JPH05243724A - 絶縁基板の反り矯正装置 - Google Patents

絶縁基板の反り矯正装置

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Publication number
JPH05243724A
JPH05243724A JP7880692A JP7880692A JPH05243724A JP H05243724 A JPH05243724 A JP H05243724A JP 7880692 A JP7880692 A JP 7880692A JP 7880692 A JP7880692 A JP 7880692A JP H05243724 A JPH05243724 A JP H05243724A
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JP
Japan
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insulating substrate
substrate
straightening
warp
correction
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Application number
JP7880692A
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English (en)
Inventor
Toshihiko Koike
敏彦 小池
Teruyasu Sakurai
輝泰 桜井
Yoshikuni Taniguchi
芳邦 谷口
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 加熱炉を通過したことにより絶縁基板に生じ
た反りを矯正するための矯正装置であって、絶縁基板の
両面に電子部品が搭載された絶縁基板であってもその反
りを矯正する。 【構成】 絶縁基板9の両側縁9c、9cを載置して搬
送する基板搬送チェーン2、2と、絶縁基板の下面に対
向するように配置され複数の矯正ピン20、20、・・
・を有する矯正治具18と、該矯正治具を介して絶縁基
板を上方へ押し上げるエアシリンダ21と、絶縁基板の
両側縁を上方から押さえる押えレール26、26とを備
え、上記矯正ピンを基板搬送チェーンに載置された絶縁
基板の下面に搭載された電子部品10、10、・・・を
避けた所定の位置に配置して、矯正ピンをエアシリンダ
21により上昇させて絶縁基板の下面略中央を下方から
押し上げるとともにその左右幅方向の両側縁を押えレー
ルにより上方へ移動しないように抑える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な絶縁基板の反り矯
正装置に関する。詳しくは、電子部品を絶縁基板に仮固
定したリフロー半田を溶融するための加熱炉を通された
絶縁基板の反りを矯正する矯正装置に関するのもであ
り、絶縁基板の両面に電子部品が搭載された所謂両面回
路基板であっても絶縁基板の反りを矯正することができ
る新規な絶縁基板の反り矯正装置を提供しようとするも
のである。
【0002】
【従来の技術】リフロー方式による半田付けは、電子部
品をリフロー半田によって仮固定した絶縁基板を加熱炉
内を通過させて、一旦、該リフロー半田を溶融させ、そ
の後冷却して溶融半田を固化させることにより行う。
【0003】かかるリフロー半田工程において絶縁基板
の搬送は絶縁基板の搬送方向における幅方向の両側縁を
支持した状態で行われるのが一般的である。
【0004】ところで、リフロー半田の溶融温度は18
0℃程度であり、従って、加熱炉内の温度は当該リフロ
ー半田を溶融するのに十分な温度、例えば、240℃位
にされる。
【0005】一方、回路基板に用いられる通常の絶縁基
板の軟化温度は120℃前後であり、加熱炉を通過され
た絶縁基板はその幅方向における中央部が自重により下
方へ下がり、反りが生じてしまう。
【0006】図8は絶縁基板aにそのような反りが生じ
た状態の回路基板bを示すものであり、絶縁基板aにこ
のような反りが生じると、絶縁基板a上の電子部品cの
リードd、d、・・・、特に、絶縁基板aの幅方向に配
列されたリードd、d、・・・のうち配列方向の中央部
のものが絶縁基板aの表面上に設けられた接続ランドか
ら離間してしまい、半田付け不良が生じてしまう。
【0007】このような半田付け不良は大型のIC等の
ように多数のリードを備え、そのリードの配列距離が長
いものほど顕著に発生する。
【0008】そこで、リフロー半田工程においては、従
来から、加熱炉から出た絶縁基板が冷却される前にその
反りを矯正する矯正装置を設けている。
【0009】図9は従来の絶縁基板の反り矯正装置の一
例eを示すものである。
【0010】同図において、f、fは左右一対の基板搬
送チェーンであり、上側を走行往路、下側を走行復路と
して無端状に走行され、これら基板搬送チェーンf、f
の走行往路側チェーンf、fの上面に加熱炉から出てき
た絶縁基板aの両側縁g、gを載置して、これにより該
絶縁基板aを搬送するようになっている。
【0011】hは左右の基板搬送チェーンfとfとの間
に該基板搬送チェーンf、fの走行方向に沿って延びる
ように配置された押圧部材、i、i、・・・は基板搬送
チェーンf、fの上記走行往路側のチェーンf、fの上
面に対向して配置された押えローラであり、これら押圧
部材hと押えローラi、i、・・・等により反り矯正装
置eが構成され、該反り矯正装置eは図示しない加熱炉
の出口近傍の下流側に配置される。
【0012】押圧部材hは走行往路側チェーンfとfと
の間の略真中であって、高さ方向において押圧部材hの
上縁jが上記チェーンf、fの上面と略一致するように
配置され、また、押圧部材hの加熱炉側の上面が先端に
行くに従い下方に変位するような傾斜縁kに形成されて
いる。
【0013】押えローラi、i、・・・はこれと走行往
路側のチェーンf、fとの間の間隔が絶縁基板aの厚さ
と略同じか又は稍大きくなるように配置されている。
【0014】しかして、電子部品が搭載され加熱炉から
出てきた絶縁基板aはその両側縁が走行往路側のチェー
ンf、fに載置された状態で走行方向に送られ、反り矯
正装置eが設けられた位置まで搬送されてくると、絶縁
基板aの下方に撓んだ下面中央部が押圧部材hの傾斜縁
kに乗り上げると共にその両側縁が押えローラi、iと
搬送チェーンf、fとの間に挟まれる。
【0015】そして、更に、絶縁基板aが下流側へ搬送
されるとその下面略中央が押圧部材hの上縁jに乗り上
げ、かつ、その両側縁が押えローラi、i、・・・と搬
送チェーンf、fとの間に挟まれることにより、平坦
状、即ち、反りが矯正された状態とされる。
【0016】このように反りが矯正された絶縁基板aは
その状態で冷却され、軟化した絶縁基板aが硬化される
と共に溶融した半田が固化される。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
反り矯正装置eは両面回路基板に使用することは事実上
不可能であるという問題がある。
【0018】即ち、絶縁基板aの一方の面にのみ電子部
品が搭載されている状態では他方の面を下に向けて搬送
すれば該下面に押圧部材hを接触させることができる
が、両面回路基板の2回目のリフロー半田工程、即ち、
一方の面における半田付けが終了した後、他方の面に搭
載された電子部品の半田付けを行うためのリフロー半田
工程にあっては、その下面に既に電子部品が搭載されて
いるため、該下面の電子部品を避けて押圧部材h等を接
触させることが事実上不可能だからである。
【0019】このため、従来は、両面回路基板の半田付
けはリフロー方式以外の方式で行うか、あるいは、一方
の面の半田付けのみをリフロー方式により行い他方の面
の半田付けは別の方式に行うことを余儀無くされてい
た。
【0020】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明絶縁基板
の反り矯正装置は、上記した課題を解決すために、絶縁
基板の搬送方向における幅方向の両側縁を載置させて搬
送する搬送手段と、絶縁基板の下面に対向するように配
置され所定の位置に上方へ向けて立設された複数の矯正
ピンを有する矯正治具と、該矯正治具を絶縁基板に向け
て押し上げる押上手段と、該押上手段により押し上げら
れた絶縁基板の幅方向の両側縁を上方へ移動しないよう
に抑える押え手段とを備えたものである。
【0021】
【作用】従って、本発明絶縁基板の反り矯正装置によれ
ば、矯正治具の矯正ピンの配置を当該絶縁基板上の電子
部品の配置パターンと照合してこれを避けるように設定
することにより、搬送手段に載置された状態の絶縁基板
の下面に電子部品が配置されていても矯正ピンを当該下
面のうち電子部品を避けた位置に接触させることがで
き、下面に電子部品が搭載されていると否とにかかわら
ず、絶縁基板をその下方から押圧することができ、これ
により、両面回路基板の製造における半田付けをその両
面のいずれについてもリフロー半田工程によって行うこ
とができる。
【0022】
【実施例】以下に、本発明絶縁基板の反り矯正装置の詳
細を添付図面に示した実施例に従って説明する。
【0023】1は半田リフロー装置であり、基板搬送チ
ェーンと、加熱炉と、冷却用ファン及び反り矯正装置等
から成る。
【0024】2、2は左右一対の基板搬送チェーンであ
り、所謂ローラチェーンから成る。
【0025】該基板搬送チェーン2、2はともに回転軸
が水平で大きさが同じ駆動側のスプロケットホィール
3、3と従動側のスプロケットホィール4、4との間に
無端状に掛け渡され、かつ、これら駆動側のスプロケッ
トホィール3、3と従動側のスプロケットホィール4、
4との間に架け渡された基板搬送チェーン2、2の部分
が水平に延びるように配置されている。
【0026】基板搬送チェーン2、2は外側のローラリ
ンクプレート5、5、・・・と内側のローラリンクプレ
ート6、6、・・・とを回動自在に連結している連結ピ
ン7、7、・・・の一端7a、7a、・・・(以下、
「基板支持部」と言う。)が内側へ向けてある程度の長
さ突出するように形成されている。
【0027】8は両面回路基板(図6参照)である。
【0028】9は該両面回路基板8のベースを為す絶縁
基板であり、例えば、ガラスエポキシ樹脂を主成分する
既知の絶縁材料によに略矩形を為するように形成され、
その両面9a及び9bには図示しない所要の配線パター
ンが形成されると共に、それぞれ電子部品が搭載される
ことにより所定の回路が形成される。
【0029】絶縁基板9の一方の面9aに搭載される電
子部品を10、10、・・・として表わし、また、他方
の面9bに搭載される電子部品を11、11、・・・と
して表わす。
【0030】尚、絶縁基板9への電子部品10、10、
・・・及び11、11、・・・の搭載は、この半田リフ
ロー装置1により行われるリフロー半田工程の前の処理
において、そのリードが絶縁基板9に形成された配線パ
ターンの所定の接続ランドにリフロー半田によって仮固
定することにより行われる。
【0031】そして、絶縁基板9の一方の面9a(以
下、「第一のマウント面」と言う。)に対する電子部品
10、10、・・・の仮固定が終了した後、それら電子
部品10、10、・・・の半田付け処理を行うためにリ
フロー半田工程に投入されて半田付けが為され、次い
で、絶縁基板9の他方の面9b(以下、「第二のマウン
ト面」と言う。)に別の電子部品11、11、・・・が
仮固定された後にもう一度リフロー半田工程に投入され
て、該電子部品11、11、・・・の半田付け処理が行
われる。
【0032】即ち、1つの両面回路基板8の半田付けに
は2回のリフロー半田工程が行われる。
【0033】この半田リフロー装置1において絶縁基板
9は上記基板搬送チェーン2、2の上側の走行区間12
(以下、「往路区間」と言う。)を搬送される。
【0034】即ち、基板搬送チェーン2、2は上記往路
区間12においては図1における右方へ移動するように
走行され、この往路区間12の始端部において絶縁基板
9が基板搬送チェーン2、2に載置され、その載置は、
これから半田付け処理を行う電子部品10、10、・・
・が仮固定されている側の面が上を向く向きで、絶縁基
板9の左右両側縁部9c、9cが上記基板支持部7a、
7a、・・・上に載置されことによって行われる。
【0035】従って、1回目のリフロー半田工程が行わ
れるときは第一のマウント面9aが上を向く向きで基板
搬送チェーン2、2に載置され、2回目のリフロー半田
工程が行われるときは第二のマウント面9bが上を向く
向き(第一のマウント面9aには電子部品10、10、
・・・が搭載済みである)で基板搬送チェーン2、2に
載置される。
【0036】13は加熱炉であり、略密閉された内部空
間を有する外筐14内にヒーター15が配置されて成る
雰囲気方式のもので、外筐14の前後両壁には横長の通
過口14a、14a、・・・が形成され、基板搬送チェ
ーン2、2は上下のそれぞれの走行区間の中間部が上記
通過口14a、14a、・・・を各別に通されて、基板
搬送チェーン2、2の走行区間の途中に加熱炉13が位
置される。
【0037】従って、上記往路区間12の始端部におい
て基板搬送チェーン2、2に載置された絶縁基板9は該
基板搬送チェーン2、2の走行に従って往路区間12を
搬送されて行き、加熱炉13内を通過するときに加熱さ
れ、これによって、リフロー半田が溶融される。
【0038】16は基板搬送チェーン2、2の往路区間
12の終端部上方に配置された冷却用ファンであり、加
熱炉13から出てきた絶縁基板9は、後述する矯正装置
による反り矯正が為された後、この冷却用ファン16に
より冷却され、これにより、加熱炉13内で溶融された
リフロー半田が固化されて電子部品10、10、・・・
及び11、11、・・・の半田付けが行われる。
【0039】17は矯正装置であり、絶縁基板9を下方
から押圧する矯正治具と、該矯正治具を上下方向へ移動
させるエアシリンダと、基板搬送チェーン2、2により
搬送されて来た絶縁基板9を上記矯正治具と対応した位
置で止めるための基板停止部材と、該基板停止部材を上
下方向へ移動するためのエアシリンダと、矯正治具によ
って押圧される絶縁基板9の左右幅方向の両側縁9c、
9cの上方への移動を阻止するための受けレール等から
成る。
【0040】18は矯正治具であり、19は該矯正治具
18のベース台である。
【0041】ベース台19は、前後方向に長い長方形の
平板状をしており、その上面には螺孔状の多数のピン取
付孔19a、19a、・・・が形成され、これらピン取
付孔19a、19a、・・・はベース台19にその左右
方向及び前後方向へ比較的小さなピッチで略規則的に配
列されている。
【0042】20、20、・・・は矯正治具18の矯正
ピンであり、略棒状しており、その上端部は上端へ行く
に従って細くなる円錐状を為し、その上端20a、20
a、・・・が稍丸みを帯びるように形成され、下端部2
0b、20b、・・・は他の部分より稍細い螺軸状に形
成されている。
【0043】矯正ピン20、20、・・・はその下端部
20b、20b、・・・が上記ベース台19のピン取付
孔19a、19a、・・・の所定のものに螺合されるこ
とにより該ベース台19にその上面から垂直に突出する
ように取着される。
【0044】尚、矯正ピン20、20、・・・のベース
台19における配置パターンについては後述する。
【0045】21は上記矯正治具18を上下方向に移動
するためのエアシリンダであり、基板搬送チェーン2、
2の往路区間12の終端部下方に配置され、そのピスト
ンロッド22が上下方向に延びる向きで設けられてい
る。
【0046】そして、上記矯正治具18は、上方から見
て基板搬送チェーン2と2との間の位置にそのベース台
19の下面の中央が上記ピストンロッド22の上端部に
着脱自在に固定され、これにより、矯正治具18は図3
に示す待機位置、即ち、矯正ピン20、20、・・・の
上端が往路区間12側の基板搬送チェーン2、2よりあ
る程度下方に位置した待機位置と図4に示す押圧位置、
即ち、矯正ピン20、20、・・・の上端が基板搬送チ
ェーン2、2に載置された状態の絶縁基板9の下面と同
じか又は稍上方に位置した押圧位置との間を移動する。
【0047】23は基板停止部材であり、軸方向が上下
方向に延びる棒状をしている。
【0048】24は上記エアシリンダ21の反加熱炉1
3側に配置された別のエアシリンダであり、そのピスト
ンロッド25が上下方向に延びる向きで設けられてい
る。
【0049】上記基板停止部材23は、基板搬送チェー
ン2と2との間の略中央に位置した状態で、上記ピスト
ンロッド25の上端部に固定され、これにより、該基板
停止部材23は図1に示すようにその上端部が基板搬送
チェーン2、2に載置された状態の絶縁基板9の上面よ
り稍上方へ突出した阻止位置と、絶縁基板9の下面より
低い位置に位置した待機位置との間を移動する。
【0050】従って、基板停止部材23が阻止位置に来
ている状態で絶縁基板9が往路区間12の終端部まで搬
送されて来ると、該絶縁基板9はその前側縁が基板停止
部材23に当接してその位置(以下、「被矯正位置」と
言う。)で搬送方向への移動が阻止され、この状態で、
絶縁基板9は矯正治具18の真上に位置する。
【0051】26、26は受けレールであり、上記被矯
正位置に位置された絶縁基板9の左右両側縁9c、9c
の上面より稍高いところに配置されている。
【0052】27、28及び29は往路区間12上の絶
縁基板9の位置を検出するための位置センサであり、い
ずれも上記往路区間12における絶縁基板9の通過位置
より高い位置に配置されると共に、一のセンサ27(以
下、「第1のセンサ」と言う。)は矯正位置17と加熱
炉13との間の位置に、別のセンサ28(以下、「第2
のセンサ」と言う。)は被矯正位置に来た絶縁基板9の
反加熱炉13側の側縁の略上方の位置に、更に別のセン
サ29(以下、「第3のセンサ」と言う。)は上記第2
のセンサより反加熱炉13側へある程度離間した位置
に、それぞれ配設されている。
【0053】ところで、前記矯正治具18に矯正ピン2
0、20、・・・を装着するべきベース台19のピン取
付孔19a、19a、・・・の選択は、絶縁基板9がそ
の第一のマウント面9aに搭載される電子部品10、1
0、・・・の配置パターン、即ち、1回目のリフロー半
田工程により半田付けが行われる電子部品10、10、
・・・の配置パターンと照合して、次のように行われ
る。
【0054】即ち、絶縁基板9がその第一のマウント面
9aに電子部品10、10、・・・が搭載済みでかつ該
第一のマウント面9aが下方を向いた向きで前記被矯正
位置に来た場合に、上下方向から見て矯正ピン20、2
0、・・・の上端部20a、20a、・・・が当該電子
部品10、10、・・・を避けており、かつ、絶縁基板
9の左右幅方向における略中央又は該中央に近い位置に
対応したピン取付孔19a、19a、・・・を選択す
る。
【0055】このように選択することにより、矯正ピン
20、20、・・・のベース台19における配置パター
ンは上記状態で矯正治具18が押圧位置へと移動したと
き矯正ピン20、20、・・・の上端部20a、20
a、・・・が電子部品10、10、・・・に接触しない
配置パターンに設定される。
【0056】尚、矯正ピン20、20、・・・のこのよ
うな配置パターンの設定は、2回目のリフロー半田工程
を行う場合においては必須であるが、1回目のリフロー
半田工程については下方を向く絶縁基板9の面9bには
未だ電子部品11、11、・・・が搭載されていないの
で、電子部品11、11、・・・の搭載位置に制約され
ることはない。
【0057】従って、この場合は、ベース台19の左右
幅方向における略中央に位置したピン取付孔19a、1
9a、・・・を選択しても良く、また、2回目のリフロ
ー半田工程を考慮して、予め、2回目のリフロー半田工
程時における下面に搭載された電子部品を10、10、
・・・避けるようにした配置パターンに設定してもよ
い。
【0058】次に、以上のように構成された半田リフロ
ー装置1による動作を、矯正ピン20、20、・・・の
配置パターンが2回のリフロー半田工程のいずれにおい
ても同じである場合を例にとって説明する。
【0059】先ず、絶縁基板9をその第一のマウント面
9aに電子部品10、10、・・・を仮固定した状態で
1回目のリフロー半田工程を行う。
【0060】かかる1回目のリフロー半田工程は絶縁基
板9を上記第一のマウント面9aが上方を向いた向きで
上記往路区間12の始端部において基板搬送チェーン
2、2に載置し、基板搬送チェーン2、2を走行させて
絶縁基板9を上記往路区間12の終端部へ向けて搬送し
て行き、途中、加熱炉13内で加熱して電子部品10、
10、・・・を仮固定しているリフロー半田を溶融す
る。
【0061】このとき、該絶縁基板9が軟化されるた
め、その自重により左右幅方向における中央部が稍下方
へ下がるように反りが生じる。
【0062】絶縁基板9が加熱炉13から出て所定の距
離移動して、絶縁基板9の反加熱炉13側の側縁(走行
方向における前側縁)が前記第一のセンサ27の下方に
位置したとき、絶縁基板9が被矯正位置の近くまで来た
ことが検出され、この検出によりその後に行われる反り
矯正及び冷却等の処理を行う各装置又は部材が初期状態
にあること、即ち、冷却用ファン16は停止され、矯正
治具18は待機位置にあり、基板停止部材23は阻止位
置にあることを確認すると共に、万が一、これら装置又
は部材が初期状態に戻されていない場合は上記検出によ
り当該装置又は部材が初期状態に戻される。
【0063】次に、絶縁基板9は、阻止位置に来ている
基板停止部材23に当接されそこから先への移動が阻止
されて被矯正位置に到達し、このことは第2のセンサ2
8によって検出される。
【0064】この第2のセンサ28の検出をトリガーと
して、矯正治具18が前記押圧位置へと移動され、その
矯正ピン20、20、・・・の上端20a、20a、・
・・が絶縁基板9の下面である第二のマウント面9bに
当接して該絶縁基板9の左右幅方向の略中央を上方へ向
けて押し上げる。
【0065】押し上げられた絶縁基板9は基板搬送チェ
ーン2、2から上方へ稍隔間されるとともに、これと略
同時に絶縁基板9の左右両側縁9c、9cが前記受けレ
ール26、26に当接してこれら側縁9c、9cの上方
への移動が阻止される(図4参照)。
【0066】しかして、絶縁基板9は左右幅方向の中央
部が下方へ下がるように生じていた反りを除かれて略平
坦状に矯正されることになる。
【0067】更に、矯正治具18が押圧位置へと移動し
た後、所定のタイミングで冷却用ファン16が回転さ
れ、これにより、軟化していた絶縁基板9及びそれまで
溶融されていたリフロー半田が冷却されて、絶縁基板9
が平坦状に矯正された状態で硬化されると共に、リフロ
ー半田が固化して当該電子部品10、10、・・・の半
田付けが行われる。
【0068】そして、冷却用ファン16の運転が開始さ
れた後一定時間が経過すると、冷却用ファン16が停止
されると共に、矯正治具18及び基板停止部材23が待
機位置へと移動され、これにより、絶縁基板9は基板搬
送チェーン2、2により半田リフロー装置1から次工程
へ送り出されて行く。
【0069】尚、絶縁基板9が被矯正位置から搬送され
て次工程へ送り出されたことは第3のセンサ29によっ
て検出され、この検出により、基板停止部材23が阻止
位置へと移動される。
【0070】このようにして、所定の数の絶縁基板9、
9、・・・に対する1回目のリフロー半田工程が繰り返
して行われ、この1回目のリフロー半田工程が終了した
絶縁基板9は別の工程においてその第二のマウント面9
bへの電子部品11、11、・・・の仮固定が行われ
る。
【0071】2回目のリフロー半田工程を行うときは、
絶縁基板9を1回目のリフロー半田工程が行われた状態
の裏返しの向き、即ち、第二のマウント面9bが上方を
向く向きで基板搬送チェーン2、2に載置され、従っ
て、その下面には電子部品10、10、・・・が搭載さ
れている。
【0072】そして、この2回目のリフロー半田工程も
上記1回目のリフロー半田工程の場合と同様に、絶縁基
板9が加熱炉13内において加熱された後、基板停止部
材23に当接することで被矯正位置から先への移動を阻
止される。
【0073】そこで、矯正治具18を押圧位置へと移動
すると、その矯正ピン20、20、・・・が絶縁基板9
を下方から押圧して(図7参照)、絶縁基板9はそれま
で生じていた反りが除かれて平坦状にされる。
【0074】その後、所定のタイミングで冷却用ファン
16が回転されて絶縁基板9及びリフロー半田が冷却さ
れ、これにより、絶縁基板9の平坦な形状に矯正されて
硬化すると共に、リフロー半田が固化して当該電子部品
11、11、・・・の半田付けが行われる。
【0075】この後の動作も1回目のリフロー半田工程
と同様に行われる。
【0076】即ち、冷却用ファン16が回転した後一定
の時間が経過すると、矯正治具18及び基板停止部材2
3が待機位置へ移動され、これにより、絶縁基板9が基
板搬送チェーン2、2により半田リフロー装置1から送
り出されて行き、次いで、基板停止部材23が阻止位置
へと移動されて次の絶縁基板9を待つ。
【0077】このようにして、2回目のリフロー半田工
程が行われる。
【0078】尚、1回目のリフロー半田工程についての
矯正ピン20、20、・・・の配置パターンを2回目の
処理についてのそれと異ならせるときは、1回目の処理
が全て終了したところで、予め用意された別の矯正治具
18と交換するか、又は、矯正ピン20、20、・・・
の配置パターンを変更する。
【0079】
【発明の効果】以上に記載したところから明らかなよう
に、本発明絶縁基板の反り矯正装置は、リフロー半田を
溶融するための加熱炉を通された直後に絶縁基板の反り
を矯正する反り矯正装置であって、絶縁基板の搬送方向
における幅方向の両側縁を載置させて搬送する搬送手段
と、絶縁基板の下面に対向するように配置され所定の位
置に上方へ向けて立設された複数の矯正ピンを有する矯
正治具と、該矯正治具を絶縁基板に向けて押し上げる押
上手段と、該押上手段の上昇により矯正治具を介して押
し上げられた絶縁基板の幅方向の両側縁を上方へ移動し
ないように抑える押え手段とを備えたことを特徴とす
る。
【0080】従って、本発明絶縁基板の反り矯正装置に
よれば、矯正治具の矯正ピンの配置を当該絶縁基板上の
電子部品の配置パターンと照合してこれを避けるように
設定することにより、搬送手段に載置された状態の絶縁
基板の下面に電子部品が配置されていても矯正ピンを当
該下面のうち電子部品を避けた位置に接触させることが
でき、下面に電子部品が搭載されていると否とにかかわ
らず、絶縁基板をその下方から押圧することができ、こ
れにより、両面回路基板の製造における半田付けをその
両面のいずれについてもリフロー半田工程によって行う
ことができる。
【0081】尚、上記実施例においては、矯正ピンの上
端部を略円錐状に形成したが、このようにすることによ
り、電子部品を避けた位置がかなり狭くても、電子部品
に触れること無く所定の位置に接触させることができ
る。
【0082】また、上記実施例においては、矯正治具の
ベース台に多数のピン取付部を形成し、そのうちの所定
のもの、即ち、当該絶縁基板上の電子部品を避けた位置
と対応したものを選択して矯正ピンを装着するようした
が、矯正治具をこのような構造にすることにより、電子
部品の配置パターンに応じて矯正ピンの取付位置を変更
するだけで種々の回路基板に適用することができ、矯正
治具の種類が少なくて済みコストの低減を図ることがで
きる。
【0083】もっとも、本発明を実施するに際しては、
一の矯正治具が一の回路基板の専用のものとしても良
い。
【0084】この他、上記実施例に示した搬送手段、押
上手段、押え手段、冷却手段及びその他各部の構造ない
し形状、あるいは部材の数等は本発明を実施するに当た
っての具体化のほんの一例を示したものに過ぎず、これ
らによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されては
ならない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明絶縁基板の反り矯正装置を備えた半田リ
フロー装置の実施例の一例を示すもので、一部を切り欠
いて示す全体の側面図である。
【図2】半田リフロー装置の要部を示す拡大平面図であ
る。
【図3】矯正治具が待機位置に来ている状態における図
2のIII−III線に沿う拡大断面図である。
【図4】矯正治具が押圧位置へと移動した状態における
図2のIV−IV線に沿う拡大断面図である。
【図5】矯正治具を拡大して示す斜視図である。
【図6】2回目のリフロー半田工程において矯正治具が
待機位置に来ている状態の要部を示す拡大断面図であ
る。
【図7】2回目のリフロー半田工程において矯正治具を
押圧位置に移動した状態の要部を示す拡大断面図であ
る。
【図8】絶縁基板に反りが生じた状態の回路基板を示す
側面図である。
【図9】従来の反り矯正装置の一例を示す概略斜視図で
ある。
【符号の説明】 2 搬送手段 9 絶縁基板 9c 側縁 13 加熱炉 17 絶縁基板の反り矯正装置 18 矯正治具 20 矯正ピン 21、22 押上手段 26 押え手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リフロー半田を溶融するための加熱炉を
    通された直後に絶縁基板の反りを矯正する反り矯正装置
    であって、絶縁基板の搬送方向における幅方向の両側縁
    を載置させて搬送する搬送手段と、絶縁基板の下面に対
    向するように配置され所定の位置に上方へ向けて立設さ
    れた複数の矯正ピンを有する矯正治具と、該矯正治具を
    絶縁基板に向けて押し上げる押上手段と、該押上手段の
    上昇により矯正治具を介して押し上げられた絶縁基板の
    幅方向の両側縁を上方へ移動しないように抑える押え手
    段とを備えたことを特徴とする絶縁基板の反り矯正装
    置。
JP7880692A 1992-03-02 1992-03-02 絶縁基板の反り矯正装置 Pending JPH05243724A (ja)

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