JPH10301U - ウェーハホルダ - Google Patents

ウェーハホルダ

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JPH10301U
JPH10301U JP002194U JP219497U JPH10301U JP H10301 U JPH10301 U JP H10301U JP 002194 U JP002194 U JP 002194U JP 219497 U JP219497 U JP 219497U JP H10301 U JPH10301 U JP H10301U
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JP
Japan
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wafer
wafer holder
holder
held
film
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Pending
Application number
JP002194U
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博信 宮
昭生 清水
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Hitachi Kokusai Electric Inc
Original Assignee
Hitachi Kokusai Electric Inc
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 自動搬送に適したウェーハホルダを提供す
る。 【構成】 ウェーハ2表面にCVD膜を生成するに際し
てウェーハ2を保持するウェーハホルダ6が、面一のウ
ェーハホルダ本体6aと、保持されるウェーハ2に沿っ
てウェーハホルダ本体6a上に設けられる複数個のつめ
7とを備えている。各つめ7には、ウェーハ2が載置さ
れ且つウェーハ2の周面に当接可能な段差部7aが設け
られており、該段差部7aによってウェーハ2をウェー
ハホルダ本体6aから浮かしてウェーハ2とウェーハホ
ルダ本体6aとの間にウェーハ搬送アームが挿入可能な
隙間を形成する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、縦型CVD装置を用いてウェーハ表面に低温酸化膜(LTO膜)あ るいはリンドープ低温酸化膜等のCVD膜の生成等のウェーハ処理を行う際に用 いるウェーハホルダに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、ウェーハの表面にポリシリコン膜、窒化膜などのCVD膜を生成する場 合には、直接、石英製ウェーハボート5上にウェーハ2を装填して行われるが、 SiH4とO2を用いたLTO膜(生成温度300〜400℃)やPSG膜(LT O膜にリンをドープした膜)、あるいはSiH4とN2Oを用いる高温酸化膜(H TO膜、生成温度700〜850℃)、リンドープポリシリコン膜などの生成に おいては、ボートに保持される石英製のウェーハホルダが用いられており、図4 に示したように、ウェーハホルダ16の上にウェーハ2の裏面が密着して載置さ れて、膜生成が行われる。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のウェーハホルダ16にあっては、ウェーハホルダ16上 にウェーハ2の裏面が密着しているために、ウェーハ2をウェーハホルダ16に 装着あるいは脱着する時に、自動搬送を行うのは困難であるという問題がある。 また、ウェーハ2がウェーハホルダ16上を自由に移動できるので、ウェーハ ホルダ16が移動する際に、ウェーハが脱落することがあるという問題がある。
【0004】 本願考案はかかる問題点に鑑みなされたもので、自動搬送に適したウェーハホ ルダを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本考案のウェーハホルダは、面一のウェーハホル ダ本体と、保持されるウェーハに沿って前記ウェーハホルダ本体上に設けられる 複数個のつめと、を備え、各つめにウェーハが載置され且つウェーハの周面に当 接可能な段差部を設け、該段差部によって、保持されたウェーハをウェーハホル ダ本体から浮かしてウェーハとウェーハホルダ本体との間にウェーハ搬送アーム が挿入可能な隙間を形成することを特徴とする。
【0006】 また、前記段差部は、ウェーハの裏面と接触する略平坦な平坦面と、ウェーハ の横方向の移動を制限する移動制限面とを有しており、この段差部が載置される ウェーハの中心側を向いているようにするとよい。
【0007】
【作用】
未処理ウェーハを搬送するウェーハ搬送アームが、ウェーハホルダの上方から 下降して、つめの段差部にウェーハを接触させた後、さらに下降して、ウェーハ とウェーハホルダ本体との間の隙間から脱出することで、ウェーハ搬送アームが ウェーハホルダに接触することなくウェーハを段差部に載置することができる。 また、ウェーハホルダ上に保持された処理済みウェーハに対して、ウェーハ搬送 アームがウェーハとウェーハホルダ本体との間の隙間に挿入して、上昇すること で、ウェーハ搬送アームがウェーハホルダに接触することなくウェーハをウェー ハホルダから取り出して搬送することができる。
【0008】 また、移動制限面によってウェーハの移動を制限することで、ウェーハホルダ が移動する際に、保持されるウェーハが傾いたり脱落するのを防止し、安定にウ ェーハを保持することができる。
【0009】
【実施例】
図1は、本考案ウェーハホルダの1実施例を示す斜視図である。この実施例で は、ウェーハホルダ6の面一のウェーハホルダ本体6aの上には保持されるウェ ーハ2に沿って複数個(本例では4個)のつめ7が設けられている。各つめ7に は、ウェーハホルダ本体6aよりも上方にあってウェーハ2が載置される段差部 7aが形成されている。段差部7aは、ウェーハ2の裏面と接触する略平坦な平 坦面7bと、平坦面7bと直交しウェーハ2の周面に当接可能な移動制限面7c とを有しており、この平坦面7bと移動制限面7cからなる段差部7aは、載置 されるウェーハ2の中心側を向いている。段差部7aによってウェーハ2をウェ ーハホルダ本体6a面より例えば4mm程度浮かすことにより、ウェーハ2をウ ェーハホルダ6に装着あるいは脱着する時にはウェーハ2とウェーハホルダ本体 6aとの間にウェーハ立替機3のウェーハ搬送アーム4の真空吸着部4aを挿入 して、ウェーハ2の裏面を吸着して移動を行うことができる。また、複数の移動 制限面7cがウェーハ2の周面の回りに間隔をおいて配置されるので、これらの 移動制限面7cによってウェーハホルダ6上でのウェーハ2の横方向の移動が制 限されている。
【0010】 図2は、縦型CVD装置を例にとったウェーハ搬送機構の1例を示す斜視図で ある。ウェーハホルダ6は、縦型石英製ウェーハボート5上に約1.1度の角度 をもって保持されており、少なくとも1つ以上のつめ7がウェーハ2を下方から 支持することで、ウェーハ2の脱落を阻止し、また、ウェーハボート5を回転ま たは昇降させた時にウェーハ2が動かないようにすることができる。
【0011】 未処理のウェーハ2が納められたカセット1は、カセットエレベータ8に載置 されており、ウェーハ立替機3の伸縮及び上下機構を持ったウェーハ搬送アーム 4の真空吸着部4a(図3参照)によって、カセット1からウェーハ2が吸着さ れて取り出される。 次いで、ウェーハ立替機3のウェーハ搬送アーム4が、取り出されたウェーハ 2を90度回転してボート5上に保持されたウェーハホルダ6上に搬送する。ウ ェーハホルダ6上方にウェーハ2がくるとウェーハ搬送アーム4は下降してウェ ーハ2をウェーハホルダ6のつめ7の段差部7a上に密着させる。同時に真空吸 着部4aによる吸着が解除されてウェーハ2は段差部7a上に載せられる。ウェ ーハ搬送アーム4は更に下降し、次いで縮まり、ウェーハ2とウェーハホルダ本 体6aとの間の隙間から脱出し、次のウェーハ2の搬送の準備をする。
【0012】 ウェーハ搬送アーム4の厚みが2mm程度有るため、ウェーハ2とウェーハホ ルダ本体6aとの間の隙間は前記のように4mm位とすれば、ウェーハ2のウェ ーハホルダ6への装着または脱着の際にウェーハ搬送アーム4が十分、該隙間内 を上下動することができる。 昇降機構10によってボート5が昇降し、所定数のウェーハ2がボート5に移 載されると、ボート移し替え機構9によって膜生成処理済みのウェーハを載置し たボート5と未処理ウェーハを載置したボート5とを移し替え、未処理ウェーハ を載置したボート5を昇降機構11により反応管12内に下方から入れて、ガス インレット13より反応ガスを供給して反応管12内でウェーハ表面にCVD膜 を生成する。
【0013】 また、膜生成処理が終了すると、上記と逆の手順でウェーハ2をカセット1に 搬送する。 以上のような手順でウェーハ2の自動搬送を行うことができる。 ウェーハホルダ本体6a上につめ7が設けられているため、当該ウェーハホル ダ6を用いて後記表1の生成条件下においてLTO膜を生成した場合には、後記 表2のNo.2に示すようにウェーハ周辺部の膜厚が厚くなり、ウェーハ周辺5mm 部分の膜厚均一性は±10%を越えてしまい全体の膜厚均一性は±4〜8%にな る。後記表2のNo.1に示すように、従来のウェーハホルダ16を用いた場合の全 体の膜厚均一性が±2〜3%と比較して、膜厚均一性が悪くなるものの、ウェー ハ2を自動搬送することができるようになるため、製造コストの低減を図ること ができる。
【0014】
【表1】
【0015】
【表2】
【0016】
【考案の効果】
以上説明したように、本考案によれば、面一のウェーハホルダ本体の上に、保 持されるウェーハに沿って複数個のつめが備えられ、つめの段差部によってウェ ーハをウェーハホルダ本体から浮かしてウェーハとウェーハホルダ本体との間に ウェーハ搬送アームが挿入可能な隙間を形成することとしているので、ウェーハ 搬送アームがウェーハホルダに接触することなく、つめの段差部にウェーハを載 置することができ、逆の動作として、ウェーハ搬送アームが前記隙間に入ってウ ェーハ搬送アームがウェーハホルダに接触することなく、段差部に載置されたウ ェーハを取り出して搬送することができるので、ウェーハの自動搬送が可能にな る。
【0017】 また、移動制限面によってウェーハの横方向の移動を制限することで、ウェー ハホルダが移動する際に、保持されるウェーハが傾いたり脱落するのを防止し、 安定にウェーハを保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)及び(b)はそれぞれ本考案ウェーハホ
ルダの1実施例を示す斜視図及びそのIV−IV線断面
図である。
【図2】縦型CVD装置のウェーハ搬送機構の1例を示
す斜視図である。
【図3】図2に使用するウェーハ搬送アームの斜視図で
ある。
【図4】従来のウェーハホルダを示す側面図である。
【符号の説明】
2 ウェーハ 4 ウェーハ搬送アーム 6 ウェーハホルダ 6a ウェーハホルダ本体 7 つめ 7a 段差部 7b 平坦面 7c 移動制限面

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハ処理を行うに際してウェーハを
    保持するウェーハホルダにおいて、 面一のウェーハホルダ本体と、保持されるウェーハに沿
    って前記ウェーハホルダ本体上に設けられる複数個のつ
    めと、を備え、 各つめにウェーハが載置され且つウェーハの周面に当接
    可能な段差部を設け、該段差部によって、保持されたウ
    ェーハをウェーハホルダ本体から浮かしてウェーハとウ
    ェーハホルダ本体との間にウェーハ搬送アームが挿入可
    能な隙間を形成することを特徴とするウェーハホルダ。
  2. 【請求項2】 前記段差部は、ウェーハの裏面と接触す
    る略平坦な平坦面と、ウェーハの横方向の移動を制限す
    る移動制限面とを有しており、この段差部が載置される
    ウェーハの中心側を向いていることを特徴とする請求項
    1記載のウェーハホルダ。
JP002194U 1997-03-28 1997-03-28 ウェーハホルダ Pending JPH10301U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP002194U JPH10301U (ja) 1997-03-28 1997-03-28 ウェーハホルダ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP002194U JPH10301U (ja) 1997-03-28 1997-03-28 ウェーハホルダ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10301U true JPH10301U (ja) 1998-12-22

Family

ID=16736389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP002194U Pending JPH10301U (ja) 1997-03-28 1997-03-28 ウェーハホルダ

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