JPH10504299A - 4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフェニルイソシアネート) - Google Patents
4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフェニルイソシアネート)Info
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- JPH10504299A JPH10504299A JP8507034A JP50703496A JPH10504299A JP H10504299 A JPH10504299 A JP H10504299A JP 8507034 A JP8507034 A JP 8507034A JP 50703496 A JP50703496 A JP 50703496A JP H10504299 A JPH10504299 A JP H10504299A
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Abstract
(57)【要約】
一般式
Description
【発明の詳細な説明】
4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6
−ジアルキルフェニルイソシアネート)
本発明は、一般式
(式中、R1は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を意味し、R2は塩素また
は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。)
の4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフェニルイソシ
アネート)、上記のポリイソシアネートの製造方法、および上記ポリイソシアネ
ートのポリウレタン(PU)系における使用に関する。
以下、ポリウレタン系とは、ウレタン基および(または)尿素基を含むポリウ
レタン系を意味する。PU系の製造におけるポリイソシアネート成分としては、
一般的にトルエン−2,4−ジイソシアネートおよび(または)トルエン−2,
6−ジイソシアネートをTDIと略称し、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソ
シアネートをMDIと略称している。
TDIの大きな欠点は、その毒性が高いことである。この化合物は、工業的な
基準で可能な最大限の安全処置を講じて取り扱われているが、高い危険性を含ん
でいる。
毒性がより低いMDIは、ポリオールとの反応性は高いが、芳香族ポリアミン
と加工できないために、MDIへ完全に移行する可能性も限られている。その上
、TDIおよびMDIを基剤とするPU系は、使用温度が最高で100℃に限ら
れている。
本発明の課題は、高い毒性がなく、反応性がMDIより高く、古典的な、広く
普及しているPU加工方法で加工できるポリイソシアネートを開発することであ
る。この課題に関連して、100℃を超える温度でも使用できる化学的に安定し
たPU系を開発することもまた、本発明の目的である。
この課題は、本発明による上記一般式Iのポリイソシアネートにより解決され
る。
R1およびR2は、C1〜C6アルキル基としての意味を有し、同一であるか、ま
たは異なっていてよく、好ましくはメチル、エチル、n−またはi−プロピル、
n−、i−またはt−ブチル、ペンチルおよびその異性体、およびヘキシルおよ
びその異性体を意味する。好ましくは、R1およびR2は同じ意味を有し、上記の
C1〜C4アルキル基を表わす。
好ましいポリイソシアネートは、R1およびR2がエチルである4,4’−メチ
レン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシアネート)である。
本発明のポリイソシアネートの製造は、既知の方法により、対応するポリアミ
ンをホスゲンまたはホスゲンを放出する化合物、たとえばジホスゲンまたはトリ
ホスゲンで転化することにより達成される(たとえばUllmannの工業化学辞典、
第4版、13巻、351頁以降参照)。対応するポリアミンは、ヨーロッパ特許
出願EP−A0220641に記載されている。好ましいポリアミンは、4,4
’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルアニリン)(M−CDEA
)である。ホスゲン化は、不活性溶剤、たとえばトルエンまたはクロロベンゼン
の存在下に、高温で行なうのが有利である。この転化は実質的に定量的に進行す
る。ポリイソシアネートが高純度で得られるのが、この転化の特徴である。
本発明のポリイソシアネートのPU系への加工は、基本的に既知の方法により
、場合により通常の触媒および添加剤の存在下で、少なくとも2個の、ポリイソ
シアネートに対して活性な水素原子を有する化合物、および場合によっては連鎖
成長剤で転化することにより、行なわれる(Saechtling、プラスチックハンドブ
ック、第24版、Carl Hauser Verlag社、ミュンヘンの出版、1989年429
頁以降参照)。本発明のポリイソシアネートと他の脂肪族または芳香族ポリイソ
シアネートとの混合物、またはポリイソシアネートのプレポリマーないしポリイ
ソシアネートと脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとの混合物を基剤とする
プレポリマーを使用することもできる。
少なくとも2個の、ポリイソシアネートに対して活性な水素原子を有する化合
物の好適な代表例は、とくにポリオール、たとえばポリエーテルポリオール、ポ
リエステルポリオールまたはその他のポリオール(たとえばポリカプロラクトン
)である。連鎖成長剤の好適な代表例は、ポリアミン、たとえば芳香族ジアミン
であるMOCA、M−CDEA、M−CDEAと芳香族または脂肪族のジアミン
またはポリオールとの混合物、またはジメチルチオトルエンジアミンの異性体混
合物(同書430頁またはEP−A220641)である。
さらに、テトラメチルブタンジアミン(TMBDA)、ジアザビシクロオクタ
ン(DABCO)、ジラウリン酸ジブチルスズ(DBTC)または有機重金属化
合物のような、通常のすべての触媒を単独で、または添加剤、たとえば可塑剤、
安定剤、難燃剤、推進剤または充填材、とともに使用することができる(同書4
30頁)。
本発明のポリイソシアネートの大きな長所は、通常のPU加工方法、たとえば
ワンショットRIM法、ツーショットプレポリマー法またはツーショット直接法
、で加工できることである。PUエラストマー分野、とくにPU射出成形分野に
おけるポリイソシアネートの好ましい応用に関しては、プレポリマー法が優って
いる。
本発明のポリイソシアネートは、場合により通常の触媒および場合により他の
添加剤の存在下に、
a)一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフ
ェニルイソシアネート)を、
b)少なくとも2個の、イソシアネートに対して活性な水素原子を有する化合物
、および場合により
c)連鎖成長剤
で転化することにより製造されるポリウレタン系に使用するのが有利である。
上記の通常の添加剤の存在下に、
a)一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフ
ェニルイソシアネート)を、
b)少なくとも2個の、イソシアネートに対して活性な水素原子を有する化合物
、
好ましくは上記の化合物、および
c)連鎖成長剤として芳香族ジアミン
で転化することにより製造されるポリウレタン系が好ましい。
とくに好ましくは、芳香族ジアミンとして4,4’−メチレン−ビス(3−ク
ロロ−2,6−ジアルキルアニリン)、とくに4,4’−メチレン−ビス(3−
クロロ−2,6−ジエチルアニリン)を、単独で、または他の芳香族または脂肪
族ジアミンとの、またはポリオールとの混合物の成分として、および成分a)と
して4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシ
アネート)を使用する。
本発明の新規なポリイソシアネートを基剤として製造されるPU系は、既知の
PU系と比較して、予期されなかった高い化学的安定性および180℃までの使
用温度を有するのが特徴である。
そのため本発明のPU系は、とりわけPUエラストマーの分野、とくに射出成
形の分野で、たとえばロール、車輪、ロールカバー、断熱材、パッキングまたは
流込み材料の製造に使用される。しかし、このPU系をスプレー塗装またはPU
発泡材用に使用することも可能である。実施例1a
4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシアネ
ート)の製造
4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルアニリン)100
g(0.26モル)を室温でオートクレーブ中のジクロロベンゼン1000g中
に入れた。この溶液中に、ホスゲン57g(0.58モル)を30分間かけて導
入した。オートクレーブを閉じ、この反応混合物を80℃において1時間撹拌し
た。
ついで圧力を解放し、生成した塩化水素、過剰のホスゲンおよび溶剤を除去し
た。これによって標題化合物が収量110g(理論値の98%)で得られた。
実施例1b
実施例1aと同様に、ただし溶剤としてトルエンを使用し、標題化合物が収量
109gで得られた。PU系における、4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフ ェニルイソシアネート)と先行技術により得られるイソシアネートの比較 1.使用するイソシアネート
MCDE−I 4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニルイソシアネート)=本発明の化合物
MDE−I 4,4’−メチレン−ビス(2,6−ジエチルフェニルイソシア
ネート)=比較物質
MDI 4,4’−メチレン−ビス−フェニルイソシアネート=比較物質2.プレポリマーの製造(成分A) プレポリマー1(本発明)
ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG;「テトラセン」Tetrathane
650、デュポン)、分子量650、およびMCDE−Tを基剤とするプレポリマ
ー
94%MCDE−Iの1850g(4モル)を、窒素(N2)雰囲気中、80
℃で融解させて反応フラスコ中に入れ、撹拌しながら、PTMGの1300g(
2モル)を30分間以内に加えた。PTMGは線状であり、イソシアネートに加
える前に、100℃において2500Paの真空下で1時間脱水した。PTMG
を完全に加えた後、N2中、90℃でさらに2時間撹拌した。
こうして、遊離NCO基の含有量5.2%のプレポリマーが得られた。このプ
レポリマーを「PTMG 650−MCDE−T」と呼ぶことにする。プレポリマー2(本発明)
ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG;「テトラセン」2000、デュ
ポン)、分子量2000、およびMCDE−Iを基剤とするプレポリマー
95%MCDE−Iの1234g(2.67モル)を、N2雰囲気中、80℃
で融解させて反応フラスコ中に入れ、撹拌しながら、PTMGの2133g(1
.066モル)を30分間以内に加えた。PTMGは線状であり、イソシアネー
トに加える前に、100℃において2500Paの真空下で1時間脱水した。P
TMGを完全に加えた後、N2中、90℃でさらに2時間撹拌した。
こうして、遊離NCO基の含有量3.96%のプレポリマーが得られた。この
プレポリマーを「PTMG 2000−MCDE−I」と呼ぶことにする。プレポリマー3(本発明)
ポリカプロラクトングリコール(PCL;CAPA 220、インターロックス)、分子
量2000、およびMCDE−Iを基剤とするプレポリマー
94%MCDE−Iの1245g(2.7モル)を、N2雰囲気中、80℃で
融解させて反応フラスコ中に入れ、撹拌しながら、PCLの2133g(1.0
66モル)を30分間以内に加えた。PCLは線状であり、イソシアネートに加
える前に、100℃において2500Paの真空下で1時間脱水した。PCLを
完全に加えた後、N2中、90℃でさらに2時間撹拌した。
こうして、遊離NCO基の含有量3.92%のプレポリマーが得られた。この
プレポリマーを「PCL 2000−MCDE−I」と呼ぶことにする。プレポリマー4(比較)
PTMG(「テトラセン」2000、デュポン)、分子量2000、およびMCDE
−Iを基剤とするプレポリマー
94%MDE−Tの1158g(3モル)を、N2雰囲気中、80℃で融解さ
せて反応フラスコ中に入れ、撹拌しながら、PTMGの2400g(1.2モル
)を30分間以内に加えた。PTMGは線状であり、イソシアネートに加える前
に、100℃において2500Paの真空下で1時間脱水した。PTMGを完全
に加えた後、N2中、90℃でさらに2時間撹拌した。
こうして、遊離NCO基の含有量4.32%のプレポリマーが得られた。この
プレポリマーを「PTMG 2000−MDE−I」と呼ぶことにする。プレポリマー5(比較)
PCL(CAPA 220、インターロックス)、分子量2000、およびMDE−Iを
基剤とするプレポリマー
プレポリマー4の製造において、PTMGを同量のPCLで置き換え、その他
は同じ条件で、遊離NCO基の含有量4.23%のプレポリマーが得られた。こ
のプレポリマーを「PCL 2000−MDE−I」と呼ぶことにする。プレポリマー6
PCL(CAPA 220、インターロックス)、分子量2000、およびMDIを基剤
とするプレポリマー
MDIの400g(1.6モル)を、N。雰囲気中、60℃で融解させて反応
フラスコ中に入れ、80℃に加熱し、撹拌しながら、PCLの1000g(0.
5モル)を10分間以内に加えた。PCLは線状であり、イソシアネートに加え
る前に、100℃において2500Paの真空下で1時間脱水した。PCLを完
全に加えた後、N2中、80℃でさらに2時間撹拌した。
こうして、遊離NCO基の含有量6.6%のプレポリマーが得られた。このプ
レポリマーを「PCL 2000−MDI」と呼ぶことにする。3.成分B
成分Bは、融解したジアミン*であるか、またはこのジアミンないしジアミン
混合物を対応するポリオール中に溶解させた、透明な、脱気した、加工温度(8
0℃)に冷却した溶液である。このポリオール溶液は、さらに、系全体(成分A
+B)に対して0.3%の有機ビスマス化合物(キヤスケミカル Ine.,ニュー
ジャージー製のCoscat 83 Catalyst)を含む。
*I 4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルアニリン)M
−CDEA
II ジアミン混合物、「ルボキュア」 MUT-HT、レーマン・アンド・フォス
III ジメチルチオトルエンジアミンの2,4−および2,6−異性体の混合物
、「エタキュア」Ethacure 300、アルベマール Inc.4.試験片の調製
プレポリマー(成分A)およびジアミン(連鎖成長剤、成分B)を、モル比す
なわちNCO基の、遊離OH基とNH2基との合計に対する比1:0.95で配
合し、80℃において30分間よく混合し、110℃に加熱した、内側寸法20
0
×200mmの金型中に注ぎ込み、続いてゼリー状になりはじめる時(硬化時)に
、プレス中、110℃、200バールの圧力をかけた。十分に硬化した後(離型
時間)、型から外し、110℃で16時間熟成させた。硬化したエラストマーか
ら試験片を打ち抜いた。5.試験パラメータ
ショアーAおよびショアーD硬度 DIN 53505
引き裂き抵抗[N/mm] DIN 53515
引張り強度[N/mm2] DIN 53504
100%伸長における張力 DIN 53504
破断伸長% DIN 53504
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
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DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
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TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG),
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Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一般式 [式中、R1は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を意味し、R2は塩素ま たは1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。] の4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフェニルイソ シアネート)。 2.4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシ アネート)。 3.一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフ ェニルイソシアネート)の製造方法において、一般式 [式中、R1およびR2は請求項1に記載の意味を有する。]の4,4’−メチ レン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルアニリン)をホスゲンまたはホス ゲンを放出する化合物で転化することを特徴とする方法。 4.一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキルフ ェニルイソシアネート)の、ポリウレタン系の製造への使用。 5.4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシ アネート)を使用することを特徴とする請求項4の方法。 6.場合により通常の触媒、および場合により他の添加剤の存在下に、 a)一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキル フェニルイソシアネート)を、 b)少なくとも2個の、イソシアネートに対して活性な水素原子を有する化合 物、および場合により c)連鎖成長剤 で転化することにより製造されたことを特徴とするポリウレタン系。 7.場合により通常の触媒、および場合により他の添加剤の存在下に、 a)一般式Iの4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジアルキル フェニルイソシアネート)を、 b)少なくとも2個の、イソシアネートに対して活性な水素原子を有する化合 物、および c)連鎖成長剤として芳香族ジアミン で転化することにより製造されたことを特徴とする請求項6のポリウレタン系 。 8.芳香族ジアミンとして、4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6− ジアルキルアニリン)または4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6− ジアルキルアニリン)と1種以上の芳香族または脂肪族ジアミンまたはポリオー ルとの混合物を使用することを特徴とする請求項7のポリウレタン系。 9.4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルフェニルイソシ アネート)、および芳香族ジアミンとして4,4’−メチレン−ビス(3−クロ ロ−2,6−ジエチルアニリン)または4,4’−メチレン−ビス(3−クロロ −2,6−ジエチルアニリン)と1種以上の芳香族または脂肪族ジアミンまたは ポリオールとの混合物を使用することを特徴とする請求項7または8のポリウレ タン系。
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