JPH10259029A

JPH10259029A - 光学素子成形用型

Info

Publication number: JPH10259029A
Application number: JP6671297A
Authority: JP
Inventors: 雅道 ▲ひじ▼野; Masamichi Hijino
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1997-03-19
Filing date: 1997-03-19
Publication date: 1998-09-29

Abstract

(57)【要約】【課題】光学素子との離型性を向上させた光学素子成
形用型を提供する。【解決手段】光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型にあって、型母材の少なくとも成形面にタンタ
ルイオンを注入する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、プリズム
等のガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形
により製造するのに使用される光学素子成形用型に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】加熱軟化したガラス素材を成形用型でプ
レス成形することにより研磨工程を必要とせずにレンズ
を製造する技術は、従来の製造において必要とされた複
雑な工程をなくし、簡単且つ安価にレンズを製造するこ
とを可能とし、近年、レンズのみならずプリズムその他
のガラスよりなる光学素子の製造に使用されるようにな
ってきた。

【０００３】このようなガラス光学素子のプレス成形に
使用される成形型の型母材に要求される性質としては、
硬度、耐熱性、鏡面加工性等に優れていることが挙げら
れる。従来、この種の型母材として金属、セラミックス
及びそれらを成膜した材料等、数多くの提案がされてい
る。いくつかの例を挙げるならば、特開昭４９−５１１
１２号公報には１３Ｃｒマルテンサイト鋼が、特開昭５
２−４５６１３号公報にはＳｉＣ及びＳｉ₃Ｎ₄が、特
開昭６０−２４６２３０号公報には超硬合金に貴金属を
成膜した材料が、又、特開昭６１−１８３１３４号公
報、特開昭６１−２８１０３０号公報にはダイヤモンド
薄膜もしくはダイヤモンド状炭素膜を成膜した成形用型
が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来技術
には以下のような欠点がある。特開昭４９−５１１１２
号公報記載の提案では、１３Ｃｒマルテンサイト鋼は酸
化し易く、更に高温でＦｅがガラス中に拡散してガラス
が着色する欠点を持つ。特開昭５２−４５６１３号公報
記載の方法では、ＳｉＣ及びＳｉ₃Ｎ₄は一般に酸化さ
れにくいとされているが、高温では酸化が起こり表面に
ＳｉＯ₂の膜が形成されるためガラスの融着を生じる。
特開昭６０−２４６２３０号公報記載の貴金属を成膜し
た材料は融着は起こしにくいが、極めて柔らかいため傷
がつき易く変形し易いという欠点を持つ。

【０００５】又、特開昭６１−１８３１３４号公報、特
開昭６１−２８１０３０号公報にそれぞれ記載のダイヤ
モンド薄膜、ダイヤモンド状炭素膜、水素化アモルファ
ス硬質炭素膜又は硬質炭素膜を用いた成形用型は、ガラ
スとの離型性が良く、ガラスの融着を起こさないが、成
形操作を数百回以上繰り返して行うと、前記膜が部分的
に剥離してしまい、成形品において十分な成形性能が得
られないことがある。この原因として以下のことが考え
られる。

【０００６】前述の膜は、いずれも非常に大きな圧縮応
力を有しており、成形プロセスにおける急加熱―急冷却
に伴う応力解放の結果として剥離、クラック等が生じ
る。同様に型母材と膜との熱膨張係数の違いと熱サイク
ルに起因する熱応力によっても同様な現象が生じる。

【０００７】又、型母材によっては、表面状態により膜
が部分的に形成されなかったり、膜厚が薄いことがあ
る。例えば、ＷＣ−ＣｏやＳｉＣ、Ｓｉ₃Ｎ₄等の焼結
体では、粒の欠落や焼結時のポアが避けられず、成形研
磨面に数μｍ以上の穴が存在している。こうした面に膜
を形成したとき、これらの穴には膜が形成されてなかっ
たり、極端に膜厚の薄い状態になる。従って、こうした
部分の膜の付着強度や機械的強度は著しく低下するため
剥離やクラックの発生起点となりやすい。

【０００８】さらに、ＷＣ−ＣｏのＣｏに代表される焼
結体中の焼結助材と前述の膜の間で拡散による合金形成
が生じガラス中に含有される成分と反応し析出物を生じ
る結果、耐久性の劣化を招く。

【０００９】以上のように、成形性、耐久性、経済性に
優れた光学素子成形用型を実現するには至っていない。

【００１０】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたものであり、第１の目的は、光学素子との離型
性を向上させた光学素子成形用型を提供することであ
る。また、第２の目的は、光学素子との離型性のみなら
ず耐久性を兼ね備えた光学素子成形用型を提供すること
である。さらに、第３の目的は、光学素子との離型性の
みならず耐久性を兼ね備え、短時間で作製することので
きる光学素子成形用型を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明に係る光学素子成形用型は、光学素子の
プレス成形に用いる光学素子成形用型において、型母材
の少なくとも成形面にタンタルイオンが注入されている
ことを特徴とする光学素子成形用型。

【００１２】また、第２の発明に係る光学素子成形用型
は、光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型に
おいて、型母材の少なくとも成形面に形成したタンタル
膜にイオンが注入されていることを特徴とする光学素子
成形用型。

【００１３】さらに、第３の発明に係る光学素子成形用
型は、光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型
において、型母材の少なくとも成形面にタンタル膜を形
成すると同時にイオンを注入したことを特徴とする光学
素子成形用型。

【００１４】すなわち、第１の発明に係る光学素子成形
用型は、型母材の少なくとも成形面にタンタルイオンを
注入する。

【００１５】また、第２の発明の係る光学素子成形用型
は、型母材の少なくとも成形面にタンタル膜を形成し、
このタンタル膜にイオンを注入する。

【００１６】さらに、第３の発明に係る光学素子成形用
型は、型母材の少なくとも成形面にタンタル膜を形成
し、このタンタル膜の形成と同時にイオンを注入する。

【００１７】

【発明の実施の形態】

［実施の形態１］ガラスレンズ（曲率半径Ｒ＝１５０ｍ
ｍ、表面粗さＲmax ＝０．０３μｍ、直径φ＝５ｍｍ、
肉厚＝２ｍｍ）を得るための成形用型を作成した。型母
材として焼結体ＳｉＣを上記ガラスレンズに合わせて所
定の形状に加工した後、ＣＶＤ法により多結晶のＳｉＣ
膜を形成し、このＳｉＣ膜の成形面となる表面を鏡面研
磨したものを用いた。この型母材を洗浄した後、イオン
注入装置を用い、質量分離を行い、タンタルイオン（Ｔ
ａ 180⁺）を成形面に以下の条件で注入した。

【００１８】注入量：５×１０¹⁷ｉｏｎｓ／ｃｍ²、イ
オンエネルギー：１００ｋｅＶタンタルイオン注入後の成形面の表面粗さを評価したと
ころ、Ｒmax ＝０．０２μｍであった。比較用として同
一形状、表面粗さの未イオン注入の型母材ＳｉＣからな
る成形用型を用いた（比較例１）。

【００１９】なお、本発明で用いるイオン注入とは、添
加を目的とする粒子をイオン化し、超高真空中で数ｋｅ
Ｖから数１００ｋｅＶに加速して固体基板、すなわち型
母材に添加することにより、バルクと異なった特定の性
質を有する表面層を形成する手法である。照射されたイ
オンが固体基板に侵入すると基板原子との衝突を繰り返
してエネルギーを損失する。その結果、注入したイオン
は固体基板内に停止するが、このときの侵入深さは、通
常のイオン注入の場合、０．０１〜１μｍ程度である。
侵入深さに関する最大濃度の深さやその広がりは、基板
の密度、注入イオンとその加速エネルギーによって決定
される。従って、本発明に型母材として用いられる材質
としては、ＷＣ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＢＮ、Ｔｉ
Ｎ、ＡｌＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｚｒ
Ｏ₂、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、サーメット、サイアロン、ムラ
イト、ＷＣ−Ｃｏ合金等から選ばれるが、耐熱性、熱電
導率等からＳｉＣが望ましい。

【００２０】また、タンタルは耐熱性が高く、機械的強
度に優れており、ガラスとの反応性が乏しく、光学素子
成形用型の成形面に形成材料として適しているといえ
る。このタンタルの金属塊を直に切削、研磨等の加工を
行った型が考えられるが、タンタルは展延性に富むた
め、成形面の加工精度が得られ難く、そして、材料コス
ト等が非常に高く、コスト面を考慮しても実用的でな
い。また、上記した型母材上にスパッタ法等により薄膜
を形成した型も考えられるが、型母材と薄膜との間に明
瞭な界面が存在するため、熱衝撃等に対する十分な耐久
性が得られず、膜剥離等をきたしてしまう。一方、イオ
ン注入により形成した成形面の形状は型母材の形状に倣
うため、良好な成形面精度を確保できる。また、イオン
注入層では、型母材表面から深さ方向にタンタルが傾斜
的に分布しているため、型母材との界面が存在せず、密
着性が良好である。従って、薄膜のように剥離及び破壊
が起きることがないため、耐久性も兼ね備えた成形用型
が得られる。又、注入量は１×１０¹⁵ｉｏｎｓ／ｃｍ²
〜１×１０¹⁹ｉｏｎｓ／ｃｍ²の範囲が望ましい。これ
は、１×１０¹⁵ｉｏｎｓ／ｃｍ²未満では型母材表面に
分布するタンタル濃度が低いため、ガラスとの離型性が
悪く、１×１０¹⁹ｉｏｎｓ／ｃｍ²を越えると逆に過剰
となり形成面の表面がスパッタされ表面状態が悪くなる
ためである。さらに、注入中あるいは注入後の型母材を
熱処理することにより、注入したイオンは増速拡散効果
により分布の広がり効果を生みだし、深い侵入が実現さ
れる。この結果、型母材との密着性が更に良くなると共
に熱安定も増す。

【００２１】タンタルイオン注入後の成形用型で、フリ
ント系ガラスＬａＳＦ０３（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガ
ラス転移点Ｔｇ＝６１０℃）を用いて成形機にてプレス
成形を行い、離型不良発生までの成形回数を比較用の成
形用型と共に評価した。その結果を表１に示す。

【００２２】

【表１】

【００２３】タンタルイオン注入処理の施していないＳ
ｉＣからなる比較例１の成形用型は、成形温度が高いた
めに焼き付けを生じ成形できなかった。

【００２４】それに対し、タンタルイオンを注入した本
実施の形態の成形用型では１００００ショット以上の成
形が可能であった。また、１００００ショット成形した
後の成形用型は、傷や割れといった欠陥やガラス中に含
まれるＰｂＯの還元析出物であるＰｂやガラスの融着が
光学顕微鏡、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察さ
れなかった。また、成形品についても表面粗さ、面精
度、透過率、形状精度とも良好でＰｂの析出や成形時の
ガス残りといった問題もなかった。

【００２５】本実施の形態の光学素子成形用型によれ
ば、ＬａＳＦ０３のような高温での成形においても、離
型が容易に、且つ繰り返し行えるため、生産性が大幅に
向上する。

【００２６】［実施の形態２］実施の形態１と同様の材
質からなる型母材を用い、実施の形態１と同様の形状の
ガラスレンズを得るための成形用型を作成した。型母材
を洗浄した後、ＩＢＳ装置（イオンビームスパッタ装
置）に設置し、成形用型の成形面となる面にタンタル膜
を１５００Å形成した。次にイオン注入装置を用いて、
以下の条件でイオン注入を施した。

【００２７】タンタル膜にアルゴンイオン（Ａｒ⁺）を
５００ｋｅＶのエネルギーで５×１０¹⁷ｉｏｎｓ／ｃｍ
²の注入量で注入した。イオン注入後の成形面の表面粗
さを評価したところＲmax ＝０．０２μｍであった。

【００２８】ここで型母材の表面にタンタル膜を形成し
た後に膜界面よりも大きい飛程を持つ高いエネルギーの
イオンを１×１０¹⁶ｉｏｎｓ／ｃｍ²以上注入すること
により、界面において型母材と膜の原子をミキシングさ
せる。ビーム・ミキシングはビームの持つエネルギーに
より膜と型母材の界面で原子を混合し、鋭い界面の消失
や原子混合による化合物形成を目的としている。このよ
うなイオンビーム照射によって引き起こされるミキシン
グは照射損傷を伴い、欠陥を多量に作ると考えられる。
しかし、イオンと基板原子との衝突は、核的衝突のみな
らず電子的衝突も同時に起こっている。もし、衝突によ
るエネルギー損失の割合がＬＳＳ理論に従うとすれば、
あるエネルギーよりは高い側で電子的衝突によるエネル
ギー損失の方が大きくなる。すなわち高エネルギー側で
電子的、低エネルギー側で核的衝突が大きくなり、した
がって膜表面側は核的衝突による基板原子の散乱は小さ
く、電子的衝突による基板原子のイオン化の方が大きく
なる。このような効果から薄膜は非晶質化したり、結晶
成長を起こしたりする。非晶質と結晶が混在する場合も
ある。

【００２９】また、タンタル膜を成形面に形成させると
ガラスの離型性が向上するが、成形回数が増加するに従
い、膜と型母材との熱膨張係数の違い等により、膜の剥
離及びクラックが生じる。それに対して、イオンビーム
・ミキシングした材料は、形成した薄膜の剥離が起こり
にくい。これは物理的には界面がないことから予測でき
る。

【００３０】タンタル膜はイオンビームスパッタ法、プ
ラズマスパッタ法等により形成される。また、ミキシン
グに利用する注入イオン種としては膜界面よりも大きい
飛程を持つ高エネルギーのイオンであれば良いが、不活
性元素であるＨｅ、Ａｒ等が望ましい。このとき注入イ
オンの注入量が１×１０¹⁵ｉｏｎｓ／ｃｍ²以上のとき
基板材料とタンタル膜の界面において十分なミキシング
の効果が得られる。イオンの注入量は１×１０¹⁵ｉｏｎ
ｓ／ｃｍ²以上であれば良いが、表面の荒れを考慮する
と１×１０¹⁹ｉｏｎｓ／ｃｍ²以下が望ましく、１×１
０¹⁵ｉｏｎｓ／ｃｍ²〜１×１０¹⁹ｉｏｎｓ／ｃｍ²の
範囲が好ましい。さらに、ミキシング後に型母材を熱処
理することにより、ミキシング効果をより得ることがで
きる。

【００３１】評価方法は実施の形態１と同様であり、そ
の結果を表１に示す。本実施の形態の成形用型では良好
な離型性が確認され、ガラスレンズ成形後の成形用型を
光学顕微鏡及びＳＥＭにて観察したところ、１００００
ショット成形後の型でも、傷や割れといった欠陥や、ガ
ラス中に含まれるＰｂＯの還元析出物であるＰｂやガラ
スの融着が光学顕微鏡、ＳＥＭによって観察されなかっ
た。また、成形品（ガラスレンズ）についても表面粗
さ、面精度、透過率、形状精度とも良好で、Ｐｂの析出
や成形時のガス残りといった問題もなかった。

【００３２】本実施の形態によれば、成形用型の成形面
にタンタル膜を成膜した後に、イオン注入を施してタン
タル膜と型母材との間に傾斜層を設けたことにより鋭い
界面をなくすことができ、タンタル膜と型母材との密着
性が向上し、離型性のみならず耐久性も兼ね備えた成形
用型を得ることができる。そのため、メンテナンスの必
要がなく生産効率が向上する。また、成膜とイオン注入
とを併用させることにより、比較的安価に成形用型を作
製することができる。

【００３３】［実施の形態３］実施の形態１と同様の材
質からなる型母材を用い、実施の形態１と同様の形状の
ガラスレンズを得るための成形用型を作成した。型母材
を洗浄した後、ＩＢＳ装置を組み込んだ複合型のＩＢＡ
Ｄ（イオンビームアシスト蒸着）装置に設置した後、高
エネルギーのイオン源によりＡｒ⁺を照射しながら、低
エネルギーのイオン源を用いてスパッタによりタンタル
膜を成形面に５０００Å形成した。アルゴンイオン注入
後の成形面の表面粗さを評価したところＲmax ＝０．０
２μｍであった。なお、比較用として形状及び材質の同
じ成形用型に、未イオン注入で、タンタル膜をスパッタ
により形成したものを用意した（比較例２）。

【００３４】上記手法は、ＩｏｎＢｅａｍＥｎｈ
ａｎｃｅｄＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＩＢＥＤ、イオン
ビーム促進蒸着）、ダイナミックミキシング、あるいは
ＩｏｎＢｅａｍＡｓｓｉｓｔｅｄＤｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ（ＩＢＡＤ、イオンビームアシスト蒸着）と呼ば
れ、蒸着とイオンビーム照射を同時に行う表面被覆法で
ある。また、上記手法に蒸着以外のスパッタを組み合わ
せたものなどもある。この手法は薄膜を通してイオン注
入した場合に見られる原子の混合と結晶成長あるいは非
晶質化を誘起し、形成される薄膜の特性はイオンの運動
エネルギー、電流密度、基板温度、ビームの方向などに
依存する。また、ダイナミックミキシングでは、成膜と
イオンビームの同時処理と言っても、実際にはイオンビ
ーム照射が先行するのが一般的である。これは、イオン
ビーム照射が表面のクリーニングのみならず準安定改質
層に起因した界面反応を促進させ、密着性を向上させる
ことが狙いである。

【００３５】この手法にあっては、ダイナミックミキシ
ングにより型母材とタンタル膜との付着強度が向上する
ために、タンタル層の剥離及びクラックの発生を防ぐこ
とができる。また、型母材の材料、膜の形成法、イオン
種は前述と同様であり、ダイナミックミキシング後の熱
処理の効果も前述と同様であるが、成膜とイオン注入と
を同時に行うことから、処理に要する時間が短縮され効
率的である。

【００３６】成形用型の評価方法は実施の形態１と同様
であり、その結果を表２に示す。

【００３７】

【表２】

【００３８】本実施の形態の成形用型及び比較例２の成
形用型は、どちらも良好な剥離性が確認されたが、タン
タル層のみが施された比較例２の成形用型については１
００ショット成形後に離型不良が確認された。また、成
形後の成形用型を光学顕微鏡およびＳＥＭにて観察した
ところ、タンタル膜の剥離が確認され、ガラスの融着が
確認された。

【００３９】それに対して、ダイナミックミキシング法
によりタンタル膜と型母材との密着性を向上させた本実
施の形態の成形用型は１００００ショット成形後でも、
傷や割れといった欠陥や、ガラス中に含まれるＰｂＯの
還元析出物であるＰｂやガラスの融着が光学顕微鏡、Ｓ
ＥＭによって観察されなかった。また、成形品について
も表面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好で、Ｐ
ｂの析出や成形時のガス残りといった問題もなかった。

【００４０】本実施の形態３によれば、成形用型の成形
面にタンタル層を成膜すると同時に、アルゴンイオン注
入を施してタンタル膜と型母材との密着性を向上させる
ことにより、離型性のみならず耐久性も兼ね備えた成形
用型を得ることができる。そのため、メンテナンスの必
要がなく生産効率が向上する。また、成膜とイオン注入
とを併用させ、かつ同時に行うことにより、比較的安価
に、短時間で型を作製することができる。

【００４１】なお、上記した具体的実施の形態から次の
ような構成の技術的思想が導き出される。

【００４２】（付記）（１）光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型
の製造方法において、型母材の少なくとも成形面にタン
タルイオンを注入することを特徴とする光学素子成形用
型の製造方法。

【００４３】（２）光学素子のプレス成形に用いる光学
素子成形用型の製造方法において、型母材の少なくとも
成形面にタンタル膜を形成する工程と、上記工程の後に
成形面に形成したタンタル層にイオンを注入する工程
と、を有することを特徴とする光学素子成形用型の製造
方法。

【００４４】（３）光学素子のプレス成形に用いる光学
素子成形用型の製造方法において、型母材の少なくとも
成形面にタンタル膜を形成すると同時にイオンを注入す
ることを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。

【００４５】（４）上記型母材にイオンを注入している
間あるいは注入した後に、型母材を熱処理する工程をさ
らに加えることを特徴とする付記（２）または（３）に
記載の光学素子成形用型の製造方法。

【００４６】付記（１）記載の光学素子成形用型の製造
方法によれば、光学素子との離型性を向上させた光学素
子成形用型を作製することができる効果を奏する。

【００４７】また、付記（２）記載の光学素子成形用型
の製造方法によれば、光学素子との離型性のみならず耐
久性を兼ね備えた光学素子成形用型を作製することがで
きる効果を奏する。

【００４８】さらに、付記（３）記載の光学素子成形用
型の製造方法によれば、光学素子との離型性のみならず
耐久性を兼ね備えた光学素子成形用型を短時間で作製す
ることができる効果を奏する。

【００４９】付記（４）記載の光学素子成形用型の製造
方法によれば、上記付記（２）または（３）の効果に加
え、型母材とタンタル膜との密着性がより向上すると共
に熱安定性が増した光学素子成形用型を作製することが
できる効果を奏する。

【００５０】（５）光学素子のプレス成形に用いる光学
素子成形用型において、型母材としてＳｉＣを用い、型
母材の少なくとも成形面にタンタルイオンが注入されて
いることを特徴とする光学素子成形用型。

【００５１】（６）光学素子のプレス成形に用いる光学
素子成形用型において、型母材としてＳｉＣを用い、型
母材の少なくとも成形面に形成したタンタル膜にアルゴ
ンイオンが注入されていることを特徴とする光学素子成
形用型。

【００５２】（７）光学素子のプレス成形に用いる光学
素子成形用型において、型母材としてＳｉＣを用い、型
母材の少なくとも成形面にタンタル膜を形成すると同時
にアルゴンイオンを注入したことを特徴とする光学素子
成形用型。

【００５３】付記（５）記載の光学素子成形用型によれ
ば、耐熱性及び熱伝導性等が良く、光学素子との離型性
を向上させた光学素子成形用型を得ることができる効果
を奏する。

【００５４】また、付記（６）記載の光学素子成形用型
によれば、耐熱性及び熱伝導性等が良いとともに、タン
タル膜の剥離が起こりにくく、光学素子との離型性のみ
ならず耐久性を兼ね備えた光学素子成形用型を得ること
ができる効果を奏する。

【００５５】さらに、付記（７）記載の光学素子成形用
型によれば、耐熱性及び熱伝導性等が良いとともに、タ
ンタル膜の剥離が起こりにくく、光学素子との離型性の
みならず耐久性を兼ね備えた光学素子成形用型を短時間
で得ることができる効果を奏する。

【００５６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学素子
成形用型によれば、以下の効果を奏することができる。

【００５７】請求項１による本発明の光学素子成形用型
によれば、光学素子との離型性を向上させて容易に離型
できるとともに、繰り返し光学素子の成形を行うことが
できるため、光学素子の生産性を大幅に向上させること
ができる。

【００５８】請求項２による本発明の光学素子成形用型
によれば、タンタル膜と型母材との密着性を向上させ、
離型性のみならず耐久性に優れ、成形型のメンテナンス
の必要がなく、生産性を大幅に向上させた成形用型を低
コストで得ることができる。

【００５９】請求項３による本発明の光学素子成形用型
によれば、タンタル膜と型母材との密着性を向上させ、
離型性のみならず耐久性に優れ、成形型のメンテナンス
の必要がなく、生産性を大幅に向上させる成形用型を短
時間で、且つ低コストで得ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型において、型母材の少なくとも成形面にタンタルイオンが注入され
ていることを特徴とする光学素子成形用型。
【請求項２】光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型において、型母材の少なくとも成形面に形成し
たタンタル膜にイオンが注入されていることを特徴とす
る光学素子成形用型。
【請求項３】光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型において、型母材の少なくとも成形面にタンタ
ル膜を形成すると同時にイオンを注入したことを特徴と
する光学素子成形用型。