JPH10287044A - アブレーション記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】高出力レーザーを用いて記録を行うアブレーシ
ョン記録材料のカールを防止し、取り扱い性に優れたア
ブレーション記録材料を提供する。 【解決手段】レーザーを利用して像様加熱する工程を施
すアブレーション記録材料において、支持体の記録層が
設けられる側とは反対の側に、マット剤を含有し、膜厚
が該マット剤の平均粒子径の３０〜８０％である、疎水
性ポリマーからなる実質的に水に非膨潤であるバック層
を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーアブレー
ション記録材料に関するものであり、特にオーバーコー
ト層に低温熱分解性のポリマーを利用したアブレーショ
ン記録材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電気信号をサーマルプリントヘッ
ドに与えて、画像形成させる熱転写システムが普及して
きている。一方、サーマルプリントヘッドの代わりにレ
ーザーを用いる方法も開発されており、レーザーの高出
力化に伴って普及していくものと考えられる。このよう
なシステムにおいては、記録材料中にレーザーの波長域
に強く吸収を有する物質が含まれており、吸収物質は光
エネルギーを熱エネルギーに転換してサーマルプリント
ヘッドを用いた場合と同様な効果をもたらす。また、レ
ーザーを使用した場合には、サーマルプリントヘッドに
比べて無接触であるために画像表面にキズが出ないこと
が利点であり、レーザービームが細く絞れるために画像
分解能を向上させることが可能である。

【０００３】更に最近では、高出力レーザーを用いた色
素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発されて
おり、その記録材料が特開平７−１６４７５５号、同−
１４９０６３号、同７−１４９０６５号等に記載されて
おり、画像形成装置が特開平８−４８０５３号、同８−
７２４００号に開示されている。このシステムでは、支
持体上に塗布された画像色素、レーザー波長域に吸収を
有する物質（赤外吸収物質）およびバインダーからなる
色素層組成物を有する記録材料を、色素層側からレーザ
ー照射することによって画像記録が行われる。レーザー
によって与えられたエネルギーは、レーザービームが材
料に当たったスポットで画像形成層に急激な局部変化を
起こし、それによって物質を層から追い出す。上記特許
公報によれば、これは完全に物理的な変化（例えば、溶
融、蒸発または昇華）ではなく、ある種の化学変化（例
えば、結合破壊）であり、部分的な画像色素の除去では
なく、完全な除去であるという。

【０００４】しかし、これらの色素アブレーション材料
は画像形成層側のバインダーとして有機溶剤系バインダ
ーを用いているため、バック層側にゼラチン等の吸湿性
のバインダーを用いると低湿下でのアブレーション材料
のカールが大きくなる問題があった。カールが大きくな
ると返し工程などの作業性が悪くなるだけでなく、自動
搬送において搬送不良などの原因となる。バック層の吸
湿性バインダー量を減らすことでカールを改良すること
ができるが、マット剤が剥落して搬送ローラーを汚染
し、搬送不良を引き起こす原因となる問題があった。特
開平８−２３０３１９号にはバック面に導電性ポリマー
層又は導電性粒子を分散したポリマー層の記述がある
が、マット剤を使用することについての記載はなく、ま
たカール防止に関する記載もない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、公知
の色素アブレーション記録材料の問題点を解決した新し
いアブレーション記録材料を提供すること、すなわち高
出力レーザーを用いて記録を行うアブレーション記録材
料において、バック層に疎水性バインダーを使用するこ
とでカールを改良し、取り扱い性に優れたアブレーショ
ン記録材料を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、レーザ
ーを利用して像様加熱する工程を施すアブレーション記
録材料において、支持体上の一方の面に少なくとも１層
の着色剤層を有し、該像様加熱工程は該着色剤層側から
行い、該着色剤層が塗設されている面と反対側の面に、
マット剤を含有し、膜厚が該マット剤の平均粒子径の３
０〜８０％である、疎水性ポリマーからなる実質的に水
に非膨潤であるバック層を有することを特徴とするアブ
レーション記録材料によって達成された。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明においては、下記の実施態
様が特に好ましい。 （１）該バック層に含有されるマット剤が球形シリカマ
ット剤であることを特徴とする上記の解決手段に述べた
アブレーション記録材料。 （２）該バック層に含有されるマット剤が、架橋性モノ
マーの含有量が５重量％以上の重合性モノマーを重合し
て得られる架橋性ポリマーマット剤であることを特徴と
する上記の解決手段に述べたアブレーション記録材料。 （３）該着色剤層側の総膜厚が２μｍ以下であることを
特徴とする上記（１）又は（２）に記載のアブレーショ
ン記録材料。

【０００８】本発明のバック層のバインダーとしてはバ
ック層が「実質的に処理液に非膨潤」となるものであれ
ば、特に制限は無い。バック層のバインダーの具体例と
して、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニ
トリル、ポリ酢酸ビニル、ウレタン樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、テトラフ
ルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素系樹
脂、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム等の
ゴム類、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルアクリ
レート等のアクリル酸又はメタクリル酸のエステル、ポ
リエチレンフタレート等のポリエステル樹脂、ナイロン
６、ナイロン６６等のポリアミド樹脂、セルローストリ
アセテート等のセルロース樹脂、シリコーン樹脂などの
水不溶性ポリマー又は、これらの誘導体を挙げることが
できる。更にポリマー層のバインダーとして、１種類の
モノマーから成るホモポリマーでも、２種類以上のモノ
マーから成るコポリマーでも良い。これらは１種類を単
独で用いてもよいし２種以上を併用して用いてもよい。

【０００９】本発明のバック層の厚みはバック層に使用
するマット剤の平均粒子径の３０〜８０％であり、特に
４０〜６０％であることが好ましい。本発明のバック層
に使用するマット剤は有機溶剤に不溶であるものが好ま
しいく、球形シリカマット剤や架橋型ポリマーマット剤
が挙げられる。本発明で好ましく用いられる球形シリカ
マット剤は多孔性球形シリカ粒子で、主成分はＳｉＯ ₂
９９％以上、数１０Å〜数１００Åの一次粒子が二次粒
子を形成した粒子で、細孔の大きさが平均直径で５００
Å以下、好ましくは２０〜３００Åであり、比表面積が
１００m²／ｇ以上、好ましくは、２００〜１０００m²／
ｇである。平均粒子径は１〜２０μｍで、好ましくは２
〜１０μｍさらに好ましくは２〜８μｍで、１０μ以上
の割合は１Ｖｏｌ％以下である。粒子の表面積及び細孔
直径は気体吸着法（ＢＥＴ法）、平均粒子径はコールタ
ーカウンター法 (Electrical Sensing Zone Method）に
より求めることができる。具体例としては、洞海化学工
業（株）製「ＳＵＮＳＰＨＥＲＥ」Ｈ−３１、Ｈ−３
２、Ｈ−５１、Ｈ−５２、Ｈ−１２１、Ｈ−１２２、Ｌ
−３１、Ｌ−５１、Ｌ−１２１、M.S.Gel シリーズ「Ｓ
ＩＬ Ｄ」「ＳＩＬ ＤＦ」「ＳＩＬ ＡＣ−ＤＦ」
「ＳＩＬ ＥＰ−ＤＦ」「Ｃ１８−ＤＦ」などがあげら
れる。

【００１０】本発明のバック層に用いられる架橋型ポリ
マーマット剤は分子中に重合性二重結合を含有する基を
２個以上有する架橋性モノマー（以下、単に「架橋性モ
ノマー」という）の含有量が５重量％以上の重合性モノ
マーを重合して得られ、平均粒子径が０．０１〜１０μ
ｍである。架橋性モノマーとしては、ジビニルベンゼン
に代表される非共役ビニル化合物あるいはトリメチレン
プロパントリメタクリレートも代表される多価アクリレ
ート化合物などの２個以上の共重合性二重結合を有する
下記の化合物が挙げられ、これらは１種または２種以上
で用いられる。

【００１１】架橋性モノマーの具体例としては、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、１，３−ブチレング
リコールジアクリレート、１，６−ブチレングリコール
ジアクリレート、１，６−ヘキサンレングリコールジア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ポリプロピレンジアクリレート、２，２′−ビス（４−
アクリロキシプロピロキシフェニル）プロパン、２，
２′−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プ
ロパン、などのジアクリレート化合物、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレー
トなどのトリアクリレート化合物、ジトリメチロールプ
ロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レートなどのテトラアクリレート化合物、エチレングリ
コールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、１，３
−ブチレングリコールメタクリレート、１，４−ブチレ
ングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、２，
２−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）プ
ロパンなどのメタクリレート化合物、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリ
メタクリレートなどのトリメタクリレート化合物、メチ
レンビスアクリルアミド、ジビニルベンゼンなどが挙げ
られる。以上のうち、ジビニルベンゼン、エチレングリ
コールジメタクリレート、またはトリメチロールプロパ
ントリメタクリレートを用いることが好ましく特にジビ
ニルベンゼンが好ましい。

【００１２】架橋性モノマー以外の重合性モノマーのう
ち官能基を有さないモノマーとしては、下記の化合物が
挙げられ、これらは１種または２種以上で使用される。
スチレン、エチルビニルベンゼン、α−メチルスチレ
ン、フルオロスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族モ
ノビニル化合物、ブチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、β−メタクリロイルオキシエチルハ
イドロジエンフタレート、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノエ
チルアクリレートなどのアクリル酸エステルモノマー、
２−エチルヘキシルメタクリレート、メトキシジエチレ
ングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレング
リコールメタクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ′−
ジメチルアミノエチルメタクリレートなどのメタクリル
酸エステルモノマー、シリコン変性モノマー、マクロモ
ノマーなど。さらに、ブタジエン、イソプレンなどの共
役二重結合化合物や酢酸ビニルなどのビニルエステル化
合物、４−メチル−１−ペンテン、その他のα−オレフ
ィン化合物が挙げられる。また、架橋性モノマー以外の
重合性モノマーのうち官能基を有するモノマーとして
は、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン
酸などのモノまたはジカルボン酸モノマー、２−アクリ
ロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレンスルホン酸ナトリウム、
無水マレイン酸、グリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、
メチレンビスアミドなどのアミド化合物、アクリロニト
リル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物
などを挙げることができる。

【００１３】架橋ポリマー粒子において、用いられる重
合性モノマー中の架橋性モノマーの含有量は５重量％以
上、好ましくは１０重量％以上である。架橋性ポリマー
粒子を構成する重合性モノマーの好ましい組合せとして
は、非共役ビニル化合物、多価メタクリレート化合物な
どの架橋性モノマーと芳香族モノビニル化合物、アクリ
ル酸エステルモノマー、メタクリル酸エステルモノマー
などの重合性モノマーとの組み合わせを挙げることがで
き、特に、非共役ビニル化合物と芳香族モノビニル化合
物の組み合わせが好ましい。

【００１４】また、これらのマット剤を２種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、平均粒径の異なるマット剤の併用（例えば特願平４
−２６５９６２号に記載されている平均粒径が１．５μ
ｍ以上のマット剤と平均粒径が１μｍ以下のマット剤の
併用）などがある。

【００１５】本発明のアブレーション記録材料のバック
層のベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１
９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方
法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求め
ることができる。本発明のアブレーション記録材料のバ
ック層の最外層表面のベック平滑度は、４０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜２０００秒である。こ
れは記録材料同士の接着性や剥離性、露光用ハードの搬
送性の点から重要である。

【００１６】ベック平滑度は、前記バック層に含有させ
るマット剤の平均粒径および添加量を種々変化させるこ
とによってコントロールすることができる。本発明にお
いて好ましいマット剤の平均粒径は、１〜１０μｍが好
ましく、特に１〜５μｍの範囲が好ましい。本発明にお
いて好ましいマット剤の添加量は、５〜２００mg／m²、
特に１０〜１００mg／m²の範囲である。

【００１７】本発明の記録材料の着色剤層表面にはオー
バーコート層を設けてもよい。オーバーコート層のバイ
ンダーとしては、任意のポリマー物質を使用することが
できる。例えば、ポリアクリル酸エステル；ポリメタク
リル酸エステルセルロース誘導体、例えばセルロースア
セテート水素フタレート、セルロースアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテー
トブチレート、セルトーストリアセテート、ヒドロキシ
プロピルセルロースエーテル、エチルセルロースエーテ
ル；ポリカーボネート；ポリウレタン；ポリエステル；
ポリ（酢酸ビニル）；ポリ（塩化ビニル）およびポリ
（塩化ビニル）コポリマーのようなポリ（ハロゲン化ビ
ニル）；ポリ（ビニルエーテル）；無水マレイン酸コポ
リマー；ポリスチレン；ポリ（スチレン−共−アクリロ
ニトリル）；ポリスルホン；ポリ（フェニルオキシ
ド）；ポリ（エチレンオキシド）；ポリ（ビニルアセタ
ール）、ポリ（ビニルアセタール−共−ブチラール）ま
たはポリ（ビニルベンザール）のようなポリ（ビニルア
ルコール−共−アゼタール）；またはこれらの混合物も
しくはコポリマーを使用することができる。オーバーコ
ート層のバインダーは約０．１〜約５ｇ／m²の塗布量で
使用することができる。

【００１８】本発明のアブレーション記録材料のオーバ
ーコート層にはポリテトラフルオロエチレンビーズが好
ましく用いられ、意図する目的のために有効な任意の濃
度または粒子サイズで使用することができる。本発明に
用いられるビーズの粒子サイズとしては、０．１〜２０
μm が好ましく、さらには、０．１〜５μm が好まし
い。ビーズの塗布量は０．００５〜５．０ｇ／m²の範囲
で用いることが好ましく、さらには、０．０５〜０．５
ｇ／m²の範囲が好ましい。ビーズは球状である必要はな
く、任意の形状のものであってよい。本発明のアブレー
ション記録材料のオーバーコート層におけるポリテトラ
フルオロエチレンビーズの使用は、特開平８−１０８６
２２号に記載されているように、耐引っ掻き性、耐摩耗
性の向上、および指紋付着性、グレア（glare)を減少さ
せるための艶消し仕上げをする上で有効である。

【００１９】本発明において、オーバーコート層の動摩
擦係数が０．１５以下であることが好ましい。さらには
０．１０以下であることが好ましい。本発明における動
摩擦係数（μｋ）とはＪＩＳ Ｋ７１２５に記載の摩擦
係数試験方法と同様の原理で求めることができる。２５
℃６０％ＲＨの条件下でハロゲン化銀感光材料を１時間
以上放置した後鋼球（例、直径０．５〜５mm）に一定の
荷重（接触力：Ｆｐ例、５０〜２００ｇ）を加え、アブ
レーション記録材料の表面を一定のスピード（例、２０
〜１００cm／min ）で滑らせ、そのときの（接線力）
（Ｆｋ）を測定し、下記、数１で求める。

【００２０】

【数１】

【００２１】例えば新東科学（株）製表面性測定機（HE
IDON−１４型）で、測定することができる。

【００２２】本発明の着色剤層の着色剤には、顔料、無
機微粒子または色素を用いる。好ましく用いることがで
きる顔料、無機微粒子には、アゾ顔料、レーキ顔料、ア
ジン化合物等の有機顔料、カーボンブラック、グラファ
イト、チタンブラック、金属フタロシアニン、酸化チタ
ンなどの金属酸化物、コロイド銀などが含まれる。本発
明の着色剤層に用いる顔料、無機微粒子を塗布した場合
の色としては、印刷製版用途の画像形成の場合はＵＶ領
域に吸収を有することが必要であり、医療用途の場合に
は、黒色であることが必要である。このため、顔料、無
機微粒子の色を与える粒子サイズもさまざまであるが、
５〜５００nmの粒子サイズが好ましく、特に５〜２５０
nmの粒子サイズが好ましい。本発明に用いる顔料、無機
微粒子の塗布量は、レーザー未照射部分で濃度２．５以
上（印刷用途の場合はＵＶ領域の吸収値、医療用途の場
合は可視域の吸収値）の吸収を有する塗布量であればど
の程度でもよく、その量は使用する無機微粒子の種類、
サイズによっても異なる。例えば、カーボンブラック
（粒径２４nm）の場合は塗布量０．６７ｇ／m²で、ＵＶ
濃度４．０、可視濃度２．７であり、コロイド銀（粒径
２０nm）の場合は塗布量０．５ｇ／m²で、ＵＶ濃度３．
５、可視濃度０．４である。これらの顔料、無機微粒子
でレーザー波長に吸収を有するものは、レーザー波長吸
収物質と、着色剤の両者の役割を兼ねることができるの
で、これ以外のレーザー波長吸収物質が必要なくなる、
もしくは量を低減できる点で好ましい。

【００２３】本発明に用いる顔料、無機微粒子の製法
は、上記粒子サイズを満たす製法のものであればいずれ
でもよい。例えば、カーボンブラック原料としては、Do
nnel Voet 著の“Carbon Black" Marcel Dekker,Inc.(1
976)に記載されているようなチャンネル法、サーマル
法、およびファーネス法など任意の製法のものが使用で
きる。

【００２４】本発明の着色剤層に用いることができる色
素には、レーザーの作用によってアブレーションされる
ことができるならば、いずれの色素でも使用することが
できる。たとえば、米国特許第４，５４１，８３０号、
同第４，６９８，６５１号、同第４，６９５，２８７
号、同第４，７０１，４３９号、同第４，７５７，０４
６号、同第４，７４３，５８２号、同第４，７６９，３
６０号及び同第４，７５３，９２２号明細書に記載され
ている色素を好ましく用いることができる。これらの色
素は、単独で使用しても組み合わせて使用してもよい。
これらの色素は、約０．０５〜約１ｇ／m²の塗被量で用
いられることができる。

【００２５】本発明のアブレーション記録材料の着色剤
層に好ましく用いられるバインダーは硝酸セルロース、
カルボキシアルキルセルロースの硝酸エステル類であ
る。

【００２６】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類とは、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキ
ルセルロース類を公知の硝酸エステル化用混酸、例え
ば、硫酸、硝酸、そして水からなる硝酸エステル化用混
酸で反応を行い、カルボキシアルキルセルロース中に含
まれる硝酸エステル基置換度が０．２以上、カルボキシ
アルキルエーテル基置換度が０．０５以上であるものを
いい、詳しくは特開平５−３９３０１号公報、特開平５
−３９３０２号公報に示された水性セルロース誘導体を
言う。

【００２７】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類の硝酸エステル基置換度の好まし
い範囲は０．２以上２．２以下であり、カルボキシアル
キルエーテル基置換度の好ましい範囲は０．０５以上
１．５以下である。硝酸エステル基置換度が０．２未満
では顕色剤や染料の分散性及び耐水性が不十分であり、
カルボキシアルキルエーテル基置換度が０．０５未満で
は水への溶解性が不十分になり、実質的に水溶性バイン
ダーとして用いることが困難となる。

【００２８】また、硝酸エステル基置換度が２．２を越
えると、水と有機溶剤との混合溶剤に溶解または分散す
るために、有機溶剤の量を増加させる必要を生じる。ま
た、カルボキシアルキルエーテル基置換度が１．５を越
えると、塗布面の耐水性がやや不十分となる傾向があ
る。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝
酸エステル類のカルボキシル基は、一部、あるいは全部
中和されていてもかまわない。中和されることにより水
及び水を主成分とした水溶性有機溶剤への溶解度が上が
る。中和のためにはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオン、アンモニウムイオン、有機アミン等の陽イ
オンの１種または２種以上を用いることが出来る。この
場合、中和の程度は、目的とする溶液の水、有機溶剤等
の組成に応じて任意に決定されるが、一般的には、含ま
れるカルボキシル基の５０％以上が中和されていること
が好ましい。

【００２９】本発明に用いる硝酸セルロース、カルボキ
シアルキルセルロースの硝酸エステル類は、単独で使用
してもよいし、公知のバインダーの少なくとも一種と組
み合わせて用いることもできる。

【００３０】前述したバインダー以外で、本発明の記録
材料の着色剤層に用いられる高分子バインダーとして
は、米国特許第５３３０８７６号に記載されているよう
なサイズ排除クロマトグラフィーで測定したポリスチレ
ン等価分子量が１０万以上で、分解性のポリマーが好ま
しい。ここで分解性とは、レーザー画像化の際に得られ
る温度において素早く熱分解して十分量の気体および揮
発性フラグメントを与えるバインダーか、あるいは少量
の酸存在下で分解温度が著しく低下するバインダーを意
味する。

【００３１】本発明のアブレーション記録材料は、支持
体と着色剤層の間に中間層を設けることが好ましく、さ
らには、該レーザー波長に吸収を有する物質を含有する
ことが好ましい。これは該中間層を設けることによりア
ブレーション効率が上がり、前述のレーザー照射部のＤ
ｍｉｎを低減できるからである。本発明の中間層には、
着色剤層に用いられる他の任意のバインダーを組み合わ
せて用いても良い。中間層のバインダーの塗布量として
は、可能な限りＤｍｉｎが低減できる量ならばいずれで
もよいが、０．０５〜２ｇ／ｍ² が好ましく、更には
０．１〜１．５ｇ／ｍ² が好ましい。また、中間層を支
持体との密着を兼ねる層、例えば下塗り層としてもよ
く、その場合のバインダーの塗布量としては０．０５〜
０．５ｇ／ｍ² が好ましい。

【００３２】本発明のレーザーアブレーションによる画
像形成では、アブレートされた材料が支持体から離れて
周囲の空気中に散らばる。このアブレートされた材料の
中にはレーザー装置の周囲に集まり、レーザーで書き込
まれた部分に堆積するものがある。この堆積物はレーザ
ー光を遮り、前述のＤｍｉｎを許容レベル以上に増加さ
せ、画質を実用に耐えなくさせてしまう場合がある。そ
のため、アブレートされる着色層側の総膜厚は２μｍ以
下であることが好ましい。このアブレートされた材料を
空気流により除去することが望ましく、そのような除去
装置が特開平８−７２４００号に記載されている。

【００３３】本発明のアブレーション記録材料は、特開
平８−４８０５３号に開示されているように、レーザー
照射後の最小記録濃度（Ｄｍｉｎ）が０．１１以下であ
ることが好ましい。これはこの濃度以下であると目に見
えるラスターラインが大幅に削減されるからである。こ
のためにはレーザーダイオードによって発生される書き
込み用レーザー光線の記録材料上での強度が０．１ミリ
ワット／平方ミクロン（ｍＷ／μｍ² ）以上であること
が好ましい。

【００３４】本発明の方法を使用してレーザーアブレー
ション画像を得るためには、７００ｎｍ以上に発光を有
する赤外域のダイオートレーザーを使用することが好ま
しい。これは、大きさが小さいこと、コストが低いこ
と、安定性が良好であること、信頼性が良好であるこ
と、頑丈であること、変調がしやすいことといった実質
的な利点があるからである。本発明で用いることのでき
るレーザーは市販されている。例えば、スペクトラダイ
オード研究所（Spectra Diode Labs) からのレーザーモ
デルＳＤＬ−２４２０−Ｈ２またはソニー株式会社から
のレーザーモデルＳＬＤ３０４Ｖ／Ｗを使用することが
できる。

【００３５】実用に際しては、本発明のアブレーション
記録材料の中間層などに赤外吸収物質、例えばカーボン
ブラック、または米国特許４９７３５７２号に記載され
ているシアニン赤外吸収色素、または米国特許４９４８
７７７号、同４９５０６４０号、同４９５０６３９号、
同４９４８７７６号、同４９４８７７８号、同４９４２
１４１号、同４９５２５５２号、同５０３６０４０号、
同４９１２０８３号、同５３６０６９４号、同５３８０
６３５号および特願平８−１８９８１７号に記載されて
いる赤外吸収物質を含有させる。本発明に好ましく用い
られる赤外吸収物質の代表例を以下に示すが、これらに
限定されるものではない。

【００３６】

【化１】

【００３７】

【化２】

【００３８】レーザー光線は画像形成層中に吸収され、
そして内部変換として知られる分子過程によって熱に変
換される。上記の熱変換のための赤外吸収物質は画像形
成層自身に含まれていても、又これと組み合わされた別
の層、すなわち画像形成層の上層や下層に含まれても良
い。本発明の方法におけるレーザー照射はアブレーショ
ン記録材料の画像形成層を通して行われるので、本発明
の画像形成は単シート法（すなわち、別の受容材料を必
要としない方法）であることができる。本発明に用いら
れる赤外吸収物質の塗布量はレーザー波長の吸光度で
０．５以上、更には１．０以上、特に１．５以上を与え
る量が好ましい。

【００３９】本発明において、表面抵抗率が２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下の層（以下「導電層」
と記す）を付与することが好ましい。導電性物質とし
て、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物など
を用いることによって得られる。導電層の位置に特別な
制限はないが、バック層（疎水性ポリマー層）と支持体
の間に設けるのが好ましい。本発明に用いられる導電性
金属酸化物として好ましいのは結晶性の金属酸化物粒子
であるが、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化
物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等
は一般的に言って導電性が高いので特に好ましい。金属
酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ａ
ｌ₂ Ｏ₃ 、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｍ
ｏＯ₃ 、Ｖ₂ Ｏ₅ 等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 及びＳｎＯ₂ が好ましい。異
種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡ
ｌ、Ｉｎ等の添加、ＳｎＯ₂ に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハ
ロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂ に対してはＮｂ、Ｔ
ａ等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は
０．０１mol ％〜３０mol％の範囲が好ましいが、０．
１mol ％〜１０mol ％であれば特に好ましい。

【００４０】本発明に好ましく用いる金属酸化物微粒子
は導電性を有しており、その体積抵抗率は１０⁷ Ω-cm
以下、特に１０⁵ Ω-cm 以下であることが好ましい。こ
れらの酸化物については特開昭５６−１４３４３１号、
同５６−１２０５１９号、同５８−６２６４７号などに
記載されている。更に又、特公昭５９−６２３５号に記
載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状
物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させ
た導電性素材を使用してもよい。利用できる粒子サイズ
は１０μ以下が好ましいが、２μ以下であると分散後の
安定性が良く使用し易い。また光散乱性をできるだけ小
さくする為に、０．５μ以下の導電性粒子を利用するこ
とが好ましい。これによって、導電層を設けても支持体
を透明に保つことが可能になるからである。又、導電性
材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは３０μｍ
以下で直径が２μ以下が好ましく、特に好ましいのは長
さが２５μｍ以下で直径０．５μ以下であり長さ／直径
比が３以上である。

【００４１】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第４，１０８，８０２号、同４，１１８，２３１
号、同４，１２６，４６７号、同４，１３７，２１７号
に記載の４級塩ポリマー類、米国特許第４，０７０，１
８９号、ＯＬＳ２，８３０，７６７号、特開昭６１−２
９６３５２号、同６１−６２０３３号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。

【００４２】

【化３】

【００４３】

【化４】

【００４４】本発明に用いられる導電性金属酸化物又は
導電性高分子化合物はバインダー中に分散又は溶解させ
て用いられる。バインダーとしては、フィルム形成能を
有するものであれば特に限定されるものではないが、例
えばゼラチン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロ
ース等のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アル
ギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルア
ミド、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙
げることができる。特に、ゼラチン（石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラ
チン、アセチル化ゼラチン等）、アセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリルアミド、デキストラン等が好まし
い。

【００４５】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低５％程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は５〜９５％の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、アブレーション記録材料一平方メートル当
たり０．０５〜２０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇ
が好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹
Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高
分子化合物を含有する導電層は、構成層として少なくと
も一層設けることが好ましい。例えば、表面保護層、バ
ック層、下塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて
２層以上設けることもできる。

【００４６】本発明においては、上記導電性物質の他
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数４
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基（スルホン
酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸（塩）、リン酸
（塩））、カチオン基（アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩）、ベ
タイン基（カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩）又はノニオン基（置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基）を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭４９−１０７２２号、英国特
許第１，３３０，３５６号、米国特許第４，３３５，２
０１号、同４，３４７，３０８号、英国特許第１，４１
７，９１５号、特開昭５５−１４９９３８号、同５８−
１９６５４４号、英国特許第１，４３９，４０２号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。

【００４７】

【化５】

【００４８】本発明に用いられるアブレーション記録材
料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザーの
熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用できる。
このような材料としては、ポリ（エチレンナフタレー
ト）、ポリ（エチレンテレフタレート）などのポリエス
テル；ポリアミド；ポリカーボネート；酢酸セルロース
などのセルロースエステル；ポリ（フッ化ビニリデン）
やポリ（テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフルオロ
プロピレン）などのフッ素ポリマー；ポリオキシメチレ
ンなどのポリエーテル；ポリアセタール；ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペン
テンポリマーなどのポリオレフィンおよびポリイミド−
アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドが含まれ
る。支持体の厚さは、一般に約５〜約２００μｍであ
る。また所望であれば、米国特許４６９５２８８号、同
４７３７４８６号に記載されているような下塗り層を支
持体に塗布してもよい。好ましい実施態様では支持体は
透明である。

【００４９】本発明において、画像の耐久性を更に高め
るためにもちいられる、レーザー照射後の画像形成層を
有する側の表面の画像保護の方法に関しては、例えば特
表平５−５０４００８号、特開平６−３４４６７６号に
記載されているような画像保護用積層性シートを積層す
ることにより達成される。これらの方法は、耐久性層を
画像に面するようにして、耐久性層と支持体とを含む積
層用シートを画像に積層させることにより行われる。次
に画像が耐久性層で保護されたまま残るように支持体層
は画像から取り外される。該耐久性層は実質的に透明か
つ対磨耗性を有する。特に、特開平６−３４４６７６号
に記載される保護方法を採用すれば、印刷において用い
られる強力な接着剤テープの繰り返しの使用および保護
された画像の繰り返しの溶剤洗浄に対しても耐久性層の
剥離がない。

【００５０】本発明で用いられる耐久性層材料として
は、特開平６−３４４６７６号に記載のシロキサンを含
有する重合有機材料を使用することができる。シロキサ
ン含有重合材料はどのような方法で作成してもよいが、
例えばビニルエーテル機で官能化された有機単量体また
はオリゴマーと、シロキサン単量体またはオリゴマーと
を共重合化することにより作製される。画像上の耐久性
層は３０μｍ以下の厚みを有するが、解像度の望ましく
ない損失を防止するためには、１０μｍ以下の厚みを有
するのが好ましく、より好ましくは、０．５〜６μｍの
範囲である。

【００５１】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれに限定されるものではない。

【００５２】実施例１ ＜バック層の作製＞二軸延伸し、両面グロー放電処理し
たポリエチレンテレフタレート支持体（厚み１００μ
ｍ）に下記バック第１層、第２層を塗布した。

【００５３】（１）バック第１層（導電層）の塗設 塩化第２スズ水和物２３０重量部と三塩化アンチモン２
３重量部をエタノール３０００重量部に溶解し均一溶液
を得た。この溶液に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を前記
溶液がｐＨ３になるまで滴下し、コロイド状酸化第２ス
ズと酸化アンチモンの共沈澱物を得た。得られた共沈澱
を５０℃に２４時間放置し、赤褐色のコロイド状沈澱を
得た。赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分離し
た。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心分離に
よって水洗した。この操作を３回繰り返し過剰イオンを
除去した。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱２００
重量部を水１５００重量部に再分散し、５００℃に加熱
した焼成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径０．００５
μm の酸化第二スズ一酸化アンチモン複合物の微粒子を
得た。この微粒子粉末の抵抗率は２５Ω・cmであった。
上記微粉末４０重量部と水６０重量部の混合液をｐＨ
７．０に調製し、攪拌機で粗分散の後横型サンドミル
（ダイノミル、Willy A. Backfen ＡＧ製）で滞留時間
が３０分になるまで分散して、一次粒子が一部凝集して
２次凝集体として０．０５μm になる分散液を調製し
た。

【００５４】下記処方の液を乾燥膜厚が０．３μm にな
るように塗布し、１１０℃で３０秒間乾燥した。 ・上記導電性微粒子分散液（ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ₂ Ｏ₂ 、０．１５μm ） １００重量部 ・ゼラチン（Ｃａ⁺⁺を１００ppm 含有した石灰処理ゼラチン） １０重量部 ・水 ２７０重量部 ・メタノール ６００重量部 ・レゾルシン ２０重量部 ・ポリ（重合度10）オキシエチレンノニルフェニルエーテル ０．１重量部

【００５５】（２）バック第２層の塗設 表面処理、バック第１層（導電層）、の塗設後に、下記
処方１〜７の液は乾燥膜厚か１．５μｍになるように、
下記処方８〜１１液は乾燥膜厚が０．８μｍになるよう
に塗布した。乾燥は１１０℃で行った。 バック第２層１ ・ゼラチン １００重量部 ・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２重量部 ・Ｈ₂ Ｏ ２１００重量部 ・化合物Ｈ（硬膜剤） ４重量部 ・ポリメチルメタクリレートマット剤（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層２ ・ゼラチン １００重量部 ・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２重量部 ・Ｈ₂ Ｏ ２１００重量部 ・化合物Ｈ（硬膜剤） ４重量部 ・架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層３ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・不定形シリカマット剤（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層４ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・ポリメチルメタクリレートマット剤（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層５ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・球形シリカマット剤（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層６ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒子径３．５μｍ） ２重量部 バック第２層７ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒子径５．０μｍ） ２重量部 バック第２層８ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・球形シリカマット剤（平均粒子径３．５μｍ） １．３重量部 バック第２層９ ・ジアセチルセルロース １００重量部 ・トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５重量部 ・メチルエチルケトン １０５０重量部 ・シクロヘキサノン １０５０重量部 ・架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒子径３．５μｍ） １．３重量部 バック第２層１０ ・ゼラチン １００重量部 ・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２重量部 ・Ｈ₂ Ｏ ２１００重量部 ・化合物Ｈ（硬膜剤） ４重量部 ・ポリメチルメタクリレートマット剤（平均粒子径３．５μｍ） １．３重量部 バック第２層１１ ・ゼラチン １００重量部 ・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２重量部 ・Ｈ₂ Ｏ ２１００重量部 ・化合物Ｈ（硬膜剤） ４重量部 ・架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒子径３．５μｍ） １．３重量部

【００５６】

【化６】

【００５７】＜バインダーＡ液の調製＞無水グルコース
単位１個あたりの硝酸エステル基置換度が２．１、カル
ボキシメチルエーテル基置換度が０．７のカルボキシメ
チルセルロースの硝酸エステルの１５％溶液（このうち
アセトン４０％、水２５％、メタノール２０％で、アン
モニア水にてｐＨ６．９に調整）をバインダーＡ液とす
る。

【００５８】＜中間層の作製＞以下に示す組成の塗布液
を前記バック層を塗布した１００μ厚みのポリエチレン
テレフタレート透明支持体の反対側に塗布し、中間層を
作製した。下記組成の塗布液をカルボキシメチルセルロ
ースの硝酸エステル塗布量が０．２５ｇ／m²となるよう
に塗布した。 ・前述のバインダーＡ液 １０．６ｇ ・例示赤外吸収物質 ０・３ｇ ・アセトン ９．４ｇ ・水 １３．４ｇ

【００５９】＜着色剤層の作製＞以下に示す着色剤層を
前記の中間層の上に塗布した。 着色剤層１ 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一に分散し
た後、カーボンブラックの塗布量が０・６７ｇ／m²とな
るように塗布した。 硝酸セルロース（ＲＳ 1／８秒、ダイセル化学工業（株）製） ５ｇ イソプロピルアルコール ２．１４ｇ メチルイソブチルケトン ２６．６ｇ メチルエチルケトン ６２．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ゼネガ株式会社製） １．３５ｇ ソルスパースＳ１２０００（ゼネガ株式会社製） ０．２３ｇ カーボンブラック（粒子径２３nm、吸油量６６ml／１００ｇ） ５ｇ 着色剤層２ 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一に分散し
た後、カーボンブラックの塗布量が０．６７ｇ／m²とな
るように塗布した。 硝酸セルロース（ＲＳ 1／１８秒、ダイセル化学工業（株）製） ５ｇ イソプロピルアルコール ２．１４ｇ メチルイソブチルケトン ２６．６ｇ メチルエチルケトン ６２．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ゼネガ株式会社製） １．３５ｇ ソルスパースＳ１２０００（ゼネガ株式会社製） ０．２３ｇ カーボンブラック（粒子径２３nm、吸油量６６ml／１００ｇ） ３．６ｇ 着色剤層３ 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一に分散し
た後、カーボンブラックの塗布量が０．６７ｇ／m²とな
るように塗布した。 硝酸セルロース（ＲＳ 1／８秒、ダイセル化学工業（株）製） ５ｇ イソプロピルアルコール ２．１４ｇ メチルイソブチルケトン ２６．６ｇ メチルエチルケトン ６２．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ゼネガ株式会社製） １．３５ｇ ソルスパースＳ１２０００（ゼネガ株式会社製） ０．２３ｇ カーボンブラック（粒子径２３nm、吸油量６６ml／１００ｇ） ２．５ｇ

【００６０】＜オーバーコート層の作製＞以下に示すオ
ーバーコート層を前記の着色剤層の上に塗布し、試料１
〜１７を作製した。 ポリエチルメタクリレート ０．２５ｇ／m² ポリテトラフルオロエチレンのビーズ（粒子サイズ０．２μｍ） （ゾニールＴＬＰ−１０Ｆ−１、三井・デュポンフロロケミカル（株）製） ０．１５ｇ／m² フローレンＴＧ７１０（共栄社化学製） ０．０３ｇ／m² このオーバーコート層の乾燥膜厚は０．３μｍであっ
た。

【００６１】作製した試料１〜６について以下に示すカ
ールの測定を行った。 ＜カールの測定＞長さ５cm、巾１cmに裁断した試料を２
５℃６０％ＲＨの条件下で３日間保存し、ついで２５℃
１０％ＲＨの雰囲気下に移しその後２時間後のカールを
測定した。カール値は以下の定義式で求めた。 カール値＝１／（試料の曲率半径（cm）） ただし、着色剤面が内側のときカール値を正、外側のと
きカール値を負とする。実用上許容されるカール値は−
０．０２〜＋０．０２の範囲である。結果を表１に示
す。

【００６２】

【表１】

【００６３】表１が示すように本発明の試料はカールが
非常に優れていることが分かる。

【００６４】実施例２ 作製した試料３〜１０について以下に示すベック秒の測
定およびマット剤剥落のテストを行った。 ＜ベック秒の測定＞２５℃６０％ＲＨの環境下で旭精工
株式会社製の王研式透気度平滑度試験器を用いてベック
秒の測定を行った。 ＜マット剤の剥落テスト＞２５℃６０％ＲＨの環境下に
１時間放置した後、ゴム製の板を一定の圧力（５００ｇ
／cm² ）で試料表面に圧着して１０mm／秒の速さで移動
させた。その後に試料表面のマット剤をＳＥＭにより５
００倍で１０視野観察し、剥落したマット剤数を調べ
た。得られた結果を表２に示す。

【００６５】

【表２】

【００６６】表２より本発明の試料のベック秒は実用上
好ましい値であり、マット剤の剥落も少ないことが分か
る。１１番の試料は有機溶剤に可溶なマット剤を用いた
ため、マット性がほとんど認められず、ベック秒も実用
に不適切な値である。

【００６７】実施例３ 作製した試料３、４、１１〜１７について以下に示す画
像形成面とＢＣ面の接触テストを行った。 ＜画像形成面とＢＣ面接触テスト＞作製した試料を２枚
用意し、２５℃６０％ＲＨの環境下に１時間放置した
後、画像形成面とＢＣ面が接触するように重ねて一定の
圧力（３００ｇ／cm²)で圧着して１０mm／秒の速さで移
動させ、画像形成面の表面の傷の状態を調べ、目視で５
段階評価した。５が最も優れており、傷がほとんど認め
られないレベル、３は傷は認められるが、実用上問題な
いレベル、２は実用上問題となるレベルで、１は最悪の
レベルを示す。また、上記試料について下記に示すレー
ザー露光を行った。

【００６８】＜画像記録のための露光条件＞特開平８−
４８０５３号に記載されているのと同様な画像露光装置
のドラムに各試料をその着色剤層を外側に向けて固定し
た。この装置は、移動ステージに搭載されたレンズ径に
１個のダイオードレーザーが接続されており、焦点を試
料表面に合わせている（但し、レーザー出力を上げたい
場合には、数個のダイオードレーザーを接続合波するこ
と及び書き込み速度を上げられるように数個のレーザー
アレイが可能となるように作製されている）。使用した
ダイオードレーザーはSpectra Diode Labs製ＳＤＬ−２
４３０（波長範囲：８００〜８３０ｎｍ）であり、上記
レンズ系を通して得られたスポットサイズは１０μｍ
（半値幅：７μｍ）、焦点面での出力は１００ｍＷであ
った。上記画像形成装置の試料を巻き付けたドラムの回
転数を変化させて照射量を変化させ、試料面の照射量を
７００ｍＪ／ｃｍ² に設定した。また、横方向の移動に
ついては、移動ステージによってダイオードレーザーを
移動させて、照射ビームの中心間距離が７μｍとなるよ
うな速度に設定した。さらに、レーザーによって照射さ
れた表面の物質の除去を効果的に行うために、特開平８
−７２４００号と同様な装置を用いて、レーザー照射を
しながら空気流を吹き付けて、着色剤やバインダー等を
除去した。

【００６９】＜ＵＶ領域のＤｍａｘ（最高濃度）、Ｄｍ
ｉｎ（最低濃度）の評価＞Macbeth 社製の濃度計ＴＤ９
０４（ＵＶフィルター使用）を用いて、レーザー未照射
部分と照射部分の濃度を測定して、ＵＶ領域のＤｍａｘ
（最高濃度）、Ｄｍｉｎ（最低濃度）とした。得られた
結果を表３に示す。

【００７０】

【表３】

【００７１】表３より、着色層の総膜厚が２μｍ以上に
なると耐傷性は向上するがＤmin が高くなることが分か
る。本発明のＢＣ層に球形シリカマット剤および架橋型
ポリマーマット剤を用いた試料は着色剤層を傷つけにく
く、着色剤層側の総膜厚が２μｍ以下となっても問題と
ならないことが分かる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザーを利用して像様加熱する工程を
   施すアブレーション記録材料において、支持体上の一方
   の面に少なくとも１層の着色剤層を有し、該像様加熱工
   程は該着色剤層側から行い、該着色剤層が塗設されてい
   る面と反対側の面に、マット剤を含有し、膜厚が該マッ
   ト剤の平均粒子径の３０〜８０％である、疎水性ポリマ
   ーからなる実質的に水に非膨潤であるバック層を有する
   ことを特徴とするアブレーション記録材料。
2. 【請求項２】 該バック層に含有されるマット剤が球形
   シリカマット剤であることを特徴とする請求項１記載の
   アブレーション記録材料。
3. 【請求項３】 該バック層に含有されるマット剤が、架
   橋性モノマーの含有量が５重量％以上の重合性モノマー
   を重合して得られる架橋性ポリマーマット剤であること
   を特徴とする請求項１記載のアブレーション記録材料。
4. 【請求項４】 該着色剤層側の総膜厚が２μｍ以下であ
   ることを特徴とする請求項２又は３に記載のアブレーシ
   ョン記録材料。