JPH10269634A - 情報記録媒体基板のリサイクル方法、情報記録媒体の製造方法、ならびに情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体基板のリサイクル方法、情報記録媒体の製造方法、ならびに情報記録媒体Info
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- JPH10269634A JPH10269634A JP9073218A JP7321897A JPH10269634A JP H10269634 A JPH10269634 A JP H10269634A JP 9073218 A JP9073218 A JP 9073218A JP 7321897 A JP7321897 A JP 7321897A JP H10269634 A JPH10269634 A JP H10269634A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 不要な情報記録媒体から記録層を除去し、基
板を平坦化し、さらに記録層を形成し、新たに情報記録
媒体として再利用するための基板のリサイクル方法を提
供する。また、表面性が悪い基板材料についても、その
表面を平坦化することにより、情報記録媒体基板として
利用する方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも不要な光ディスク１０の記録
層を化学的機械研磨法により除去し、基板を平坦化す
る。さらに、前記基板に、スタンパーから２Ｐ法、加熱
圧着法のいずれかによりレプリカを形成することにより
案内溝及び情報ピットを転写する。その後、反射膜また
は記録膜、保護膜及び印刷膜を形成し、新たに情報記録
媒体として再利用することにより基板を有効利用でき
る。また、表面性の悪い基板材料について、その表面を
化学的機械研磨法により平坦化することにより新たに情
報記録媒体基板材料として有効利用できる。
板を平坦化し、さらに記録層を形成し、新たに情報記録
媒体として再利用するための基板のリサイクル方法を提
供する。また、表面性が悪い基板材料についても、その
表面を平坦化することにより、情報記録媒体基板として
利用する方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも不要な光ディスク１０の記録
層を化学的機械研磨法により除去し、基板を平坦化す
る。さらに、前記基板に、スタンパーから２Ｐ法、加熱
圧着法のいずれかによりレプリカを形成することにより
案内溝及び情報ピットを転写する。その後、反射膜また
は記録膜、保護膜及び印刷膜を形成し、新たに情報記録
媒体として再利用することにより基板を有効利用でき
る。また、表面性の悪い基板材料について、その表面を
化学的機械研磨法により平坦化することにより新たに情
報記録媒体基板材料として有効利用できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録媒体のリサ
イクル方法に関し、さらに詳しくは基板の表面に形成さ
れた記録層を除去し、基板を平坦化した後、新たに記録
層を形成することによる情報記録媒体基板の再利用方法
ならびにその方法により得られる情報記録媒体に関す
る。さらに、粗面、擦傷等表面性の良くない基板につい
て基板表面を平坦化することにより情報記録媒体基板と
して製造する方法ならびにその方法により得られる情報
記録媒体に関する。
イクル方法に関し、さらに詳しくは基板の表面に形成さ
れた記録層を除去し、基板を平坦化した後、新たに記録
層を形成することによる情報記録媒体基板の再利用方法
ならびにその方法により得られる情報記録媒体に関す
る。さらに、粗面、擦傷等表面性の良くない基板につい
て基板表面を平坦化することにより情報記録媒体基板と
して製造する方法ならびにその方法により得られる情報
記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＤ（コンパクトディスク）、ＭＤ（ミ
ニディスク）、ＣＤ−Ｒ（書き込み型コンパクトディス
ク）等の光ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク
及び磁気カード、ＩＣカード、光カード等のカード等の
情報記録媒体の生産枚数は近年増加する一方であるが、
それに伴う前記不要情報記録媒体、例えば量産工場にお
ける不良品や、ユーザーが所有する前記情報記録媒体の
うちの不要品、破壊品等の量も増加する傾向にある。ま
た、新規製造工程においても情報記録媒体の基板材料と
して、その表面が粗面、擦傷等表面性が悪く記録層形成
に不適当な表面を有する基板も多く、基板材料選択の障
害となっていた。
ニディスク）、ＣＤ−Ｒ（書き込み型コンパクトディス
ク）等の光ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク
及び磁気カード、ＩＣカード、光カード等のカード等の
情報記録媒体の生産枚数は近年増加する一方であるが、
それに伴う前記不要情報記録媒体、例えば量産工場にお
ける不良品や、ユーザーが所有する前記情報記録媒体の
うちの不要品、破壊品等の量も増加する傾向にある。ま
た、新規製造工程においても情報記録媒体の基板材料と
して、その表面が粗面、擦傷等表面性が悪く記録層形成
に不適当な表面を有する基板も多く、基板材料選択の障
害となっていた。
【０００３】これらの情報記録媒体の不要品、破壊品
は、量産工場において、またはユーザーが独自に廃棄し
なければならないのが現状である。しかもこれらの廃棄
された前記情報記録媒体の基板は、そのまま再利用され
ずに捨てられるのが現状で、地球環境的にも好ましくな
い。また、新規製造工程においても情報記録媒体基板と
して、粗面、擦傷等表面性が悪いために採用されない基
板材料もあり資源の有効利用の障害となっていた。
は、量産工場において、またはユーザーが独自に廃棄し
なければならないのが現状である。しかもこれらの廃棄
された前記情報記録媒体の基板は、そのまま再利用され
ずに捨てられるのが現状で、地球環境的にも好ましくな
い。また、新規製造工程においても情報記録媒体基板と
して、粗面、擦傷等表面性が悪いために採用されない基
板材料もあり資源の有効利用の障害となっていた。
【０００４】従来は特開平７−１９２３２２号公報記載
のように、情報記録媒体を機械的に切削、研磨または、
サンドブラスト等で除去したり、アルカリ溶液による化
学的エッチングにより除去して、基板を再利用する方法
が開示されている。
のように、情報記録媒体を機械的に切削、研磨または、
サンドブラスト等で除去したり、アルカリ溶液による化
学的エッチングにより除去して、基板を再利用する方法
が開示されている。
【０００５】ところがこのような方法では、基板の平坦
度を確保するためには切削、研磨においては基板の平坦
度の限界、さらに切削、研磨時の基板の歪みの残存の問
題があり、サンドブラストにおいても同様の問題があ
る。またアルカリ溶液による化学的エッチングの場合も
平坦度は改善するものの化学溶液浸漬工程、廃液処理の
問題がある。また、上記課題を解決するために、上記特
開平７−１９２３２２号公報のように、上記の方法で記
録層除去後に、基板と同等の光学的特性をもつ紫外線硬
化型樹脂材料をいわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ ｐｏｌｉ
ｍｅｒ）により形成する方法もとられている。しかしな
がら、この場合においても、機械的な切削、研磨等によ
る微細な擦傷凹凸及び歪みが残存し、光学的特性に悪影
響を与える可能性がある。
度を確保するためには切削、研磨においては基板の平坦
度の限界、さらに切削、研磨時の基板の歪みの残存の問
題があり、サンドブラストにおいても同様の問題があ
る。またアルカリ溶液による化学的エッチングの場合も
平坦度は改善するものの化学溶液浸漬工程、廃液処理の
問題がある。また、上記課題を解決するために、上記特
開平７−１９２３２２号公報のように、上記の方法で記
録層除去後に、基板と同等の光学的特性をもつ紫外線硬
化型樹脂材料をいわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ ｐｏｌｉ
ｍｅｒ）により形成する方法もとられている。しかしな
がら、この場合においても、機械的な切削、研磨等によ
る微細な擦傷凹凸及び歪みが残存し、光学的特性に悪影
響を与える可能性がある。
【０００６】また、従来の光ディスク基板材料として
は、ポリカーボネート、メチルメタクリレート、ポリオ
レフィン等の樹脂材料から射出成形法で成形されるのが
一般的であった。また、ガラス基板についても特殊な表
面性の良い材料の選択が要求されていた。
は、ポリカーボネート、メチルメタクリレート、ポリオ
レフィン等の樹脂材料から射出成形法で成形されるのが
一般的であった。また、ガラス基板についても特殊な表
面性の良い材料の選択が要求されていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、上記の不要な情報記録媒体から記録層を除去し、基
板を平坦化した後、さらに新たな記録層を形成し、情報
記録媒体として再利用する方法並びに上記の方法により
得られる情報記録媒体を提供することである。また、新
規製造工程においても、情報記録媒体基板として表面性
が悪いために使用不可能であった基板材料でも新たな基
板材料として利用できる方法ならびに上記方法により得
られる情報記録媒体を提供するものである。
は、上記の不要な情報記録媒体から記録層を除去し、基
板を平坦化した後、さらに新たな記録層を形成し、情報
記録媒体として再利用する方法並びに上記の方法により
得られる情報記録媒体を提供することである。また、新
規製造工程においても、情報記録媒体基板として表面性
が悪いために使用不可能であった基板材料でも新たな基
板材料として利用できる方法ならびに上記方法により得
られる情報記録媒体を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、不要となった情報記録媒体の少なくとも記録層を除
去し、さらに基板を平坦化することにより基板を再利用
することができる。ここで記録層とは、情報記録媒体の
ユーザーが情報を再生するために前記情報がすでに記録
された記録膜を備えた場合と、ユーザーが使用するとき
に新しく記録できる記録膜を備えた場合のいずれかを示
し、記録膜を保護する保護膜及び印刷膜を含むものとす
る。
に、不要となった情報記録媒体の少なくとも記録層を除
去し、さらに基板を平坦化することにより基板を再利用
することができる。ここで記録層とは、情報記録媒体の
ユーザーが情報を再生するために前記情報がすでに記録
された記録膜を備えた場合と、ユーザーが使用するとき
に新しく記録できる記録膜を備えた場合のいずれかを示
し、記録膜を保護する保護膜及び印刷膜を含むものとす
る。
【０００９】上記記録層を除去すると共に、平坦化する
方法として、化学的機械研磨法により実現することがで
きる。
方法として、化学的機械研磨法により実現することがで
きる。
【００１０】また、上記記録層を除去し、平坦化した基
板に再び記録層を作成することにより、新しい情報記録
媒体として再利用することができる。
板に再び記録層を作成することにより、新しい情報記録
媒体として再利用することができる。
【００１１】さらに記録層が凹凸の案内溝及び記録ピッ
トを有する場合は、２Ｐ法または、加熱圧着法によりス
タンパーからレプリカを転写することにより記録層を形
成することができる。
トを有する場合は、２Ｐ法または、加熱圧着法によりス
タンパーからレプリカを転写することにより記録層を形
成することができる。
【００１２】また、情報記録媒体の新規製造工程におい
て、表面性が悪いために使用できない基板についても、
その表面を、化学的機械研磨法により平坦化することに
より新たに利用することができる。
て、表面性が悪いために使用できない基板についても、
その表面を、化学的機械研磨法により平坦化することに
より新たに利用することができる。
【００１３】従って、本発明では、不要な情報記録媒体
基板について、その記録層を化学的機械研磨法により、
基板に微細な擦傷や歪みを残すことなく除去し、且つ平
坦化することができ、光学的特性、機械的特性を低下す
ることなく、再生基板として有効利用ができる。また、
再生基板への新たな記録層の形成も、基板の材料に応じ
て、２Ｐ法または加熱圧着法により容易に実現できる。
さらに、表面性の悪い基板についても、化学的機械研磨
法により、その表面を容易に平坦化することができ、情
報記録媒体基板として使用することが可能となる。
基板について、その記録層を化学的機械研磨法により、
基板に微細な擦傷や歪みを残すことなく除去し、且つ平
坦化することができ、光学的特性、機械的特性を低下す
ることなく、再生基板として有効利用ができる。また、
再生基板への新たな記録層の形成も、基板の材料に応じ
て、２Ｐ法または加熱圧着法により容易に実現できる。
さらに、表面性の悪い基板についても、化学的機械研磨
法により、その表面を容易に平坦化することができ、情
報記録媒体基板として使用することが可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を、光
ディスクの基板を再利用することを例にとり図を参照し
ながら説明する。図１にＣＤ（コンパクトディスク）や
ＭＤ（ミニディスク）等で代表される光ディスクの概略
断面図を示す。ポリカーボネート等の熱可塑性合成樹脂
で射出成形によって作られた例えば１．２ｍｍ厚みのポ
リカーボネート基板１１があり、その記録膜１２として
ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）の場合は
Ａｌ等の反射膜が、また記録ディスクの場合は、例えば
ＭＤでは光磁気型の記録材料ＴｂＦｅＣｏ、ＳｉＮ、Ａ
ｌ等が、相変化型では相変化材料ＧｅＳｂＴｅ、ＺｎＳ
−ＳｉＯ2、Ａｌ等が成膜され、ＣＤ−Ｒ（書き込み型
コンパクトディスク）では、シアニン系、フタロシアニ
ン系等の有機色素膜が塗布形成される。さらにその上に
ＵＶレジン（紫外線硬化型樹脂）による保護膜及び印刷
膜１３が例えば１０μｍ 塗布されている。また、上記
ポリカーボネート基板１１上に形成される情報ピットま
たは案内溝の深さは例えば０．１μｍ 、その上に形成
される記録膜１２の厚みは例えば０．１〜０．２μｍで
ある。
ディスクの基板を再利用することを例にとり図を参照し
ながら説明する。図１にＣＤ（コンパクトディスク）や
ＭＤ（ミニディスク）等で代表される光ディスクの概略
断面図を示す。ポリカーボネート等の熱可塑性合成樹脂
で射出成形によって作られた例えば１．２ｍｍ厚みのポ
リカーボネート基板１１があり、その記録膜１２として
ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）の場合は
Ａｌ等の反射膜が、また記録ディスクの場合は、例えば
ＭＤでは光磁気型の記録材料ＴｂＦｅＣｏ、ＳｉＮ、Ａ
ｌ等が、相変化型では相変化材料ＧｅＳｂＴｅ、ＺｎＳ
−ＳｉＯ2、Ａｌ等が成膜され、ＣＤ−Ｒ（書き込み型
コンパクトディスク）では、シアニン系、フタロシアニ
ン系等の有機色素膜が塗布形成される。さらにその上に
ＵＶレジン（紫外線硬化型樹脂）による保護膜及び印刷
膜１３が例えば１０μｍ 塗布されている。また、上記
ポリカーボネート基板１１上に形成される情報ピットま
たは案内溝の深さは例えば０．１μｍ 、その上に形成
される記録膜１２の厚みは例えば０．１〜０．２μｍで
ある。
【００１５】次に、これら光ディスクで不要になった記
録層を除去する。具体的には、印刷膜、保護膜、記録
膜、レプリカ情報ピット及び案内溝を除去する。記録層
の除去は化学的機械研磨法により行う。図２に示すよう
に、研磨パッド２２が取り付けられた回転するプラテン
２１上に、回転するキャリアー２３に取り付けられた光
ディスク１０を押圧し、研磨液供給ノズル２５から供給
される研磨液２４を媒介として基板の全面を均等に研磨
する。このような化学的機械研磨法により、研磨パッ
ド、研磨液及び研磨条件を選ぶことにより、例えば１０
μｍ 〜５０μｍ の記録層を除去し、図３に示すように
再生ポリカーボネート基板３０の平坦度がＲＭＳ（ｒｏ
ｏｔ ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅ：２乗平均）で例えば
０．１ミクロン以下で平坦化することができる。基板の
保護膜や印刷膜は厚いので、最初は粗い研磨粒を含む研
磨液で研磨すれば、研磨時間が大幅に短縮できる。
録層を除去する。具体的には、印刷膜、保護膜、記録
膜、レプリカ情報ピット及び案内溝を除去する。記録層
の除去は化学的機械研磨法により行う。図２に示すよう
に、研磨パッド２２が取り付けられた回転するプラテン
２１上に、回転するキャリアー２３に取り付けられた光
ディスク１０を押圧し、研磨液供給ノズル２５から供給
される研磨液２４を媒介として基板の全面を均等に研磨
する。このような化学的機械研磨法により、研磨パッ
ド、研磨液及び研磨条件を選ぶことにより、例えば１０
μｍ 〜５０μｍ の記録層を除去し、図３に示すように
再生ポリカーボネート基板３０の平坦度がＲＭＳ（ｒｏ
ｏｔ ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅ：２乗平均）で例えば
０．１ミクロン以下で平坦化することができる。基板の
保護膜や印刷膜は厚いので、最初は粗い研磨粒を含む研
磨液で研磨すれば、研磨時間が大幅に短縮できる。
【０００１６】次に代表的な研磨条件を下記に示す。 この結果、図３に示すように、平坦化処理面３１を有す
る再生ポリカーボネート基板３０を得る。
る再生ポリカーボネート基板３０を得る。
【００１７】次に、上記基板上に記録層を新たに形成す
る実施例として、いわゆる２Ｐ法で樹脂層を形成し、ス
タンパー４１からのレプリカを転写する方法について述
べる。２Ｐ法では、紫外線硬化型樹脂（以下２Ｐレジン
という。）をスタンパーと基板の間に挟み込み、そのま
まの状態で紫外線（以下ＵＶという。）で照射し、２Ｐ
レジンを硬化させる。その後、スタンパーから基板を剥
離することにより、レプリカの転写された樹脂層を形成
できる。
る実施例として、いわゆる２Ｐ法で樹脂層を形成し、ス
タンパー４１からのレプリカを転写する方法について述
べる。２Ｐ法では、紫外線硬化型樹脂（以下２Ｐレジン
という。）をスタンパーと基板の間に挟み込み、そのま
まの状態で紫外線（以下ＵＶという。）で照射し、２Ｐ
レジンを硬化させる。その後、スタンパーから基板を剥
離することにより、レプリカの転写された樹脂層を形成
できる。
【００１８】以下、２Ｐ法による工程を図を参照して説
明する。図４に示すように、情報ピット、または記録デ
ィスクの案内溝が形成されたスタンパー４１を用意し、
そのスタンパー４１の上に２Ｐレジン４２を滴下し、さ
らにその上に再生ポリカーボネート基板３０を載せ圧着
する。
明する。図４に示すように、情報ピット、または記録デ
ィスクの案内溝が形成されたスタンパー４１を用意し、
そのスタンパー４１の上に２Ｐレジン４２を滴下し、さ
らにその上に再生ポリカーボネート基板３０を載せ圧着
する。
【００１９】上記２Ｐ法で、基板をスタンパーに圧着す
る方法が２通りあり、図５、図６を参照して説明する。
第１の方法は、図５に示すように、２Ｐレジンの粘度が
例えば１０００ｃｐｓ以上で大きい場合、スタンパー４
１上に２Ｐレジン４２を滴下し、ローラーＡ５１で圧着
する。第２の方法は、図６に示すように、２Ｐレジン４
２の粘度が例えば１０００ｃｐｓ以下で小さい場合、回
転軸６１により、２Ｐレジン４２をスタンパー４１と再
生ポリカーボネート基板３０の間に挟み込み、回転振り
切り法で転写する。
る方法が２通りあり、図５、図６を参照して説明する。
第１の方法は、図５に示すように、２Ｐレジンの粘度が
例えば１０００ｃｐｓ以上で大きい場合、スタンパー４
１上に２Ｐレジン４２を滴下し、ローラーＡ５１で圧着
する。第２の方法は、図６に示すように、２Ｐレジン４
２の粘度が例えば１０００ｃｐｓ以下で小さい場合、回
転軸６１により、２Ｐレジン４２をスタンパー４１と再
生ポリカーボネート基板３０の間に挟み込み、回転振り
切り法で転写する。
【００２０】次に、図７のように、ＵＶランプ７１によ
りＵＶ光７２を照射し、スタンパー４１上のレプリカを
再生ポリカーボネート基板３０に転写する。さらに図８
のように再生ポリカーボネト基板３０をスタンパー４１
より剥離した後、図９のように反射膜または記録膜９１
をスパッターまたは、蒸着等従来と同等な方法で成膜
し、最後に保護膜及び印刷膜９２を塗布形成して再生さ
れた光ディスクを得る。
りＵＶ光７２を照射し、スタンパー４１上のレプリカを
再生ポリカーボネート基板３０に転写する。さらに図８
のように再生ポリカーボネト基板３０をスタンパー４１
より剥離した後、図９のように反射膜または記録膜９１
をスパッターまたは、蒸着等従来と同等な方法で成膜
し、最後に保護膜及び印刷膜９２を塗布形成して再生さ
れた光ディスクを得る。
【００２１】次に、上記再生基板上に記録層を新たに作
成する実施例として、スタンパーからのレプリカを圧着
法により転写し形成する方法について述べる。図１０に
示すように情報ピットまたは記録ディスクの案内溝が形
成されたスタンパー４１を準備し、スタンパー４１を前
記光ディスクの再生ポリカーボネート基板３０のＴｇ
（ガラス転移点）、ポリカーボネートの場合１４５℃よ
り高く加熱しておき、そのスタンパー４１の上に再生ポ
リカーボネート基板３０を載せ、ローラーＢ１０１で３
００Ｋｇｆの圧力をかける。このプロセスによりスタン
パー４１上の情報ピット及び案内溝のパターンが再生ポ
リカーボネート基板３０に転写される。その後スタンパ
ー４１を冷却し、再生ポリカーボネート基板３０をスタ
ンパー４１から剥離する。作成された基板は図１１の再
生ポリカーボネート基板３０のようになる。その後図９
のように、再生ポリカーボネート基板３０に反射膜また
は記録膜９１及び保護膜及び印刷膜９２を形成し、再生
された光ディスクを得る。
成する実施例として、スタンパーからのレプリカを圧着
法により転写し形成する方法について述べる。図１０に
示すように情報ピットまたは記録ディスクの案内溝が形
成されたスタンパー４１を準備し、スタンパー４１を前
記光ディスクの再生ポリカーボネート基板３０のＴｇ
（ガラス転移点）、ポリカーボネートの場合１４５℃よ
り高く加熱しておき、そのスタンパー４１の上に再生ポ
リカーボネート基板３０を載せ、ローラーＢ１０１で３
００Ｋｇｆの圧力をかける。このプロセスによりスタン
パー４１上の情報ピット及び案内溝のパターンが再生ポ
リカーボネート基板３０に転写される。その後スタンパ
ー４１を冷却し、再生ポリカーボネート基板３０をスタ
ンパー４１から剥離する。作成された基板は図１１の再
生ポリカーボネート基板３０のようになる。その後図９
のように、再生ポリカーボネート基板３０に反射膜また
は記録膜９１及び保護膜及び印刷膜９２を形成し、再生
された光ディスクを得る。
【００２２】次に、光ディスク基板用の基板材料とし
て、押し出し成形されたポリカーボネートシートを利用
する例を述べる。押し出し成形されたポリカーボネート
シートは一般にその成形法がロールによる板厚の制御と
表面性に限界があり従来は光ディスク基板材料としては
使われていなかった。例えば１．２ｍｍ厚の押し出し成
形されたポリカーボネートシートから、ＣＤ基板として
ＣＤのサイズに打ち抜きディスク形状にする。次に、化
学的機械研磨法により表面を平坦化し、同時に厚み調整
も行い、基板成形後、加熱圧着法により情報を転写しレ
プリカを形成し、反射層、保護層を形成することにより
ＣＤ媒体を得る。その場合の平坦化条件は、例えば上記
光ディスクの記録層除去及び平坦化処理と同条件であ
る。
て、押し出し成形されたポリカーボネートシートを利用
する例を述べる。押し出し成形されたポリカーボネート
シートは一般にその成形法がロールによる板厚の制御と
表面性に限界があり従来は光ディスク基板材料としては
使われていなかった。例えば１．２ｍｍ厚の押し出し成
形されたポリカーボネートシートから、ＣＤ基板として
ＣＤのサイズに打ち抜きディスク形状にする。次に、化
学的機械研磨法により表面を平坦化し、同時に厚み調整
も行い、基板成形後、加熱圧着法により情報を転写しレ
プリカを形成し、反射層、保護層を形成することにより
ＣＤ媒体を得る。その場合の平坦化条件は、例えば上記
光ディスクの記録層除去及び平坦化処理と同条件であ
る。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、不要となった情報記録
媒体の基板を簡単な方法で、記録層を除去し、且つ平坦
化することができる。さらに上記基板に新たに記録層を
簡単な方法で形成することにより、新たな情報記録媒体
として有効に再利用することができる。その結果、不要
な情報記録媒体の廃棄物の低減にもなり地球環境的にも
好ましいものである。さらに、情報記録基板材料とし
て、その表面性が悪いために従来使用されなかった基板
材料についても、その表面を容易な方法で平坦化するこ
とにより使用でき、安価で容易な工程で情報記録媒体を
提供できる。
媒体の基板を簡単な方法で、記録層を除去し、且つ平坦
化することができる。さらに上記基板に新たに記録層を
簡単な方法で形成することにより、新たな情報記録媒体
として有効に再利用することができる。その結果、不要
な情報記録媒体の廃棄物の低減にもなり地球環境的にも
好ましいものである。さらに、情報記録基板材料とし
て、その表面性が悪いために従来使用されなかった基板
材料についても、その表面を容易な方法で平坦化するこ
とにより使用でき、安価で容易な工程で情報記録媒体を
提供できる。
【図１】 光ディスクの概略断面図である。
【図２】 化学的機械研磨法の装置の概略構成図であ
る。
る。
【図３】 本発明による再生基板の概略断面図である。
【図４】 ２Ｐ法のレジン滴下工程を示す概略断面図で
ある。
ある。
【図５】 ２Ｐ法のローラー圧着工程を示す概略断面図
であり、図４に続く工程を示す図である。
であり、図４に続く工程を示す図である。
【図６】 ２Ｐ法の回転振り切り圧着工程を示す概略断
面図であり、図４に続く工程を示す図である。
面図であり、図４に続く工程を示す図である。
【図７】 ２Ｐ法のＵＶ照射、硬化工程を示す概略断面
図であり、図５、または図６に続く工程を示す図であ
る。
図であり、図５、または図６に続く工程を示す図であ
る。
【図８】 ２Ｐ法の剥離工程を示す概略断面図であり、
図７に続く工程を示す図である。
図７に続く工程を示す図である。
【図９】 製膜及び保護膜形成工程を示す概略断面図で
あり、図８に続く工程を示す図である。
あり、図８に続く工程を示す図である。
【図１０】 加熱圧着法によるスタンパーからのレプリ
カ形成工程を示す概略断面図である。
カ形成工程を示す概略断面図である。
【図１１】 加熱圧着法により作成された基板を示す概
略断面図であり、図１０に続く工程を示す図である。
略断面図であり、図１０に続く工程を示す図である。
１０…光ディスク、１１…ポリカーボネート基板、１２
…記録膜、１３…保護膜及び印刷膜、２０…化学的機械
研磨装置、２１…プラテン、２２…研磨パッド、２３…
キャリアー、２４…研磨液、２５…研磨液供給ノズル、
２６…洗浄液供給ノズル、３０…再生ポリカーボネート
基板、３１…平坦化処理面、４１…スタンパー、４２…
２Ｐレジン、５１…ローラーＡ、６１…回転軸、７１…
ＵＶランプ、７２…ＵＶ光、９１…記録膜、９２…保護
膜及び印刷膜、１０１…ローラーＢ
…記録膜、１３…保護膜及び印刷膜、２０…化学的機械
研磨装置、２１…プラテン、２２…研磨パッド、２３…
キャリアー、２４…研磨液、２５…研磨液供給ノズル、
２６…洗浄液供給ノズル、３０…再生ポリカーボネート
基板、３１…平坦化処理面、４１…スタンパー、４２…
２Ｐレジン、５１…ローラーＡ、６１…回転軸、７１…
ＵＶランプ、７２…ＵＶ光、９１…記録膜、９２…保護
膜及び印刷膜、１０１…ローラーＢ
Claims (10)
- 【請求項１】 基板の表面に少なくとも記録層が形成さ
れた情報記録媒体から、少なくとも前記記録層を除去
し、基板を平坦化した後、平坦化された前記基板表面に
新たに記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体
基板のリサイクル方法。 - 【請求項２】 前記記録層を除去し、基板を平坦化する
方法が少なくとも化学的機械研磨法を含むことを特徴と
する請求項１に記載の情報記録媒体基板のリサイクル方
法。 - 【請求項３】 前記基板に新たに記録層を形成する方法
が、紫外線硬化型樹脂を用いてスタンパーから圧着形成
することによりレプリカを転写する方法であることを特
徴とする請求項１に記載の情報記録媒体基板のリサイク
ル方法。 - 【請求項４】 前記基板に新たに記録層を形成する方法
が、加熱圧着法によりスタンパーからレプリカを転写す
る方法であることを特徴とする請求項１に記載の情報記
録媒体基板のリサイクル方法。 - 【請求項５】 前記基板がポリカーボネート樹脂、ポリ
メチルメタアクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩
化ビニール樹脂、ガラス、アルミ合金、及びシリコンの
いずれか１種であることを特徴とする請求項３に記載の
情報記録媒体基板のリサイクル方法。 - 【請求項６】 前記基板がポリカーボネート樹脂、ポリ
メチルメタアクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩
化ビニール樹脂のいずれか１種であることを特徴とする
請求項４に記載の情報記録媒体基板のリサイクル方法。 - 【請求項７】 請求項１ないし請求項６いずれか１項に
記載の方法により得られた基板上に記録層を形成したこ
とを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項８】 少なくとも基板表面を化学的機械研磨法
により平坦化した後、平坦化された前記基板表面に新た
に記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製
造方法。 - 【請求項９】 前記基板がポリカーボネート樹脂、ポリ
メチルメタアクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩
化ビニール樹脂、ガラス、アルミ合金、及びシリコンの
いずれか１種であることを特徴とする請求項８に記載の
情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項８及び請求項９いずれか１項に
記載の方法により得られた基板上に記録層を形成したこ
とを特徴とする情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073218A JPH10269634A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 情報記録媒体基板のリサイクル方法、情報記録媒体の製造方法、ならびに情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073218A JPH10269634A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 情報記録媒体基板のリサイクル方法、情報記録媒体の製造方法、ならびに情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10269634A true JPH10269634A (ja) | 1998-10-09 |
Family
ID=13511814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9073218A Pending JPH10269634A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 情報記録媒体基板のリサイクル方法、情報記録媒体の製造方法、ならびに情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10269634A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005524984A (ja) * | 2002-05-08 | 2005-08-18 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | マイクロ／ナノ構造を基板上にインプリントする方法 |
| WO2006027921A1 (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Kazuma Toyama | ディスク型情報記録メディア及び磁気カードの情報判読を不能とした廃棄方法及び器具装置 |
| JP2008108397A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用非金属基板の再生方法 |
| KR100878519B1 (ko) * | 2002-01-19 | 2009-01-13 | 삼성전자주식회사 | 광디스크 제조 방법 |
| WO2009038595A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Thomson Licensing | Blu-ray disc made from discarded cd or dvd discs |
| WO2010100865A1 (ja) | 2009-03-03 | 2010-09-10 | ソニー株式会社 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品 |
| WO2014033987A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | ソニー株式会社 | 樹脂組成物及び樹脂成型体 |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP9073218A patent/JPH10269634A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100878519B1 (ko) * | 2002-01-19 | 2009-01-13 | 삼성전자주식회사 | 광디스크 제조 방법 |
| JP2005524984A (ja) * | 2002-05-08 | 2005-08-18 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | マイクロ／ナノ構造を基板上にインプリントする方法 |
| JP4719464B2 (ja) * | 2002-05-08 | 2011-07-06 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | マイクロ／ナノ構造を基板上にインプリントする方法 |
| WO2006027921A1 (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Kazuma Toyama | ディスク型情報記録メディア及び磁気カードの情報判読を不能とした廃棄方法及び器具装置 |
| JP2008108397A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用非金属基板の再生方法 |
| JP4577296B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2010-11-10 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 磁気記録媒体用非金属基板の再生方法 |
| WO2009038595A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Thomson Licensing | Blu-ray disc made from discarded cd or dvd discs |
| WO2010100865A1 (ja) | 2009-03-03 | 2010-09-10 | ソニー株式会社 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品 |
| WO2014033987A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | ソニー株式会社 | 樹脂組成物及び樹脂成型体 |
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