JPH10335809A - 半田付け装置 - Google Patents

半田付け装置

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JPH10335809A
JPH10335809A JP14481497A JP14481497A JPH10335809A JP H10335809 A JPH10335809 A JP H10335809A JP 14481497 A JP14481497 A JP 14481497A JP 14481497 A JP14481497 A JP 14481497A JP H10335809 A JPH10335809 A JP H10335809A
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JP
Japan
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circuit board
heating
warp
heating unit
warpage
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JP14481497A
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English (en)
Inventor
Satoru Tanaka
悟 田中
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3494Heating methods for reflowing of solder

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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回路基板を高温状態に保ったまま半田の溶融
状態を確保してその反りの矯正を行えるようにする。 【解決手段】 半田付け装置1において、回路基板2を
加熱するための第1の加熱部4と第2の加熱部5とを備
え、上記第2の加熱部による加熱が不要となった時に、
その加熱を瞬時に遮断することができる加熱遮断機構2
5を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半田付け装置に関
し、回路基板を高温状態に保ったまま半田の溶融状態を
確保してその反りの矯正を行えるようにするものであ
る。
【0002】
【従来の技術】リフロー方式による半田付けは、電子部
品をリフロー半田によって仮固定した回路基板を加熱炉
内を通過させて、一旦、リフロー半田を溶融させて、そ
の後冷却して溶融半田を固化させることにより行うもの
である。
【0003】図6及び図7は従来のリフロー方式による
半田付け装置a及び半田付け装置aにおける半田(リフ
ロー半田)の温度特性を示すものである。
【0004】半田付け装置aにおいては、電子部品b、
b、・・・(その内の1のみを図示する)がリフロー半
田によって仮固定された回路基板cを、加熱炉dを通過
させることによって、一旦、リフロー半田を溶融させ、
冷却ファンeによって冷却して溶融しているリフロー半
田を固化させるものである。図7は、その時のリフロー
半田の温度の経時変化の例を示すものである。
【0005】ところで、上記半田付け装置aにおいて
は、加熱炉dによって加熱されると回路基板cも軟化し
て、図8に示すように、回路基板cの幅方向DWにおけ
る中央部が自重によって下方に下がってしまい、回路基
板cに反りが生じる。このような、回路基板cの反りに
より、特に、大型のIC等のように、多数のリードf、
f、・・・を備えている電子部品bにおいては、一部の
リードf、f、・・・が回路基板cから浮いてしまっ
て、そのままの状態でリフロー半田が固化すると、リー
ドf、f、・・・が接触不良となってしまうという問題
があった。
【0006】そこで、上記したような回路基板cの反り
によって生じる問題を解消するために、図9に示すよう
に、回路基板cの反り矯正機構gを有する半田付け装置
hが用いられている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したよ
うな反り矯正機構gを有する半田付け装置hにおいては
回路基板cの反りの矯正は、図10に示すように、矯正
開始点がリフロー半田の液相温度よりも高い時点、即
ち、リフロー半田が溶融している状態で行う必要があ
る。
【0008】しかしながら、比較的大きな回路基板iの
場合においては、半田付け装置hの反り矯正機構gは回
路基板iが加熱炉dから外部に出た状態で反りの矯正を
行うという構造であり、しかも、加熱炉dと反り矯正機
構gとの間の搬送経路上の距離が離れているので、回路
基板iの温度が下がって、図11に示すように、矯正開
始点がリフロー半田の液相温度よりも低い時点となる、
即ち、回路基板iの温度が低くなり過ぎてリフロー半田
が固まってしまった状態で反りを矯正することとなっ
て、回路基板iの反りは矯正できても電子部品bのリー
ドf、f、・・・の半田付けの不良は解消することはで
きないという問題があった。
【0009】そこで、本発明半田付け装置は、上記問題
点に鑑み、回路基板の反りの矯正を行うと共に、電子部
品の半田付け不良をも防止することを課題とするもので
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明半田付け装置は、
上記課題を解決するために、回路基板を加熱するための
第1の加熱部と第2の加熱部とを備え、第2の加熱部に
よる加熱が不要となった時にその加熱を瞬時に遮断する
ことができる加熱遮断機構を設けたものである。
【0011】従って、回路基板は第1の加熱部によりリ
フロー半田が溶融した状態になるように加熱され、その
後の回路基板の搬送中にその温度が低下しないように第
2の加熱部で加熱されてリフロー半田の溶融状態が保た
れ、その状態のまま回路基板の反りの矯正を行うことが
できるようになる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明半田付け装置の実施
の形態について、図1乃至図5を用いてその詳細を示
す。
【0013】半田付け装置1は、回路基板2に電子部品
の半田付けを行うためのものであり、搬送機構3、第1
の加熱部4、第2の加熱部5、冷却ファン6及び反り矯
正機構7等から成るものである。
【0014】尚、以下の説明において、上下、前後及び
左右の方向について述べるときは、図1における上下を
そのまま上方及び下方、左右を後及び前方とし、図2に
おける左右をそのまま左方及び右方とする。
【0015】回路基板2は、例えば、両面回路基板であ
り、ベースとなる絶縁基板8の両面に電子部品9、9、
・・・が半田によって固定されて成る比較的大きなもの
である。
【0016】搬送機構3は、図示しないモータによって
駆動され、図2に示すように、それぞれスプロケットホ
イール10、10の間に架け渡された1対のチェーン1
1、11を左右にある程度離間して配置して成るもので
ある。
【0017】また、左右のチェーン11、11の各ロー
ラリングプレートを連結する連結ピンは一端部がそれぞ
れ右方及び左方に向かってある程度の長さで突出し、こ
れら突出した連結ピンの一端部が基板支持部12、1
2、・・・となっている。
【0018】第1の加熱部4は加熱炉であり、略密閉さ
れた内部空間を有する筐体13内にヒータ14が配置さ
れて成る。筐体13の前後の壁部には上下に2つずつ、
横長の通過口15、15、・・・が形成されている。そ
して、上記搬送機構3のチェーン11、11がそれぞれ
通過口15、15、・・・を各別に通され、これによっ
て、搬送機構3の途中に第1の加熱部4が配置されてい
ることになる。尚、第2の加熱部5については後述す
る。
【0019】冷却ファン6は、搬送機構3の略前端に近
い部分の上方に配置され、後述するように、加熱された
回路基板2が反り矯正機構7によって反りが矯正された
後に、これを冷却するためのものである。
【0020】反り矯正機構7は、回路基板2を下方から
押圧する矯正治具16と、該矯正治具16を上下に移動
させるエアシリンダ17と、搬送機構3によって搬送さ
れてきた回路基板2を矯正治具16に対応した位置で停
止させるための基板停止部材18と、該基板停止部材1
8を上下に移動させるためのエアシリンダ19と、矯正
治具16によって押圧される回路基板2の左右の両側縁
の上方への移動を阻止するための押え部材20、20等
から成るものである。
【0021】矯正治具16とエアシリンダ17は押圧機
構を構成する。即ち、矯正治具16のベース台21の上
面には、図2及び図3に示すように、上部が略円錐状を
為すと共にその先端が丸みを帯びるように形成された略
棒状の矯正ピン22、22、・・・が多数突設されてい
る。そして、ベース台21の下面の中央がエアシリンダ
17の上端に連結され、これによって、矯正治具16
は、図2に示す待機位置と、図3に示す押圧位置との間
を移動するようにされている。
【0022】基板停止部材18は、図2及び図3に示す
ように、搬送機構3のチェーン11、11の間に位置し
た状態でエアシリンダ19の上端と連結され、その上端
部が搬送機構3に載置された状態の回路基板2の上面よ
りも上方に突出した阻止位置と、図1に示す回路基板の
下面よりも低い位置に位置した待機位置との間を移動す
るようにされている。
【0023】そして、基板停止部材18は、搬送機構3
の前端部まで回路基板2が搬送されてきた時に、図示し
ない位置センサによってその位置が所望の位置に近づい
ていることが検出され、該検出結果に基づいてエアシリ
ンダ19が作動して基板停止部材16が上昇して阻止位
置に移動し、該阻止位置に移動した基板停止部材16に
回路基板2の前側縁が当接して、回路基板2はその位置
(以下、「被矯正位置」という。)に停止せしめられ
る。尚、上記被矯正位置においては、回路基板2は矯正
治具16の真上に位置するようになる。
【0024】押え部材20、20は、図2及び図3に示
すように、被矯正位置に位置した回路基板2の左右の両
側縁の上方に配置されている。
【0025】第2の加熱部5は、第1の加熱部4と反り
矯正機構7との間に位置する。即ち、第2の加熱部5
は、内部に冷却ファン6及び反り矯正機構7が共に配置
された筐体23の第1の加熱部4に隣接した位置の上方
にヒータ24が配置されて成るものである。そして、筐
体23内において、冷却ファン6が配置された部分と第
2の加熱部5が配置された部分との間はしきり板23a
によって仕切られ、これらの部分の下方が後述する遮蔽
板によって覆われると、それぞれ独立した空間となって
他から遮断されるようになっている。
【0026】上記筐体23内には、図1に示すように、
冷却ファン6及び第2の加熱部5のヒータ24の下方を
摺動して移動する加熱遮断機構25が設けられている。
【0027】上記加熱遮断機構25は、遮蔽板26及び
これを駆動するための図示しないエアシリンダ等の適宜
な駆動装置から成り、遮蔽板26は搬送機構3のチェー
ン11、11と平行に移動し、冷却ファン6を下方から
覆う位置と、第2の加熱部5のヒータ24を下方から覆
って、筐体23内においてヒータ24が配置された空間
を他から切り離すようにする位置との間を摺動するよう
にされている。
【0028】尚、上記のように、遮蔽板26で第2の加
熱部のヒータ24を下方から覆って、筐体23内におい
てヒータ24が配置された空間を他から遮断するように
したのは、第2の加熱部5は、ヒータ24の稼働を停止
しただけでは、余熱によってしばらくは回路基板2を加
熱し続ける特性を有するためである。また、第2の加熱
部5のヒーター24の稼働中は、冷却ファン6が配置さ
れた空間を他から遮断するようにしたのは、冷却ファン
6に第2の加熱部5の熱が伝わって悪影響を与えないよ
うにするためである。
【0029】そして、搬送機構3、第1の加熱部4、第
2の加熱部5、冷却ファン6、反り矯正機構7及び加熱
遮断機構25等の動作は、図1に示すように、制御系2
7によって制御される。また、半田付け装置1の各部に
適宜配置された図示しない各種センサからの出力は、上
記制御系27に入力される。
【0030】次に半田付け装置1の各部の動作について
詳しく説明する。
【0031】回路基板2の製造工程において、マウント
工程によって絶縁基板8上に電子部品9、9、・・・が
仮固定された回路基板2は、半田付け装置1の搬送機構
3上、即ち、図2及び図3に示すように、チェーン1
1、11の基板支持部12、12、・・・上に載置さ
れ、チェーン11、11の走行によって図1に示す矢印
の方向に搬送される。
【0032】第1の加熱部4によって加熱された回路基
板2はその両側縁部が、絶縁基板8上で電子部品9、
9、・・・を仮固定しているリフロー半田が溶融する。
同時に、絶縁基板8も軟化し、その自重により左右方向
における中央部が僅かに下方に下がるような形状、つま
り、反りが生じる。従って、回路基板2はこの反りを矯
正するために、反り矯正機構7へと搬送される。
【0033】第1の加熱部4を出た回路基板2は、反り
矯正機構7に達するまでの間に溶融しているリフロー半
田が硬化してしまわないように、第1の加熱部4と反り
矯正機構7との間に設けられた第2の加熱部に5よって
反り矯正機構7に達する寸前まで加熱されて温度が下が
らないように保温されるようになっている。
【0034】そして、回路基板2が第1の加熱部4から
出て、反り矯正部7の近くに達したことが検知される
と、この後に回路基板2に対して行われる反りの矯正や
冷却等の処理を行う各装置又は部材が初期状態にリセッ
トされる。即ち、冷却ファンは停止しているか、遮蔽板
26が冷却ファン6の下方を覆うように位置している
か、矯正治具17は待機位置にあるか、基板停止部材1
8は阻止位置にあるか、等が確認され、もし、これらが
上記位置、即ち、初期状態にない場合には、冷却ファン
6は停止し、遮蔽板26は冷却ファン6の下方を覆う位
置に移動し、矯正治具16は前記待機位置に移動し、基
板停止部材18は阻止位置に移動する、等の制御が行わ
れる。
【0035】次に、回路基板2が、第2の加熱部5を通
過しその前端が基板停止部材18に当接すると、それ以
上の移動が阻止されて前記被矯正位置に到達する。
【0036】回路基板2が被矯正位置にあることが検知
されると、これをトリガーとして、図3に示すように、
反り矯正治具16が待機位置から上昇して前記押圧位置
に移動し、矯正ピン22、22、・・・の上端が回路基
板2、即ち、絶縁基板8の下面の左右方向における中央
部に当接してこれを押し上げる。すると、回路基板2
は、載置されていた搬送機構3の基板支持部12、1
2、・・・から浮いた状態となり、同時に、左右の両側
縁がそれぞれ押え部材20、20に当接し、絶縁基板8
の左右方向における中央部のみが上方に押し上げられ
る。従って、回路基板2は、上記矯正治具16の押圧に
よって、その絶縁基板8の左右方向における中央部のみ
が下方に下がった状態、即ち、反りが矯正されて略平坦
な状態に整形される。
【0037】この後、図4に示すように、加熱遮断機構
25の遮蔽板26は、第2の加熱部5のヒータ24の下
方を覆う位置に移動してその熱を遮断し、同時に、所定
のタイミングで冷却ファン6が稼働して、回路基板2を
冷却して軟化していた絶縁基板8及び溶融していたりフ
ロー半田を冷却する。すると、絶縁基板8は反りが矯正
されて平坦となった状態で固化すると共に、リフロー半
田も固化して電子部品9への半田付けも確実に行われ
る。
【0038】また、冷却ファン6の稼働が開始されてか
ら一定時間が経過すると、冷却ファン6が停止すると共
に遮蔽板26が冷却ファン6の下方を覆う位置に移動
し、矯正治具16及び基板停止部材18は待機位置に移
動する。
【0039】そして、回路基板2は搬送機構2により搬
送されて、半田付け装置1から出て次工程に送られ、こ
の回路基板2が次工程に送られたことが検知されて、基
板停止部材18が阻止位置に移動する。
【0040】上記実施の形態に示すように、電子部品9
が載置された絶縁基板8は、搬送機構3の搬送区間にお
いて、最初第1の加熱部4によって加熱されてリフロー
半田が溶融した状態とされ、更に、第2の加熱部5によ
ってリフロー半田が溶融した状態を保つようにされてこ
の後の反り矯正機構7へと送られるようになっている。
そして、反り矯正機構7においては、第2の加熱部5に
よってリフロー半田が溶融した状態が保たれたまま回路
基板2に押圧力が加えられて絶縁基板8の反りの矯正が
行われる。
【0041】従って、回路基板2は、その大きさに関わ
らず反り矯正機構7による反りの矯正は第2の加熱部5
による加熱によって、図5に示すように、矯正開始点が
リフロー半田の液相温度よりも高い時点で行われること
となり、この時点においては、絶縁基板8が軟化してい
ると共にリフロー半田も溶融しているため、回路基板2
の反りの矯正を容易、且つ、確実に行うことが可能であ
ると共に、電子部品9のリードへの半田付けの不良が発
生することがない。
【0042】また、回路基板2の反りの矯正が終了した
時点で、加熱遮断機構25によって瞬時に第2の加熱部
5からの熱を遮断するようになっている共に、これと同
時に冷却ファン6を稼働させる構造を有するようにした
ので、回路基板2への第2の加熱部による加熱を中止し
て、回路基板2を反りが矯正された状態で直ちに冷却す
ることが可能である。
【0043】尚、上記実施の形態においては、従来の半
田付け装置に元々設けられている、回路基板上のリフロ
ー半田を溶融させるための加熱部を第1の加熱部とし、
これに加えて、リフロー半田を溶融状態に保温するため
に、第2の加熱部を第1の加熱部と別体に独立して設け
るようにしたものを示したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えば、加熱部を反り矯正機構の手前
まで延長して、これに第1の加熱部と第2の加熱部の機
能を併せ持たせるようにすること等が考えられる。
【0044】
【発明の効果】以上に記載したところから明らかなよう
に本発明半田付け装置は、回路基板を加熱するための第
1の加熱部と第2の加熱部とを備え、上記第2の加熱部
による加熱が不要となった時に、その加熱を瞬時に遮断
することができる加熱遮断機構を設けたので、第1の加
熱部によって溶融した半田は、第2の加熱部によってそ
の溶融状態を保つことができ、半田の溶融状態を保つ必
要がなくなった場合には、瞬時に第2の加熱部による加
熱を遮断することができる。
【0045】また、請求項2に記載の発明にあっては、
回路基板の搬送機構の搬送経路の途中に、第1の加熱部
及び第2の加熱部より搬出された回路基板の反りを矯正
するための反り矯正機構を設けたので、回路基板の大き
さに関係なく第2の加熱機構によって半田の溶融状態を
保ったまま回路基板の反りの矯正を行うことができ、電
子部品のリードの半田付けを確実に行うことができる。
【0046】更に、請求項3に記載の発明にあっては、
反り矯正機構は、第1の加熱部及び第2の加熱部より搬
出された回路基板に対して押圧力を与えて回路基板の反
りを矯正するようにしたので、第2の加熱部によって回
路基板が軟化した状態で押圧力によって反りの矯正をお
こなうため、回路基板の反りの矯正をきわめて容易に行
うことができる。
【0047】尚、前記実施例において示した各部の具体
的な形状及び構造は、何れも本発明を実施するに当たっ
ての具体化のほんの一例を示したものに過ぎず、これら
によって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されること
があてはならないものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図2乃至図5と共に本発明半田付け装置の実施
形態の一例を示すものであり、本図は装置全体を側方か
ら見た状態を概略的に示す図である。
【図2】待機位置にある反り矯正機構の正面から見た状
態を概略的に示す図である。
【図3】押圧位置にある反り矯正機構及び回路基板の反
りの矯正の状態を正面から見て概略的に示す図である。
【図4】加熱遮断機構によって第2の加熱部の加熱が遮
断された時の装置全体の側方から見た状態を概略的に示
す図である。
【図5】回路基板の温度の経時変化を示す図である。
【図6】図7と共に従来の半田付け装置の一例を示すも
のであり、本図は装置全体の側方から見た状態を概略的
に示す図である。
【図7】回路基板の温度の経時変化を示す図ずである。
【図8】従来の半田付け装置の問題点を示す図である。
【図9】図10と共に従来の反り矯正機構が設けられた
半田付け装置の一例を示すものであり、本図は装置の側
方から見た状態を示す図である。
【図10】回路基板の温度の経時変化を示すずである。
【図11】図9に示す半田付け装置における比較的大き
な回路基板の温度の経時変化を示す図である。
【符号の説明】
1…半田付け装置、2…回路基板、3…搬送機構、4…
第1の加熱部、5…第2の加熱部、7…反り矯正機構、
9…電子部品、25…加熱遮断機構

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板を加熱して半田を溶融させるこ
    とにより電子部品を上記回路基板に半田付けするための
    半田付け装置であって、 回路基板を加熱するための第1の加熱部と第2の加熱部
    とを備え、 上記第2の加熱部による加熱が不要となった時に、その
    加熱を瞬時に遮断することができる加熱遮断機構を設け
    たことを特徴とする半田付け装置。
  2. 【請求項2】 回路基板の搬送機構の搬送経路の途中
    に、第1の加熱部及び第2の加熱部より搬出された回路
    基板の反りを矯正するための反り矯正機構を設けたこと
    を特徴とする請求項1に記載の半田付け装置。
  3. 【請求項3】 反り矯正機構は、第1の加熱部及び第2
    の加熱部より搬出された回路基板に対して押圧力を与え
    て回路基板の反りを矯正するようにしたことを特徴とす
    る請求項2に記載の半田付け装置。
JP14481497A 1997-06-03 1997-06-03 半田付け装置 Pending JPH10335809A (ja)

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