JP2008108397A - 磁気記録媒体用非金属基板の再生方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】非金属基板上に少なくともクロム系下地層、金属薄膜磁性層および保護層を積層してなる磁気記録媒体を、コロイダルシリカを主成分とする遊離砥粒液に少なくとも1種の酸化剤を配合したスラリ状研磨剤を用いて研磨処理することによって、該基板から該クロム系下地層、該金属薄膜磁性層および該保護層を除去することを特徴とする磁気記録媒体用基板の再生方法。
【選択図】図1
Description
本発明の方法が適用される磁気記録媒体は、非金属基板上に少なくともクロム系下地層、金属薄膜磁性層および保護層を順次積層してなるハードディスク等の磁気ディスク、磁気ドラムの形態を有するものである。該磁気記録媒体は、これら以外の層、例えば、非金属基板とクロム系下地層との間にさらにテクスチャ層を配設する層構成を有していてもよい。本発明においては、磁気記録媒体として、主に、製造後の規格試験で不合格となった不良品を対象とする。
前記非金属基板は、アモルファスガラス、強化ガラス、結晶化ガラス、若しくはセラミックス、またはこれらの複合材料から成る基板である。
前記ガラス基板上に設けられたクロム系下地層は、クロムまたはクロム系合金を薄膜形成手段、例えば、スパッタリング、真空蒸着およびイオンプレーティング等の物理的気相成長法(PVD)や化学的気相成長法(CVD)により形成されるものである。前記クロム系合金は、例えばCrを含む二元合金が挙げられ、具体的にはCrTi、CrMo、CrW、CrNb、CrSi、CrCoまたはCrTa等である。
前記クロム系下地層上に設けられた前記金属薄膜磁性層は、好ましくは、CoCrX(ただし、X=Crを除く)、CoCrPtX(ただし、X=CrまたはPtを除く)等で表されるCoを主成分とするCo系の磁性合金等の材料から形成される層である。
前記金属薄膜磁性層上に設けられた前記保護層は、PVDやスピンコーティング等により形成される層であり、一般に耐摩耗性の観点から力学的強度の高いダイヤモンドライクカーボンおよびガラス状カーボン層とパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤の層との積層構造が好ましく用いられる。
前記ガラス基板と前記クロム系下地層との間に配設されていてもよい前記テクスチャ層は、前記ガラス基板の表面をダイヤモンドスラリ等で研削することにより円周状のスジを形成された層である。あるいはまた、前記ガラス基板上に別個の層を形成し、当該層に円周状のスジを研削したものであってもよい。
本発明に使用される研磨剤は、遊離砥粒液と、少なくとも1種の酸化剤とを含むスラリ状物質である。
本発明の遊離砥粒液は、遊離砥粒(固形分)および水系溶媒を含有する。遊離砥粒は、ダイヤモンド、アルミナ、または炭化珪素であっても膜(すなわち、磁気記録媒体の基板上の各層)を除去できるが、除膜後の表面品質の点から考えるとそれらは不適であり、本発明においてはコロイダルシリカであることを要する。
本発明においては、少なくとも1種の酸化剤を使用する。酸化剤としては、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウムなどのような塩素酸系酸化剤、次亜塩素酸ナトリウムなどのような次亜塩素系酸化剤または塩素化イソシアヌル酸ナトリウムなどのような塩素化イソシアヌル酸系酸化剤を使用することが好ましい。
本発明のスラリ状研磨剤は、前記(B−1)の遊離砥粒液に、前記(B−2)の酸化剤を配合して調製される。スラリ状研磨剤中の遊離砥粒(固形分)の濃度は、除膜速度の点から、スラリ状研磨剤の全重量を基準にして0.1〜20重量%が望ましく、1〜15重量%がさらに好ましい。スラリ状研磨剤中の酸化剤の添加量は、スラリ状研磨剤の全重量を基準にして0.1〜2重量%であることが望ましい。スラリ状研磨剤の残余部分は、水系溶媒である。本発明のスラリ状研磨剤は、5〜9、好ましくは5〜7のpHを有する。前述のような弱酸性および弱アルカリ性を含む中性領域のpHを有することによって、酸性またはアルカリ性溶液を用いた場合の問題点を克服することができる。
(C−1)研磨装置
本発明においては、磁気記録媒体を研磨するために、一般に知られている研磨装置を使用することができる。例えば、スピードファム株式会社製9B型両面研磨機等を好ましく使用できるが、特にこれに制限されるものではない。
本発明においては、磁気記録媒体を研磨するために、研磨用の布としてパッドを使用することができる。一般に知られている研磨装置においては、パッドを、研磨装置の定盤に貼り付けて使用することができる。パッドの材質は、ウレタン樹脂の他、不織布など、遊離砥粒を含むスラリに対して耐性を有するものであれば、特に制限されるものではない。磁気記録媒体から各層を除去した後、すなわち除膜後の基板の表面品質を考慮すると、パッドは、好ましくは、フジボウ愛媛株式会社(旧富士紡績株式会社)製POLYPAS(硬度62°)等のような軟質の発泡ウレタン製である。
図1に従って、本発明の研磨処理の1つの実施形態を説明する。図1は、本発明に使用することができる両面研磨装置による磁気記録媒体の再生方法の概略構成図である。被再生ワークである磁気記録媒体1を、両面研磨装置のディスクキャリア2上にセットする。前記磁気記録媒体1を、研磨用のパッドが貼付された上下定盤11および12で挟む。サンギア13およびインターナルギア14により前記ディスクキャリア2と前記上下定盤11および12とをそれぞれ回転させると同時に、エアシリンダ(不図示)により前記上下定盤11および12に圧力を加え、前記磁気記録媒体1を押圧する。このとき、スラリ供給ポンプ23を介して両面研磨装置のスラリ供給溜16に送液されるスラリ状研磨剤101を、スラリ供給ホース15を通じて、前記磁気記録媒体1上に供給する。このように供給されるスラリ状研磨剤101を媒体として、前記磁気記録媒体1の全面を均等に研磨する。
アルミノシリケートを主成分としたガラス基板上に、ガラス基板の表面を研削して形成したテクスチャ層(厚さ数nm以下)、クロム合金下地層(厚さ24nm)、CoCrPtB金属薄膜磁性層(厚さ17nm)、およびカーボン層上に潤滑剤(パーフルオロポリエーテル、ソルベイ社製Fomblin−Z−Tetraol等)を積層した保護層(厚さ数nm+1nm以下)を順次積層してなる磁気記録媒体を、上定盤および下定盤に軟質ウレタン製パッド(フジボウ愛媛株式会社(旧富士紡績株式会社)製POLYPAS)を貼付した両面研磨装置(スピードファム株式会社製9B型両面研磨機)にセットした。該磁気記録媒体の表面を、面圧100gf/cm2(9.8kPa)、下定盤回転数30rpmの条件で、下記第1表に示される組成を有するスラリ状研磨剤Aを用いて、20分間にわたり研磨した。研磨処理後、水洗し、基板表面の脱膜率を光学顕微鏡で測定した。また、Zygo社製NewViewおよびAFMによって、基板表面の平滑性を測定した。基板表面の脱膜率および平滑性を、下記の基準で評価した。なお、該研磨処理によって保護層、金属薄膜磁性層、クロム系下地層およびテクスチャ層が除去(脱膜)されるまでに要した時間を、目視と顕微鏡観察により確認した。評価結果を下記第2表に示す。
〇:脱膜率100%、×:脱膜率100%未満、△:脱膜不安定(連続10回までのパッド使用において、脱膜率100%または100%未満となる)。
〇:磁気記録媒体用基板として使用可能なレベル、△:仕上げ研磨処理を施すことにより磁気記録媒体用基板として使用可能なレベル、×:基板のダメージが大きく、仕上げ研磨処理しても磁気記録媒体用基板として使用不可能なレベル。
実施例1で用いたスラリ状研磨剤Aに代えて、下記第1表に示される組成を有するスラリ状研磨剤Bを用いた以外は実施例1と同様にして、磁気記録媒体の表面を研磨処理した。研磨処理後の基板表面の脱膜率および平滑性の評価結果を、下記第2表に示す。
実施例1で用いたスラリ状研磨剤Aに代えて、下記第1表に示される組成を有するスラリ状研磨剤Cを用いた以外は実施例1と同様にして、磁気記録媒体の表面を研磨処理した。研磨処理後の基板表面の脱膜率および平滑性の評価結果を、下記第2表に示す。
実施例1で用いたスラリ状研磨剤Aに代えて、下記第1表に示される組成を有するスラリ状研磨剤Dを用いた以外は実施例1と同様にして、磁気記録媒体の表面を研磨処理した。研磨処理後の基板表面の脱膜率および平滑性の評価結果を、下記第2表に示す。
実施例1で用いたスラリ状研磨剤Aに代えて、下記第1表に示される組成を有するスラリ状研磨剤Eを用いた以外は実施例1と同様にして、磁気記録媒体の表面を研磨処理した。研磨処理後の基板表面の脱膜率および平滑性の評価結果を、下記第2表に示す。
2 ディスクキャリア
11 パッドが貼付された下定盤
12 パッドが貼付された上定盤
13 サンギア
14 インターナルギア
15 スラリ供給ホース
16 スラリ供給溜め
23 スラリ供給ポンプ
101 スラリ状研磨剤
Claims (3)
- 非金属基板上に少なくともクロム系下地層、金属薄膜磁性層および保護層を積層してなる磁気記録媒体を、コロイダルシリカを主成分とする遊離砥粒液に少なくとも1種の酸化剤を配合したスラリ状研磨剤を用いて研磨処理することによって、該基板から該クロム系下地層、該金属薄膜磁性層および該保護層を除去する工程を含み、前記少なくとも1種の酸化剤が、塩素酸系酸化剤、次亜塩素酸系酸化剤、および塩素化イソシアヌル酸系酸化剤からなる群から選択されることを特徴とする磁気記録媒体用基板の再生方法。
- 前記少なくとも1種の酸化剤が塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、または塩素化イソシアヌル酸ナトリウムであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記スラリ状研磨剤が5〜9のpHを有することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
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