JP2001176290A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

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JP2001176290A
JP2001176290A JP35139699A JP35139699A JP2001176290A JP 2001176290 A JP2001176290 A JP 2001176290A JP 35139699 A JP35139699 A JP 35139699A JP 35139699 A JP35139699 A JP 35139699A JP 2001176290 A JP2001176290 A JP 2001176290A
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Koji Hosono
浩司 細野
Toshihiko Himeno
敏彦 姫野
Kenichi Imamiya
賢一 今宮
Hiroshi Nakamura
寛 中村
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    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/20Initialising; Data preset; Chip identification

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な回路構成で検証や修正が容易な初期設
定データ記憶を可能とした不揮発性半導体記憶装置を提
供する。 【解決手段】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイ1、メモリセルアレイ
1のメモリセル選択を行うデコード回路4,7と、メモ
リセルアレイ1のデータを検知増幅するセンスアンプ回
路5、メモリセルアレイ1のデータ書き込み、消去の動
作を制御する制御回路11を有し、メモリセルアレイ1
には、初期設定データが書き込まれる初期設定データ領
域3が設定されている。この初期設定データ領域3から
読み出された初期設定データが転送保持される初期設定
データラッチ回路13,15が設けられ、制御回路11
は、モリセルアレイ1の初期設定データを読み出して期
設定データラッチ回路13,15に転送して保持させる
初期設定動作を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、不揮発性半導体
記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】大規模化した半導体メモリでは、不良救
済のための冗長回路を設けることが行われる。電気的書
き換え可能な不揮発性半導体メモリ(EEPROM)に
おいても同様である。通常の冗長回路方式では、メモリ
セルアレイに冗長ロウセルアレイ、冗長カラムセルアレ
イが設けられ、また不良アドレスを記憶するためにフュ
ーズ回路が設けられる。フューズ回路は代表的にはレー
ザ溶断型のフューズにより構成される。
【0003】ウェハテストにおいて不良セルが見つかる
と、その不良アドレスをフューズ回路にプログラミング
する。フューズ回路がプログラミングされると、その後
不良アドレスが入力された時には、フューズ回路が記憶
する不良アドレスとの一致検出により、デコード回路を
制御して、不良セルに代わって冗長セルを選択するとい
う、置換制御がなされる。
【0004】フューズ回路は、上述した不良救済のため
のアドレスデータの他、メモリの動作条件を決定するた
めに各種の初期設定データを書き込む用途にも用いられ
る。この様な初期設定データとしては例えば、チップ
間、ウェハ間のプロセスばらつきに応じたチップ内部発
生電圧の調整データ、書き込み電圧の設定データ、書き
込みや消去の制御ループ回数の制御パラメータ等があ
る。
【0005】しかし、フューズ回路は、一旦プログラミ
ングするとやり直しがきかない。またウェハテストの段
階でのテスタ装置による不良個所抽出と、レーザによる
溶断とは別工程となり、これらを一連の工程として実施
することができない。そこで、フューズ素子に代わる初
期設定データ記憶回路として、EEPROMのメモリセ
ルと同じ電気的書き換え可能な不揮発性メモリセルを用
いる方式も提案されている。不揮発性メモリセルを用い
れば、フューズ溶断に比べてデータ書き込みは容易であ
り、またこのデータの書き換えも可能である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来提案され
ているのは、初期設定データを記憶するための不揮発性
メモリセルのセルアレイを、メモリセルアレイ本体と別
の領域に配置する方式である。この方式では、初期設定
データ記憶のためのメモリセルアレイに対して読み出
し、書き込み、消去のためにメモリセルアレイ本体とは
別の回路を必要とする。従って回路構成が複雑になり、
チップ面積が増大するだけでなく、書き込み後の検証や
修正まで考慮すると、動作制御も容易ではない。
【0007】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、簡単な回路構成で検証や修正が容易な初期設定
データ記憶を可能とした不揮発性半導体記憶装置を提供
することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る不揮発性
半導体記憶装置は、電気的書き換え可能な不揮発性メモ
リセルが配列され、メモリ動作条件を決定する初期設定
データが書き込まれる初期設定データ領域が設定された
メモリセルアレイと、アドレス信号により前記メモリセ
ルアレイのメモリセル選択を行うデコード回路と、前記
メモリセルアレイのデータを検知増幅するセンスアンプ
回路と、前記メモリセルアレイの初期設定データが読み
出されて転送保持される初期設定データラッチ回路と、
前記メモリセルアレイのデータ書き込み及び消去の動作
を制御すると共に、前記メモリセルアレイの初期設定デ
ータを読み出して前初期設定データラッチ回路に転送し
て保持させる初期設定動作を制御する制御回路と、を備
えたことを特徴とする。
【0009】この発明においては、初期設定データがメ
モリセルアレイに設定された初期設定データ領域に書き
込まれる。この初期設定データは、通常のデータ読み出
しと同じデコード回路とセンスアンプ回路により読み出
すことができる。そして書き込み、消去の動作制御を行
う制御回路は、例えば電源投入を検知してメモリセルア
レイの初期設定データ領域に書き込まれた初期設定デー
タを読み出してこれを初期設定データラッチ回路に転送
して保持させる初期設定動作を自動的に制御するよう
に、予めプログラミングされる。従ってこの発明による
と、初期設定データの記憶のための回路をメモリセルア
レイ本体とは別の領域に設ける必要がなく、デコード回
路やセンスアンプもメモリセルアレイ本体と共有できる
から、回路構成は簡単でチップ面積も小さくできる。ま
た初期設定データの検証や修正も容易である。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。 [実施の形態1]図1はこの発明の実施の形態によるE
EPROMの構成を示す。メモリセルアレイ1は、電気
的書き換え可能な不揮発性メモリセルをマトリクス配列
して構成される。不揮発性メモリセルは浮遊ゲートと制
御ゲートが積層されたスタックト・ゲート型のMOSト
ランジスタ構造を有するものである。メモリセルアレイ
1には不良セルを置き換えるための冗長ロウセルアレイ
2aと冗長カラムセルアレイ2bが設けられている。ま
たメモリセルアレイ1の初期設定データ領域3は、メモ
リの動作条件を決定するための初期設定データを書き込
む領域として予め定められている。
【0011】図2は、メモリセルアレイ1の具体的な構
成例を示す。この例では、16個のメモリセルが直列接
続されたNANDセルユニットを構成している。ワード
線WLが共通に配設された複数のNANDセルユニット
は、データ消去の最小単位となるセルブロックを構成し
ており、複数のセルブロックB0,B1,〜,Bnがビ
ット線BLを共通にして配置される。この様なメモリセ
ルアレイ1のうち、例えば図に破線で示したセルブロッ
クBnが、初期設定データを記憶するための初期設定デ
ータ領域3として定められる。
【0012】初期設定データ領域3は、ビット線BL及
びワード線WLの選択駆動により、データの書き込み、
消去及び読み出しが可能ではあるが、後に説明するよう
に、EEPROMの通常の動作においては外部からはア
クセスされない。従ってまた、データの一括消去或いは
ブロック単位の消去の際にも、この初期設定データ領域
3は消去条件に設定されない。
【0013】初期設定データ領域3の最小単位は、NA
ND型EEPROMにおいては、消去最小単位であるN
ANDセルブロックである。これは本体セルと同じ構成
であるため、レイアウトや回路動作については通常NA
NDセルブロックと同様であり、設計が容易である。こ
れに対して、初期設定データ領域に記憶されるデータの
サイズが小さい場合等は、通常のNANDセルブロック
に比べてワード線が少ないセルブロック構成としてもよ
い。この場合は、本体セルブロックと同じサイズとする
よりも、占有面積を小さくすることができる。
【0014】メモリセルアレイ1のビット線BLは、セ
ンスアンプ回路5を介してデータレジスタ6に接続され
る。メモリセルアレイ1のビット線BLおよびワード線
WLを選択するために、カラムデコーダ7及びロウデコ
ーダ4が設けられている。アドレスAD、データDA及
びコマンドCMDはI/Oバッファ9に入力され、アド
レスはアドレスレジスタ12に、コマンドはコマンドレ
ジスタ12に取り込まれ、書き込みデータはデータレジ
スタ6に取り込まれる。
【0015】アドレスレジスタ12から発生されるロウ
アドレス、カラムアドレスはそれぞれロウデコーダ4、
カラムデコーダ7でデコードされて、メモリセル選択が
なされる。データ書き込み、消去に用いられる各種高電
圧は、昇圧回路により構成された高電圧発生回路8によ
り発生される。コマンドレジスタ10に取り込まれたコ
マンドは例えば制御回路11でデコードされ、この制御
回路11によりデータ書き込み、消去のシーケンス制御
がなされる。
【0016】データ書き込み時には、選択されたメモリ
セルでの書き込み動作、書き込み状態を確認するための
ベリファイ動作を行い、書き込み不十分のメモリセルに
は再度書き込みを行うという制御がなされる。データ消
去時にも同様に、選択されたブロックでの消去動作、消
去状態を確認するためのベリファイ動作を行い、消去不
十分の場合には再度消去を行うという制御がなされる。
書き込みモード又は消去モードの設定により、上述した
一連の書き込み又は消去の制御を行うのが、制御回路1
1である。
【0017】メモリセルアレイ1の初期設定データ領域
3に書き込まれる初期設定データは、具体的には、ウェ
ハテストの結果明らかになった、不良アドレスデー
タ、データ書き込み及び消去の各種制御データ(電圧
値データ、書き込み、消去の制御ループ数等)、メモ
リ容量や仕様に関するコード、メーカコード等のチップ
情報(IDコード)である。この初期設定データの初期
設定データ領域3への書き込みは、チップをパッケージ
ングした後、製品出荷の前に例えば、特定のコマンド入
力により行うものとする。
【0018】即ち、ロウデコーダ4及びカラムデコーダ
7は、初期設定データ領域3を含めてメモリセルアレイ
1の全体をアクセス可能に構成されてはいるが、通常の
データ書き込み、読み出し動作では、初期設定データ領
域3にはアドレスが割り当てられておらず、外部アドレ
スにより初期設定データ領域3を指定することはできな
い。特定のコマンドを入力したときにのみ、制御回路1
1はアドレスレジスタを制御して初期設定データ領域3
をアクセスするに必要な内部アドレスを発生させ、これ
により初期設定データ領域3に初期設定データを書き込
みできるようになっている。
【0019】この様に初期設定データがメモリセルアレ
イ1の初期設定データ領域3に記憶されたEEPROM
では、電源投入時、初期設定データ領域3に書き込まれ
た初期設定データを読み出して動作条件の初期化が行わ
れる。図1の場合、不良アドレスを記憶するための初期
設定データラッチ回路13と、高電圧発生回路8を制御
する制御データを記憶するための初期設定データラッチ
回路15、及びチップ情報を記憶するためのチップ情報
データラッチ回路18を示している。この初期設定デー
タ領域3のデータ読み出しと、その読み出しデータの初
期設定データラッチ回路13、15及びチップ情報デー
タラッチ回路18への転送制御は、制御回路11により
自動的になされる。
【0020】即ち電源を投入すると、パワーオンリセッ
ト回路17が動作する。制御回路11はこの電源投入を
検出して、電源安定化のための一定の待ち時間の後、読
み出しモードに設定され、引き続き初期設定データ領域
3をスキャンするための、順次インクリメントされる内
部アドレスをアドレスレジスタ12から発生させる。こ
の初期設定データ領域3をアクセスする内部アドレスは
前述のように通常の動作では割り当てられていない。そ
して、ロウデコーダ4及びカラムデコーダ7により選択
された初期設定データ領域3のデータは、センスアンプ
回路5により読み出されてデータレジスタ6に転送保持
され、更にデータバスBUSを介して、初期設定データ
ラッチ回路13、15及びチップ情報データラッチ回路
18に転送されて保持される。以上の初期化動作の間、
制御回路11は、レディ/ビジーバッファ16を介して
外部にアクセス禁止を知らせるレディー/ビジー信号
(R/B)=L(ビジー状態)を出す。
【0021】図9は、上述した初期設定動作の制御フロ
ーの例を示している。電源投入を検出すると、パワーオ
ンリセットがかかり(S1)、一定時間の待機(S2)
の後、R/BをBusy状態にセットする(S3)。そ
して、不良アドレスデータを読み出してセットする初期
設定データリードを行い(S4)、続いて制御電圧値デ
ータを読み出してセットする初期設定データリードを行
い(S5)、以下順次その他初期設定データリードの動
作を行う(S6)。全ての初期設定データリードが終了
したら、R/BをReady状態(スタンバイ状態)に
セットする(S7)。
【0022】不良アドレスの初期設定データリード(S
4)は、この例では初期設定データ領域として不良アド
レス記憶領域として予め定められたページのページ読み
出しを行い、1ページ内でカラム毎のデータ判定を行
う。即ち、図10に示すように、ロウアドレスを初期設
定データの中の不良アドレス設定領域にセットし、カラ
ムアドレスはリセット、初期化して(S11)、ページ
読み出しを行い、読み出したデータをデータレジスタ6
に転送して格納する(S12)。データレジスタ6に格
納された1ページ分のデータのうち、最初の1バイトの
データD0〜D7を取り出して(S13)、データ終了
判定を行う(S14)。
【0023】初期設定データ領域には例えば、1バイト
毎にデータが有効か否かを判定するデータと初期設定デ
ータとが交互に記憶される。ステップS14の判定は、
このデータが有効か否かを判定するデータにより、次の
1バイトのデータが有効か否かを判定するものである。
判定の結果有効でないとされた場合は、次の初期設定デ
ータリードのステップに移る。有効なデータがあると判
定された場合は、カラムアドレスをインクリメントし
て、次の1バイト分のデータD0〜D7を初期設定デー
タラッチ回路13に格納する(S15,S16)。そし
てカラムアドレスをインクリメントして(S17)、以
下同様の動作を有効データがなくなるまで繰り返す。
【0024】以下の初期設定データリード(S5)〜
(S6)の動作も同様であり、それぞれのデータが書か
れているロウアドレスを自動設定して、1ページ分のデ
ータ読み出しと、その中の1バイトずつのデータ判定及
び、データラッチ回路への格納の動作を行う。なお上述
の初期化動作は、電源投入により自動的に制御回路11
が実行する方式の他、例えば特定のコマンドを入力する
ことにより、制御回路11がこれをデコードして初期化
動作を開始するようにしてもよい。
【0025】初期設定データラッチ回路13は例えば、
図3に示すように、冗長ロウセルアレイ2aおよび冗長
カラムセルアレイ2bの大きさに応じて決定される不良
アドレスの記憶に必要な個数のラッチ回路LA1〜LA
mにより構成される。各ラッチ回路LAは、ラッチ本体
32と、データを取り込むためのクロックト・インバー
タ31、及び保持されているデータを、入力側のデータ
バスBUSに取り出すためのクロックト・インバータ3
3を有する。このデータラッチ回路13は、電源投入時
やテストモード等に発生されるリセット信号RSTによ
りリセットされる他、通常のメモリ動作ではリセットさ
れない。制御電圧を保持する初期設定データラッチ回路
15及びチップ情報データラッチ回路18も同様に構成
される。
【0026】初期化動作が終了すると、R/B=H(レ
ディ状態)となり、通常の読み出し、書き込み及び消去
が可能になる。この通常動作モードでは、アドレスが入
力されると、アドレスレジスタ12に取り込まれたアド
レスと、初期設定データラッチ回路13に保持されてい
る不良アドレスとの一致が、一致検出回路14により検
出される。一致検出されると、置換制御信号a,bが出
力される。この置換制御信号a,bによりロウデコーダ
4,カラムデコーダ7が制御されて、不良セルの冗長セ
ルアレイによる置換が行われる。また、書き込み、消
去、読み出しの各モードに応じて、初期設定データラッ
チ回路15に保持された制御データにより高電圧発生回
路8が制御されて、必要な電圧が発生される。
【0027】この実施の形態において、好ましくは、メ
モリセルアレイ1の初期設定データ領域3に記憶されて
いる初期設定データをチェックし、或いは書き換えがで
きるテストモードを設定できるようにする。具体的にテ
ストモードは、予め定められたコマンドの入力により設
定できるようにしておく。例えば、あるコマンドを入力
することにより、初期設定データのチェックテストを行
うテストモードが設定される。制御回路11はこのコマ
ンドをデコードすると、前述の初期化動作と同様に順次
インクリメントされる内部アドレスを発生させ、初期設
定データ領域3の初期設定データをセンスアンプ回路5
により読み出す。そして制御回路11は、センスアンプ
回路5からデータレジスタ6に取り込まれる初期設定デ
ータを、I/Oバッファ9を介して外部に取り出すよう
に制御する。
【0028】別のコマンドを入力すると、初期設定デー
タ領域3のデータ書き換えを行うテストモードが設定さ
れる。この場合制御回路11は、データ書き換えを行う
データ領域3全体或いはその一部のセルブロックに対し
て消去を行う。続いて、書き込みモードに設定されると
共に、先の初期化動作の場合と同様に初期設定データ領
域3を順次アクセスする内部アドレスを発生する。外部
から与えられる初期設定データはデータレジスタ6に一
旦保持され、制御回路11からの書き込み制御信号によ
り、初期設定データ領域3に書き込まれる。
【0029】更に別のコマンドが入力されると、初期設
定データラッチ回路13、15或いはチップ情報データ
ラッチ回路18に保持されたデータを読み出してチェッ
クするテストモードが設定される。初期設定データラッ
チ回路13,15又はチップ情報データラッチ回路18
には、図3に示すようにその保持データを入力側のデー
タバスBUSに取り出すクロックト・インバータ33が
設けられている。従って特定のコマンド入力により、制
御回路11がこの初期設定データラッチ回路13,15
又はチップ情報データラッチ回路18に読み出しクロッ
クφ2=Hを出力し、保持されたデータをデータバスB
USに読み出し、I/Oバッファ9を介して外部に取り
出すようにする。これにより、初期設定データラッチ回
路13,15又はチップ情報データラッチ回路18のデ
ータをチェックすることができる。
【0030】また、別のコマンドでデータ領域3の書き
換えを行わずに、それらのデータが読み出され保持され
ている初期設定データラッチ回路13,15やチップ情
報データラッチ回路18に対して、チップ外部からデー
タバスを介してデータを書き込むことができる。これに
より、一度電源を投入した後、連続的に初期設定データ
を変更してテストすることができる。
【0031】以上のようにこの実施の形態によると、メ
モリセルアレイ本体内に初期設定データ領域を設定して
おり、メモリセルアレイ本体のデコード回路やセンスア
ンプ回路をそのまま用いて初期設定データの読み出しを
行うようにしている。従って不良救済のための不良アド
レス記憶その他の初期設定データの記憶と、その制御の
ために大きなチップ面積を必要としないし、複雑な回路
も必要としない。またコマンド入力により、初期設定デ
ータの検証や修正も容易である。
【0032】[実施の形態2]図4は、別の実施の形態
によるEEPROMの構成を示す。図1の実施の形態と
対応する部分には図1と同じ符号を付して詳細な説明は
省く。この実施の形態では、メモリの初期化時、メモリ
セルアレイ1の初期設定データ領域3から読み出されて
初期設定データラッチ回路13に転送するアドレスデー
タを、アドレス変換するためのアドレス変換回路41を
備えている。
【0033】このアドレス変換回路41の機能は次の通
りである。NAND型EEPROMでは通常、1バイト
=8ビット単位で読み出される。一方、カラムアドレス
が9ビットで0番地から511番地のメモリ空間がある
とすると、初期設定データラッチ回路13に保持される
不良アドレスは、A0〜A8の9ビットであることが必
要である。メモリセルアレイ1の初期設定データ領域3
から一度に8ビットずつしか読み出すことができないと
すると、初期化動作において不良カラムアドレスの読み
出しに2回の読み出し動作が必要になる。そして初期設
定データ領域3からの2回の読み出しデータに基づい
て、アドレス変換回路41で、A0〜A8の9ビットの
アドレスデータとして合成する。合成された不良アドレ
スデータは初期設定データラッチ回路13に保持され
る。
【0034】ロウアドレスについては、例えば256M
ビットNAND型EEPROMで、16ビットであり、
やはり初期設定データ領域3からの不良ロウアドレスの
読み出しに2回の読み出し動作が必要である。この2回
の読み出しデータをアドレス変換回路41で16ビット
のロウアドレスとして合成して、初期設定データラッチ
回路13に転送保持する。256Mビット以上の容量で
あれば、3回の読み出し動作が必要になる。制御電圧設
定のための初期設定データラッチ回路15やチップ情報
データラッチ回路18については、個々のデータは1バ
イトのデータで十分であり、データ合成は必要がない。
【0035】この実施の形態の場合の初期設定動作の制
御フローも、基本的には先の実施の形態と同様であり、
図9のようになる。その中の不良アドレスデータリード
のステップS4について、この実施の形態での制御フロ
ーを示すと、図11のようになる。アドレスをセットし
て(S21)、ページ読み出しを行い(S22)、その
1カラムのデータを取り出して(S23)、データ終了
判定を行う(S24)までは、先の実施の形態の図10
と同様である。
【0036】データが終了でなければ、アドレスレジス
タ12のカラムアドレスをインクリメントして(S2
5)、1バイト分のデータD0〜D7を取り出し、これ
をアドレス変換回路41にてアドレスデータA0〜A7
に変換する(S27)。そして再度カラムアドレスをイ
ンクリメントし(S28)、次の1バイト分のデータD
0〜D7を取り出し(S29)、そのうちの1ビットデ
ータD0をアドレス変換回路41に転送して、アドレス
データA8に変換する(S30)。そして、アドレス変
換回路41により得られたアドレスデータA0〜A8を
初期設定データラッチ回路13に転送保持する(S3
1)。以下、カラムアドレスをインクリメントして(S
32)、同様の動作を繰り返す。この様にして、D0〜
D7の1バイトずつ取り出されるデータから、A0〜A
8の9ビットアドレスデータを合成して、初期設定デー
タラッチ回路13に保持する。
【0037】[実施の形態3]図5は、更に別の実施の
形態によるEEPROMの構成である。ここでも先の実
施の形態と対応する部分には先の実施の形態と同一符号
を付して詳細な説明は省く。この実施の形態では、ロウ
デコーダ4及びカラムデコーダ7に付随させる形で、フ
ューズデータラッチ回路51,52が設けられている。
【0038】これらのフューズデータラッチ回路51,
52は、次のようなもである。データ書き込みサイクル
では、書き込み動作毎にベリファイ動作が行われる。N
AND型EEPROMでは通常、1ページ分(1ワード
線分)の書き込みデータがシリアルにデータレジスタ6
に取り込まれ、1ページ分が一括して書き込まれるが、
ベリファイ動作では、1ページ分のセンスアンプのノー
ドをワイヤド・オア接続して書き込み終了を検出してい
る。この場合、不良ビット線につながるセンスアンプノ
ードを含めてワイヤド・オア接続すると、書き込み終了
のチェックができなくなる。
【0039】そこで通常は、フューズ素子を介して全セ
ンスアンプのノードをワイヤド・オア接続し、不良カラ
ムのフューズは切断するようにしている。具体的には図
6のように構成される。センスアンプS/Aのノードn
1,n2,…には、Verify信号により活性化され
るオープンドレイン構造の初段検知回路61が設けられ
る。更に検知回路61の出力遷移によりゲートが放電さ
れるPMOSトランジスタを用いた2段目検知回路62
の出力端子がフューズ素子Fを用いたフューズ回路63
を介して検知信号線64に共通接続される。
【0040】図7は、図6の動作タイミング図である。
時刻t0までにベリファイ動作が行われ、センスアンプ
S/Aのノードが確定する。それまで、Prevfy=
H,Verify=Lであり、検知回路61及び62は
非活性に保たれる。時刻t1で、Prevfy=Lにな
り、検知回路62はNMOSトランジスタのゲートがプ
リチャージされたフローティング状態に設定される。続
いて、Verify=Hになり、検知回路61が活性化
される。これにより、全てのセンスアンプS/Aのノー
ドn1,n2,…がLであると、検知回路62に入る信
号f1,f2,…がHに保持され、信号検出線64に
は、Lvfy=Lが得られる。図7に示すように、セン
スアンプS/Aのノードに一つでもHがあると、Lvf
y=Hとなる。即ち、正常に書き込みが行われてベリフ
ァイOKになると、Lvfy=Lとなる。
【0041】ところが、図7に示したHを保持するセン
スノードn2が、ビット線不良に起因するものであると
すると、書き込みとベリファイを繰り返しても、Lvf
y=Lになることなく、書き込み終了の検知ができなく
なる。そこで、不良カラムアドレスについては、フュー
ズ回路63のフューズを切断する。これにより、書き込
み終了を検知できることになる。
【0042】ロウデコード側については、通常の書き込
み動作では不良ブロックは冗長セルアレイに置換されて
おり、活性化されることはないので問題はない。かし、
ロウデコーダを強制的に全選択して一括にデータ書き込
み、消去等のテストを行うモードでは、不良ブロックも
活性化されてしまい、問題になる。そのため、ロウデコ
ーダ側にも同様に、不良のロウを切り離すためのフュー
ズ回路を設けることが行われる。
【0043】図5の実施の形態に示したフューズデータ
ラッチ回路51,52は、上述した不良ロウ、不良カラ
ムを切り離すためのフューズ回路に対応する機能を、フ
ューズ素子を用いずにラッチ回路を用いて実現したもの
である。図8は、図5におけるカラム側のフューズデー
タラッチ回路52の具体的構成をその周辺部を含めて示
している。
【0044】図8においては、デコード部72とカラム
ゲート71とが、図5のカラムデコーダ7に対応する。
前述のようにセンスアンプ回路5の各センスアンプノー
ドを、書き込みベリファイ時に検出信号線85にワイヤ
ド・オア接続するために、オープンドレイン構造のNM
OSトランジスタQN1とその活性化NMOSトランジ
スタQN2を持つ検出回路81が設けられ、更にトラン
ジスタQN1のドレインがゲートに接続されたPMOS
トランジスタQP1とそのゲートのプリチャージ用PM
OSトランジスタQP3を持つ2段目検出回路82が設
けられている。
【0045】この検出回路82のPMOSトランジスタ
QP1のドレインが、更にPMOSトランジスタQP2
を介して検出信号線85に共通接続される。PMOSト
ランジスタQP2が、先に図6で説明したフューズ素子
Fに相当する。そして不良カラムについてPMOSトラ
ンジスタQP2をオフにするために、ラッチ回路83が
設けられている。ラッチ回路83のノードは、転送ゲー
ト84を介して、図5に示すフューズデータバッファ5
3の出力FIO,FIObが供給される信号線に共通接
続されている。フューズデータバッファ53は、前述し
た初期化データを読み出してセットするメモリの初期化
動作の間、一定の出力、FIO=L,FIOb=Hを出
力するものとする。
【0046】転送ゲート84のゲートには、カラムデコ
ード部72から、不良カラムについてHとなるカラムフ
ューズ選択信号FCSLが送られる。このためにカラム
デコード部72では、制御回路11から発生されるフュ
ーズセット信号Fset,Fsetbとカラムデコード
信号CA1〜8、CB1〜8、CC1〜8により、通常
動作で活性化されるNORゲートG1と、初期化動作の
間活性化されるNORゲートG2が出力部に設けられて
いる。即ち、初期化動作の間、Fset=H,Fset
b=Lであり、この間、カラム選択信号CSLiは非活
性になり、カラムゲート71が駆動されない。そして、
不良カラムについて、例えばFCSL1がHとなり、そ
のカラムのラッチ84に、PMOSトランジスタQP2
をオフとするデータがラッチされる。
【0047】なお上記動作でこのフューズデータラッチ
回路52にデータがセットされるメモリ空間上の場所
は、メモリセルアレイ1の初期設定データ領域3からセ
ンスアンプ回路5により読み出された不良カラムアドレ
スによってデコードされる場所である。従って、この読
み出された不良アドレスを一時保持するために、図5に
示すように、アドレスレジスタ12とは別にアドレスレ
ジスタ54が必要になる。このアドレスレジスタ54も
制御回路11により、不良アドレスの保持と、フューズ
データラッチ回路51,52への転送が制御される。
【0048】ロウ側のフューズデータラッチ回路51に
ついては、詳細は示さないが、同様にアドレスレジスタ
54に取り込んだ不良ロウアドレスに基づいて、不良の
ロウブロックに対するロウデコーダ出力を非活性とする
データをラッチするラッチ回路を用いればよい。
【0049】カラム側のフューズデータラッチ回路52
は、制御回路11の制御によりフューズセット信号をF
setb=Hとしてアクセスすることができる。またフ
ューズデータラッチ回路52はフューズデータバッファ
53に接続され、フューズデータバッファ53はデータ
バスBUSに接続されている。従って、所定のコマンド
を入力して、フューズデータラッチ回路52のデータ内
容をチェックするテストモードを設定することができ
る。更に、フューズデータラッチ回路52に、チップ外
部から、フューズデータバッファ53を介してフューズ
データを直接書き込むということもできる。
【0050】この実施例での初期設定データリードの制
御フローも、基本的には図9のように示される。図12
は、その制御フローの中の、不良アドレスの初期設定デ
ータリードのステップS4を示している。ステップS2
1〜S31までは、先の実施の形態の図11におけると
基本的に同様である。ただ、先の実施の形態でのアドレ
ス変換回路41に相当する部分がこの実施の形態では、
カラム切り離しの制御を行うためのアドレスレジスタ5
4となっている。
【0051】先の実施の形態と同様に、2カラム分のデ
ータ読み出しと合成により得られたアドレスデータをデ
ータラッチ回路13に格納した後(S31)、この実施
例では更に、不良カラム切り離しの制御を行う。即ち、
アドレスレジスタ54からの不良カラムアドレスA0〜
A8によりカラムデコードを行い(S41)、フューズ
データラッチ回路52にフューズデータバッファ53の
データを書き込む(S42)。以下、カラムアドレスを
インクリメントし(S43)、同様の動作を繰り返す。
【0052】以上の各実施の形態において、初期設定デ
ータ記憶領域3の不良アドレス記憶部に書き込みや消去
ができない不良セルがあった場合に、これを無視して不
良アドレスデータを書き込んだとすると、所望の初期設
定動作、即ち不良アドレスデータを読み出してこれを初
期設定データラッチ回路13に転送することができな
い。従ってウェハテストの結果明らかになった、初期設
定データ記憶領域3の不良セル領域には、不良アドレス
データを書き込まない(通常は書き込めない)。一方こ
の場合、初期設定データ記憶領域3の読み出しを行う初
期設定動作では、不良アドレスに対する考慮はなされな
いから、読み出しデータが有効な不良アドレスデータで
あるか否かの確認が必要になる。そこで、初期設定デー
タ記憶領域3の不良アドレス記憶部に不良がある場合
に、有効な不良アドレス記憶を行い、冗長セルアレイに
よる置換を可能とする実施の形態を次に説明する。
【0053】[実施の形態4]図13はその様な実施の
形態4の不良アドレス記憶法を示している。ここでは、
アドレスデータが4ビットで表され、3つの不良アドレ
スデータ1〜3を初期設定データ記憶領域3の各列(こ
こでは、1列=1ワード線)に書き込む場合を例として
いる。最初の不良アドレスデータ1が“0101”であ
るとすると、これを第0列に書き込む。そして、第1列
には、不良アドレスデータ1と相補関係にある“101
0”なるデータを参照データとして、不良アドレスデー
タ1と対にして記憶する。同様に、次の不良アドレスデ
ータが“1100”であれば、これを第2列に記憶し、
これと相補関係にある参照データ“0011”を第3列
に記憶する。
【0054】初期設定データ領域3の第4列は不良であ
り、“1”状態しかとれないものとする。この場合第5
列には、参照データとして、第4列のデータと相補関係
が崩れた“1111”が記憶されることになる。更に正
常な第6列には不良アドレスデータ3を記憶し、第7列
にはこれと相補関係にある参照データを記憶する。
【0055】この様な不良アドレス記憶を行い、制御回
路11による初期設定動作においては、初期設定データ
記憶領域3の不良アドレスデータの有効性を参照データ
に基づいて確認して、初期データラッチ回路13に転送
記憶するようにする。この転送制御は、機能的には図1
4のようになる。即ち読み出される不良アドレスデータ
とこれと対をなす参照データとを、不良アドレスデータ
を反転して一致検出回路141に入力して一致検出を行
う。相補関係が検知された場合に、一致検出回路141
の出力により、不良アドレスデータを初期設定データラ
ッチ回路13に転送するための転送ゲート142をオン
にする。この様にして初期設定データ領域3に不良セル
部が存在した場合にも、正確な不良アドレス記憶とその
不良アドレスデータの初期設定データラッチ回路への転
送制御が可能になる。
【0056】[実施の形態5]上記実施の形態4では、
不良アドレスデータと対応する参照データを初期設定デ
ータ記憶領域3の別の列に記憶したが、これらを同じ列
に記憶することができる。その例を図15に示す。即ち
図15では、初期設定データ記憶領域3の第0列の上位
4ビットを不良アドレスデータ1とし、下位4ビットを
これと相補関係にある参照データとして記憶する。第1
列、第3列も同様である。第2列は、先の実施の形態4
と同様に不良であって、“1”状態しかとれないものと
すると、下位4ビットの参照データも“1111”とな
る。
【0057】この実施の形態の場合も、制御回路11に
よる初期設定動作において、初期設定データ記憶領域3
から1列ずつ読み出されるデータの上位4ビット(不良
アドレスデータ)と引き続く下位4ビット(参照デー
タ)の比較を先の実施の形態と同様に行う。これによ
り、有効な不良アドレスデータのみを初期設定データラ
ッチ回路13に転送することができる。この場合、カラ
ムデコーダ7により同時に読み出される1列のデータの
ビット幅が8ビット(或いはそれ以上)であるとすれ
ば、1回のカラム読み出しのみで、不良アドレスの有
効、無効を確認することができる。
【0058】なお実施の形態4,5においては、不良ア
ドレスデータの有効性を確認するための参照データとし
て、不良アドレスデータと1ビットずつ相補関係にある
データを用いたが、これは不良セルが通常列単位或いは
行単位で連続することが多く、相補関係のデータとする
ことにより、確実に且つ簡単に有効性の判別ができるた
めである。しかし、1ビットずつ相補関係にあるデータ
以外にも、他の適当な参照データを用いることができ
る。
【0059】[実施の形態6]図16は、実施の形態6
による不良アドレスデータの記憶法である。この例で
も、図13の例と同様に、初期設定データ記憶領域3に
4ビットからなる不良アドレスデータを記憶する場合で
あり、且つ、第2列は“1”状態しかとれない場合を示
している。このとき、特定の1行を、列が有効か否かを
識別する識別ビットの記憶領域とする。図16の例で
は、第2列が“1”状態以外とれないことから、不良ア
ドレスデータを記憶した列には識別ビットデータとして
“0”を書き込む。
【0060】これにより、識別ビットデータと共に不良
アドレスデータを読み出して、図16の場合であれば、
第0列、第2列、第3列の不良アドレスデータを正しい
不良アドレスデータとして識別確認して、初期設定デー
タラッチ回路13に転送することができる。識別ビット
を2ビット以上とすれば、より確実な不良アドレスデー
タの確認が可能である。なお以上の各実施の形態4〜6
において、行と列の関係は置換可能である。
【0061】以上の各実施の形態において、初期設定デ
ータ記憶領域3に書き込まれる不良アドレスデータは、
他の通常のデータと比べて、“0”,“1”の違いが明
確であることが望ましい。この点を考慮した不良アドレ
スデータ記憶の好ましい実施の形態を次に説明する。
【0062】[実施の形態7]図17は、NOR型EE
PROMの場合のメモリセルデータのしきい値分布を示
している。通常のメモリセルでは実線で示すように、
“1”(消去状態)、“0”(書き込み状態)共にしき
い値電圧は正であり、選択ワード線に与えられる読み出
し電圧Vreadに対して、低しきい値電圧、高しきい
値電圧とされる。これに対して、不良アドレス記憶セル
のデータ“1”は、破線で示すように、通常セルの
“1”に比べてよりしきい値電圧の低い過消去状態に設
定する。同様に不良アドレス記憶セルのデータ“0”
は、破線で示すように、通常セルの“0”に比べてより
しきい値電圧が高い過書き込み状態に設定する。
【0063】この様な不良アドレスデータ記憶を行うこ
とにより、確実な不良セル置換を行うことができる。な
お、不良アドレスの“1”については、過消去状態であ
っても、しきい値電圧が負になることは避けることが好
ましい。NOR型EEPROMの場合、通常非選択ワー
ド線を0Vとするため、しきい値電圧が過消去状態のメ
モリセルがあると、そのリーク電流が他のメモリセルの
正常動作を妨げるからである。
【0064】[実施の形態8]図18(a)(b)は、
NAND型EEPROMの場合のメモリセルデータのし
きい値分布を示している。通常のメモリセルでは実線で
示すように、“1”(消去状態)はしきい値電圧が負、
“0”(書き込み状態)ではしきい値電圧が正になり、
読み出し時選択ワード線には0Vが、非選択ワード線に
はパス電圧Vpassが与えられる。これに対して、不
良アドレス記憶セルのデータ“1”は、破線で示すよう
に、通常セルの“1”に比べてよりしきい値電圧の低い
過消去状態に設定する。同様に不良アドレス記憶セルの
データ“0”は、破線で示すように、通常セルの“0”
に比べてよりしきい値電圧が高い過書き込み状態に設定
する。
【0065】この場合、図18(a)のように、不良ア
ドレス記憶セルの“0”データのしきい値をパス電圧V
passより高い状態にすれば、信頼性は高いものとな
る。但しこのような“0”データ書き込みは、NAND
セルユニットの中の一つのワード線に沿ったセルにしか
適用できない。その他のワード線では、Vpassの印
加で導通させなければならないからである。従って、不
良アドレス記憶領域の無駄が多くなる。これに対して、
図18(b)のように、不良アドレス記憶セルの“0”
データのしきい値をVpass以下の範囲で通常セルよ
り高くすれば、特に問題はなく、信頼性の高い確実な不
良セル置換の制御動作が可能になる。
【0066】なお以上の実施の形態7,8は、メモリセ
ルアレイに書き込まれる不良アドレスデータの“0”,
“1”の判別を確実にする趣旨である。従って、“0”
の書き込み状態を過書き込み状態にするか、“1”の消
去状態を過消去状態にするか、いずれか一方のみを選択
しても有効である。これによっても、“0”,“1”デ
ータのしきい値電圧の差が通常のセルに比べて大きくな
るから、不良アドレスデータ読み出しの信頼性が高いも
のとなる。
【0067】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、メ
モリセルアレイ本体内に初期設定データ領域を設定して
おり、メモリセルアレイ本体のデコード回路やセンスア
ンプ回路をそのまま用いて初期設定データの読み出しを
行うようにしている。従って不良救済のための不良アド
レス記憶その他の初期設定データの記憶と、その制御の
ために大きなチップ面積を必要としないし、複雑な回路
も必要としない。またコマンド入力により、初期設定デ
ータの検証や修正も容易である。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1によるEEPROMの
構成を示す図である。
【図2】同実施の形態1のメモリセルアレイの構成を示
す図である。
【図3】同実施の形態1の初期設定データラッチ回路の
構成を示す図である。
【図4】別の実施の形態2によるEEPROMの構成を
示す図である。
【図5】別の実施の形態3によるEEPROMの構成を
示す図である。
【図6】ベリファイチェックのためのフューズ回路を示
す図である。
【図7】図6の動作タイミング図である。
【図8】図5のフューズデータラッチ回路の構成を示す
図である。
【図9】この発明による初期設定データリードの制御フ
ロー例を示す。
【図10】実施の形態1の場合ものステップS4の制御
フローを示す。
【図11】実施の形態2の場合のステップS4の制御フ
ローを示す。
【図12】実施の形態3の場合のステップS4の制御フ
ローを示す。
【図13】実施の形態4による不良アドレス記憶法を説
明するための図である。
【図14】同実施の形態4における不良アドレスデータ
確認のための回路構成例を示す図である。
【図15】実施の形態5による不良アドレス記憶法を説
明するための図である。
【図16】実施の形態6による不良アドレス記憶法を説
明するための図である。
【図17】実施の形態7による不良アドレス記憶法を説
明するためのしきい値分布を示す図である。
【図18】実施の形態8による不良アドレス記憶法を説
明するためのしきい値分布を示す図である。
【符号の説明】 1…メモリセルアレイ、2a,2b…冗長セルアレイ、
3…初期設定データ領域、4…ロウデコーダ、5…セン
スアンプ回路、6…データレジスタ、7…カラムデコー
ダ、8…高電圧発生回路、9…I/Oバッファ、10…
コマンドレジスタ、11…制御回路、12…アドレスレ
ジスタ、13,15…初期設定データラッチ回路、14
…一致検出回路、16…レディ/ビジーバッファ、17
…パワーオンリセット回路。
フロントページの続き (72)発明者 今宮 賢一 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 (72)発明者 中村 寛 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5B025 AA03 AB01 AC01 AD01 AD04 AD06 AD08 AD13 AD16 AE00 AE09 5L106 AA10 CC09 CC17 CC22 DD12 GG01 GG07

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
    ルが配列され、メモリ動作条件を決定する初期設定デー
    タが書き込まれる初期設定データ領域が設定されたメモ
    リセルアレイと、 アドレス信号により前記メモリセルアレイのメモリセル
    選択を行うデコード回路と、 前記メモリセルアレイのデータを検知増幅するセンスア
    ンプ回路と、 前記メモリセルアレイの初期設定データが読み出されて
    転送保持される初期設定データラッチ回路と、 前記メモリセルアレイのデータ書き込み及び消去の動作
    を制御すると共に、前記メモリセルアレイの初期設定デ
    ータを読み出して前初期設定データラッチ回路に転送し
    て保持させる初期設定動作を制御する制御回路と、を備
    えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリセルアレイは、不良セルを置
    換するための冗長セルアレイを有し、 前記初期設定データは、不良セルを前記冗長セルアレイ
    により置換するためのデータを含むことを特徴とする請
    求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記初期設定データは、データ書き込
    み、消去及び読み出し動作の制御データを含むことを特
    徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記制御回路は、電源投入を検出して前
    記初期設定動作を自動的に行うことを特徴とする請求項
    1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記制御回路は、電源投入後、前記初期
    設定動作が終了するまでの間、外部にビジー信号を出力
    することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記
    憶装置。
  6. 【請求項6】 コマンド入力により設定されて、前記メ
    モリセルアレイの初期設定データを外部に読み出すテス
    トモードを有することを特徴とする請求項1記載の不揮
    発性半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 コマンド入力により設定されて、前記初
    期設定データラッチ回路に保持された初期設定データを
    外部に読み出すテストモードを有することを特徴とする
    請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 コマンド入力により設定されて、前記メ
    モリセルアレイの初期設定データ領域及び、前記初期設
    定データラッチ回路の少なくとも一方のデータを書き込
    むテストモードを有することを特徴とする請求項1記載
    の不揮発性半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記メモリセルアレイの初期設定データ
    領域には、不良アドレスデータと共にその不良アドレス
    データの有効性を確認するための参照データが書き込ま
    れ、且つ前記制御回路による初期設定動作において、前
    記不良アドレスデータは前記参照データに基づいて有効
    性が確認されたものだけが前記初期設定データラッチ回
    路に転送されることを特徴とする請求項1記載の不揮発
    性半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 前記参照データは、前記不良アドレス
    データに対してその各ビット毎に相補関係にあるデータ
    であることを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体
    記憶装置。
  11. 【請求項11】 前記参照データは、前記不良アドレス
    データが記憶される行又は列の有効性を示す識別ビット
    データであることを特徴とする請求項9記載の不揮発性
    半導体記憶装置。
  12. 【請求項12】 前記メモリセルアレイの初期設定デー
    タ領域に書き込まれる不良アドレスデータは、“0”デ
    ータと“1”データのしきい値電圧の差が他のデータ記
    憶領域に比べて大きく設定されることを特徴とする請求
    項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  13. 【請求項13】 前記メモリセルアレイの初期設定デー
    タ領域に、初期設定データと共にチップ情報が書き込ま
    れることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記
    憶装置。
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