JPH10259143A - メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 - Google Patents
メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法Info
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- JPH10259143A JPH10259143A JP19377397A JP19377397A JPH10259143A JP H10259143 A JPH10259143 A JP H10259143A JP 19377397 A JP19377397 A JP 19377397A JP 19377397 A JP19377397 A JP 19377397A JP H10259143 A JPH10259143 A JP H10259143A
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- zirconium dichloride
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
混合物を分離精製し、所望のメタロセン化合物類を取得
する方法を提供。 【解決手段】 メタロセン化合物類がジアステレオマー
混合物として含有される溶液または懸濁液に光照射し
て、該ジアステレオマー混合物のうちその一部を分離可
能な化合物に変換した後、所望のジアステレオマーを分
離することを特徴とするメタロセン化合物類の精製法。
Description
類の精製法、及び該方法で精製されたメタロセン化合物
類を用いてα−オレフィンを重合し、ポリオレフィンを
製造する技術に関する。
てメタロセン触媒がよく知られている。この触媒は重合
活性が高く、分子量分布が狭い重合体が得られるという
特徴を有する。メタロセン触媒によりアイソタクチック
ポリオレフィンを製造する際に使用する遷移金属化合物
としては、エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジ
クロリドやエチレンビス(4,5,6,7−テトラヒド
ロインデニル)ジルコニウムジクロリド(特開昭61−
130314号公報)、ジメチルシリレンビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド(特開昭63−2950
07号公報、特開平1−275609号公報)等が知ら
れている。また、インデニル基に置換基をつけることに
よって立体規則性及び分子量の向上をはかる改良を加え
た化合物が知られている。(特開平4−268307号
公報、特開平6−157661号公報等)
タクチックポリオレフィンを製造する際にはいずれも下
記の一般式(II)で表されるラセミ体と呼ばれるC2 対
称を有するメタロセン化合物類を用いることが必要であ
った。下記の一般式(III) で表されるメソ体と呼ばれる
C2 対称を有さないメタロセン化合物類を用いた場合に
は、立体規則性の低いアタックチックポリオレフィンし
か得られないことが知られている。
提案されるような分子内に不斉原子を有しているメタロ
セン化合物類についてはラセミ体構造を有するメタロセ
ン化合物類が数種類のジアステレオマーとなる。さら
に、これらのメタロセン化合物類がC2 対称を持たない
構造を有するメタロセン化合物類との混合物になると、
これらの混合物を用いて重合した場合には立体規則性の
低い重合体を含む不均質な重合体となる。
用触媒として用いられるメタロセン化合物は複雑な構造
の化合物であることから、前述のようにその立体異性体
の種類が多く、また、その立体構造によって、α−オレ
フィンの重合機能も異なる。特に、分子中に不斉原子を
有するメタロセン化合物はそのジアステレオマーの種類
が多く、ある種のジアステレオマーは、それを触媒とし
たとき、得られたα−オレフィン重合体の特性を阻害す
る。
はなく、工業的に使用できる分離方法はまだ確立されて
いない。そこで、本発明は不均質な重合体を生成するジ
アステレオマー混合物を分離精製し、所望のメタロセン
化合物類を取得する方法を提供しようとするものであ
る。
を解決するため鋭意検討した結果なされたものである。
すなわち、本発明は、メタロセン化合物類がジアステレ
オマー混合物として含有される溶液または懸濁液に光を
照射して、該ジアステレオマー混合物のうちその一部を
分離可能な化合物に変換した後、所望のジアステレオマ
ーを分離することを特徴とするメタロセン化合物類の精
製法、及び、精製されたメタロセン化合物類を重合触媒
として用いて、α−オレフィンを重合することを特徴と
する重合方法を提供するものである。
ジアステレオマー混合物に光を照射するとジアステレオ
マー混合物の一部が他の構造体に変化し、これによっ
て、通常分離が極めて困難であったメタロセン化合物類
からアイソタクチックポリオレフィンのみを製造するジ
アステレオマーを得ることができることを見出してなさ
れたものである。
(不斉原子、面不斉、軸不斉等)によって生じる立体異
性体で光学異性体(鏡像異性体)以外のものをいい、例
えば、既に述べた一般式II、III で表されるメタロセン
化合物を指称するものである。本発明に用いられるメタ
ロセン化合物類としては、複数のジアステレオマーの混
合物として存在するものが使用される。なかでも、必須
の要件とするものではないが、α−オレフィンの重合性
能の高い化合物が望ましい。特に式(I)で示されるメ
タロセン化合物が好ましい。
独立して、水素、ハロゲン、炭素数1〜10の炭化水素
残基、炭素数1〜18のケイ素含有炭化水素残基または
炭素数1〜10のハロゲン含有炭化水素残基(ただし、
R1 、R2 の少なくともいずれか一方は水素以外の残基
である)を示し、Aは、2価の炭素数2〜7の一部不飽
和結合を含んでもよい炭化水素基であり、Qは、2つの
五員環を結合する2価の基であって、炭素数1〜20の
炭化水素残基、シリレン基ないしオリゴシリレン基、炭
素数1〜20の炭化水素基を有するシリレン基ないしオ
リゴシリレン基、ゲルミレン基、または炭素数1〜20
の炭化水素基を有するゲルミレン基を示し、XおよびY
は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数1〜2
0の炭化水素基、または、酸素あるいは窒素を含む炭素
数1〜20の炭化水素基を示し、Mは、周期律表IVB〜
VIB族遷移金属を示す。) 上記メタロセン化合物の非限定的な例として、下記のも
のを挙げることができる。
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニル
インデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ンビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4−ナフチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−メチルイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
ビス(2−エチル−4−フェニルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス(2−メチルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2,4−
ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチル−4−イ
ソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−メチル−4−ナフチルインデニル)ジル
コニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−4−
メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレン
ビス(2−エチル−4−フェニルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチルテ
トラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレンビス(2,4−ジメチルテトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビ
ス(2−メチル−4−フェニルテトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−イソプロピルテトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−ナフチルテトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−
エチル−4−メチルテトラヒドロインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−
4−フェニルテトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、エチレンビス(2−メチルテトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2,
4−ジメチルテトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、エチレンビス(2−メチル−4−フェニルテ
トラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−メチル−4−イソプロピルテトラヒドロ
インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(2−メチル−4−ナフチルテトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−
4−メチルテトラヒドロインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、エチレンビス(2−エチル−4−フェニルテト
ラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレンビス(2−メチルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2,4−ジメチル
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル
−4−(クロロフェニル)アズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
(フルオロフェニル)アズレニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−イソプ
ロピルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シリレンビス(2−メチル−4−シクロヘキシルアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−ナフチルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチルアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−エチルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−フ
ェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シリレンビス(2−エチル−4−イソプロピルアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−エチル−4−シクロヘキシルアズレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル
−4−ナフチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス(2−メチルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、エチレンビス(2,4−ジメチルアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−メチル−4−(クロロフェニ
ル)アズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビ
ス(2−メチル−4−(フルオロフェニル)アズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4−イソプロピルアズレニル)ジルコニウムジクロ
リド、エチレンビス(2−メチル−4−シクロヘキシル
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(2−メチル−4−ナフチルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、エチレンビス(2−エチルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチル−4
−エチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(2−エチル−4−フェニルアズレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−4−イ
ソプロピルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−エチル−4−シクロヘキシルアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチ
ル−4−ナフチルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、メチレンビス(2−メチルアズレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、メチレンビス(2,4−ジメチルアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2−メ
チル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、メチレンビス(2−メチル−4−(クロロフェニ
ル)アズレニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビ
ス(2−メチル−4−(フルオロフェニル)アズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2−メチ
ル−4−イソプロピルアズレニル)ジルコニウムジクロ
リド、メチレンビス(2−メチル−4−シクロヘキシル
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス
(2−メチル−4−ナフチルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチルヘキサ
ヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シリレンビス(2,4−ジメチルヘキサヒドロアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2,4,4−トリメチルヘキサヒドロアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4−フェニルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−
4−(クロロフェニル)ヘキサヒドロアズレニル)ジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチ
ル−4−(フルオロフェニル)ヘキサヒドロアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4,4−ジフェニルヘキサヒドロアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−イソプロピルヘキサヒドロアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−シクロヘキシルヘキサヒドロアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−ナフチルヘキサヒドロアズレニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−
エチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−メチルヘ
キサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレンビス(2−エチル−4,4−ジメチルヘキ
サヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレンビス(2−エチル−4−フェニルヘキサヒド
ロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2−エチル−4,4−ジフェニルヘキサヒド
ロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2−エチル−4−イソプロピルヘキサヒドロ
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ンビス(2−エチル−4−シクロヘキシルヘキサヒドロ
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ンビス(2−エチル−4−ナフチルヘキサヒドロアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メ
チルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2,4−ジメチルヘキサヒドロアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2,
4,4−トリメチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス(2−メチル−4−フェ
ニルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−メチル−4−(クロロフェニ
ル)ヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−メチル−4−(フルオロフェニ
ル)ヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−メチル−4,4−ジフェニルヘ
キサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−メチル−4−イソプロピルヘキサヒドロ
アズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(2−メチル−4−シクロヘキシルヘキサヒドロアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メ
チル−4−ナフチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス(2−エチルヘキサヒド
ロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(2−エチル−4−メチルヘキサヒドロアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−
4,4−ジメチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−4−フェニ
ルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス(2−エチル−4,4−ジフェニルヘキサ
ヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレン
ビス(2−エチル−4−イソプロピルヘキサヒドロアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−
エチル−4−シクロヘキシルヘキサヒドロアズレニル)
ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−
4−ナフチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、メチレンビス(2−メチルヘキサヒドロアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2,
4−ジメチルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、メチレンビス(2,4,4−トリメチルヘキ
サヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、メチレ
ンビス(2−メチル−4−フェニルヘキサヒドロアズレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2−メ
チル−4−(クロロフェニル)ヘキサヒドロアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2−メチ
ル−4−(フルオロフェニル)ヘキサヒドロアズレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(2−メチ
ル−4,4−ジフェニルヘキサヒドロアズレニル)ジル
コニウムジクロリド、メチレンビス(2−メチル−4−
イソプロピルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、メチレンビス(2−メチル−4−シクロヘキ
シルヘキサヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、メチレンビス(2−メチル−4−ナフチルヘキサヒ
ドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス(2−メチルアズレニル)ハフニウムジクロ
リド、ジメチルシリレンビス(2,4−ジメチルアズレ
ニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ハフニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
(クロロフェニル)アズレニル)ハフニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−(フルオ
ロフェニル)アズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメ
チルシリレンビス(2−メチル−4−イソプロピルアズ
レニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−シクロヘキシルアズレニル)ハフニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−
4−ナフチルアズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメ
チルシリレンビス(2−エチルアズレニル)ハフニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
エチルアズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス(2−エチル−4−フェニルアズレニル)ハ
フニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチ
ル−4−イソプロピルアズレニル)ハフニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−シクロヘ
キシルアズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス(2−エチル−4−ナフチルアズレニル)ハ
フニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチ
ルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジクロリド、ジ
メチルシリレンビス(2,4−ジメチルヘキサヒドロア
ズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビ
ス(2,4,4−トリメチルヘキサヒドロアズレニル)
ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4−フェニルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4
−(クロロフェニル)ヘキサヒドロアズレニル)ハフニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−
4−(フルオロフェニル)ヘキサヒドロアズレニル)ハ
フニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチ
ル−4,4−ジフェニルヘキサヒドロアズレニル)ハフ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル
−4−イソプロピルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4
−シクロヘキシルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
ナフチルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチルヘキサヒドロア
ズレニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビ
ス(2−エチル−4−メチルヘキサヒドロアズレニル)
ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エ
チル−4,4−ジメチルヘキサヒドロアズレニル)ハフ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル
−4−フェニルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4,4
−ジフェニルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジク
ロリド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−イソ
プロピルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−シクロヘ
キシルヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(2−エチル−4−ナフチル
ヘキサヒドロアズレニル)ハフニウムジクロリド、
め溶液または懸濁液が使用される。光照射が均一に行わ
れれば特に濃度制限はないが、一般式(I)で表される
化合物を例にとれば、通常1mol/L以下で、好まし
くは0.1mol/L以下が適している。溶媒は該メタ
ロセン化合物を溶解しうるものでかつ分解させることの
ないものが使用される。具体的には、例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、
トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
酢酸エチル等のエステル系溶媒、もしくはこれらの混合
溶媒であり、好ましくはハロゲン化炭化水素系溶媒であ
り、特に好ましくはジクロロメタンである。
む光、例えば可視光及び紫外光が用いられ、好ましくは
波長600nm以下の光である。具体的には、例えばガ
ラス製容器を用いて高圧水銀燈、紫外線ランプにて発生
する光あるいは直射日光を照射すること等により達成さ
れ、これらの光は波長600nm以下の光を含んでい
る。
ては光照射時に溶液または懸濁液を保つことができれば
特に制限はないが、通常−78℃から用いる溶媒の沸点
までの間で、好ましくは、0℃から40℃、さらに好ま
しくは0℃から室温付近である。また、照射時間は溶液
または懸濁液中のメタロセン化合物類の濃度によるが、
通常1分から100時間の間であり、好ましくは1分か
ら12時間の間、さらに好ましくは1分から6時間の間
である。また圧力条件については特に制限はないが、通
常常圧下で行い、光照射は通常攪拌しながら行う。
に応じて溶媒を除去した後、再結晶、再沈殿、溶媒抽
出、濾過、昇華、蒸留、クロマトグラフィー等の方法で
所望のジアステレオマーを分離取得することができる。
中でも再沈殿、溶媒抽出が好ましい。なお、これらの精
製操作は1回または2回以上繰り返してもよく、上記の
方法を組み合わせて行ってもよい。
活性雰囲気下で行うことが好ましい。分離取得すること
によって得られるジアステレオマーは重合触媒としての
性能を考慮し2種類以上であってもよい。精製条件を適
宜選ぶことによって所望のジアステレオマーのみを取得
することも可能である。
発明におけるメタロセン化合物類を重合触媒として用い
て、α−オレフィンを重合する場合には、溶媒を用いる
溶媒重合に適用されるのはもちろんであるが、実質的に
溶媒を用いない液相無溶媒重合、気相重合、溶融重合に
も適用される。また連続重合、回分式重合いずれにも適
用される。
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あ
るいは混合物が用いられる。重合温度は−78〜200
℃程度、好ましくは−20〜100℃である。反応系の
オレフィン圧には特に制限がないが、好ましくは常圧〜
50kg/cm2 ・Gの範囲である。
圧力の選定あるいは水素の導入、により分子量調節を行
うことができる。本発明におけるメタロセン化合物類を
用いて重合するα−オレフィン(エチレンも包含する)
は、炭素数2〜20、好ましくは2〜10のα−オレフ
ィンである。具体的には、例えばエチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキ
セン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−
テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、
1−エイコセン等、また好ましくは3〜10のα−オレ
フィンで、特に好ましくはプロピレンである。これらの
α−オレフィン類は二種以上混合して重合に供すること
ができる。
て重合する場合、上記α−オレフィンとエチレンとの共
重合も可能である。さらには、上記α−オレフィンと共
重合可能な他の単量体、例えばブタジエン、1,4−ヘ
キサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン、1,
8−ノナジエン、1,9−デカジエン等のような共役お
よび非共役ジエン類、またはシクロプロペン、シクロブ
テン、シクロペンテン、ノルボルネン、ジシクロペンタ
ジエン等のような環状オレフィンの共重合にも有効であ
る。
を用いて重合する際には助触媒として、メタロセン化合
物類をカチオンに変換することが可能な化合物、例えば
アルミニウムオキシ化合物(メチルアルモキサン等)、
粘土鉱物(モンモリロナイト、雲母等)、ルイス酸(ト
リスペンタフルオロフェニルボラン、トリエチルアルミ
ニウム等)、イオン性化合物(N,N−ジメチルアニリ
ニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等)
と組み合わせて使用される。
る。 実施例1 (錯体合成) 以下の操作はすべて窒素雰囲気下で行った。2−メチル
アズレン2.22gをヘキサン30mlに溶かし、フェ
ニルリチウムのシクロヘキサン−ジエチルエーテル溶液
15.6ml(1.0等量)を0℃で少しずつ加えた。
この溶液を室温で1時間攪拌した後、−78℃に冷却し
テトラヒドロフラン30mlを加えた。この溶液にジメ
チルジクロロシラン0.95mlを加え、室温まで昇温
し、さらに50℃で1.5時間加熱した。この後、塩化
アルミニウム水溶液を加え、分液した後有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン−ジクロロメタン 5:1)で精製するとジメチル
ビス{1−(2−メチル−4−フェニル−1,4−ジヒ
ドロアズレニル)}シラン1.48gが得られた。
メチル−4−フェニル−1,4−ジヒドロアズレニ
ル)}シラン768mgをジエチルエーテル15mlに
溶かし、−78℃でノルマルブチルリチウムのヘキサン
溶液1.98ml(1.64mol/L)を滴下し、徐
々に昇温して室温で12時間攪拌した。減圧下溶媒留去
した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し減圧乾固し
た。これにトルエン・ジエチルエーテル(40:1)2
0mlを加え、−60℃で四塩化ジルコニウム325m
gを加え、徐々に昇温し室温で15時間攪拌した。得ら
れた溶液を減圧下濃縮し、ヘキサンを加えて再沈殿させ
るとジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニル
アズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアステレオマ
ー混合物(下記のスペクトルデータを示すジアステレオ
マーAおよびBの混合物、図2参照)150mgが得ら
れた。
チル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ドのジアステレオマー混合物(ジアステレオマーAおよ
びB。A:Bは6:4)887mgを塩化メチレン30
mlに溶解し、100W高圧水銀ランプを有するパイレ
ックスガラス製の反射器に導入した。この溶液を攪拌し
ながら常圧下30分間光照射(300nm〜600n
m)した後、塩化メチレンを減圧下留去した。得られた
黄色固体にトルエン7mlを加え攪拌した後静置すると
黄色固体が沈殿し上澄みを除いた。さらに同様の操作を
トルエン4ml、2ml、ヘキサン2mlで行ったのち
得られた固形物を減圧下乾固すると、ジメチルシリレン
ビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジルコニ
ウムジクロリドの単一のジアステレオマー(下記のスペ
クトルデータを示すジアステレオマーA、図3参照)4
37mg(82%)が得られた。
(s,6H,Si(CH 3 )2 ),1.92(s,6
H,CH3 ),5.30(br d,2H),5.75
−5.95(m,6H),6.13(s,2H),6.
68(d,J=14Hz,2H),7.05−7.20
(m,2H,arom),7.56(d,J=7Hz,
4H) B1 H NMR(300MHz,C6D6 )δ 0.44
(s,6H,SiCH3),0.59(s,6H,Si
CH3 ),1.84(s,6H,CH3 ),5.38
(br d,2H),5.75−6.00(m,6
H),6.13(s,2H),6.78(d,J=14
Hz,2H),7.00−7.20(m,2H,aro
m),7.56(d,J=7Hz,4H)
レニル)ジルコニウムジクロリドのジアステレオマー混
合物(ジアステレオマーAおよびB。A:Bは6:4)
1.0gを塩化メチレン50mlに溶解し、ガラス製の
100mlナスフラスコに導入した。この溶液を攪拌し
ながら5時間直射日光を照射した後、塩化メチレンを減
圧下留去した。得られた黄色固体にトルエン7mlを加
え攪拌した後静置すると黄色固体が沈殿し上澄みを除い
た。さらに同様の操作をトルエン4ml、2ml、ヘキ
サン2mlで行ったのち得られた固形物を減圧下乾固す
ると、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニ
ルアズレニル)ジルコニウムジクロリドの単一のジアス
テレオマー(ジアステレオマーA)552mg(92
%)が得られた。
クレーブ内に東ソー・アクゾ社製メチルアルモキサンを
Al原子換算で4mmol及び、上述の方法で得られた
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド(単一のジアステレオ
マーA)0.26mg(0.4μmol)を入れ、プロ
ピレン1500mlを導入した。70℃に昇温し、1時
間重合操作を行った結果、43.5gのポリマーが得ら
れた。触媒活性は1.6×106 g−ポリマー/g−錯
体、数平均分子量(Mn)は1.3×105 、分子量分
布(Mw/Mn)は2.7、融点は150.9℃であっ
た。クロス分別および13C−NMRスペクトル測定の結
果アイソタクチックポリプロピレンのみであることが判
明した。
−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドの
代わりにジアステレオマー混合物(ジアステレオマーA
およびB)を用いて、実施例2と同条件でプロピレンの
重合を行った結果、25gのポリマーが得られた。触媒
活性は9.5×104 g−ポリマー/g−錯体、数平均
分子量(Mn)は5.8×104 、分子量分布(Mw/
Mn)は5.3、融点は150.6℃であった。クロス
分別および13C−NMRスペクトル測定の結果アイソタ
クチックポリプロピレンとアタクチックポリプロピレン
の混合物であることが判明した。
リチウムを用い、実施例1と同様な方法で得られたジメ
チルシリレンビス(2−メチル−4−(4−クロロフェ
ニル)アズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアステ
レオマー混合物(ジアステレオマーAおよびB。A:B
は6:4)960mgを塩化メチレン25mlに懸濁
し、100W高圧水銀ランプを有するパイレックスガラ
ス製の反射器に導入した。この溶液を攪拌しながら常圧
下40分間光照射(300nm〜600nm)した後、
塩化メチレンを減圧下留去した。得られた黄色固体にト
ルエン7mlを加え攪拌した後静置すると黄色固体が沈
殿し上澄みを除いた。さらに同様の操作をトルエン5m
l、6ml、ヘキサン13mlで行ったのち得られた固
形物を減圧下乾固すると、ジメチルシリレンビス(2−
メチル−4−(4−クロロフェニル)アズレニル)ジル
コニウムジクロリドの単一のジアステレオマー275m
g(51%)が得られた。1 H NMR(300MHz,CDCl3)δ 0.9
5(s,6H,Si(CH3 )2 ),2.13(s,6
H,CH3 ),4.83(br d,2H),5。70
−5.90(m,8H),6.05−6.11(m,2
H),6.73(d,2H),7.25−7.30
(m,8H,arom)
ルリチウムを用い、実施例1と同様な方法で得られたジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−(4−フルオロ
フェニル)アズレニル)ジルコニウムジクロリドのジア
ステレオマー混混合物(ジアステレオマーAおよびB。
A:Bは6:4)937mgを塩化メチレン25mLに
懸濁し、100W高圧水銀ランプを有するパイレックス
ガラス製の反射器に導入した。この溶液を攪拌しながら
常圧下30分間光照射(300nm〜600nm)した
後、塩化メチレンを減圧下留去した。得られた黄色固体
にトルエン7mlを加え攪拌した後静置すると黄色固体
が沈殿し上澄みを除いた。さらに同様の操作をトルエン
2ml、3ml、ヘキサン5mlで行ったのち得られた
固形物を減圧下乾固すると、ジメチルシリレンビス(2
−メチル−4−(4−フルオロフェニル)アズレニル)
ジルコニウムジクロリドの単一のジアステレオマー21
1mg(41%)が得られた。1 H NMR(300MHz,CDCl3 )δ 0.9
5(s,6H,Si(CH3 )2 ),2.14(s,6
H,CH3 ),4.84(br d,2H),5.72
−5.90(m,6H),6.05−6.11(m,2
H),6.72(d,2H),6.95−7.05
(m,4H,arom)、7.32−7.40(m,4
H,arom).
を用い、実施例1と同様な方法で得られたジメチルシリ
レンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ハフ
ニウムジクロリドのジアステレオマー混合物(ジアステ
レオマーAおよびB。A:Bは2:1)1.74gを塩
化メチレン30mLに懸濁し、100W高圧水銀ランプ
を有するパイレックスガラス製の反射器に導入した。こ
の溶液を攪拌しながら常圧下40分間光照射(300n
m〜600nm)した後、塩化メチレンを減圧下留去し
た。得られた黄色固体にトルエン10mlを加え攪拌し
た後静置すると黄色固体が沈殿し上澄みを除いた。さら
に同様の操作をトルエン4ml、4ml、ヘキサン4m
lで行ったのち得られた固形物を減圧下乾固すると、ジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルアズレ
ニル)ハフニウムジクロリドの単一のジアステレオマー
917mg(80%)が得られた。1 H NMR(300MHz,C6D6 )δ 0.52
(s,6H,Si(CH 3 )2 ),2.02(s,6
H,CH3 ),5.20(br s,2H),5.72
−5.95(m,6H),6.04(s,2H),6.
75(d,2H),7.00−7.20(m,6H,a
rom)、7.53(d,4H,arom).
NMRチャート図。
精製した後のNMRチャート図。
Claims (5)
- 【請求項1】 メタロセン化合物類がジアステレオマー
混合物として含有される溶液または懸濁液に光を照射し
て、該ジアステレオマー混合物のうちその一部を分離可
能な化合物に変換した後、所望のジアステレオマーを分
離することを特徴とするメタロセン化合物類の精製法。 - 【請求項2】 メタロセン化合物類が下記の一般式
(I)で表される化合物である請求項1記載のメタロセ
ン化合物類の精製法。 【化1】 (ここで、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立して、水
素、ハロゲン、炭素数1〜10の炭化水素残基、炭素数
1〜18のケイ素含有炭化水素残基または炭素数1〜1
0のハロゲン含有炭化水素残基(ただし、R1 、R2 の
少なくともいずれか一方は水素以外の残基である)を示
し、Aは、2価の炭素数2〜7の一部不飽和結合を含ん
でもよい炭化水素基であり、Qは、2つの五員環を結合
する2価の基であって、炭素数1〜20の炭化水素残
基、シリレン基ないしオリゴシリレン基、炭素数1〜2
0の炭化水素基を有するシリレン基ないしオリゴシリレ
ン基、ゲルミレン基、または炭素数1〜20の炭化水素
基を有するゲルミレン基を示し、XおよびYは、それぞ
れ独立して、水素、ハロゲン、炭素数1〜20の炭化水
素基、または、酸素あるいは窒素を含む炭素数1〜20
の炭化水素基を示し、Mは、周期律表IVB〜VIB族遷移
金属を示す。) - 【請求項3】 一般式(I)のAが、炭素数2〜5の不
飽和結合を含む2価の炭化水素基である請求項2記載の
メタロセン化合物類の精製法。 - 【請求項4】 照射する光が600nm以下の波長を含
む光である請求項1記載のメタロセン化合物類の精製
法。 - 【請求項5】 請求項1記載の方法で精製して得られた
メタロセン化合物類を重合触媒としてα−オレフィンを
重合することを特徴とするα−オレフィンの重合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19377397A JP4080570B2 (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-18 | メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19358696 | 1996-07-23 | ||
JP8-193586 | 1997-01-20 | ||
JP9-7354 | 1997-01-20 | ||
JP735497 | 1997-01-20 | ||
JP19377397A JP4080570B2 (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-18 | メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10259143A true JPH10259143A (ja) | 1998-09-29 |
JP4080570B2 JP4080570B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=27277572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19377397A Expired - Fee Related JP4080570B2 (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-18 | メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4080570B2 (ja) |
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-
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070903 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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