する。このモード(8ビット・ モード)では、端子DQ8〜DQ14に接続されたデータ出力バッファ28の出 力は、高インピーダンス状態に設定されている。 メモリ・システムが8ビット・モードであるときにメモリのプログラム動作が 実行される場合には、関連されたプロセッサが、18個の最上位アドレス・ビッ トを端子A0〜A17に、最下位ビットを端子DQ15/A−1に供給する。そ のアドレスでプログラムされる8個のデータ・ビットはプロセッサによって端子 DQ0〜DQ7に転送され、次いでデータ入力バッファ13に転送される。この 8個のデータ・ビットは次いで、入力データ・ラッチ/マルチプレクサ30に供 給される。入力データ・ラッチ/マルチプレクサ30は、アドレスA−1に基づ いて、Y選択ゲート・ユニット32に提供された16個のビットの上半分或いは 下半分の何れかにビットに書き込むべき8個のデータ・ビットを入力バッファ1 3から選択する。 アドレスA0〜A17の18個のビットは、Xデコーダ20及びYデコーダ2 2によって使用され、アレイ12中の1つの16ビット・ワードが選択される。 ラッチ/マルチプレクサ30はさらに、その出力の選択されなかった8ビットを 使用禁止状態又はディスネーブル状態とするように働き、これらのビットはプロ グラムされなくなる。このように、デコーダ20及び22によってアドレスされ た16ビット・ワードの上位或いは下位の半分のビットが、ラッチ/マルチプレ クサ30によって提供された8データ・ビットでプログラムされる。選択されな かった半分のビットはプログラムされない。 制御パラメータCP1が、16ビット・ワードを供給するように設定されてい る場合には、関連されたプロセッサは、18個のアドレス・ビットを供給するだ けでよい。これらのアドレス・ビットは端子A0〜A17に印加される。読出し 動作が実行される場合には、この18個のアドレス・ビットは、Xデコーダ20 及びYデコーダ22によって使用され、アレイ12中の1つの16ビット・ワー ドが選択される。このワードの8個のビットはマルチプレクサ24に転送され、 マルチプレクサ24はこれらのビットを、出力バッファ26、次いで端子DQ0 〜DQ7に転送する。アレイ12から読み出された7個の追加データ・ビットが 、 出力バッファ28、次いで端子DQ8〜DQ14に転送される。ワードの16番 目のデータ・ビットDQ15は、出力バッファ34、次いで二機能端子DQ15 /A−1に転送される。 システムが16ビット・モードであるときにメモリのプログラム動作が実行さ れる場合には、関連されたプロセッサによって端子A0〜A17に供給された1 8個のアドレス・ビットが、プログラムすべき1つの16ビット・ワードをアレ イ12から選択する。関連されたプロセッサが、プログラムすべき16ビットを 端子DQ0〜DQ7、DQ8〜DQ14及びDQ15/A−1に送る。うち15 個のデータ・ビットを入力バッファ13及び36が受け取る。16番目のビット は、入力バッファ18によって受け取られる。バッファ13、36並びに18の 出力が、ラッチ/マルチプレクサ30に供給され、次いで、Y選択ゲート・ユニ ット32に転送されて、18個のアドレス・ビットによって選択されたワードに プログラムされる。 第2図に、読出し動作中における本発明のワード・サイズ制御機能に関する詳 細をさらに示す。データ記憶ユニット14Aは、ワード・サイズを制御する制御 パラメータCPIを記憶している。CPIの値「1」は、ワード・サイズが8ビ ットであることを示し、値「0」は、ワード・サイズが16ビットであること よってバッファされ、その出力はNORゲート42の入力に供給される。ゲート 42の出力はインバータ44によって反転され、インバータ44の出力は、デー は非アクティブ状態、即ち高インピーダンス状態になる。 インバータ44の出力はまた、NORゲート46の一方の入力にも接続される 。NORゲート46の第2の入力は、制御パラメータCP1の値を表すデータ記 憶 ユニット14Aの出力に接続される。ゲート46の出力はインバータ48によっ て反転され、インバータ48は、出力バッファ34及び出力バッファ28のイネ ーブル入力に結合される。したがって、読出し動作が実行中であって、CP1が 、8ビット・ワード長を示す「1」であるときには、バッファ28及び34は使 用禁止となり、これらの出力は、高インピーダンスとなる。よって、前述のとお り、8個のデータ・ビットがバッファ26によって供給される。CP1が「0」 、したがって16ビット・ワードを指示しているときには、3つのバッファ26 、28、並びに34が全て使用可能となり(イネーブルと為され)、16個のビ ット全てが出力される。 メモリ・システム10は、第1図のブロック33で表された全体で16個のセ ンス増幅器をメモリの読出し動作に利用する。後に述べるようにこれらの増幅器 はまた、プログラムの検証及び消去の検証にも使用される。第2図の線図から分 DQ7と関連された8つのセンス増幅器は、インバータ52の出力「1」によっ て指示されるとおりにアクティブとなる。記憶ユニット14Aの出力はインバー タ50に供給され、インバータ50の出力はNANDゲート54の1つの入力に 供給される。ゲート54のもう一方の入力にはインバータ52の出力が供給され る。ゲート54の出力はインバータ56によって反転される。したがってCP1 が、8ビット動作を指示する「1」に設定されているときには、インバータ56 の出力は「0」となり、したがって、DQ8〜DQ15と関連されたセンス増幅 器は使用禁止となる。CP1が、16ビット動作を指示する「0」であるときに は、16個のセンス増幅器が全て、使用可能となる。トップ/ボトム・アドレス指定 第1図のシステム図から分かるようにメモリ・アレイ12は、いくつかのメモ リ・ブロックに分割されている。このシステムが実施されると、メモリは、メモ リ全体が消去されるバルク消去ではなく、ブロック単位で消去される。アレイ1 2は、ブート・ブロック12Aと一般に呼ばれるものを含む。このブロックは、 電源投入時にシステムを初期状態にするカーネル・コードを含むことが企図され ている。ブート・ブロック12Aは一般に、ハードウェア保護されており、その ため、特別な段階を踏まない限り消去することができない。 電源投入時、関連されたプロセッサが、ブート・ブロック12Aに記憶された データの読出しを自動的に指示し、その結果システムが初期設定される。プロセ ッサには、アドレス3FFFF(H)(A0〜A17が全て「1」)からブート ・ブロック・データの読出しの開始を試みるものや、アドレス00000(H) (A0〜A17が全て「0」)からブート・ブロック・データの読出しの開始を 試みるものがある。これらの2つの方法はそれぞれ、トップ・アドレス指定及び ボトム・アドレス指定と呼ばれることがある。 本発明は、メモリ・システムを、トップ・アドレス指定或いはボトム・アドレ ス指定を実行するように製造した後で構成することを可能とする機構を含む。こ れによって、両方の種類のメモリ・システムを製造する必要がなくなる。第3図 は、トップ・アドレス指定及びボトム・アドレス指定の両方を提供するように製 造した後でメモリ・システムを構成することができる方法を示す第1図のメモリ ・システムのより詳細な線図である。単一の制御パラメータCP2が、アドレス 指定の種類を制御するのに使用される。 パラメータCP2は、プログラマブル・データ記憶ユニット14Bに記憶され る。これは、パラメータCP1を記憶するのに使用する記憶ユニット14Aと同 様のものである。CP2が「0」の場合は、外部アドレスAO〜ANは変化しな い。したがって、プロセッサが最初に、アドレス00000(H)からブート・ ブロック・データの探索を開始し、このアドレスが、ブート・ブロックの内部ア ドレスである場合には、外部アドレスは一切変更されない。したがって、X及び Yデコーダ20、22に与えられる内部アドレスは外部アドレスと同じである。 この場合、制御パラメータCP2は「0」に設定される。プロセッサが最初にア ドレス3FFFF(H)を探索し、これが実際、ブート・ブロックの内部アドレ スである場合も、CP2は「0」となる。 プロセッサが最初に、アドレス3FFFF(H)からブート・ブロック・デー タを探索し、実際のブート・ブロックの位置が、00000(H)から始まる場 合には、パラメータCP2は「1」に設定される。プロセッサが最初に参照する アドレスが00000(H)で、実際の開始アドレスが3FFFF(H)である 場合も、パラメータCP2は「1」に設定される。 第3図について説明する。外部アドレスA0〜ANがそれぞれ、アドレス・バ ッファ/ラッチ17、次いで別々のXOR(排他的OR)ゲート58の1つの入 力に転送される。各XORゲート58の残りの入力は、パラメータCP2が記憶 されているデータ記憶ユニット14Bに接続される。CP2が「0」にプログラ ムされている場合には、XORゲートは外部アドレスを単に、X及びYデコーダ 20、22に転送する。したがって、内部アドレスと外部アドレスは同じである 。CP2が「1」にプログラムされている場合には、XORゲート58は、X及 びYデコーダ20、22に与える内部アドレスを生成するために外部アドレスを 反転する。センス増幅器基準電圧 第1図ではブロック33で表されているセンス増幅器は前述のように各種メモ リ機能に使用される。これらは、メモリの読出し動作に使用され、アレイ12の セルのプログラム状態を確かめることができる。これらはまた、セルの適正なプ ログラムの検証及びセルの適正な消去の検証にも使用される。これらの全ての動 作で、感知しているセルを通る電流フローを示す電圧が発生する。その感知電圧 はセンス増幅器によって基準電圧と比較される。一般に、読出し動作及びプログ ラム検証動作に使用される1つの基準電圧、及び消去検証動作に使用されるもう 1つの基準電圧がある。 この発明の理解を深めるため、第1図のメモリ・システムの動作をさらに説明 する。メモリ・システム10は、プログラム動作、読出し動作、消去動作を実施 するのに必要な個別の各種段階などのシステムの詳細動作を制御する内部状態機 械19を含む種類のものである。状態機械19は、メモリ・システム10ととも に一般に使用されるプロセッサ(図示せず)が要求するオーバヘッドを低減する 機能を有する。 例えば、メモリ・セル・アレイ12が消去される(バルク消去或いはブロック セットアップ・コマンドと一般に呼ばれる8ビット・コマンド20H(0010 0000)をデータ入出力端子DQ0〜DQ7上に発行する。次に、消去確認コ マンドと一般に呼ばれる第2の8ビット・コマンドDOH(1101 0000 )が発行される。この個別の2つのコマンドは、不注意な消去動作の可能性を最 小にするために使用される。 これらのコマンドは、データ入力バッファ13に送られ、次いで、コマンド実 行論理演算装置16に転送される。次いで、論理演算装置16が状態機械19に 、アレイ12を消去する数多くの周知の階段をすべて実行するように命令する。 消去シーケンスの完了後、状態機械19は、8ビット状態レジスタ25を更新す る。このレジスタの内容は、メモリ・システムのデータ入出力端子DQ0〜DQ 7に接続されたデータ出力バッファ26に送られる。消去シーケンスが完了した かどうか、及び、それが成功したかどうかを決定するために、プロセッサは、デ ータ入出力端子を定期的にポーリングし、状態レジスタ25の内容を読み出す。 第4A図及び第4B図は、状態機械19によって実行される一般的な消去シー ケンスを示す流れ図である。どんな消去動作であってもその間に、アレイ12の 1つ或いは複数のセルがいわゆる「過消去(overerased)」される可能性がある ことを最初に指摘しておかなくてはならない。消去シーケンスの目的は、メモリ ・アレイ12の全てのセルを消去し、閾電圧を全て、指定の電圧範囲内に収める ことである。その範囲は一般に、+1.5〜+3.0ボルト等の小さい正電圧範 囲である。消去されたセルがこの範囲内に収まる場合には、選択された目標セル 、即ち読み出すべきセルが読出し動作時にセル電流を生じる。セル電流フローの 存在は、そのセルが、プログラム状態(論理「0」)ではなく、消去状態(論理 「1」)にあることを示す。 セル電流が、消去されたセルで生じるのは、Xデコーダ20に接続されたアレ イからワード線を介して制御ゲートに印加された電圧が消去されたセルの閾電圧 より十分大きいからである。さらに、選択されなかったセル、即ち読み出されて いないセルは、消去されて、低閾電圧状態にある場合であっても、七ル電流の発 生が妨害されている。例えば、選択されたセルと同じ行に位置するセルは定義に よって、選択されたセルと同じワード線を共有する。しかしドレインは浮遊し、 これによって、セル電流の発生を防止している。同じ列の選択されていないセル にはセル電流は流れない。このような選択されていないセルのワード線は一般に 、接地されているからである。これらのセルのゲートーソース電圧は、これらの 選択されていないセルが消去された状態にある場合であっても、これらのセルを ターン・オンするには不十分である。 アレイ12が消去されると、セルの大部分は適正な消去閾電圧を有するように なる。しかし、1つ或いは少数のセルが、消去シーケンスに対して異なる応答を して、これらのセルが過消去される可能性がある。セルが過消去された場合には 、フローティング・ゲート上の正味電荷は正となる。その結果、閾電圧はある程 度まで負になる。したがって、このような過消去された選択されていないセルに 接続したワード線が接地されている場合であっても、選択されていないセルに電 流が流れる。この電流は、選択されたセルの読出しを妨害し、適正なメモリ動作 を妨げる。第4A図及び第4B図の消去シーケンスの主要な目的は過消去状態の 発生を防ぐことにある。 第4A図及び第4B図の流れ図に戻る。消去シーケンスは、前述の2つの消去 コマンドの発行から開始される(要素64)。これらのコマンドをコマンド実行 論理16が受け取ると、内部状態機械19がまず、アレイ12の全てのセルをプ ログラムする。これが実施されるため、セルが続いて消去されるときには、全て のセルが必ず同じ条件になる。これにより、次の消去シーケンスで全てのセルが 同じように応答する傾向が増すので、1つ或いは複数のセルが過消去される可能 性が低くなる。ブロック66に示すように、アドレス・カウンタ23(第1図) が、メモリの第1アドレスに初期設定される。次に、ブロック68に示すように 、高電圧Vppを+12ボルトに設定する(第1図の要素21)ことを含め、プロ グラミングに使用する電圧が適正なレベルに設定される。 電圧設定後、ブロック70に示すように、内部プログラム・パルス・カウンタ (図示せず)が初期設定される。このカウンタは、プログラム中のワード(バイ ト)のセルに印加されたプログラミング・パルスの数を追跡し続ける。次に、ブ ロック72に示すように、プログラミング・パルスが1つ、メモリの第1アドレ スに位置するワードのセルに印加される。次いで、パルス・カウンタが増分され (ブロック74)、所定の最大数のパルスがセルに印加されたかどうかの決定が なされる(要素76)。所定数のパルスが印加された場合には、セルが読み出さ れ、実際にセルがプログラムされたかどうかが決定される(78)。これは、第 1図のブロック33に示したセンス増幅器及び関連された関連構成要素を使用し て実施される。 この時点でセルがまだプログラムされていない場合には、プログラミング・パ ルスの最大数を超過しているので失敗である。具体的なメモリに基づいて、この シーケンスは終了となるか、或いは失敗したワードの記録が作成され、継続され るかする。この情報は、状態レジスタ25(第1図)に転送され、その結果、プ ロセッサがこの情報を読むことが可能となる。このような失敗の1つの潜在的な 原因としては、メモリの耐久性を上まわったことが考えられる。言い換えると、 メモリが、余りにも多くの回数にわたって反復使用されたということである。 最大数を超えていないと仮定すると、要素80に示すように、バイトが検証さ れる。バイトがプログラムされなかった場合には、プログラミング・パルスが1 つさらに印加され(ブロック72)、カウンタが増分される(ブロック74)。 それでも最大数を超えていないと仮定すると、バイトは再び検証される(要素8 0)。このシーケンスは、最終的にバイトが検証試験に通るか、或いはパルス・ カウンタが最大になるまで継続される。 最初のバイトのプログラミングが最終的に成功したと仮定すると、アレイ12 の最終アドレスがプログラムされたかどうかの決定が実施される(要素82)。 プログラミングされていない場合には、アドレス・カウンタ23(第1図)が第 2アドレスに増分され(ブロック84)、内部パルス・カウンタがリセットされ る(ブロック70)。第1のプログラミング・パルスが第2アドレスのバイトに 印加され(ブロック72)、前述のシーケンスが繰り返される。このプロセスは 、プログラミングが失敗したと決定されるか、或いはアレイ12の全てのセルが プログラムされるまで継続される。 全てのセルのプログラミング及び検証に成功したと仮定すると、状態機械19 は、アドレス・カウンタ23の初期設定(第4図のブロック86)及び電圧Vpp 等の消去に適当な電圧のセットアップ(ブロック88)を含む、消去に使用する 適当な電圧の設定を実施することによって消去シーケンスを継続する。 次に、内部消去パルス・カウンタがリセットされ(ブロック90)、単一の消 去パルスが、アレイの全てのセル(或いはアレイの消去中のブロック)に印加さ れる。次いで、全てのセルの消去が成功したかどうかを決定するために、アレイ のセルが逐次的に読み出される。まず、消去の検証に必要な条件、即ちセルの読 出しに必要な条件がセットアップされ(ブロック94)、アレイの最初のセルが 読み出される。 消去を完了させるのに1つの消去パルスで十分なことはほとんどないので、こ の試験(要素96)はたいてい失敗する。次いで、消去パルス・カウンタの状態 が調べられ(要素98)、最大数を超過していないことが決定される。これに応 じて、第2の消去パルスがアレイ12全体に印加され(要素92)、最初のバイ トが再び試験される(要素96)。 そのバイトが、十分な数の消去パルスを受け取り、さらに、検証試験に通ると (要素96)、アドレスは増分され(ブロック102)、第2のバイトが試験さ れて(要素94及び96)、第2のバイトの消去が成功したかどうかが決定され る。セルが均一であるとは限らないので、第1のバイトが受け取ったと同じ数の 消去パルスを受け取ったとしても、第2のバイトが消去されないこともあり得る 。この場合、アレイ12全体に1つの消去パルスがさらに与えられ、第2のバイ トが適正に消去されたかどうかが再び試験される。既に消去されたこれらのバイ トを再試験する必要性がないので、アドレスは、この時点ではリセットされない ことに留意されたい。しかし、後に説明するように、初期に消去されたこれらの バイトが過消去される可能性がある。 第2のバイトが適正に消去されたことが確認されると、アレイの最終アドレス が検証されたかどうかが決定される(要素100)。検証されていない場合には 、アドレス・カウンタ23が増分され(要素102)、第3のバイトが試験され る。必要に応じて消去パルスがさらに印加される。内部消去パルス・カウンタ( 要素98)は、消去シーケンス中に印加された消去パルスの合計数を監視する。 最大数を超過した場合には、シーケンスは終了となり、状態レジスタ25の1つ のビットが、消去エラーの発生を反映させて設定される。 セルの第2のバイトが適正に消去されたと仮定すると、残りのバイトが検証さ れ、必要な全ての消去パルスがさらに印加される。最終アドレスが検証されると 、消去シーケンスは終了し、状態レジスタ25は更新されて、消去シーケンスが 成功裏に完了したことを示すようになる。 第4図の流れ図には示されていないが、多くのメモリ・システムが、消去閾電 圧の分布を狭くする動作及び過消去されたセルを修正する動作を提供する。これ は、ヒール(heal)動作と時に呼ばれるプロセスによって実施される。ヒール動 作では、アレイのビット線は開放され、ソース線は接地される。アレイ12の全 てのワード線には高電圧、一般には+12ボルトの電圧が印加される。この高電 圧は、パルスの形態で印加される。ヒール動作では一般に、複数のパルスが必要 である。これらの条件によって、電子が、アレイの全てのセルのフローティング ・ゲートに運ばれ、その結果、閾電圧が高くなる。過消去されたセルには、その 他のセルよりも多くの電荷が転送されるので、閾電圧が他のセルよりも高くなる 。このプロセスによって、過消去閾電圧が負の値から正の値に変化する。負の閾 電圧を有するセル(過消去されたセル)及び小さな正の閾電圧を有するセルは、 その他のセルよりも影響を受けるため、このプロセスは、全てのセルの電圧分布 を狭くし、過消去されたセルを修正する傾向がある。 前述のように、センス増幅器は、さまざまな動作条件下でのフラッシュ・メモ リのセル電流を示す電圧を感知するのに使用される。本発明は、感知電圧との比 較のためにセンス増幅器によって使用されるこれらの各種基準電圧を、メモリの 製造が完了した後に調整、或いはトリミングすることを可能とする。したがって 、製造後に判定又は決定されたメモリ・システムの特定の特性を考慮してこれら の基準電圧を最適化することができる。 第5図で参照されるように、図示の線図は第1図のメモリ・システムの基準電 圧を最適化する例示的な回路を示す。センス増幅器によって使用されるべき2つ の基準電圧が生成され、その一方の電圧が、通常の読出し動作でメモリ・セルの 読出しが実施されているときに、セルが適正にプログラムされたことを確認する プログラミング動作の一部(プログラム検証)として使用される。この電圧は、 センス・トリム基準電圧と呼ばれ、センス増幅器120の反転入力に印加される 。 第2の基準電圧は、後に説明するように消去動作で使用されるもので、消去トリ ム基準電圧と呼ばれる。 読出しモードにおいて、読出し中のセル122のゲートに接続されたワード線 が+5.5ボルトに接続される。このセルが既にプログラムされている場合には 、このワード線の電圧は、このセルのプログラム閾電圧より低く、セル電流が流 れることは一切ない。このセルが消去状態にある場合には、ワード線の電圧は閾 電圧を上まわり、かなりのセル電流が流れる。後に説明するように、このセル電 流は、対応する電圧に変換され、センス・トリム基準電圧と比較される。 セル122(セル122は、アドレス・カウンタ23によってアドレスされる アレイ12中のセルである)がプログラム検証の一部として読み出されている場 合は、センス・トリム基準電圧はまた、センス増幅器120の反転入力にも印加 される。だだし、読出し中のセルに印加されたワード線電圧は、約+7.5ボル トに高められる。この電圧レベルは、プログラム閾電圧を上まわる。これによっ て、検証中のセル122に、プログラム閾電圧レベルを示す電流が流れる。この セル電流は電圧に変換され、センス増幅器120の非反転入力に印加される。 消去検証が実施される場合には、消去トリム基準電圧は、センス増幅器120 の反転入力に印加される。一般に+5.5ボルトであるワード線電圧が、検証中 のセル122の制御ゲートに印加される。この結果、セルの消去閾電圧を示すセ ル電流が生じる。このセル電流は電圧に変換され、消去トリム基準電圧と比較さ れる。 消去トリム基準電圧及びセンス・トリム基準電圧は、それぞれの電圧に対して 、2つのプログラマブル制御パラメータの状態を制御することによって調整する ことができる。センス・トリム基準電圧の電圧レベルは、不揮発性データ記憶ユ ニット14C及び14Dにそれぞれ記憶された制御パラメータCP3及びCP4 (第5図)を使用して調整される。消去トリム基準電圧は、不揮発性データ記憶 ユニット14E及び14Fにそれぞれ記憶された制御パラメータCP5及びCP 6を使用して調整される。 パラメータCP3及びCP4は、センス・トリム・マルチプレクサ109に結 合される。センス・トリム・マルチプレクサ109は、読出し検証及びプログラ ム検証動作中に使用可能となったときに、2つの入力ビットCP3及びCP4を 使用して4つの可能な出力のうちから1つの出力を使用可能とする。マルチプレ クサの使用可能な出力はハイ・レベルに設定され、使用禁止の出力はロー・レベ ルに設定される。したがって、読出し検証或いはプログラム検証の実施中は、消 去トリム・マルチプレクサ111は使用禁止になり、その結果、マルチプレクサ 111の4つの出力すべてがロー・レベル、即ち使用禁止状態になる。 4つのNチャネル・トランジスタ112A〜112Dから選択された1つのト ランジスタが、パラメータCP3及びCP4の状態に応じて選択されたマルチプ レクサ109の1つの出力によってターン・オンされる。トランジスタ112A 〜112Dは、電源電圧Vccとメモリ共通との間に直列に接続された抵抗体11 0A〜110Fを含む抵抗分割器の異なるノードに接続される。したがって、抵 抗分割器のノード115における電圧の大きさを、制御パラメータCP3及びC P4が、トランジスタ112A〜112Dのうちのどのトランジスタを導通させ るかに基づいて変更することが可能である。抵抗体110A〜110Fの相対的 な大きさに従って、制御パラメータは、ノード115における電圧に、非常に小 さいが正確なトリム、或いは大きいが正確さに劣るトリムを実施するように機能 する。 ノード115における電圧は、基準フラッシュ・セル116の制御ゲートに接 続される。フラッシュ・セル116は紫外線消去された状態に設定されるので、 このセルのフローティング・ゲート上には正味電荷は存在しない。負荷118が 、基準セル116のドレインと電圧VDの間に接続される。セル116のドレイ ンと負荷118の間のノード117は、センス増幅器120の反転入力に接続さ れる。 選択されたセル122が読み出されているときには、制御ゲート(ワード線) の電圧は+5.5ボルトに設定される。この電圧値は、消去されたセルの閾電圧 より大きいが、プログラムされたセルの閾電圧を超えない。ノード123におけ る電圧は、セル122が消去されているか或いはプログラムされているかに従っ て2つの電圧レベルうちの1つの電圧レベルをとる。センス増幅器120によっ てこのセルが読み出される際のエラー・マージンを最少とするために、ノード1 17における基準電圧は、制御パラメータCP3及びCP4を利用してこれら2 つの電圧レベルの中間に設定される。 選択されたセル122がプログラム検証されているときのノード117におけ るセンス電圧は読出し動作時と同じである。しかし、前述のとおり、セル122 に印加されたワード線電圧は大きな値(+7.5ボルト)に設定されるので、高 い閾電圧を有するプログラムされたセルに電流が流れる。この電流の結果、この セルのプログラム閾電圧に応じてノード123における電圧が変化する。ノード 117における基準トリム・センス電圧は、プログラムされたセル122の電流 のある最大量に対応する電圧レベルに設定される。したがって、検証中のセルが 適正にプログラムされていない場合には、センス増幅器120の出力はハイ・レ ベルとなる。 消去検証動作が実施されているときには、センス・トリム・マルチプレクサは 使用禁止となり、4つのトランジスタ112A〜112Dは全てターンオフされ る。消去トリム・マルチプレクサ111の出力の選択された1つの出力が、制御 パラメータCP5及びCP6の状態に基づいてターン・オンされる。これによっ て、4つのNチャネル・トランジスタ114A〜114Dから選択された1つの トランジスタがターン・オンし、その結果、抵抗分割器のノード115における 電圧が変化する。これによって、ノード117における消去トリム電圧が、パラ メータCP5及びCP6に基づいて変更される。 ワード線に印加された+5.5ボルトの電圧が消去閾電圧を上まわるため、検 証中の消去されたセル122にはセル電流が流れる。結果として生じたセル電流 は、セルの消去閾電圧を示し、このような電流は、ノード123上のドロップイ ン電圧を生じる。ノード123が、ノード117における消去トリム基準電圧よ り低下する場合は、セルは適切に消去されており、センス増幅器120の出力は ロー・レベルになる。センス・トリム基準電圧を調整するのには2つの制御パラ メータが使用されるが、3つ以上のパラメータを使用して調整範囲を大きくする ことができる。電圧調整 一般的なメモリ・システムの一次電源電圧Vccの公称値は+5ボルトである。 しかし、各種メモリ動作を実施するためにこれより大きな電圧が生成される。例 えば、セルのブロックが消去されるときには、ブロック内に位置するセルのソー スに接続されたソース線は、大きな正電圧、一般には+12ボルトに引き上げら れる。別の例をあげると、セルのプログラム中には、そのセルと関連されたワー ド線が+12ボルトに引き上げられる。前述のように、プログラム検証動作の実 施中には、ワード線は、一般に+7.5ボルトに引き上げられる。この電圧トリ ム機能を他のメモリ用途に使用することができる。例えば、前述のヒール・サイ クルに使用される公称+12ボルトのワード線電圧を、制御パラメータを使用し て調整できるようにすることができる。他の例をあげると、プログラム動作時に ビット線に印加される一般に+6ボルトの電圧を調整可能とすることができる。 本発明は、製造後に決定されたメモリの特定の特性を補償するためにこれらの 電圧の大きさを調整することを可能とする。例えば、複数の集積メモリ回路のあ る1つのウェーハが、消去動作時にソース領域に+10.5ボルトの電圧を印加 する必要のあるセルを含み、別のウェーハの回路が、その部分のタイミング仕様 を満足するために消去動作に+11.5ボルトの電圧を必要とすることがある。 第6図に、記憶された制御パラメータに応答してメモリの各種電圧の大きさを制 御するのに使用することができる1つの回路を示す。これらの電圧には例えば、 プログラム動作中にアレイのワード線に印加される電圧パルス、ヒール動作中に アレイのワード線に印加される電圧パルス、消去動作中にアレイ・ブロックのソ ース線に印加される電圧パルスが含まれる。図示の例では、記憶されたパラメー タはCP7及びCP8であり、これらはそれぞれ、データ記憶ユニット14G及 び14Hに記憶されている。これらのパラメータを使用して、電圧トリム・マル チプレクサ126を制御する。電圧トリム・マルチプレクサ126は4つの出力 を有し、うち1つの出力が、パラメータCP7及びCP8の状態に従ってアクテ ィブ(ハイ・レベル)にされる。トリム範囲を大きくしたい場合には、制御パラ メータの数を4以上に増やすことができる。 マルチプレクサ126の4つの出力は、別々の4つのNチャネル・トランジス タ130A〜130Dに結合される。トランジスタ130A〜130Dは、抵抗 体128A〜128Dを含む抵抗分割器の異なるノードに接続される。抵抗分割 器は、コンパレータ回路132の非反転入力に接続される。コンパレータ回路1 32の反転入力は基準電圧VREFに接続される。コンパレータ回路132の出力 は、レベル・シフティング回路134を介してPチャネル・トランジスタ136 のゲートに接続される。帰還抵抗128Fが、トランジスタ136のドレインと コンパレータ回路132の非反転入力の間に接続される。トランジスタ136の ドレインは回路の電圧出力VOUTとしても機能し、トランジスタのソースは、一 般に+12ボルトである電圧Vppに接続される。 動作時、コンパレータ回路132、レベル・シフタ134及びPチャネル・ト ランジスタ136が帰還回路を形成し、ノード138における電圧、即ちコンパ レータ回路132の非反転入力は、電圧VREFに接続した非反転入力の電圧と等 しくなる。トランジスタ136のドレインの出力電圧VOUTが+12ボルトの電 圧Vppに接近し、レベル・シフティング回路134があるため、コンパレータ回 路132の低電圧出力でトランジスタ136のゲートを駆動することができる。 マルチプレクサ126が使用可能となると、トランジスタ130A〜130D から選択された1つのトランジスタが、制御パラメータCP7及びCP8の値に 基づいてターン・オンされる。前述のように、フィードバックが提供され、ノー ド138における電圧を電圧VREFと同じに維持するように働く。抵抗分割器1 28A〜128E両端の電圧がVREFに固定されるため、抵抗分割器を通る電流 フローは、どのトランジスタ130A〜130Dがターン・オンされるかによっ てある程度決定される抵抗分割器の実効抵抗の関数となる。したがって、トラン ジスタ130Aがオンのときには、トランジスタ130Bがターン・オンされた ときに比べて電流フローは大きくなる。 抵抗分割器128A〜128Eを通る電流は、帰還抵抗128Fにも流れ、そ のため、電圧VOUTは、電圧VREFに抵抗128F両端の電圧降下を加えたものに 等しくなる。トランジスタ136が、十分な電流駆動性能を提供するので、相当 な電流を必要とする各種メモリ動作が実行可能となる。メモリ・システムの要件 に従って、製造完了後にメモリ電圧を制御することが望ましい第6図の回路が提 供される。パルス幅調整 前述のとおり、プログラミング動作、消去動作を含む各種メモリ動作を実行す るために、フラッシュ・メモリのセルに電圧が印加される。このような電圧の大 きさの制御に加えて、本発明は、印加電圧の持続時間の調整を可能とする。例え ば、プログラム動作では、一般に+12ボルトの大きな正電圧Vppが、プログラ ムされるセルのワード線に印加される。プログラミングは、周期的なパルスの形 態で電圧を印加することによって実施される。各パルスの持続時間は、一般に数 マイクロ秒である。セルをプログラムするのに必要なプログラミング・パルスの 大きさ及び持続時間は、セルの特定の特性に従って変化する。記憶された制御パ ラメータを使用して電圧の大きさを調整する回路については既に説明した。この 項では、メモリ動作に使用する、プログラミング・パルスを含むパルスの持続時 間を調整する回路を説明する。 第7図に、電圧パルスの持続時間の制御に使用することができる各種デコード を生成するタイミング回路を示す。タイミング回路に関する詳細は、本願の基礎 となる米国出願と同日に提出された「ADJUSTABLE TIMER CIRCUIT」という名称の 米国出願第08/509,035号に開示されている。この出願の内容は全て、 引用することによって本明細書に合体される。 第7図の回路は、イネーブル信号リセット(RESET)によってトリガーさ れた後の一定時間1つの出力パルスを提供するタイマ要素140を含む。タイマ 要素140の出力はワン・ショット回路144に送られる。ワン・ショット回路 144は、タイマ要素140が供給した前記一定時間の終わりに幅狭い出力パル スS0を1つ生成する。出力S0は、NORゲート145を介してタイマ要素14 0のイネーブル入力にフィードバックされ、そのため、この回路は、自体を再び トリガーし、一定の時間間隔をあけた連続する出力パルスS0を出力する。プロ グラム信号PGMが、タイマ要素140に供給され、出力S0間の時間間隔を、 プログラム動作以外のメモリ動作を実行するときには約1/2ミリ秒のより長い 持続時間に、メモリのプログラム動作を実行するときには1マイクロ秒程度のよ り短い持続時間に切り換えるのに使用される。 ワン・ショット回路144の出力信号S0は、9つの段142A〜142Iを 有するカウンタ142の入力にも結合される。各段は、出力が入力に再び接続さ れ2による除算を実施するD型フリップフロップを含む。したがってカウンタ1 4 2は、各種デコード回路に送られる9つのタイミング出力S1〜S9を生成する。 カウンタ142の各段は、信号Reset(リセット)によってリセットされる 。このデコード論理回路は、5つのタイミング信号(S1、S2、S3、S8、S9 )をカウンタ142から受け取る論理ブロック146を含む。論理ブロック14 6 (*=論理積)を含むデコードされた3つの出力を提供する。後に、さらに詳細 に説明するように、これらの出力は、プログラミングなどのメモリ動作を実施す るための所望の所定出力パルス幅を提供するために選択される。 第9図に、論理ブロック146の実現化の詳細を示す。この論理ブロックは、 3つのNORゲート148,150,152と、3つのインバータ154,15 6,158を含む。6つのタイミング信号SNは論理ゲートの該当する入力に結 合され、3つの出力が供給される。例えば、タイミング信号S2はインバータ1 54に接続され、インバータ154の出力は、NORゲート148の1つの入力 に接続される。タイミング信号S1は、NORゲート148の第2の入力に接続 される。 第1図のメモリ・システム10は、メモリ動作に使用される合計3種類のパル スを利用する。それらパルスは、プログラム動作、消去動作、並びにヒール動作 に提供される。ヒール動作では、メモリの消去動作に使用されるものと同じ程度 の持続時間の電圧パルスがワード線に印加されることが必要である。したがって 、ヒール動作が実行されるときには、タイマ要素140は非プログラム状態(P GMが非アクティブ)に置かれる。 第8図に、メモリのプログラム動作、消去動作、並びにヒール動作に使用され る特定のパルスを生成する回路を示す。この例の消去パルスの持続時間は固定さ れている。メモリ消去動作のタイミング信号は、この開示された例示的な実施例 では調整できない。カウンタ142の段142Eから直接に取り出したデコード S5が、二入力NANDゲート166の1つの入力に接続される。第2の入力は 、メモリ消去動作が実行されるときにアクティブとなる信号ERASE(消去) に接続される。ゲート166の出力は、三入力NANDゲート170の1つの入 力に接続される。ゲート170の立下がり出力が、ワン・ショット回路172を ト リガーし、持続時間の短いパルス(50ナノ秒)を生成させ、これによって消去 パルスの終了を指示する。消去動作中、信号PGMは非アクティブなので、タイ マ要素140は、持続時間が0.4ミリ秒のパルスS0を出力する。デコード出 力S5は、0.4ミリ秒である出力パルスS0の継続時間の25(32)倍の持続 時間を有する出力を提供する。 ヒール動作で使用される個々のパルスの持続時間は、データ記憶ユニット14 I及び14Jにそれぞれ記憶された制御パラメータCP9及びCP10を介して 制御される。プログラム動作で使用されるパルスの持続時間は、データ記憶ユニ ット14K、14L、並びに14Mにそれぞれ記憶された制御パラメータCP1 1、CP12、並びにCP13を介して制御される。 ヒール・パルスの幅は調整可能であり、50ミリ秒から200ミリ秒の範囲を とることができる。特定のパルス幅は、記憶された制御パラメータCP9及びC P10の2つのビットの値に基づく。第1表に、パラメータCP9及びCP10 の4つの組合わせと、対応するデコード及びパルス持続時間とを示す。ヒール・ マルチプレクサ160は、2つのパラメータCP9及びCP10に基づいた4つ の可能なデコードの中から1つのデコードを選択するのに使用される。 ヒール・マルチプレクサ160の出力HDは、二入力NANDゲート164の 1つの入力に接続される。NANDゲート164の第2の入力は、メモリ・シス テムがヒール動作を実行しているときにメモリ・システムによって生成される信 号HEAL(ヒール)である。ゲート164の出力は、三入力NANDゲート1 70の第2入力に接続されている。こうして、信号HEALがアクティブである とき、ワンショット回路172は4つの可能なヒール・デコーダの内の選択され た1つによってトリガーされる。 このデコード回路はさらに、プログラム・マルチプレクサ162を含み、これ がメモリ・プログラム動作に用いられる8つの可能なデコードの内から1つを選 択するために使用される。その選択されたデコードは、データ記憶ユニット14 K、14L、並びに14Mにそれぞれ記憶されたパラメータCP11、CP12 、CP13に基づく。第2表に、パラメータCP11、CP12及びCP13の 8つの組合わせと、これに対応する、メモリ・プログラム動作に使用される出力 パルス幅を示す。 プログラム・マルチプレクサ162の出力PDは、二入力NANDゲート16 8の1つの入力に接続されており、その第2の入力が、メモリがプログラム動作 を実行するときにアクティブな信号PGMを受け取るように接続される。このデ コードは、ゲート170を介してワン・ショット回路172に転送され、その立 下りエッジでワン・ショット回路をトリガーする。したがって、記憶されたパラ メータCP11、CP12、並びにCP13に応じて、プログラム・パルス出力 は第2表の記載のとおりに変化する。 第10図は、ヒール・マルチプレクサ160の概略図である。プログラム・マ ルチプレクサ162は同様の方法で実現されている。マルチプレクサ160は、 選択されたデコードをマルチプレクサの出力HDに渡すために、記憶されたパラ メータCP9及びCP10に応じて選択的に使用可能となる4つのPチャネル・ パス・トランジスタ174,176,178,180を含む。4つのNANDゲ ート182,184,186,188と、2つのインバータ190,192とが 、パラメータCP9及びCP10をデコードし、これらのパラメータに基づいて 、4つのNANDゲート182,184,186,188の内の1つのゲートを 使用可能にするために使用される。例えば、パラメータCP9及びCP10がそ れぞれ、論理値「0」及び論理値「1」である場合には、NANDゲート186 の両方の入力が論理値「1」となり、その結果、論理値「0」(ロー・レベル) のゲート186の出力がパス・トランジスタ176をターン・オンする。トラン ジスタ176はデコード出力S7をマルチプレクサの出力HDに転送する。これ らの条件下では、他のNANDゲート182,186,188の出力は全て、ハ イ・レベル(論理値「1」)となる。 パス・トランジスタが、Pチャネル・デバイスのみを含み、Pチャネル及びN チャネルの両方のデバイスを含むわけではないことから、マルチプレクサ160 及び162の一方或いは両方が、ロー・レベル論理信号を結合しているときには 、マルチプレクサの出力(HD或いはPD)は接地より高いある1つの閾電圧に ある。小さい幾何形状のトランジスタ174及び176(第8図)が、これらの 条件下でマルチプレクサの出力をほぼ接地のレベルに引き下げるために提供され 、そのため、マルチプレクサの出力HD及びPDは適正な低いレベルとなる。ト ランジスタ174及び176はそれぞれ、NANDゲート168及び164のハ イ・レベル出力によって導通し、それぞれのマルチプレクサ162及び160の 出力が接地電位より高い1つの閾電圧となる時、これらのゲートの出力はハイ・ レベルとなる。 ヒール制御パラメータCP9及びCP10と、プログラム制御パラメータCP 11、CP12、並びにCP13との選択は、メモリ・システムの製造が完了し て特性付けられた後に、メモリ・システムの性能を最適化すべく行われる。例え ば、メモリ集積回路のあるロットは、メモリ・アレイのフラッシュ・メモリ・セ ルが、持続時間が9マイクロ秒の1つのパルスの印加によって非常に効率的にプ ログラムされるようなものとすることが可能である。これは一般に、メモリ試験 装置で決定される。その場合、パラメータCP11、CP12、並びにCP13 は第2表に示すようにそれぞれ、「1」、「0」、並びに「0」に選択される。 これらの値は製造施設で、データ記憶ユニット14K、14L、並びに14Mの 3つの不揮発性フラッシュ・メモリ・セルに永続的にプログラムされる。例えば 、メモリ集積回路の次のロットの事前評価が、プログラミング・パルスの最適な 持続時間が100マイクロ秒であることを示す場合には、第2表に示すように、 パラメータCP11、CP12、並びにCP13をそれぞれ1、1、並びに1に プログラムしさえすればよい。 第11図は、この発明の動作をさらに示すタイミング図である。この線図は、 プログラム動作時に4.5マイクロ秒のパルスが生成される様子を示すものであ る。第2表に示すように、この持続時間のプログラミング・パルスを生成する記 憶されたパラメータCP11、CP12、並びにCP13はそれぞれ「0」、「 0」、並びに「1」である。時刻T0で信号PGMはアクティブとなり、第2表 のプログラミング出力の1つが生成されようとしていることを示している。記憶 されたパラメータ(第8図のブロック162)によって、マルチプレクサ162 時刻T1で、リセット信号RESETの発生によって信号ENがアクティブ( ハイ・レベル)になる(第7図)。タイマ要素140は、この時点で充電を始め るタイミング・キャパシタを含む。これが、4.5マイクロ秒のタイミング・パ ルスの生成の開始であり、この時、プログラム中のフラッシュ・メモリ・セルに プログラミング電圧が印加される。 時刻T2で、タイミング・キャパシタが最終的な値に達し、これによって、ワ ン・ショット回路144に信号S0の形態のパルスを発行させる出力をタイマ要 素140に発行させる。信号S0は、NORゲート145を介してタイマ要素に フィードバックされ、次の信号ENを生成する。時刻T0におけるENの立ち下 がりエッジから次の信号ENの立ち上がりエッジ(或いは信号S0の立上がりエ ッジ)までの時間は1.5マイクロ秒である。このシーケンスは周期的に繰り返 され、続く信号S0が時刻T3、T4、...に生成される。 信号S0がカウンタ142を刻時し、カウンタ出力S1が、信号S0の立下りエ ッジで状態を変え、第11図の線図に見られるように、公称継続時間3マイクロ 秒の信号を供給する。同様に、カウンタ出力S2が、出力S1の立下りエッジで状 態 マイクロ秒(信号S2)から1.5マイクロ秒(信号S1)を引いて最終的な4. 5マイクロ秒の値となることと等価である。マルチプレクサ162からのデコー 回路172をトリガーする。したがって、ワン・ショット回路172の立上がり 終了を表す。データ記憶ユニット 制御パラメータCPを記憶する不揮発性データ記憶ユニット14は、多くの形 態で実現することができる。データ記憶ユニットを実現する1つの方法が、本願 の基礎となる米国出願と同日の米国出願日に提出された「NON-VOLATILE DATA STORAGE UNIT AND METHOD OF CONTROLLING SAME」という名称の前掲の米国出願 第08/508,864号に開示されている。 第12図に、本発明に関連して使用されるに適した制御パラメータCPを記憶 するためのデータ記憶ユニット14の詳細概略図を示す。このデータ記憶ユニッ トは、1ビットの制御パラメータ・データを記憶する能力を有する。複数ビット の記憶は単純に、各ビットに対して別々の記憶ユニット14を提供することによ って実現される。記憶ユニットは、不揮発性メモリであるフラッシュ・セクショ ン200、揮発性のラッチ・セクション202、並びにコンパレータ・セクショ ン201を含む。フラッシュ・セクションは、1ビットの制御パラメータ・デー タを相補的な形態で記憶する一対のフラッシュ・メモリ・セルC及びCを含む。 周知のとおり、フラッシュ・セルは、ドレイン、ソース、フローティング・ゲー ト、並びに制御ゲートを有するフローティング・ゲート・トランジスタを利用す る。データは、フローティング・ゲートに電荷を付加するか、或いはこのゲート から除去することによって記憶される。消去は、フローティング・ゲートとセル ・チャネルとの間に配置された薄いゲート酸化物を通じて該フローティング・ゲ ートからファウラー−ノルトハイム・トンネル(トンネル効果)を介して電荷を 除去することによって実施される。各フラッシュ・セルは、信号SLを受け取る 共通ソース線に接続されたそれぞれの共通ソース領域と、信号WLを受け取る共 通ワード線に接続されたそれぞれの制御ゲートを有する。 ラッチ・セクション202は、ラッチ回路を形成する交差結合された一対のイ ンバータを含む。第1のインバータ205は、Nチャネル・トランジスタ208 に直列接続されたPチャネル・トランジスタ206を有する。トランジスタ20 6及び208の共通ドレイン接続がこのインバータの出力を形成し、共通ゲート 接続が入力を形成する。第2のインバータ209は、Nチャネル・トランジスタ 212に直列接続されたPチャネル・トランジスタ210を有する。トランジス タ210及び212の共通ドレイン接続が第2のインバータ209の出力を形成 し、共通ゲート接続が入力を形成する。 前述のように、ラッチ・セクション202の2つのインバータはラッチ回路を 形成するように接続される。特に、第1のインバータ205の出力であるトラン ジスタ206及び208の共通ドレイン接続が、第2のインバータ209の入力 であるトランジスタ210及び212の共通ゲート接続に接続される。第2のイ ンバータ209の出力であるトランジスタ210及び212の共通ドレイン接続 は、第1のインバータ205の出力であるトランジスタ206及び208のゲー トに再び接続される。 ラッチ・セクション202の第1のインバータ205の出力は、Nチャネル・ インバータ209の出力は、Nチャネル・トランジスタ214を介してフラッシ ュ・セルCのドレインに接続される。2つの接続トランジスタ214及び216 のゲートは、信号CNを運ぶ共通制御線に接続される。 ラッチ・セクション202は、トランジスタ206及び210のソースに電圧 Fsupを印加することによって電力供給される。後に説明するように、電圧Fsup の大きさは従来の回路によって制御することが可能であり、これらが従来のもの であり、本発明の部分を形成するものでもないため、これらの詳細は説明しない 。 ラッチ・セクション202にロードされるデータは、Nチャネル・トランジス 203及び204の共通ゲートはロード信号LDを受け取る1本の線に接続され る。トランジスタ203は、ラッチ・セクション202の第1のインバータ20 5の入力にデータ入力Aを結合すべく機能し、トランジスタ204は、第2のイ ン ラッチ・セクション202の2つの相補出力は、それぞれのインバータ228 及び230に結合される。インバータ228及び230の出力は、このデータ記 力はまた、コンパレータ回路201のそれぞれの入力にも結合される。データ入 後に説明するように、コンパレータ回路201は、ラッチ・セクション202に クションの状態が検証され得ることになる。一般に、コンパレータ・セクション して、この記憶ユニットのラッチ・セクション202の内容とその他の複数の記 ことができる。 コンパレータ・セクション201は、5つのNチャネル・トランジスタ218 、220、224、222、並びに、226を有する。トランジスタ218は、 コ に結合される。さらに、トランジスタ218のゲートは、コンパレータ・セクシ ョン201の状態がサンプリングされるときにアクティブとなる信号Fvを受け 取るように接続される。トランジスタ220と224は直列に接続され、トラン ジスタ224のゲートはデータ入力Aを受け取るように接続され、トランジスタ 224のゲートは、ラッチ・セクション202の第1のインバータ205の出力 を受け取るように接続される。同様に、トランジスタ222と226は直列に接 トランジスタ226のゲートは、ラッチ・セクション202の第2のインバータ 209の出力を受け取るように接続される。後に説明するように、相補データ入 合はこの出力はロー・レベルになる。 この記憶ユニット14は、ロード、消去、プログラム、リコール、検証を含む 合計5つの動作を実行できる。これらそれぞれの動作を、第12図の概略図及び 第13図のタイミング図に関して説明する。後に、さらに詳しく説明するように 、 ション202にロードすることによってプログラムされる。また、フラッシュ・ 送することによって読み出される。 チ・セクション202を周知の状態に設定することである。ロード動作にプログ ラム動作の前に要求されることは、ラッチ回路202を所望の状態にあるように 確保することである。 ロード・サイクルの開始を時刻T0で表す。時刻T0以後、トランジスタ203 後、ロード信号LDがアクティブにされ、これによって、トランジスタ203及 び204がターン・オンする。また、ラッチ・セクション22の電源電圧Fsup は、その公称一次電源電圧Vccである+5ボルトに維持される。例えばAがハイ ・レベルであると仮定すると、第1のインバータ205の入力であるトランジス タ206及び208の共通ゲートはハイ・レベルに引き上げられる。同時に、相 補信 トランジスタ210の及び212のゲートをロード・トランジスタ204を介し てロー・レベルに引き下げる働き傾向がある。 2つのインバータの入力におけるこの結合された反対の作用によって、第1の インバータ205の出力はロー状態に、第2のインバータ209の出力はハイ状 態になる。ラッチ・セクション202はこのデータを、このデータが次のロード 動作によって変更されるか、このデータがリコール動作(後に説明する)によっ て変更されるか、或いはシステムの電源が切られるかするまで保持、即ち記憶す る。ロード・トランジスタは、ラッチ・セクション202のトランジスタを所望 の状態に強制できるように為すべく、十分な大きさのものでなければならない。 ルは、ラッチ・セクション202を介さずにセルに対して直接的に実行される。 この動作では接続信号CNが非アクティブなので、両方の接続トランジスタ21 4 である。また、これら2つのセルのワード線に接続された信号WLは接地され、 2つのセルのソースに接続された信号SLは+12ボルト等の大きな正電圧に引 き上 憶するためには次いで、フラッシュ・セクション200が適正にプログラムされ なければならない。プログラム プログラム・サイクルは時刻T2で始まる。前述のように、ラッチ ・ セクション202は事前に、フラッシュ・セクション10の所望のプログラム状 態に設定されていなければならない。ロード信号LDが非アクティブなので、ト ランジスタ203及び204はオフになっている。電源電圧Fsupは公称値+6 ボルトである。例えば、ラッチ・セクション202が事前に、インバータ205 の出力がロー・レベル、インバータ209の出力がハイ・レベルとなるように設 定されていると仮定する。この場合、トランジスタ214のドレインは電源電圧 Fsupに近く、トランジスタ216のドレインは回路共通に近い。 時刻T2から少しして接続信号CNがアクティブ(ハイ・レベル)にされ、これ によって、トランジスタ214及び216がターン・オンし、電源電圧Vsup及 び ログラム・サイクルにおいてハイ・レベルである+12ボルトに切り換わるため 、トランジスタ214及び216は、ラッチに記録されたデータに従って+6ボ ル 分なゲート−ソース電圧を得る。この場合はセルCが、そのドレインにFsupを 得 ド線信号WLに接続される。実際上、多くの場合に、CNとWLを同じ信号にする こ れる。この組合わせの電圧がセルCに印加されることによってセルCはプログラ には、プログラミング・サイクルを実行する前に、消去サイクルにおいて両方の セルを消去する必要がある。前述のように、プログラミング・サイクルを実行す るためにはさらに、ラッチ・セクション202が事前に設定されていなければな らない。 インバータ回路209のトランジスタ210は、一般に500マイクロアンペ るのであれば、このプログラミング電流は、インバータ回路205のトランジス タ206によって供給される。したがって、ラッチ・セクション202のトラン ジスタ206及び210は、これらのプログラミング電流を通すことができる十 分な大きさのものでなければならない。前述のように、トランジスタ203及び 204も、トランジスタ206及び210をロード・サイクル中の所望の状態に するのに十分な強さを有するような大きさでなければならない。プログラム電圧 は一般に、数百マイクロ秒から1ミリ秒の範囲の比較的長い時間持続して印加さ に説明するように差動的な方法で読み出されるため、エラー許容マージンが大き い。したがって、データが適正にプログラムされたことを確認するためにフラッ シュ・メモリ・システムで頻繁に実行されるような如何なるタイプのプログラム 検証をも実行する必要性がない。リコール リコール・サイクルを時刻T3に始まる第13図の線図に示す。この 動 タ記憶ユニット14の電力が切られているときには、揮発性のラッチ・セクショ ン202にはデータが保持されない。そのため、電源を再投入したときに、初期 クション202に転送される。 02のトランジスタを所望の状態に強制するのに十分な強さを通常は持たないの で、電源電圧Vsupは、リコール動作の初期段階で接地電位に近い低いレベルに 瞬間的に低下する。また、接続信号CNがアクティブにされ、これによって、ト ランジスタ214及び216を介してフラッシュ・セクション200がラッチ・ セク 電源電圧Vccと等しい大きさの信号WLに接続される。この動作に対しても、信 号WLとCNとは同じ信号でよい。 リコール・サイクルの開始は、好ましくは、電源が投入されて、一次電源電圧 Vccが、ラッチ・セクション202の状態に影響を及ぼす可能性のある所定の電 圧レベルに低下したときに、リコール・サイクルを実行するある形態のパワー・ オン・リセット回路によって行われる。最初の電源投入後に一次電源電圧Vccが 約+3ボルトに上昇したこと、或いは電圧Vccが約+3ボルトのレベルより低下 した後に約+3ボルトに上昇したことをパワー・オン・リセット回路が検出した ときに、リコール・サイクルがこの回路によって開始される。 リコール・サイクル中、共通ソース線SL信号も接地電位に設定される。セル C 不導通となるため、ラッチ・セクション202のインバータ205の入力は影響 入力を接地電位まで引き下げる傾向がある。 ラッチ・セクション202はこの時点で電源が供給されていないため、これら ロー・レベルに引き下げることができる。第13図のタイミング図から分かるよ うに、電圧VSUPは瞬間的に低い値に維持され、次いで、通常の動作レベルに引 き上げられる。この電圧は、ゆっくりとした速度で上昇させることが好ましい。 ロー・レベルに維持し続け、そのため、Pチャネル・トランジスタ210はター ン・オンし続ける。これによって、インバータ209の出力がハイ・レベルとな り、これによってさらに、インバータ205の入力もハイ・レベルとなる。した がって、インバータ205のトランジスタ208がターン・オンし始め、これに よって、インバータ205の出力がロー・レベルになり、さらにこれによって、 源電圧VSUPが、VCCの通常の高電圧、即ち一般に+5ボルトとなり、ラッチ・ セクション202は、フラッシュ・セクション200の状態を示す所望の状態に なる。 することによって、セルは、ラッチ・セクション202を所望の状態にすること ができる。プログラムされたセルCがインバータ205の入力を引き下げる性質 最大のセル電流を有するセルが、ラッチ・セクション202の状態をそれまで通 りに制御することができることが分かる。この差動作用によって、主題のデータ 記憶ユニットの動作信頼性が強化される。インバータ205及び209の出力が 、 それぞれのインバータ228及び230に結合されるので、ラッチ・セクション の出力上のローディングは等しくなることにも留意されたい。したがってラッ 態にする機能を強化するために、容量的に平衡であり続ける。検証 前述のように、検証サイクルは、ラッチ・セクション202の状態を決定 するために使用される。リコール・サイクル後にこの動作を使用して、フラッシ ュ・セクション200の状態を決定することができる。検証サイクルでは、相 と比較される。コンパレータ・セクション201は本来、排他的NOR回路とし 例として、検証サイクルが実施されるため検証信号FVがアクティブになった と仮定する。これによって、コンパレータ・セクション201のトランジスタ2 18が導通する。さらに、データ入力Aが論理値「1」(ハイ・レベル)、した チ・セクション202のインバータ205の出力が論理値「0」、したがってイ ンバータ209の出力が論理値「1」であると仮定する。入力Aがハイ・レベル で、インバータ205の出力がロー・レベルなので、コンパレータ・セクション 201のトランジスタ220が導通し、トランジスタ224がオフとなる。同様 トランジスタ222はオフで、トランジスタ226がオンとなる。プルアップ・ デバイス(図示せず)が、コンパレータ・セクション201の出力と電圧VCCの 間に接続されてある。トランジスタ224及び222がオフとなった結果、トラ ンジスタ218のソースと回路共通の間には導通経路がなくなる。したがって出 インバータ205及び209の出力がそれぞれ、論理値「1」及び「0」で、 224は両方とも導通する。したがって、トランジスタ218が信号FVによっ てターン・オンされると、出力VERは、非比較条件を示す論理値「0」に引き下 げ られる。 205及び209の出力がそれぞれ、論理値「1」及び「0」である場合には、 トランジスタ220及び226がオフになる。したがって、信号VERは論理値 論理値「0」及び「1」であり、インバータ205及び209がそれぞれ、論理 値「0」及び「1」である場合には、トランジスタ222及び226が導通し、 データ記憶ユニット14中の制御パラメータCPをプログラムする各種動作は 一般に、メモリ・システムがテスト動作モードなどの非ユーザ動作モードに置か れたときに実行される。メモリ・システムがテスト動作モードに置かれたことを 検知し、また、システムを動作モードに置く回路が、1995年2月10日に提 出された「APPARATUS FOR ENTERING AND EXECUTING TEST MODE OPERATIONS FOR MEMORY」という名称の米国出願第08/386,704号に開示されている。こ の出願の全ての内容は、引用することによって本願に合体されるものとする。 第14図に、テスト・モード動作に入って、これを実行するための回路の一実 施例を示す。特に、各種テスト・モードのどの1つのモードに入るかを指示する ために、テスト・モード・コマンドが、メモリのデータ入出力端子に与えられな ければならない。メモリ・システムのエンド・ユーザが、メモリ・システムをテ スト・モードに入れる理由は一般にはない。このモードは、メモリ製造施設で使 用されることが意図されているからである。さらに、このモードでメモリが永久 に動作不能になることがあるので、偶発的にテスト・モードに入ることは回避さ れなければならない。したがって、テスト・モード回路は、メモリ・システムの 複数の端子に高い電圧を同時に印加することを要求することによって、偶発的に テスト・モードに入る可能性を具体的に低減させるように設計される。 第14図の回路は、メモリ・システムの2つ以上の端子240及び242に外 部電源から高電圧を印加することによって起動される。これらの端子は、通常の メモリ動作中に使用される汎用端子である。端子240及び242は例えば、ア 端子240及び242に印加される高電圧の大きさは、メモリ・システムの通常 動作(非テスト・モード)でこれらの端子が使用されるときにこれらの端子に一 般に印加される電圧の範囲外の電圧から選択される。これは、エンド・ユーザが 誤ってテスト・モードに入ることを防ぐためである。端子240及び242に印 加された高電圧は、検出器244及び246によって検出される。該当する検出 回路が、1995年6月21日に提出された「INTEGRATED CIRCUIT HAVING HIGH VOLTAGE DETECTION CIRCUIT」という名称の米国出願第08/493,162号 に開示されている。この米国出願の全ての内容は、引用することによって本願に 合体されるものとする。 端子240及び242に高電圧が印加された後、この場合はチップ・イネーブ る。いくつかの可能な試験モードの1つに対応する試験コード・データが、メモ リのデータ入出力端子250上に置かれ、入出力バッファ252に送られる。 高電圧検出器244及び246の両方の出力が、2つの端子240及び242 に高電圧が印加されていることを示したときに、ANDゲート254が、試験モ ード・ロード・イネーブル信号を供給する。このロード・イネーブル信号は、 結合する。これによって、ANDゲート256がパス・トランジスタ258をタ ーン・オンし、パス・トランジスタ258は、コード・データをバッファ252 に、次いで試験モード・コード・ラッチ260に送ることになる。入力した試験 モード・データの各ビットに対して別々の入出力端子及びパス・トランジスタ2 58が使用されるため、このデータはラッチ260に並行してロードされる。試 験コード・データは一般に合計8個のビットを有するので、ラッチ260は8 コード・データがラッチ260にラッチされる。 ラッチ260に、試験コード・データがロードされた後、アドレスA10端子 242に対する入力等の高電圧の1つが外され、検出器246の出力がロー・レ ベルとなって、インバータ266を介してANDゲート268にハイ・レベル入 力が供給される。ゲート268の残りの入力である第2の高電圧検出器244の 出力が依然としてハイ・レベルであるため、ゲート268は、試験モード・イネ ーブル信号を生成する。特に、この信号が、試験モード・フォーマット検査・デ コード論理ユニット262を使用可能とし、このユニットが、ラッチ260中の データが、適正な各種試験モードのうちの1つのモードに対応することを検証す ることになる。さらに、ユニット262は、この試験モード・コードをデコード し、約15個ある各種メモリ試験モードのどの1つのモードに入ったかを決定す る。これらの試験モードはそれぞれ、関連した試験モード信号を有する。この信 号は、試験モード・フォーマット検査・デコード論理ユニット262によって生 成され、各種試験モード機能を実行するためにその他の信号とともにメモリ・シ ステムによって使用される。 端子240に印加された電圧がハイ・レベルである限り、システムは、選択さ れた電圧がハイ・レベルである限り、検出器アクティブ化論理回路270が検出 回路244及び246を使用可能に維持する。各種試験モード動作の実行中には 、 線242上のアドレスA10がロー状態にシフトされているため、ANDゲート 256のロー・レベル出力によって、試験モード・コード・ラッチの内容の変更 は全て阻止される。試験モード動作完了後、端子240に印加された高電圧が除 かれ、これによって、ANDゲート268の出力がロー・レベルとなり、試験モ ード動作が終了する。 ラッチ260にロードされる試験モード・コードは、偶発的に試験モードに入 る可能性をさらに低減させる特定のフォーマットを有するものであることが好ま しい。試験モード・コードは一般に、2グループのビットに分割される。ビット の第1のグループであるフォーマット・ビットは、試験モード動作を表し、残り のビットは特定の1つの試験モードを表す。この例示的な実施例は、データ記憶 ユニット14の制御に関する3つの試験モードを有する。これらの試験モードは 、ラッチ260に記憶された試験モード・コード中に定義されている。これらの 試験モードのうちの第1の試験モードは、状態機械19(第1図)の動作の制御 に使用される制御パラメータに関する。状態機械動作を制御する方法に関する詳 細 は、本願の基礎となる米国出願と同日に提出された「MEMORY SYSTEM HAVING PRO GRAMMABLE FLOW CONTROL REGISTER」という名称の特許米国出願第08/508 ,921号に記載されている。この米国出願の全ての内容は、引用することによ って本願に完全に合体されるものとする。 これらの記憶ユニット試験モードの第2のカテゴリーは、第3図に関連して先 に説明したメモリのアドレス指定の制御と、第1図に関連して先に説明したメモ リのワード幅(バス幅)の制御とに関する。記憶ユニット試験モードの第3のカ テゴリーは、第5図乃至第11図に関連して先に説明したトリム機能に関する。 このトリム機能によって、メモリ動作に使用される各種電圧パルスの大きさ及び 持続時間を、記憶された制御パラメータを使用して変更することが可能となる。 一般的なメモリ・システムは、メモリ動作の各種態様を制御する多数のデータ 記憶ユニットを利用することができる。一般に、約24個の記憶ユニットがトリ ム機能のカテゴリーに関連してある。第12図及び第13図に関連して先に説明 したように、各データ記憶ユニットは、5種類の基本サイクル、即ち(1)ロー ド、(2)消去、(3)プログラム、(4)リコール、並びに(5)検証を実行 することができる。汎用メモリ端子を使用してこれらのデータ記憶ユニットを効 果的に制御するためには、以下に説明する専用の回路が必要である。 以下の例示的な説明は、制御パラメータのトリム機能カテゴリーの動作に関し 、また、その他の制御パラメータ機能の動作にも関連している。第15A図乃至 第15C図に、メモリ動作に使用される各種電圧パルスの大きさを設定する制御 パラメータを記憶するのに用いられる合計9つのデータ記憶ユニット14N〜1 4Vを示す。その内の3つのデータ記憶ユニットが、プログラム動作中にアレイ のワード線に印加される電圧パルスの大きさに関係する。これらの記憶ユニット 14N、14O、14Pを第15A図に示す。その他の3つのデータ記憶ユニッ トは、プログラム動作中にアレイ12のビット線に印加される電圧パルスの大き さに関係する。これらの記憶ユニット14Q、14R、14Sを第15B図に示 す。最後に第15C図の3つのデータ記憶ユニット14T、14U、14Vは、 消去動作中に各種アレイ・ブロックのソース線に印加される電圧パルスの大きさ に関係する。したがってこれらのトリム機能はそれぞれ、異なる8つの大きさ( 23) の電圧パルスを、関連された記憶ユニット14に記憶された3つの制御パラメー タに従って供給する。 トリム機能データ記憶ユニットが、ロード、消去、プログラム、リコール、或 いは検証のいずれかのサイクルを使用するある方法で操作されると仮定する。第 17図は、これらの中のあるサイクルを実施するときに生成される主要な信号を 示すタイミング図である。後に説明するように、リコール・サイクルは、電源投 入時及びメモリ電圧があるレベルまで低下した時に自動的に開始するので、試験 ル・サイクルを開始するために用いることができる。 第1の階段は、メモリ・システム10を適当な試験モードに置くことである。 電圧はともに、第17図のタイミング図から分かるように最初の時刻T0で+1 2ボルトに上げられる。さらに、データ入出力端子には、所望の試験モードに対 応するデータが提供されている。これが、第14図の試験モード・コード・ラッ チ260に入れられる試験モード・データである。データ入出力端子に印加され た試験モード・データは、(1)メモリが、試験モードに置かれること、(2) その試験モードが、データ記憶ユニットに関係するものであること、並びに、( 3)データ記憶ユニットが、先に論じた記憶ユニットの他の2つのカテゴリーと は異なるトリム・ユニットであることを示す。 試験モード・コードは、トリム・データ記憶ユニットの3つのカテゴリーの内 のどのカテゴリーを動作させるかは指定しない。これは、試験モードに入るとき に、メモリ・システムのアドレス端子を使用して指定される。この時、アドレス A10が、メモリ・システムを試験モードに入れる働きをする。従ってそれは有 効ではない。アドレス端子A15及びA16が、トリム・データ記憶ユニットの 3つのカテゴリーの内のどのカテゴリーを動作させるかを指定するのに使用され る。第3表から分かるように、A15及びA16がそれぞれ、「1」及び「0」 に設定されると、高電圧トリム試験モードが指定される。 アドレス端子はまた、トリム制御パラメータの3つのカテゴリーのそれぞれに 含まれるデータ記憶ユニットのグループを指定するのにも使用される。アドレス 端子には、第4表に記載された、高電圧のトリム・カテゴリーに使用される9つ のデータ記憶ユニットに対する機能が割り当てられる。 第4表から分かるように、高電圧トリム機能用の9つのデータ記憶ユニットに はそれぞれ1つのアドレス端子が関連されてある。例えば、プログラム時にワー ド線に印加される高電圧に関連された3つのデータ記憶ユニット14N,14O ,14Pは、関連されたアドレスA1,A2,A3を有する。さらに、高電圧ト リム機能の3グループのデータ記憶ユニットにはそれぞれ1つのイネーブル・ア ドレス端子が関連されている。例えば、アドレス端子A4が、3つのワード線プ ログラム・データ記憶ユニット14N,14O,14Pに対して後述のイネーブ ル機能を実行する。 以上の例にさらに、ワード線プログラム電圧に関係するデータ記憶ユニット1 4N,14O,14Pの揮発性ラッチ・セクション202に、ある特定のデータ がロードされると仮定する。前述のように、このようなロード・サイクルは、 データ記憶ユニットをプログラムする最初の階段として実行される。時刻T0( 第17図)或いはこれより前に、ユーザは、記憶ユニットに記憶されるデータを アドレス端子A1,A2,A3に設定する。さらに、関連されたイネーブル・ア ドレス端子A4が「1」に設定される。残りの6つのデータ記憶ユニット14Q ,14R,14S,14T,14U,14Vは変更されないので、関連されたイ ネーブル・アドレス端子A8及びA13は「0」に設定される。この場合、アド レス端子の状態A5,A6,A7,A9,A11,A12は「ドントケア(don't care)」なので、これらの端子は如何なる状態でもよい。 ティブ又はハイ状態に戻される。これによって試験モード・データが、試験モー 0に印加された電圧が高電圧ならば、この場合に該当して、状態機械19は、 れる。さらに、試験モード・フォーマット検査及びデコード論理ユニット262 が、データ記憶ユニットと関連した3つの試験モードの1つに入ったことを示す デコード出力テスト信号TMを生成する。アドレスA15及びA16は、3つの モードの内のどのモードが選択されたかを第3表に示すように示す。 ロードされるデータ記憶ユニット14Nを含む第15A図を参照すると、アド 残りの入力には、時刻T0でハイ・レベルになるテスト信号TMが結合されてい る。従って、ゲート276の出力は、アクティブ即ちロー・レベルとなり、高電 圧ト 4表の記載のようにデータ記憶ユニット14を操作することができる。インバー タ278が、信号Trim Vを生成するために提供されている。信号Trim 使用される。 信号Trim V、高イネーブル・アドレスA4、並びにTLOAD信号を受け取 るANDゲート280が提供されている。これらの信号は全て、時刻T1でハイ ・レベルであるので、ゲート280の出力であるロード信号LD1はハイ・レベル に なる。信号LD1は、3つのデータ記憶ユニット14N,14O,14Pのロード 入力LDに接続される。アドレスA1,A2,A3上のデータ及び補数(図示せ ず)が、データ・ユニット14N,14O,14Pのデータ入力にそれぞれ接続 される。第12図及び第13図に関連して先に説明したように、これによってこ れら入力データが、各データ・ユニットのラッチ・セクション202にロードさ れる。イネーブル・アドレスA8及びA13がともにロー・レベルなので、対応 するANDゲート282(第15B図)及びANDゲート284(第15C図) は、対応するロード信号LD2及びLD3を生成しない。 さらにこの例で、どのデータ記憶ユニットにもデータをロードしないと仮定す ると、イネーブル・アドレスA4,A8,A13が全て試験モードに入った後で 「0」に設定される。アドレスA15及びA16は前と同じようにそれぞれ、「 1」及び「0」に設定されるので、その試験モードは、第15A図乃至第15C 図の9つの高電圧トリム記憶ユニットと関連して継続する。時刻T2で、アドレ ス端子A10に印加された電圧が、ロー・レベルとなり、以降のチップ・イネー ない。 更なる例として、ユーザが、全ての9つのデータ記憶ユニット14N,14O ,14P,14Q,14R,14S,14T,14U,14Vの揮発性ラッチ・ セクション202の内容を検証したいと仮定する。2つの方法を説明する。デー タ記憶ユニット14の動作に関連して先に説明したように、各ユニット14(第 1 02の内容を比較する内部コンパレータ201を有する。一致した場合には信号 VERはハイ・レベルを維持する。一致しなかった場合には信号VERはロー・レベ ルに引き下げられる。全てのデータ記憶ユニット検証出力が相互にOR結線され るので、検証中の記憶ユニットの内のどのユニットの出力が一致しない場合でも 、ロー・レベルの信号VERが生成され、検証サイクルの終わりにメモリの入出力 端子の1つに現れる。 一般的な検証動作では、適当なアドレス端子に第1の試験データ・セットを置 き、検証サイクルを実行することによって、記憶ユニット14の状態が定期的に 試験される。どの特定の1つの記憶ユニットが一致しないかを直接に識別するこ とはできないので、入力データが変更されて、検証サイクルが繰り返される。こ れは、アドレス端子に印加されたある1つの入力データ・セットと一致する(ハ イ・レベルVER信号)まで継続される。 第1の検証方法では、第1の試験データ・セットが、アドレス端子A1,A2 ,A3,A5,A6,A7,A9,A11,A12に印加される。これは、時刻 T3付近で生ずる。そのデータは、初期的には全て「0」であってよいが、9つ の高電圧トリム機能データ記憶ユニット14N乃至14Vのデータ入力Aに印加 される。さらに、3つのイネーブル・アドレスA4,A8,A13の入力がハイ ・レベルにされ、その結果、9つのデータ記憶ユニット全てが同時に検証される 。 され、その結果、メモリ・システムの各種要素が使用可能となる。アクティブ信 その結果、特に、メモリ・システムのデータ入出力端子の1つに信号VERに対応 するビットを読み出すことができるようになる。これらのデータ入出力端子や、 信号VERの供給等の代替機能のための他のメモリ・システム端子を利用する回路 が、本願の基礎となる米国出願と同日に提出された「MEMORY HAVING INTERNAL S TATE MONITORING CIRCUIT」という名称の米国出願第08/508,924号に 開示されている。ここで、この出願の全ての内容は、引用することによって本願 に合体されるものとする。 NORゲート286(第15A図)は、高電圧トリム機能試験モードを示す ルなので、ゲート288及び290によって生成された信号FV2及びFV3もハイ ・レベルになる。従って、データ記憶ユニット14N乃至14Vの9つのコンパ レータ回路全てが、それぞれのラッチ・セクション202の内容を、関連され たアドレス端子上の対応する入力データAと比較する。 何れかの記憶ユニットで比較されない場合には、時刻T4で、データ入出力端 子の1つ端子上で信号VERがロー・レベルになる。その場合、一般に2進値を増 分することによってアドレス端子上の入力データが変更され、試験が繰り返され る。想像するに、この手順は512(29)回くり返す必要がある場合がある。 第2の方法は、9つの記憶ユニットの状態を検証するために、3階段の試験を 記憶ユニットに実施するものである。まず、イネーブル・アドレスA4が「1」 に、イネーブル・アドレスA8及びA13が「0」に設定される。検証するのは 、記憶ユニット14N,14O,14Pのみなので、次に、アドレス端子A1, A2,A3だけに試験データが供給される。入力データのこれらの3つのビット は、ハイ・レベル信号VERによって示される比較が現れるまで変更される。ユニ ット14N,14O,14Pの状態を決定した後、イネーブル・アドレスA8を 「1」に、他のイネーブル・アドレスA4及びA13を「0」に設定することに よって、3つの記憶ユニット14Q,14R,14Sが試験される。次いで、イ ネーブル・アドレスA13を「1」に、他のイネーブル・アドレスを「0」に設 定することによってユニット14T,14U,14Vが試験される。イネーブル ・アドレスを選択的にアクティブ化することによって小さなグループごとに記憶 ユニットを検証するこの方法は、全ての記憶ユニットを検証する必要がないとき に特に有効である。第2の方法を使用すると、24サイクル(23×3ユニット 群)のみで全ての記憶ユニットを検証することができる。 前述のように、リコール・サイクルは、フラッシュ・セクション200(第1 2図)に記憶された不揮発性データを揮発性ラッチ・セクション202へ転送さ せるべく機能する。メモリ・システムの電源が切れるか、或いは電源供給が乱さ れると、フラッシュ・セクションのデータが失われるため、これらのことが検出 されると、リコール・サイクルが自動的に開始される。第13図のタイミング図 に示すように、リコール・サイクルは、データ記憶ユニットのソース線SLを接 地し、接続信号CN及びワード線信号WLを印加することによって実行される。さ らに、ラッチ・セクション202を、フラッシュ・セクション200の状態に設 定できるように、FSUPが通常の高電圧値に戻るときに、ラッチ・セクション2 02 の電源FSUPが瞬間的に接地される。 第16図に、リコール・サイクル中及びプログラム・サイクル中に各データ記 憶ユニットの結合ワード線・接続入力WL/CNに印加される信号VWLを生成する 回路を示す。電源が投入されたとき、そして電源供給が乱されたときに、NOR ゲート292は、パワー・アップ信号を受け取る。これによって、ゲート292 の出力がロー・レベルとなり、これが、Nチャネル・パス・トランジスタ296 を介してインバータ回路(要素298及び300によって形成される)の入力を ロー・レベルに引き下げる。ゲートが主電源電圧VCCに接続されているため常に オンであるトランジスタ296は、レベル・シフティング回路の一部を構成する 。レベル・シフティング回路は、ゲート292の出力を、VCC(+5ボルト)と 接地との間を切り換わるものからVPP(+12ボルト)と接地との間を切り換わ るものに変換する回路である。Pチャネル・トランジスタ298及びNチャネル ・トランジスタ300はインバータをそれぞれ形成し、この回路の出力VWLは、 2つのトランジスタの共通ドレインに接続される。フィードバック・トランジス タ302が含まれているのは、ゲート292がインバータの入力をVPPに近い十 分に高いレベルに引き上げるのを助け、ゲート292の出力がハイ・レベルにな ったときにトランジスタ298をターン・オフするためである。データ記憶ユニ ット14の全てのワード線入力WL及び接続入力CNが1つの入力WL/CNとして 結合される。これは、前述のように記憶ユニットは、これらを結合した入力で動 作可能なためである。第16図において、端子VPPは、プログラム動作中のみ+ 12ボルトになり、その他の時間は、VCCのレベルである+5ボルトを維持する 。電源投入時、パワー・アップ信号によって、データ記憶ユニットの結合入力WL /CNに印加された信号VWLはVCCの電圧レベルである+5ボルトなる。また、 図示しない回路によって、入力FSUPに印加された信号VSUPが瞬間的にロー・レ ベルに 送され、リコール・サイクルが実行させられる。 データ記憶ユニット14をプログラムする場合には最初に、このユニットを消 去する必要がある。記憶ユニットの消去は、通常のメモリ動作に使用されるもの と同じ種類の消去コマンドを発行することによって実行される。ただし、メモ リ・システムが、通常の動作モードとは異なる試験モードにあるため、この消去 コマンドは、メモリ・アレイ12のフラッシュ・セルではなく、フラッシュ・セ 消去動作の後にはプログラム動作が実行されなければならないので、消去を記 憶ユニットの制限された数に制限する試みは為されない。この要件の1つの理由 が、記憶ユニットの動作では、相補的な形態でセルがデータを記憶する必要があ ることによる。特定の記憶ユニットをそのまま元の状態にしておく場合には、フ ラッシュ・セクション200に消去前に記憶された元のデータは、ラッチ・セク ション202に記憶されたデータと同じものになる。したがって消去後に、次の プログラム・シーケンスによってフラッシュ・セクション200は、消去された ばかりのデータと同じデータでプログラムされる。 消去動作は、一対の消去コマンドをメモリに提供することによって実施される 。これらのコマンドは、時刻T5に、第1の消去コマンド(20H)をデータ入 出力 消去コマンド(D0H)が時刻T6に提供される。これらの2つの標準消去コマ ンドは、コマンド実行論理回路16(第1図)に送られて、通常の消去コマンド と同様に処理される。消去動作中に、メモリ・アレイ12のソース線に印加され る正電圧を生成するメモリ中の回路が、信号VSLの形態で同じ+12ボルトの電 圧を代わりに生成する。次いで信号VSLは、全てのデータ記憶ユニット14の全 てのソース線入力SLに印加される。入力WL/CNがロー・レベルなので、全て の トリム試験モードに入った後、プログラム・サイクルは、通常のメモリのプロ グラム動作に使用するものと同じ一対のコマンドを発行することによって開始さ れる。このサイクルによって、揮発性ラッチ・セクション202に記憶されたデ ータが不揮発性フラッシュ・セクション200に転送される。2つのセクション 202及び200は通常、同じデータを含むので、ロード・サイクルを最初に実 行して、フラッシュ・セクション200にプログラムされる新しいデータを ラッチ・セクション202にロードする必要がある。後に説明するように、プロ グラム動作は、3つのトリム試験モードから選択された1つのモード内になるデ ータ記憶ユニット14に限定される。したがって、高電圧トリム機能に使用され る9つのデータ記憶ユニットをプログラムする場合には、メモリ・システムが、 その特定の試験モードに置かれなければならない。9つのユニットのうちのその グループに含まれないデータ記憶ユニットはその試験モードではプログラムされ ない。 9つのデータ記憶ユニット14N乃至14Vのフラッシュ・セクション200 をプログラムする第1のコマンド(40H)は、セットアップ・コマンドであり 、この後に、通常のメモリ動作に使用されるアドレス及びデータの情報を含むコ マンドが続く。メモリのデータ入出力端子及びアドレス端子に与えられるアドレ ス及びデータが「ドントケア」であっても、第2のコマンドは発行されなければ ならない。時刻T5及びT6に示す消去動作の他に、第17図のタイミング図を使 用して、同じ時間のプログラム動作を示すことができる。時刻T5で、メモリ・ システムが、高電圧トリム機能試験モードにあるときに、第1のプログラム・コ マンド(40H)がデータ入出力端子を使用して送られる。同時に、チップ・イ ネー たとえ「ドントケア」であってもデータ入出力端子の状態をある状態にする必要 がある。第2のコマンドによって、状態機械19(第1図)が、ワード線イネー ブル信号WLENを発行する。通常の動作モードではこの信号によって、データ入 出力端子上のデータが、アドレス端子上のアドレスにプログラムされる。しかし 試験モードでは、代わりとして信号WLENによって、データ記憶ラッチ・セクシ ョン202の内容が関連されたフラッシュ・セクション200にプログラムされ る。 第16図から分かるように、信号WLENは、ANDゲート294の1つの入力 に印加される、第2の入力は、メモリ・システムが高電圧トリム試験モードにあ ることを示すTrim Hv信号を受け取る。ゲート294からのハイ・レベル 出力によってゲート292はロー・レベルとなり、その結果、リコール・サイク ルに関して先に論じたハイ・レベル(+12ボルト)の信号VWLが生成される。 ハ イ・レベルのVWL信号は、9つのデータ記憶ユニット14N乃至14Vの全ての WL/CN入力に印加される。さらに、ソース線入力SLが全て接地され、電源入 力FSUPが全てハイ・レベルとなる。第13図のタイミング図から分かるように 、これらの条件では、関連されたラッチ・セクション202のデータでフラッシ ュ・セクション200がプログラムされることになる。 これによって、試験信号TMの立下りエッジによって示されるようにメモリ・シ ステムは試験モードから出る。 例えばアドレス端子A4,A8,A13を使用したイネーブル機能(第4表) が提供する性能によって、柔軟性が増すことが分かる。合計9つのデータ記憶ユ ニットが選択されているが、一度に3つだけの記憶ユニットのためにトリム機能 を制御することができる。したがって、9つの記憶ユニット14N乃至14V全 ての状態を、512サイクルではなく僅か24サイクルで検証することができる 。さらに、3セットの記憶ユニット全てではなく、そのうちの1セットだけに新 しい制御パラメータ・データをロードすることができる。例えば、ユニット14 N乃至14P等の1セットのみを変更する場合には、ユニット14Q乃至14V の内容を乱す必要がない。したがって、ユニット14Q乃至14Vの状態を決定 する必要がなく、セル14N乃至14Pに新しいデータをロードするためにこれ らには、以前のデータが再ロードされる。 以上に、最適な性能とするために、製造後に調整することができる制御パラメ ータを有する新規なメモリ・システムを説明した。このシステムの一実施例をあ る程度詳細に説明してきたが、添付の請求の範囲に定義された本発明の趣旨及び 範囲から逸脱することなくある種の変更を当業者が実施できることを理解された い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,HU,I L,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LK ,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK, MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TR ,TT,UA,UG,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. メモリ・システムであって、 多数の行及び多数の列の形態で配列された複数のメモリ・セルから成るアレイ であり、各セルが前記行の内の1行内に配置されると共に前記列の1列内に配置 されていることから成るアレイと、 複数のメモリ動作を制御するための制御手段であり、該複数のメモリ動作が、 前記メモリ・セルのプログラミング及び前記メモリ・セルの読取りを含んで、複 数の制御パラメータに応じて制御されることから成る制御手段と、 前記複数の制御パラメータを不揮発性状態で記憶するためのデータ記憶構造手 段であり、前記メモリ・セルから成るアレイとは分離されているデータ記憶構造 手段と、 を備えるメモリ・システム。 2. データを、前記メモリ・セルのアレイにプログラムできると共に、該 メモリ・セルのアレイから読み取ることができる通常動作モードと、前記データ 記憶構造手段内の前記制御パラメータを変更することができる代替動作モードと の間で前記メモリ・システムを切り換えるためのモード手段を含む、請求項1に 記載のメモリ・システム。 3. 前記制御手段が、複数の主要機能から成る複数のグループを提供でき 、該主要機能の各グループが複数の制御パラメータの関連された主要グループに よって制御可能であり、前記データ記憶構造手段が、前記制御パラメータの前記 複数の主要グループの内の選択された1つを、前記メモリ・システムが前記代替 試験モードにある際、ユーザによって該メモリ・システムへ提供された機能選択 データに基づき変更できる、請求項2に記載のメモリ・システム。 4. 前記モード手段が、前記メモリ・システムを、前記選択データの受領 に応じて、前記代替動作モードへ切り換えるべく機能する、請求項3に記載のメ モリ・システム。 5. 前記メモリ・システムと該メモリ・システムの外部環境との間にイン タフェースを提供する複数のメモリ端子であり、前記メモリが前記通常動作モー ドである際に通常機能を有し、前記メモリが前記代替試験モードである際に代替 機能を有する複数のメモリ端子を含む、請求項3に記載のメモリ・システム。 6. 前記データ記憶構造が、前記複数の制御パラメータの各々を記憶する ための個々別々のデータ記憶ユニットを含み、該データ記憶ユニットの各々が前 記制御パラメータ・データを受け取る入力を有し、前記メモリ端子が、前記メモ リ・システムが前記代替動作モードである際に前記データ記憶ユニットの選択さ れたものの入力と結合されている、請求項5に記載のメモリ・システム。 7. 前記データ記憶ユニット入力と結合された前記メモリ端子が、前記メ モリ・システムが前記通常動作モードである際に、アドレス端子として機能する 、請求項6に記載のメモリ・システム。 8. 前記複数の主要機能から成るグループ各々が、複数の二次的機能から 成るグループを含み、前記二次的機能から成る各グループが前記複数の制御パラ メータから成る関連の二次的グループによって制御可能である、請求項6に記載 のメモリ・システム。 9. 複数の制御パラメータから成る前記主要グループの選択されたものを 含んでいる前記複数のデータ記憶ユニットの複数のデータ入力が、前記メモリ・ システムのそれぞれの端子に結合されており、前記データ記憶構造が、前記結合 されたデータ記憶ユニット内に記憶されたデータを該結合されたデータ記憶ユニ ットの前記データ入力に提供されたデータと比較して、その比較に基づき前記端 子の他のものに対して比較出力を提供する比較手段を含み、前記データ記憶構造 が、前記比較手段を前記制御パラメータから成る二次的グループの内の選択さ れた1つを含むデータ記憶ユニット入力のみの比較に制限する第1イネーブル手 段を含む、請求項8に記載のメモリ・システム。 10. 前記第1イネーブル手段が、前記端子の更なる他のものに付与された イネーブル信号に応答する、請求項9に記載のメモリ・システム。 11. 前記制御手段が、前記メモリ・セルから成るアレイに複数の電圧パル スを印加することによって、前記複数のメモリ動作の内の幾つかを実行し、該複 数の電圧パルスが大きさ及び持続期間を有し、前記制御パラメータから成る二次 的グループの内の1つが前記電圧パルスの前記大きさを調整するための大きさ制 御パラメータを含み、前記主要グループの他のものが前記電圧パルスの持続期間 を制御するための持続期間制御パラメータを含む、請求項10に記載のメモリ・ システム。 12. 前記データ記憶ユニットの各々が、揮発性記憶要素及び不揮発性記憶 要素を含み、前記不揮発性記憶要素が前記制御パラメータの内の1つを記憶し、 前記比較手段が前記揮発性記憶要素内に記憶されたデータを前記データ入力に提 供された前記データと比較する、請求項10に記載のメモリ・システム。 13. 前記制御パラメータを前記データ記憶ユニット内に記憶するために、 先ず、データを前記揮発性記憶要素内にロードし、次いで該ロードされたデータ を前記不揮発性記憶要素へ転送することによって行われる、請求項12に記載の メモリ・システム。 14. 前記データ記憶構造が、前記データのロードを、前記制御パラメータ から成る二次的グループの内の選択された1つを含む記憶ユニットに制限するた めの第2イネーブル手段を含む、請求項13に記載のメモリ・システム。 15. 前記第2イネーブル手段が、前記端子の内の1つに対して付与された 第2イネーブル信号に応答する、請求項14に記載のメモリ・システム。 16. 多数の行及び多数の列の形態で配列された複数のメモリ・セルから成 るアレイであり、前記行の内の各1行内に配置さた各セルが共通ワード線に結合 され、前記列の各1列内に配置さた各セルが共通ビット線に結合されていること から成るアレイを含むメモリ・システムの動作を制御する方法であって、 複数の制御パラメータを前記アレイと分離した複数の不揮発性データ記憶ユニ ット内に記憶するステップと、 前記制御パラメータを利用して、前記アレイ内へデータをプログラムするステ ップと、 前記制御パラメータを利用して、前記アレイからデータを読み取るステップと 、 前記記憶された制御パラメータを変更するステップと、 の諸ステップを含む方法。 17. 前記不揮発性データ記憶ユニットの各々が、揮発性データ記憶要素及 び不揮発性データ記憶要素を含み、前記制御パラメータを変更する前記ステップ が、制御パラメータ・データを前記揮発性データ記憶要素内へロードして、該ロ ードされたデータを該揮発性データ記憶要素から前記不揮発性記憶要素へ転送す るステップを含む、請求項16に記載の方法。 18. 制御パラメータ・データをロードする前記ステップが、複数のデータ 記憶ユニットから成る第1グループの複数の入力を、複数のメモリ・システム端 子に結合して、次いで前記複数のデータ記憶ユニットから成る前記第1グループ の決して全てではないものにデータをロードするステップを含む、請求項16に 記載の方法。 19. 前記不揮発性データ記憶ユニットの各々が、揮発性データ記憶要素及 び不揮発性データ記憶要素を含み、前記制御パラメータを変更する前記ステップ が、複数のデータ記憶ユニットから成る第1グループの入力をメモリ・システム 端子に結合し、次いで、該端子に結合された前記データ記憶ユニットの決して全 てではないものに制御パラメータ・データをロードし、次いで、前記揮発性記憶 要素から前記データ記憶ユニットから成る第1グループの全ての前記不揮発性記 憶要素へ前記制御パラメータ・データを転送するステップを含む、請求項16に 記載の方法。
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