JPH10321691A - 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 - Google Patents
基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置Info
- Publication number
- JPH10321691A JPH10321691A JP9125203A JP12520397A JPH10321691A JP H10321691 A JPH10321691 A JP H10321691A JP 9125203 A JP9125203 A JP 9125203A JP 12520397 A JP12520397 A JP 12520397A JP H10321691 A JPH10321691 A JP H10321691A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- substrate
- positioning
- slider
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9125203A JPH10321691A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9125203A JPH10321691A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10321691A true JPH10321691A (ja) | 1998-12-04 |
| JPH10321691A5 JPH10321691A5 (https=) | 2005-04-07 |
Family
ID=14904462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9125203A Pending JPH10321691A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10321691A (https=) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269952A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
| JP2016527407A (ja) * | 2013-05-22 | 2016-09-08 | ハネウェル・リミテッド | 製紙機械または他のシステムのためのスキャンセンサ構成 |
| CN107618872A (zh) * | 2016-07-15 | 2018-01-23 | 石峰 | 一种双联双工位送料装置 |
| CN116469803A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-07-21 | 浙江海纳半导体股份有限公司 | 一种去边设备 |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63163907A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Toyota Motor Corp | 知能ロボツトにおける座標合わせ方法 |
| JPH02262991A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-25 | Mitsubishi Electric Corp | ロボット動作監視装置 |
| JPH065691A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | 半導体露光装置 |
| JPH06163357A (ja) * | 1992-11-19 | 1994-06-10 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPH0677246U (ja) * | 1993-03-30 | 1994-10-28 | 安藤電気株式会社 | 高精度icアライメント機構 |
| JPH0845825A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH0878302A (ja) * | 1994-08-31 | 1996-03-22 | Nec Corp | 露光装置 |
| JPH08264624A (ja) * | 1995-03-20 | 1996-10-11 | Nikon Corp | 基板の位置決め装置 |
| JPH08279456A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH08293455A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH08306763A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-22 | Nikon Corp | 位置合わせ装置 |
-
1997
- 1997-05-15 JP JP9125203A patent/JPH10321691A/ja active Pending
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63163907A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Toyota Motor Corp | 知能ロボツトにおける座標合わせ方法 |
| JPH02262991A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-25 | Mitsubishi Electric Corp | ロボット動作監視装置 |
| JPH065691A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | 半導体露光装置 |
| JPH06163357A (ja) * | 1992-11-19 | 1994-06-10 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPH0677246U (ja) * | 1993-03-30 | 1994-10-28 | 安藤電気株式会社 | 高精度icアライメント機構 |
| JPH0845825A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH0878302A (ja) * | 1994-08-31 | 1996-03-22 | Nec Corp | 露光装置 |
| JPH08264624A (ja) * | 1995-03-20 | 1996-10-11 | Nikon Corp | 基板の位置決め装置 |
| JPH08279456A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH08293455A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| JPH08306763A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-22 | Nikon Corp | 位置合わせ装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269952A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
| JP2016527407A (ja) * | 2013-05-22 | 2016-09-08 | ハネウェル・リミテッド | 製紙機械または他のシステムのためのスキャンセンサ構成 |
| CN107618872A (zh) * | 2016-07-15 | 2018-01-23 | 石峰 | 一种双联双工位送料装置 |
| CN116469803A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-07-21 | 浙江海纳半导体股份有限公司 | 一种去边设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4315420B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| US6710857B2 (en) | Substrate holding apparatus and exposure apparatus including substrate holding apparatus | |
| JP4029182B2 (ja) | 露光方法 | |
| US6678038B2 (en) | Apparatus and methods for detecting tool-induced shift in microlithography apparatus | |
| JP4468980B2 (ja) | リソグラフィ投影装置及びデバイス製造方法 | |
| JPS6052025A (ja) | リソグラフイ−装置 | |
| US20050133732A1 (en) | Stage unit, drive table, and scanning exposure apparatus using same | |
| US7289194B2 (en) | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2000049066A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| US4708465A (en) | Exposure apparatus | |
| US20110046795A1 (en) | Drive control method, drive control apparatus, stage control method, stage control apparatus, exposure method, exposure apparatus and measuring apparatus | |
| KR100592577B1 (ko) | 리소그래피장치용 지지구조체 | |
| JPH10321515A (ja) | 半導体露光装置 | |
| JP2003258071A (ja) | 基板保持装置及び露光装置 | |
| JPH10289943A (ja) | ステージ装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH10321691A (ja) | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 | |
| US20040025322A1 (en) | Waffle wafer chuck apparatus and method | |
| JP2003156322A (ja) | 位置計測方法及び装置、位置決め方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法 | |
| JP2004140290A (ja) | ステージ装置 | |
| JP4393150B2 (ja) | 露光装置 | |
| US6630986B2 (en) | Scanning type exposure apparatus and a device manufacturing method using the same | |
| JPH11111611A (ja) | 露光方法および装置 | |
| US6307616B1 (en) | Exposure apparatus and substrate handling system therefor | |
| JP2003332218A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JP2006041095A (ja) | 搬送システム及び露光システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040409 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040427 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061128 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070323 |