JP2001114795A - ラセミ体メタロセン化合物の製造方法 - Google Patents
ラセミ体メタロセン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2001114795A JP2001114795A JP29481799A JP29481799A JP2001114795A JP 2001114795 A JP2001114795 A JP 2001114795A JP 29481799 A JP29481799 A JP 29481799A JP 29481799 A JP29481799 A JP 29481799A JP 2001114795 A JP2001114795 A JP 2001114795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- hydrocarbon group
- metallocene compound
- group
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
物混合物から、目的とするラセミ体メタロセン化合物を
単離精製し得るラセミ体メタロセン化合物の製造方法の
提供。 【解決手段】含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセン
化合物の合成に際して形成される生成物混合物を、テト
ラヒドロフランを用いて再結晶処理することを特徴とす
るラセミ体メタロセン化合物の製造方法。
Description
を有する架橋メタロセン化合物合成に際して形成された
生成物混合物をテトラヒドロフランを用いてラセミ体メ
タロセン化合物を単離精製する工程を有するメタロセン
化合物の製造方法に関する。
ているメタロセン触媒は、重合活性が高く、分子量分布
が狭い重合体が得られるという特徴を有する。特に二つ
のシクロペンタジエニル基が架橋された構造の配位子を
有する立体剛直性な遷移金属錯体を用いることにより、
アイソタクチックポリプロピレンが得られることが知ら
れている(Journal of American
Chemical Society,106,p.63
55,1984)。更に、2個のシクロペンタジエニル
基がケイ素原子で架橋された、遷移金属錯体により、高
いアイソタクチシティ−を持つポリプロピレンが得られ
ることが公知である(特開昭63−295607号公
報、特開平1−275609号公報、特開平2−131
488号公報)。
ン誘導体である場合に、より高融点かつ高分子量のα−
オレフィン重合体が得られることが特開平6−2399
14号公報に開示されている。さらに特願平10−11
0136号には、上記のアズレン骨格上にハロゲン原子
を含んだ置換基を有するシクロペンタジエン誘導体から
得られる遷移金属錯体が、α−オレフィン重合触媒とし
ての性能をより向上させることが開示されている。この
ようなα−オレフィンの立体規則性重合はキラルメタロ
セン化合物によって実現される。
体のメタロセン化合物よりもより高い立体規則性を発現
するため、キラルメタロセン化合物の製造においては、
ラセミ体メタロセン化合物を選択的に単離精製すること
が要求される。一般にメタロセン化合物の製造において
は、例えばメソ体メタロセン化合物のような有機金属副
生物および/または無機副生物がかなりの量生成する。
それらの副生物は、メタロセン化合物合成における生成
物混合物中で、目的ラセミ体メタロセン化合物と混和し
ており、除去しない場合にはオレフィン重合工程におい
て触媒性能を著しく低下させる。
目的メタロセン化合物を含む生成物混合物を、溶剤を用
いて洗浄することにより上記副生物を溶解除去する方法
が知られている。例えば、特開平7−097388号公
報には、不純物としてエーテル系化合物を含有している
メタロセン化合物類を、ハロゲン化炭化水素溶剤または
ハロゲン化炭化水素と炭化水素の混合溶剤で洗浄するこ
とによる、メタロセン化合物の精製方法が開示されてい
る。しかしかかる方法では、エーテル系化合物以外の有
機金属副生物および/または無機副生物の分離に関して
は除去効果が不明確である。
コール類やアミン類のような極性溶剤を用いてメタロセ
ン混合物を洗浄する方法が開示されている。しかし例示
されているプロトン性の極性溶剤ではメタロセン化合物
の安定性に問題が生じることがある。また特に含ハロゲ
ン置換基を有する架橋メタロセン化合物の精製の場合に
は、有機金属副生物の溶解性が低いため、充分な副生物
の除去ができないおそれがある。
ロトン性極性溶剤中でメタロセンスラリーを加熱処理
後、冷却固液分離することによるメタロセン化合物の精
製方法が開示されている。この場合スラリー状態による
洗浄処理なので、用いる非プロトン性極性溶剤への有機
副生物の溶解度が問題となり、除去が不十分になるおそ
れがある。特に含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセ
ン化合物の精製の場合には、有機副生物の溶解度が極め
て低いため、充分な洗浄効果を得るには極めて大量の溶
剤が必要になる、という問題が生じる。上記のように、
溶媒洗浄操作では、たとえば、洗浄溶媒に難溶性の有機
または無機不純物の除去の点で問題が多い。
は、目的メタロセン化合物を有機溶剤に溶解することに
より、副生物を貧溶解性成分として分離除去する方法が
ある。例えば、特開平1−197490号公報において
は、生成したメタロセン混合物をクロロホルムで抽出し
ている。特開平6−122692号公報および特開平6
−184179号公報においては、生成したメタロセン
混合物をジクロロメタンで抽出している。
ン化合物の回収量を低下させないために、大量の抽出溶
剤が必要となる。特に含ハロゲン置換基を有するメタロ
セン化合物の場合には、かかる文献に示されているよう
な脂肪族含ハロゲン炭化水素に対する溶解性が低いた
め、必要溶剤量が極めて大量になり重大な工業製造上の
問題となる。
ては再結晶法が公知である。一般にメタロセン化合物に
対して溶解性が高く、かつ、反応性の低い不活性溶媒が
使用される。例えば、特開平1−197490号公報に
おいてはクロロホルムを、Journal of Or
ganometallic Chemistry,47
2,p.113(1994)ではジクロロメタンを、特
開平6−157660号公報ではトルエンを用いて再結
晶精製する方法が開示されている。含ハロゲン置換基を
有するメタロセン化合物は、これらの溶媒に対する溶解
性が低いため、溶解させるには極めて大量の溶媒量が必
要であり、工業製造上の問題となる。
ロゲン置換基を有する架橋メタロセン生成物混合物か
ら、目的とするラセミ体メタロセン化合物を単離精製す
るための簡単で効率的な方法を提供することにある。
ドロフランを用いて再結晶処理することにより上記の課
題が解決されることを見出し、本発明を完成した。すな
わち本発明は、含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセ
ン化合物の合成に際して形成される生成物混合物を、テ
トラヒドロフランを用いて再結晶処理することを特徴と
するラセミ体メタロセン化合物の製造方法を提供するも
のである。
る、含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセン化合物
は、好ましくは下記一般式(I)で表されるものであ
る。
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜18のケイ素含有炭化
水素基または炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基を
示す。上記のハロゲン原子の具体例としては、フッソ原
子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子がある。これ
等の中でも塩素原子が好ましい。
例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロ
ピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル等のアルキル基、ビニル、プロペニル等のアルケニル
基、ベンジル、フェニルエチル等のアリールアルキル
基、フェニル、トリル、1−ナフチル等のアリール基等
が挙げられる。上記の炭素数1〜18のケイ素含有炭化
水素基の具体例としては、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル等のトリアルキル
シリル基、トリフェニルシリル等のトリアリールシリル
基、ジメチルフェニルシリル等の(アルキル)(アリー
ル)シリル基、ビス(トリメチルシリル)メチル等のア
ルキルシリルアルキル基が挙げられる。
おいて、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして該ハロ
ゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子
の場合、フッ素原子が上述の炭素数1〜20の炭化水素
基の任意の位置に置換した化合物である。具体的には、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチ
ル、ヨードメチル基等が挙げられる。
R3またはR6上の水素原子と置き替わる置換基であっ
て、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素
基、炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基、アミノ基、
炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基、または炭素数1
〜20の硫黄含有炭化水素基を示す。ハロゲン原子の具
体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子が挙げられる。
ては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、
n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル等の
アルキル基、ビニル、プロペニル等のアルケニル基、ベ
ンジル、フェニルエチル等のアリールアルキル基、フェ
ニル、トリル、1−ナフチル、ビフェニル等のアリール
基等が挙げられる。
おいて、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして該ハロ
ゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子
の場合、フッ素原子が上述の炭素数1〜20の炭化水素
基の任意の位置に置換した化合物である。具体的には、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチ
ル、ヨードメチル基等が挙げられる。
体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキ
シ、ナフトキシ等のアリロキシ基、フェニルメトキシ、
ナフチルメトキシ等のアリールアルコキシ基、フリル基
等の酸素含有複素環基等が挙げられる。炭素数1〜20
の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等
のアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミ
ノ等のアリールアミノ基、(メチル)(フェニル)アミ
ノ等の(アルキル)(アリール)アミノ基、ピラゾリ
ル、インドリル等の窒素含有複素環基等が挙げられる。
体例としては、前記含酸素化合物の酸素が硫黄に置換し
た置換基等が挙げられる。ただし上記のR1、R2、
R4、R5、R7、R8のうち少なくとも1つはハロゲン原
子または炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基であ
る。一般式(I)中、R3およびR6は、それぞれ独立し
て、それが結合する5員環に対して縮合環を形成する炭
素数3〜10の飽和または不飽和の2価の炭化水素基を
示す。従って、当該縮合環は5〜12員環である。特
に、R3およびR6の少なくとも一方が、特に好ましくは
両方が、R3およびR6由来の不飽和結合を有する7員環
からなる縮合環を形成しているものが好ましい。
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、ヘプタメチレン等の2価の飽和炭化水素基、
プロペニレン、2−ブテニレン、1,3−ブタジエニレ
ン、1−ペンテニレン、2−ペンテニレン、1,3−ペ
ンタジエニレン、1,4−ペンタジエニレン、1−ヘキ
セニレン、2−ヘキセニレン、3−ヘキセニレン、1,
3−ヘキサジエニレン、1,4−ヘキサジエニレン、
1,5−ヘキサジエニレン、2,4−ヘキサジエニレ
ン、2,5−ヘキサジエニレン、1,3,5−ヘキサト
リエニレン等の2価の不飽和炭化水素基が挙げられる。
独立して0〜20の整数を示す。mおよびnは1〜5が
好ましい。mおよび/またはnが2〜20の整数の場合
は、複数の基R7、R8は互いに同一でも異なっていても
よい。また、mまたはnが2以上の場合、それぞれ、R
7同士またはR8同士が連結して新たな環構造を形成して
いてもよい。
合する、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、炭素数1
〜20の炭化水素基を有していてもよいシリレン基、オ
リゴシリレン基、ゲルミレン基のいずれかを示す。シリ
レン基、オリゴシリレン基またはゲルミレン基上に2個
の炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基が存在する場
合は、それらが互いに結合して環構造を形成していても
よい。
1,2−エチレン等のアルキレン基、(メチル)(フェ
ニル)メチレン、ジフェニルメチレン等のアリールアル
キレン基、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチ
ルシリレン等のアルキルシリレン基、メチルフェニルシ
リレン、メチルトリルシリレン等の(アルキル)(アリ
ール)シリレン基、ジフェニルシリレン等のアリールシ
リレン基、テトラメチルジシリレン等のオリゴシリレン
基、ゲルミレン基、上記の2価の炭素数1〜20の炭化
水素基を有するシリレン基のケイ素をゲルマニウムに置
換したアルキルゲルミレン基、アリールゲルミレン基等
が挙げられる。
立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭
化水素基、炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基、炭
素数1〜20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1〜20
の酸素含有炭化水素基、アミノ基または炭素数1〜20
の窒素含有炭化水素基を示す。上記のハロゲン原子の具
体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は
ヨウ素原子が挙げられる。
数1〜20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1〜20の
酸素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水
素基の例としては、前記のR7およびR8における例と同
様の基が挙げられる。上記の炭素数1〜20のケイ素含
有炭化水素基の例としては、トリメチルシリルメチル、
トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル
基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニル
シリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ(ア
ルキル)(アリール)シリルメチル基等が挙げられる。
の遷移金属を示し、好ましくはチタニウム、ジルコニウ
ム、ハフニウム等の4族の遷移金属、さらに好ましくは
ジルコニウムまたはハフニウムである。
ては、次に示す化合物が例示される。
ス{2−メチル−4−(4−フルオロフェニル)−4H
−アズレニル}]ジルコニウム、ジクロロ[1,1’−
ジメチルメチレンビス{2−メチル−4−(4−クロロ
フェニル)−4H−アズレニル}]ジルコニウム、ジク
ロロ[1,1’−ジメチルメチレンビス{2−メチル−
4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4H−アズ
レニル}]ジルコニウム、ジクロロ[1,1’−エチレ
ンビス{2−メチル−4−(4−フルオロフェニル)−
4H−アズレニル}]ジルコニウム、ジクロロ[1,
1’−エチレンビス{2−メチル−4−(4−クロロフ
ェニル)−4H−アズレニル}]ジルコニウム、ジクロ
ロ[1,1’−エチレンビス{2−メチル−4−(4−
トリフルオロメチルフェニル)−4H−アズレニル}]
ジルコニウム、ジクロロ[1,1’−ジメチルシリレン
ビス{2−メチル−4−(4−フルオロフェニル)−4
H−アズレニル}]ジルコニウム、ジクロロ[1,1’
−ジメチルシリレンビス{2−メチル−4−(4−クロ
ロフェニル)−4H−アズレニル}]ジルコニウム、ジ
クロロ[1,1’−ジメチルシリレンビス{2−メチル
−4−(3−クロロフェニル)−4H−アズレニル}]
ジルコニウム、ジクロロ[1,1’−ジメチルシリレン
ビス{2−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェ
ニル)−4H−アズレニル}]ジルコニウム等のジルコ
ニウム系メタロセン化合物。
チレンビス{2−メチル−4−(4−フルオロフェニ
ル)−4H−アズレニル}]ハフニウム、ジクロロ
[1,1’−ジメチルメチレンビス{2−メチル−4−
(4−クロロフェニル)−4H−アズレニル}]ハフニ
ウム、ジクロロ[1,1’−ジメチルメチレンビス{2
−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−
4H−アズレニル}]ハフニウム、ジクロロ[1,1’
−エチレンビス{2−メチル−4−(4−フルオロフェ
ニル)−4H−アズレニル}]ハフニウム、ジクロロ
[1,1’−エチレンビス{2−メチル−4−(4−ク
ロロフェニル)−4H−アズレニル}]ハフニウム、ジ
クロロ[1,1’−エチレンビス{2−メチル−4−
(4−トリフルオロメチルフェニル)−4H−アズレニ
ル}]ハフニウム、ジクロロ[1,1’−ジメチルシリ
レンビス{2−メチル−4−(4−フルオロフェニル)
−4H−アズレニル}]ハフニウム、ジクロロ[1,
1’−ジメチルシリレンビス{2−メチル−4−(4−
クロロフェニル)−4H−アズレニル}]ハフニウム、
ジクロロ[1,1’−ジメチルシリレンビス{2−メチ
ル−4−(3−クロロフェニル)−4H−アズレニ
ル}]ハフニウム、ジクロロ[1,1’−ジメチルシリ
レンビス{2−メチル−4−(4−トリフルオロメチル
フェニル)−4H−アズレニル}]ハフニウム等のハフ
ニウム系メタロセン化合物。上記のジルコニウム、ハフ
ニウムをチタン等の他の遷移金属に置き換えたものを使
用することもできる。
架橋メタロセン化合物の合成(メタロセン合成)に際し
て得られる生成物混合物は、単離精製の目的とするラセ
ミ体メタロセン化合物の他に、有機金属副生物及び/又
は無機副生物を含有する。前記メタロセン生成物混合物
は、好ましくはメタロセン合成に際して直接に形成され
る粗生成物であるが、粗生成物を任意の溶剤、たとえば
トルエン、ヘキサンなどで前処理したものであってもよ
い。ここで、有機金属副生物という用語は目的ラセミ体
メタロセン以外の共存有機金属化合物を意味し、典型的
には、少なくとも1個の炭素含有配位子、特にπ配位
子、たとえばシクロペンタジエニル配位子が金属原子に
結合した有機金属化合物を含む。
体メタロセン化合物の異性体であるメタロセン化合物、
目的メタロセン化合物の異性体ではない他のメタロセン
化合物、メタロセン化合物合成に際して不完全な反応の
結果として形成、または残留する有機金属化合物(たと
えばアルキル金属化合物)、オリゴマーおよびポリマー
状の反応生成物、ならびに目的ラセミ体メタロセン化合
物または上記副生物のいずれかから、不純物たとえば
水、アルコール類、アミン類、塩基性化合物、空気との
反応により、または熱分解により形成された化合物であ
る。
ラセミ体メタロセン化合物が混合物の小部分(たとえば
50重量%未満)を構成するにすぎず、有機金属副生物
とよばれる1種またはそれ以上の成分が主量で存在する
場合にも用いられる。本発明の目的に関して無機副生物
という用語は、たとえば無機塩類、無機酸化物または共
有結合金属ハロゲン化物(たとえばフッ化物、塩化物、
臭化物またはヨウ化物)を意味する。
Br、LiI、NaF、NaCl、NaBr、NaI、
KF、KCl、KBr、KI、CaF2、CaCl2、C
aBr2、CaI2、CsF、CsCl、CsBr、Cs
I、MgF2、MgCl2、MgBrCl、BaCl2、
BaI2、AlF3、AlCl3、AlBrCl2、ZnC
l2、ZnBr2、CdCl2、CdBrIなどが例示さ
れる。無機酸化物としてはSiO2、GeO2、SnO2
などが例示される。
の3族、4族、5族または6族、特に4族の金属ハロゲ
ン化物、たとえばTiCl4、ZrCl4またはHfCl
4が例示される。無機副生物という用語は、目的とする
ラセミ体メタロセン化合物が混合物の小部分(たとえば
50重量%未満)を構成するにすぎず、無機副生物と呼
ばれる1種またはそれ以上の成分が主量で存在する場合
にも用いられる。
再結晶処理濃度は、目的とするラセミ体メタロセン化合
物が完全に溶解し、さらにその回収量を充分損なわず、
かつ、加熱および放冷後に目的とするラセミ体メタロセ
ン化合物以外の除去すべき有機金属副生物および/また
は無機副生物が充分溶解する濃度であれば任意に設定で
きる。好ましくはメタロセン生成物混合物の濃度が1〜
1000g/L、より好ましくは1〜500g/L、最
も好ましくは1〜200g/Lの範囲で実施される。
流温度、好ましくは+50℃〜環流温度の範囲で実施さ
れる。また加熱に要する時間は特に制限は無いが、好ま
しくは1分〜3日間、特に好ましくは5分〜24時間、
殊に好ましくは10分〜6時間の間である。
せる温度については特に制限はない。目的ラセミ体メタ
ロセン化合物のみを最大限の量析出させることができ、
かつ、目的ラセミ体メタロセン化合物以外の除去すべき
有機金属副生物および/または無機副生物を最大限の量
液相に留まらせることができる温度であればよく、任意
に設定できる。好ましくは−78℃〜40℃未満、より
好ましくは−10℃〜30℃、最も好ましくは0℃〜室
温の範囲で実施される。
再結晶処理は、昇温下テトラヒドロフランに完全に溶解
させ、任意の時間加熱攪拌することによって行うことが
できる。この処理を実施後、不溶性不純物成分があれば
任意のろ過材で熱時ろ別した後、反応液を濃縮および析
出温度まで放冷、または濃縮なしに析出温度まで放冷す
ることによって、目的とするラセミ体メタロセン化合物
が優先的に析出し、上記の有機金属副生物および/また
は無機副生物を液相に溶解させることができるので、ろ
過、遠心分離などの公知の固液分離操作によって、目的
ラセミ体メタロセン化合物を高純度で単離精製すること
ができる。
できる。すなわち最初の処理の後、適宜な時間、適宜な
温度まで放冷させたのち、再び任意の時間、任意の温度
に加熱溶解することを任意の回数繰り返してもよい。
セン化合物と容易に付加物を形成しやすく、またその除
去が容易ではないことが知られている。さらにはテトラ
ヒドロフランが付加したメタロセン化合物は不安定と考
えられてきた。そのためこれまでメタロセン化合物の精
製においては、テトラヒドロフランを大量に使用した
り、高温で加熱処理する例は少なかった。
タロセン化合物の合成に際して形成される生成物混合物
を精製処理する場合には、精製目的であるラセミ体メタ
ロセン化合物に対して、テトラヒドロフランは、室温条
件はもちろん、完溶状態で環流温度まで加熱処理した場
合においても、何ら影響を与えることはないことを我々
は確認することができた。さらに本発明においては、精
製対象とする含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセン
化合物の、テトラヒドロフランへの溶解性が、含ハロゲ
ン脂肪族炭化水素やトルエン等のメタロセン化合物精製
に一般的な溶媒種に比べて高いことが、本発明効果の発
現理由の一つと考えられる。すなわち、その良好な溶解
性のため錯体を均一に溶解させることができ、溶剤に不
溶の無機副生成物などの除去が容易になること、また精
製に使用する溶媒量が大量にならない、というようなメ
リットが得られることによる。
スラリー状で同様な加熱精製処理をした場合には、溶剤
不溶成分の除去が不十分になるおそれがある。また溶解
性の悪い溶剤を用いて完溶させてから冷却析出させる場
合には、相当大量の溶剤を使用しなければならない、と
いう問題が生じる。本発明ではそのような事態を回避し
て精製操作を実施することができるので、工業製造上の
メリットが大きい。本発明の方法によれば、簡便にかつ
良好な回収率でメタロセン化合物の精製、品質向上が可
能となる。
するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれらの実
施例によって制約をうけるものではない。
へ、ラセミ/メソ=88.9/11.1(モル比)のジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−(p−クロロフ
ェニル)ジヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド
1を70.7重量%と、無機塩類および有機副生成物か
ら成る不純物を29.3重量%含んだメタロセン生成物
混合物A1.01gを仕込み、無水テトラヒドロフラン
142.8mlを加えた。窒素雰囲気下、内温60℃で
加熱攪拌すると間もなく反応液は薄茶色のほぼ透明な溶
液となった。同温で1時間加熱攪拌後、G4フリット上
で素早く熱時濾過した留出液を体積が約20%になるま
で濃縮し、室温まで放冷後、G4フリットに析出黄色固
体を濾取した。極少量の無水テトラヒドロフランと無水
n−ヘキサンでの洗浄後、減圧乾燥し、0.44gの黄
色粉末状固体を得た。1H−NMRによる分析の結果、
ラセミ/メソ=100/0の純粋な錯体1であった。
(ラセミ体の回収率70%)また元素分析の結果を表1
に示す。
へ、ラセミ/メソ=88.9/11.1(モル比)のジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−(p−クロロフ
ェニル)ジヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロリド
1を70.7重量%と、無機塩類および有機副生成物か
ら成る不純物を29.3重量%含んだメタロセン生成物
混合物A1.01gを仕込み、無水テトラヒドロフラン
71.4mlを加えた。窒素雰囲気下、内温60℃で加
熱攪拌したが、混合物は溶解することはなく黄色スラリ
ーのままであった。同温で1時間加熱攪拌の後、室温ま
で放冷し、G4フリットに析出黄色固体を濾取した。極
少量の無水テトラヒドロフランと無水n−ヘキサンでの
洗浄後、減圧乾燥し、0.40gの黄色粉末状固体を得
た。1H−NMRによる分析の結果、固体中の錯体1含
有率は83重量%、ラセミ/メソ=95/5(モル比)
であった。(ラセミ体の回収率50%)また元素分析の
結果を表に示す。実施例と比較例の実験結果および元素
分析結果を表1にまとめる。
よれば、含ハロゲン基を有する架橋メタロセン生成混合
物から、簡便にかつ良好な回収率で効率的にラセミ体メ
タロセン化合物を選択的に単離取得することができ、品
質の優れたメタロセン化合物を製造することができる実
用的な方法である。
Claims (4)
- 【請求項1】含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセン
化合物の合成に際して形成される生成物混合物を、テト
ラヒドロフランを用いて再結晶処理することを特徴とす
るラセミ体メタロセン化合物の製造方法。 - 【請求項2】架橋メタロセン化合物が下記一般式(I)
で表される請求項1記載のラセミ体メタロセン化合物の
製造方法。 【化1】 (一般式(I)中、R1、R2、R4、R5 は、それぞれ
独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の
炭化水素基、炭素数1〜18のケイ素含有炭化水素基ま
たは炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基を示す。R
3 およびR6は、それぞれ独立して、それが結合する5
員環に対して縮合環を形成する炭素数3〜10の飽和ま
たは不飽和の2価の炭化水素基を示す。R7およびR8は
縮合環R3またはR6上の水素原子と置き替わる置換基で
あって、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数1〜
20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水
素基、炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基、アミノ
基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数
1〜20の硫黄含有炭化水素基を示す。ただし、R1、
R2、R4、R5、R7、R8のうち少なくとも1つはハロ
ゲン原子または炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基
である。mおよびnは、それぞれ独立して0〜20の整
数を示す。mまたはnが2以上の場合、それぞれ、R7
同士またはR8同士が連結して新たな環構造を形成して
いてもよい。また、R7およびR8がそれぞれ2個以上あ
るときは、複数あるR7およびR8はそれぞれ同一であっ
ても異っていてもよい。Qは、二つの5員環を結合す
る、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、炭素数1〜2
0の炭化水素基を有していてもよいシリレン基、オリゴ
シリレン基、ゲルミレン基の何れかを示す。X及びY
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のケイ素含有
炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基、
炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基、アミノ基または
炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基を示し、Mは周期
表4から6族の遷移金属を示す。) - 【請求項3】一般式(I)のR3およびR6の少なくとも
一方が、R3またはR6由来の不飽和結合を有する7員環
からなる縮合環を形成している請求項1または2記載の
ラセミ体メタロセン化合物の製造方法。 - 【請求項4】含ハロゲン置換基を有する架橋メタロセン
化合物の合成に際して形成される生成物混合物を、テト
ラヒドロフラン溶媒中に分散させ、加熱攪拌して完全に
溶解後、冷却析出させて再結晶することにより精製する
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のラセ
ミ体メタロセン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29481799A JP4564612B2 (ja) | 1999-10-18 | 1999-10-18 | ラセミ体メタロセン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29481799A JP4564612B2 (ja) | 1999-10-18 | 1999-10-18 | ラセミ体メタロセン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001114795A true JP2001114795A (ja) | 2001-04-24 |
JP4564612B2 JP4564612B2 (ja) | 2010-10-20 |
Family
ID=17812650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29481799A Expired - Fee Related JP4564612B2 (ja) | 1999-10-18 | 1999-10-18 | ラセミ体メタロセン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4564612B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11504706B2 (en) | 2017-12-26 | 2022-11-22 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing supported metallocene catalyst and method of preparing polypropylene using catalyst prepared thereby |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06122692A (ja) * | 1992-06-13 | 1994-05-06 | Hoechst Ag | ビスインデニル型のブリッジドキラルメタロセン触媒の製法 |
JPH10259143A (ja) * | 1996-07-23 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chem Corp | メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 |
-
1999
- 1999-10-18 JP JP29481799A patent/JP4564612B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06122692A (ja) * | 1992-06-13 | 1994-05-06 | Hoechst Ag | ビスインデニル型のブリッジドキラルメタロセン触媒の製法 |
JPH10259143A (ja) * | 1996-07-23 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chem Corp | メタロセン化合物類の精製法及びα−オレフィンの重合方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11504706B2 (en) | 2017-12-26 | 2022-11-22 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing supported metallocene catalyst and method of preparing polypropylene using catalyst prepared thereby |
US11731123B2 (en) | 2017-12-26 | 2023-08-22 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing supported metallocene catalyst and method of preparing polypropylene using catalyst prepared thereby |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4564612B2 (ja) | 2010-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3419501B2 (ja) | ビスインデニル型のブリッジドキラルメタロセン触媒の製法 | |
JP3694371B2 (ja) | メタロセン化合物の新規な合成方法 | |
JP3205384B2 (ja) | ポリオレフィンの製造方法 | |
JP4564612B2 (ja) | ラセミ体メタロセン化合物の製造方法 | |
JP4454225B2 (ja) | ラセミメタロセン錯体の製造方法 | |
RU2337104C9 (ru) | СПОСОБ ДИАСТЕРЕОСЕЛЕКТИВНОГО СИНТЕЗА РАЦЕМИЧЕСКИХ ДИОРГАНОСИЛИЛБИС(2-МЕТИЛБЕНЗО[е]ИНДЕНИЛ)ЦИРКОНИЕВЫХ СОЕДИНЕНИЙ И РАЦЕМИЧЕСКОЕ СОЕДИНЕНИЕ ПЕРЕХОДНОГО МЕТАЛЛА | |
JP2001011087A (ja) | メタロセン生成物混合物からのメタロセン化合物の精製方法 | |
JP3713405B2 (ja) | 架橋ジルコノセン化合物の製造方法 | |
JP4266812B2 (ja) | メタロセンの製造における無機副生成物及び有機金属副生成物の濃度を低減させる方法及び使用される開始材料の経済的な回収方法 | |
US6175025B1 (en) | Process for synthesizing metallocene compounds | |
US5859276A (en) | Organotransition metal compounds | |
JP2001097989A (ja) | メタロセン化合物の精製方法 | |
JP3901800B2 (ja) | メタロセン化合物中のラセミ/メソ比の変更方法 | |
JP3701147B2 (ja) | 架橋ハフノセン化合物の製造方法 | |
JP2000502335A (ja) | メタロセンの精製 | |
US6414206B2 (en) | Process for preparing bisindenylalkanes | |
JP2000026489A (ja) | 架橋メタロセン化合物の製造方法 | |
JP6015443B2 (ja) | 架橋インデニル化合物の精製方法 | |
US6107501A (en) | Synthesis of metallocenes and enrichment of their rac isomer | |
EP3994144A1 (en) | A new process for synthesizing c2 bridged cyclopentadienyl ligands and corresponding ansa-metallocene catalysts | |
JP4606229B2 (ja) | シクロペンタジエニル鉄(ii)アレーンカチオン錯塩又はその類縁体の製造法 | |
JPS58126829A (ja) | ベンゾフエノン誘導体の製造方法 | |
JP2628177B2 (ja) | ポリ(トリオルガノシリルシリリン)およびその製造法 | |
JPH1045786A (ja) | メタロセン化合物の製造方法 | |
JPH09309888A (ja) | サマリウム錯体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060907 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090526 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100706 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100802 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4564612 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |