JP2002020129A - 光学素子成形用型及びその製造方法 - Google Patents
光学素子成形用型及びその製造方法Info
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、繰り返しの成形に伴う、膜剥離の
問題を改良し、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの
融着もない光学素子成型用型を提供する。 【解決手段】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に
用いる光学素子成形用型である成形型１において、成形
型１の型母材２の少なくとも成形面２ａに、金属から選
ばれる少なくとも一種の金属膜を第１層膜３として配置
し、最表面には窒化物、炭化物、酸化物から選ばれる少
なくとも一種の化合物の膜を第３層膜５として配置し、
前記第１層膜３と第３層膜５との間に第１層膜３の金属
と第３層膜５の化合物との混合物からなり、前記第３層
膜５の膜厚に対し１／５以上の膜厚を有する第２層膜４
を配置したことを特徴とするものである。
問題を改良し、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの
融着もない光学素子成型用型を提供する。 【解決手段】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に
用いる光学素子成形用型である成形型１において、成形
型１の型母材２の少なくとも成形面２ａに、金属から選
ばれる少なくとも一種の金属膜を第１層膜３として配置
し、最表面には窒化物、炭化物、酸化物から選ばれる少
なくとも一種の化合物の膜を第３層膜５として配置し、
前記第１層膜３と第３層膜５との間に第１層膜３の金属
と第３層膜５の化合物との混合物からなり、前記第３層
膜５の膜厚に対し１／５以上の膜厚を有する第２層膜４
を配置したことを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、プリズム
等のガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形
により製造するために使用される光学素子成型用型及び
その製造方法に関するものである。
等のガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形
により製造するために使用される光学素子成型用型及び
その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】研磨工程を必要としないでガラス素材の
プレス成形によってレンズを製造する技術は、従来の製
造において必要とされた複雑な工程をなくし、簡単且つ
安価にレンズを製造することを可能とし、近年、レンズ
のみならずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の
製造に使用されるようになってきた。
プレス成形によってレンズを製造する技術は、従来の製
造において必要とされた複雑な工程をなくし、簡単且つ
安価にレンズを製造することを可能とし、近年、レンズ
のみならずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の
製造に使用されるようになってきた。
【０００３】このようなガラスの光学素子のプレス成形
に使用される型材に要求される性質としては、硬度、耐
熱性、鏡面加工性等に優れていることが挙げられる。
に使用される型材に要求される性質としては、硬度、耐
熱性、鏡面加工性等に優れていることが挙げられる。
【０００４】従来、この種の型材として、金属、セラミ
ックスを用いており、その成形面に様々な化合物を成膜
した型が数多く提案されている。
ックスを用いており、その成形面に様々な化合物を成膜
した型が数多く提案されている。
【０００５】いくつかの例を挙げるならば、特開昭６０
−２４６２３０号公報には、超硬合金に貴金属をコーテ
ィングした材料が、特開昭６１−１８３１３４号公報、
特開昭６１−２８１０３０号公報、特開平１−３０１８
６４号公報には、タイヤモンド薄膜、水素化アモルファ
ス硬質炭素膜、硬質炭素膜、ダイヤモンド状炭素膜がそ
れぞれ提案されている。
−２４６２３０号公報には、超硬合金に貴金属をコーテ
ィングした材料が、特開昭６１−１８３１３４号公報、
特開昭６１−２８１０３０号公報、特開平１−３０１８
６４号公報には、タイヤモンド薄膜、水素化アモルファ
ス硬質炭素膜、硬質炭素膜、ダイヤモンド状炭素膜がそ
れぞれ提案されている。
【０００６】また、クロム系の化合物も有用な化合物で
あり、特公平３−６１６１６号公報には窒化クロムを成
膜した成形型が提案されている。
あり、特公平３−６１６１６号公報には窒化クロムを成
膜した成形型が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術にはそれぞれ以下のような問題がある。
た従来技術にはそれぞれ以下のような問題がある。
【０００８】特開昭６０−２４６２３０号公報記載の超
硬合金に貴金属をコーティングした材料は酸化物を作り
にくいため、ガラスの融着を起こしにくいが、型母材と
膜との密着において不十分となり、膜の剥離等が発生し
やすく癒着性において問題を持つ。また極めて柔らかい
ため傷がつき易く変形し易いという欠点も持つ。
硬合金に貴金属をコーティングした材料は酸化物を作り
にくいため、ガラスの融着を起こしにくいが、型母材と
膜との密着において不十分となり、膜の剥離等が発生し
やすく癒着性において問題を持つ。また極めて柔らかい
ため傷がつき易く変形し易いという欠点も持つ。
【０００９】また、特開昭６１−１８３１３４号公報、
特開昭６１−２８１０３０号公報、特開平１−３０１８
６４号公報にそれぞれ記載のダイヤモンド薄膜、ダイヤ
モンド状炭素、水素化アモルファス硬質炭素膜、硬質炭
素膜を用いた型は、型とガラスの離型性が良く、ガラス
の融着を起こさないが、高温下にて膜が剥離しやすく、
膜密着性低下という問題がある。
特開昭６１−２８１０３０号公報、特開平１−３０１８
６４号公報にそれぞれ記載のダイヤモンド薄膜、ダイヤ
モンド状炭素、水素化アモルファス硬質炭素膜、硬質炭
素膜を用いた型は、型とガラスの離型性が良く、ガラス
の融着を起こさないが、高温下にて膜が剥離しやすく、
膜密着性低下という問題がある。
【００１０】そして成形操作を繰り返して行うと、成形
雰囲気中の酸素又はガラスに含まれる酸素により炭素と
反応し、前記膜が部分的に表面荒れを生じ、成形品にお
いて十分な品質が得られないという問題がある。
雰囲気中の酸素又はガラスに含まれる酸素により炭素と
反応し、前記膜が部分的に表面荒れを生じ、成形品にお
いて十分な品質が得られないという問題がある。
【００１１】また、窒化クロム等のクロム系化合物を成
形面に形成した型は、耐熱性に優れ、膜の劣化が少な
く、またガラスとの離型性が良く、ガラスとの融着を起
こさない優れた性能が知られている。
形面に形成した型は、耐熱性に優れ、膜の劣化が少な
く、またガラスとの離型性が良く、ガラスとの融着を起
こさない優れた性能が知られている。
【００１２】しかし、成形を繰り返すに従いクラック等
が発生し、その後膜剥離が生じてしまうことがある。
が発生し、その後膜剥離が生じてしまうことがある。
【００１３】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、特に繰り返しの成形に伴う、膜剥離の問
題を改良し、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融
着もない光学素子成型用型及びこの光学素子成型用型の
製造方法を提供することを目的とする。
されたもので、特に繰り返しの成形に伴う、膜剥離の問
題を改良し、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融
着もない光学素子成型用型及びこの光学素子成型用型の
製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型において、前記光学素子成形用型の型母材の少
なくとも成形面に、金属から選ばれる少なくとも一種の
金属膜を第１層膜として配置し、最表面には窒化物、炭
化物、酸化物から選ばれる少なくとも一種の化合物の膜
を第３層膜として配置し、前記第１層膜と第３層膜との
間に第１層膜の金属と第３層膜の化合物との混合物から
なり、前記第３層膜の膜厚に対し１／５以上の膜厚を有
する第２層膜を配置したことを特徴とするものである。
ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子
成形用型において、前記光学素子成形用型の型母材の少
なくとも成形面に、金属から選ばれる少なくとも一種の
金属膜を第１層膜として配置し、最表面には窒化物、炭
化物、酸化物から選ばれる少なくとも一種の化合物の膜
を第３層膜として配置し、前記第１層膜と第３層膜との
間に第１層膜の金属と第３層膜の化合物との混合物から
なり、前記第３層膜の膜厚に対し１／５以上の膜厚を有
する第２層膜を配置したことを特徴とするものである。
【００１５】本発明の作用を説明すると、光学素子成形
用型に用いることのできる型母材としては、ＷＣ（超
硬）、ＳｉＣ、ＳｉＮ、ステンレス鋼、タングステン合
金、アルミナ等を用いることができ、特に限定されない
が、研削、研磨等の鏡面加工性、熱特性等からＷＣが望
ましい。
用型に用いることのできる型母材としては、ＷＣ（超
硬）、ＳｉＣ、ＳｉＮ、ステンレス鋼、タングステン合
金、アルミナ等を用いることができ、特に限定されない
が、研削、研磨等の鏡面加工性、熱特性等からＷＣが望
ましい。
【００１６】第１層膜の金属としてはＴｉ、Ｓｉ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ等を用いることがで
き、特に限定されず、型母材及び後工程にて成膜する膜
との親和性又は密着性、硬度、熱特性等から選択され
る。
ｒ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ等を用いることがで
き、特に限定されず、型母材及び後工程にて成膜する膜
との親和性又は密着性、硬度、熱特性等から選択され
る。
【００１７】第３層の窒化物、炭化物、酸化物は、Ｔｉ
Ｎ、ＴｉＡｌＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ、ＢＮ、ＡｌＮ、Ｔｉ
Ｃ、ＳｉＣ、ＣｒＣ、ＣｒＯ等、特に限定されず、ガラ
スとの親和性、硬度、熱特性等から選択される。
Ｎ、ＴｉＡｌＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ、ＢＮ、ＡｌＮ、Ｔｉ
Ｃ、ＳｉＣ、ＣｒＣ、ＣｒＯ等、特に限定されず、ガラ
スとの親和性、硬度、熱特性等から選択される。
【００１８】第２層膜は、第１層膜を形成する金属と、
第３層膜を形成する窒化物、炭化物、又は酸化物との混
合物からなる膜であり、その混合比率は特に限定され
ず、膜厚が第３層膜の膜厚に対し１／５以上の膜厚であ
ればよい。
第３層膜を形成する窒化物、炭化物、又は酸化物との混
合物からなる膜であり、その混合比率は特に限定され
ず、膜厚が第３層膜の膜厚に対し１／５以上の膜厚であ
ればよい。
【００１９】また、成膜方法としては、真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンプレーティング、イオンビームミキ
シング、ＣＶＤ、イオン注入、熱による窒化処理、熱酸
化処理、浸炭処理等を用いることができ、特に限定され
ず、これらの手段を組み合わせ形成する。
ッタリング、イオンプレーティング、イオンビームミキ
シング、ＣＶＤ、イオン注入、熱による窒化処理、熱酸
化処理、浸炭処理等を用いることができ、特に限定され
ず、これらの手段を組み合わせ形成する。
【００２０】ガラス成形用光学素子成形型に用いる膜
は、一般的に型母材上に金属等の物質を成膜した後、ガ
ラスとの親和性、耐熱性等に優れた膜をその上に形成す
る。これは最表面に形成する膜がガラスとの親和性が低
く、熱酸化しにくいため、型母材との密着性も低くなる
ので、密着性の向上を目的に反応性の高い金属等からな
る膜を型母材上に形成する。
は、一般的に型母材上に金属等の物質を成膜した後、ガ
ラスとの親和性、耐熱性等に優れた膜をその上に形成す
る。これは最表面に形成する膜がガラスとの親和性が低
く、熱酸化しにくいため、型母材との密着性も低くなる
ので、密着性の向上を目的に反応性の高い金属等からな
る膜を型母材上に形成する。
【００２１】しかし、ガラス成形用光学素子成形型は、
ガラスが流動可能な温度にて用いられるため、ガラスに
より異なるが、一般的に型の温度は５００℃以上の高温
にさらされ、また成形後のガラス（光学素子）を取り出
す際は常温近くまで下げられるため、数百℃のヒートシ
ョックを受ける。
ガラスが流動可能な温度にて用いられるため、ガラスに
より異なるが、一般的に型の温度は５００℃以上の高温
にさらされ、また成形後のガラス（光学素子）を取り出
す際は常温近くまで下げられるため、数百℃のヒートシ
ョックを受ける。
【００２２】このように非常に苛酷な使用環境にて、繰
り返しの成形を行うため、型母材と膜との界面及び膜と
膜との界面にて膜剥離が発生する。
り返しの成形を行うため、型母材と膜との界面及び膜と
膜との界面にて膜剥離が発生する。
【００２３】これは成膜時に発生する膜応力、型母材と
個々の膜の熱線膨張率等、熱特性の違いが明瞭な界面に
て影響を受け、膜剥離が発生するものと考えられる。
個々の膜の熱線膨張率等、熱特性の違いが明瞭な界面に
て影響を受け、膜剥離が発生するものと考えられる。
【００２４】本発明においては、型母材上に形成する金
属膜（第１層膜）と、最表面に形成する膜（第３層膜）
との間に、第１層膜と第３層膜との材料の混合物からな
る混合膜である第２層膜を形成する。
属膜（第１層膜）と、最表面に形成する膜（第３層膜）
との間に、第１層膜と第３層膜との材料の混合物からな
る混合膜である第２層膜を形成する。
【００２５】この混合膜（第２層膜）は、第１層膜と第
３層膜と中間的な熱特性を有し、第１層膜と第３層膜と
の熱特性の違いを緩和する緩和膜となる。また、膜応力
についても硬度等の物性値に対し緩和する膜として機能
する。
３層膜と中間的な熱特性を有し、第１層膜と第３層膜と
の熱特性の違いを緩和する緩和膜となる。また、膜応力
についても硬度等の物性値に対し緩和する膜として機能
する。
【００２６】しかし、これらの作用は第２層膜の膜厚
が、第３層膜の膜厚に対し薄すぎると緩和膜としての効
果が無く、検討の結果、第３層膜の膜厚に対し１／５以
上の膜厚が必要との結論を得た。
が、第３層膜の膜厚に対し薄すぎると緩和膜としての効
果が無く、検討の結果、第３層膜の膜厚に対し１／５以
上の膜厚が必要との結論を得た。
【００２７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
学素子成形用型において、前記第２層膜の混合物に含ま
れる第１層膜成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに
従い、徐々に減少することを特徴とするものである。
学素子成形用型において、前記第２層膜の混合物に含ま
れる第１層膜成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに
従い、徐々に減少することを特徴とするものである。
【００２８】本発明は、第２層膜に含まれる第１層膜の
金属成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに従い、徐
々に減少する混合物を用いるものであり、徐々に減少す
る混合物を作成する手段としては、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティング、イオンビームミキシン
グ、ＣＶＤ、イオン注入、熱による窒化処理、熱酸化処
理、浸炭処理等を用いることができ、特に限定されず、
これらの手段を組み合わせ又はアンモニア、窒素、酸素
等の反応ガスを用いる場合は分圧、流量調整により形成
することもできる。
金属成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに従い、徐
々に減少する混合物を用いるものであり、徐々に減少す
る混合物を作成する手段としては、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティング、イオンビームミキシン
グ、ＣＶＤ、イオン注入、熱による窒化処理、熱酸化処
理、浸炭処理等を用いることができ、特に限定されず、
これらの手段を組み合わせ又はアンモニア、窒素、酸素
等の反応ガスを用いる場合は分圧、流量調整により形成
することもできる。
【００２９】前記第２層膜に含まれる第１層膜の金属成
分の比率が、第３層膜方向に至るに従い徐々に減少する
ものであることにより、第１層膜と第３層膜との間に明
瞭な界面が無くなり、緩和膜としての効果がより顕著な
ものとなる。
分の比率が、第３層膜方向に至るに従い徐々に減少する
ものであることにより、第１層膜と第３層膜との間に明
瞭な界面が無くなり、緩和膜としての効果がより顕著な
ものとなる。
【００３０】請求項３記載の発明は、ガラスよりなる光
学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方
法において、前記光学素子成形用型の型母材の少なくと
も成形面に、金属から選ばれる少なくとも一種の金属膜
を第１層膜として形成する工程と、第１層膜上に、前記
第１層膜の金属と後工程で形成される第３層膜の化合物
との混合物からなり、第３層膜の膜厚に対し１／５以上
の膜厚を有する第２層膜を形成する工程と、前記型母材
の最表面に、窒化物、炭化物、酸化物から選ばれる少な
くとも一種の化合物からなる第３層膜を形成する工程と
を有することを特徴とするものである。
学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方
法において、前記光学素子成形用型の型母材の少なくと
も成形面に、金属から選ばれる少なくとも一種の金属膜
を第１層膜として形成する工程と、第１層膜上に、前記
第１層膜の金属と後工程で形成される第３層膜の化合物
との混合物からなり、第３層膜の膜厚に対し１／５以上
の膜厚を有する第２層膜を形成する工程と、前記型母材
の最表面に、窒化物、炭化物、酸化物から選ばれる少な
くとも一種の化合物からなる第３層膜を形成する工程と
を有することを特徴とするものである。
【００３１】本発明によれば、上述した一連の工程によ
り、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融着もない
光学素子成型用型を容易に製造することができる。
り、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融着もない
光学素子成型用型を容易に製造することができる。
【００３２】請求項４記載の発明は、請求項３記載の光
学素子成形用型の製造方法において、前記第２層膜の形
成は、前記第１層膜の金属と第３層膜の化合物との成分
を含む成膜材料を使用し、成膜される第２層膜における
第１層膜成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに従い
徐々に減少する成膜条件を設定して行われることを特徴
とするものである。
学素子成形用型の製造方法において、前記第２層膜の形
成は、前記第１層膜の金属と第３層膜の化合物との成分
を含む成膜材料を使用し、成膜される第２層膜における
第１層膜成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに従い
徐々に減少する成膜条件を設定して行われることを特徴
とするものである。
【００３３】本発明によれば、第１層膜と第３層膜との
間に明瞭な界面を無くす緩和膜として機能する第２層膜
を効率よく成膜して、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラ
スとの融着もない光学素子成型用型を容易に製造するこ
とができる。
間に明瞭な界面を無くす緩和膜として機能する第２層膜
を効率よく成膜して、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラ
スとの融着もない光学素子成型用型を容易に製造するこ
とができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００３５】（実施の形態１） （構成）光学素子であるガラスレンズ（曲率半径Ｒ＝１
５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、直径５ｍ
ｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図１に示すような本実
施の形態１による光学素子成形用型（以下「成形型」と
いう）１を作成した。
５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、直径５ｍ
ｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図１に示すような本実
施の形態１による光学素子成形用型（以下「成形型」と
いう）１を作成した。
【００３６】成形型１の型母材２として、ＷＣ（超硬；
商品名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加
工した後、成形面２ａを鏡面研磨したものを用いた。
商品名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加
工した後、成形面２ａを鏡面研磨したものを用いた。
【００３７】この型母材２を洗浄した後、高エネルギー
のイオン源と、低エネルギーのイオン源を合わせ持つ装
置に設置した。
のイオン源と、低エネルギーのイオン源を合わせ持つ装
置に設置した。
【００３８】高エネルギーのイオン源を用いて、アルゴ
ンイオン（Ａｒ＋）を成形面２ａにイオンエネルギー５
ＫｅＶ、電流密度１０μＡ／ｃｍ２で注入を行うのと同
時に、低エネルギーのイオン源からアルゴンイオンをク
ロムターゲットに照射し、イオンビームスパッタリング
により第１層膜３としてクロム膜を２０００Åの厚さに
形成した。
ンイオン（Ａｒ＋）を成形面２ａにイオンエネルギー５
ＫｅＶ、電流密度１０μＡ／ｃｍ２で注入を行うのと同
時に、低エネルギーのイオン源からアルゴンイオンをク
ロムターゲットに照射し、イオンビームスパッタリング
により第１層膜３としてクロム膜を２０００Åの厚さに
形成した。
【００３９】その後、高エネルギーのイオン源から発生
するイオンを窒素イオン（Ｎ＋）に変更し、注入条件も
イオンエネルギー５ＫｅＶ、電流密度２０μＡ／ｃｍ２
に変更し、またクロムターゲットを窒化クロム（Ｃｒ
Ｎ）へ変更し、更に窒素ガス（純度９９．９９％）を１
ｓｃｃｍにてチヤンバー内に導入し、注入と同時に成膜
を行った。
するイオンを窒素イオン（Ｎ＋）に変更し、注入条件も
イオンエネルギー５ＫｅＶ、電流密度２０μＡ／ｃｍ２
に変更し、またクロムターゲットを窒化クロム（Ｃｒ
Ｎ）へ変更し、更に窒素ガス（純度９９．９９％）を１
ｓｃｃｍにてチヤンバー内に導入し、注入と同時に成膜
を行った。
【００４０】即ち、第２層膜４としてクロムと窒化クロ
ムとの混合膜を４０００Åの厚さに形成した。
ムとの混合膜を４０００Åの厚さに形成した。
【００４１】次に、窒素ガスの流量を６ｓｃｃｍに増加
し、また高エネルギーのイオン源から発生する窒素イオ
ンの注入条件もイオンエネルギー５ＫｅＶ、電流密度４
０ＪμＡ／ｃｍ２に変更し、第３層膜５である窒化クロ
ム膜を４０００Åの厚さに形成した。
し、また高エネルギーのイオン源から発生する窒素イオ
ンの注入条件もイオンエネルギー５ＫｅＶ、電流密度４
０ＪμＡ／ｃｍ２に変更し、第３層膜５である窒化クロ
ム膜を４０００Åの厚さに形成した。
【００４２】上記各膜を形成後、窒素雰囲気にて６００
℃、１時間保持する熱処理を行い、成形型１を製造した
（以後、「実施の形態１型」ともいう）。
℃、１時間保持する熱処理を行い、成形型１を製造した
（以後、「実施の形態１型」ともいう）。
【００４３】成形型１の成膜、熱処理後の状態を表面分
析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握をし
た。その結果を図２に示す。
析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握をし
た。その結果を図２に示す。
【００４４】図２のＥＳＣＡディプストプロファイルに
おいて、横軸は膜厚、楯軸はａｔ％（Ａｔｏｍｉｃ
％）を示すものであり、図２から明らかなように、膜厚
０乃至２０００Åまでが型母材２上に形成した第１層膜
（クロム膜）３、２０００Å乃至６０００Åまでが第２
層膜４であるクロム膜とチッ化クロム膜との混合膜（Ｃ
ｒ ８０％、Ｎ ２０％）であり、６０００Å乃至１０
０００Åまでが第３層膜５であるチッ化クロム膜（Ｃｒ
５０％、Ｎ ５０％）である。
おいて、横軸は膜厚、楯軸はａｔ％（Ａｔｏｍｉｃ
％）を示すものであり、図２から明らかなように、膜厚
０乃至２０００Åまでが型母材２上に形成した第１層膜
（クロム膜）３、２０００Å乃至６０００Åまでが第２
層膜４であるクロム膜とチッ化クロム膜との混合膜（Ｃ
ｒ ８０％、Ｎ ２０％）であり、６０００Å乃至１０
０００Åまでが第３層膜５であるチッ化クロム膜（Ｃｒ
５０％、Ｎ ５０％）である。
【００４５】前記第２層膜４は、第１層膜３と第３層膜
５との特性（熱特性、硬度等）の差を緩和する膜であ
り、その厚さは少なくとも第３層膜５の１／５以上とす
る。その厚さが、第３層膜５の１／５未満の厚さである
と、第１層膜３と第３層膜５との特性の差を吸収するこ
とが困難となり、クラック等が入り易くなる。
５との特性（熱特性、硬度等）の差を緩和する膜であ
り、その厚さは少なくとも第３層膜５の１／５以上とす
る。その厚さが、第３層膜５の１／５未満の厚さである
と、第１層膜３と第３層膜５との特性の差を吸収するこ
とが困難となり、クラック等が入り易くなる。
【００４６】前記成形型１の成形表面の表面粗さを評価
したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
【００４７】また、比較用成形型として、混合膜を形成
せず、クロム膜 ２０００Å、窒化クロム ４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施した（以後、「比較例１型」とする）。比
較例１型の表面租さはＲｍａｘ＝０．０３μｍであっ
た。
せず、クロム膜 ２０００Å、窒化クロム ４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施した（以後、「比較例１型」とする）。比
較例１型の表面租さはＲｍａｘ＝０．０３μｍであっ
た。
【００４８】（作用）上記２種類の実施の形態１型及び
比較例１型で、フリント系ガラスＬａＳＦ０３（軟化点
Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ＝６１０℃）を用い
て成形機にてプレス成形を行い、不良発生までの成形回
数を比較して評価した。
比較例１型で、フリント系ガラスＬａＳＦ０３（軟化点
Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ＝６１０℃）を用い
て成形機にてプレス成形を行い、不良発生までの成形回
数を比較して評価した。
【００４９】混合膜を施していない比較例１型は、１０
００ショット（ｓｈｏｔ）経過時に膜剥離が発生し、不
良となった。その後、膜剥離部を電子顕微鏡による観
察、元素分析装置にて分析したところ、型母材とクロム
膜との界面からの膜剥離を確認した。
００ショット（ｓｈｏｔ）経過時に膜剥離が発生し、不
良となった。その後、膜剥離部を電子顕微鏡による観
察、元素分析装置にて分析したところ、型母材とクロム
膜との界面からの膜剥離を確認した。
【００５０】これに対し、実施の形態１型では、１００
００ショット以上の成形が可能であった。また、１００
００ショット成形した後の型を同様に電子顕微鏡及び元
素分析装置にて観察、分析したところ、膜剥離、傷、ク
ラックといった不良は認められなかった。次に、成形面
の表面租さを測定したところＲｍａｘ＝０．０３μｍで
あり、初期状態との変化は認められなかった。
００ショット以上の成形が可能であった。また、１００
００ショット成形した後の型を同様に電子顕微鏡及び元
素分析装置にて観察、分析したところ、膜剥離、傷、ク
ラックといった不良は認められなかった。次に、成形面
の表面租さを測定したところＲｍａｘ＝０．０３μｍで
あり、初期状態との変化は認められなかった。
【００５１】また、成形品についても検査した結果、表
面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りと言った問題もなかった。
面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りと言った問題もなかった。
【００５２】（効果）本実施の形態１によれば、前記第
１層膜３と第３層膜５との間に、混合膜である前記第２
層膜４を形成することにより、成膜時の応力及び熱特性
の違いを緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒート
ショックによる膜剥離を防止することができる成形型１
を提供することができる。
１層膜３と第３層膜５との間に、混合膜である前記第２
層膜４を形成することにより、成膜時の応力及び熱特性
の違いを緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒート
ショックによる膜剥離を防止することができる成形型１
を提供することができる。
【００５３】（実施の形態２） （構成） 実施の形態１と同様なガラスレンズ（曲率半
径Ｒ＝１５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、
直径＝５ｍｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図３に示す
成形型１Ａを作成した。型母材２としてＷＣ（超硬；商
品名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加工
した後、成形面を鏡面研磨したものを用いた。
径Ｒ＝１５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、
直径＝５ｍｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図３に示す
成形型１Ａを作成した。型母材２としてＷＣ（超硬；商
品名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加工
した後、成形面を鏡面研磨したものを用いた。
【００５４】この成形型１Ａを洗浄した後、ＥＢ（電子
ビーム）蒸着装置と高エネルギーのイオン源を持つ装置
に設置した。
ビーム）蒸着装置と高エネルギーのイオン源を持つ装置
に設置した。
【００５５】成形型１Ａをチャンバー内に設置されてい
るランプヒータにて３００℃に加熱し、高エネルギーの
イオン源を用いて、アルゴンイオン（Ａｒ＋）を成形面
２ａにイオンエネルギー１０ｋｅＶ、電流密度２０μＡ
／ｃｍ２で注入すると同時に、ＥＢ蒸着により第１層膜
３であるクロム膜を２０００Åの厚さに形成した。
るランプヒータにて３００℃に加熱し、高エネルギーの
イオン源を用いて、アルゴンイオン（Ａｒ＋）を成形面
２ａにイオンエネルギー１０ｋｅＶ、電流密度２０μＡ
／ｃｍ２で注入すると同時に、ＥＢ蒸着により第１層膜
３であるクロム膜を２０００Åの厚さに形成した。
【００５６】その後、ＥＢ蒸着によりクロム蒸着を継続
し、酸素ガス（９９．９％）を膜厚に応じて流量が増大
し、第２層膜１４である厚さ４０００Åのクロムと酸化
クロムとの混合膜の形成時に６ｓｃｃｍに達するように
プログラムを設定し、チャンバーへ導入した。
し、酸素ガス（９９．９％）を膜厚に応じて流量が増大
し、第２層膜１４である厚さ４０００Åのクロムと酸化
クロムとの混合膜の形成時に６ｓｃｃｍに達するように
プログラムを設定し、チャンバーへ導入した。
【００５７】次に、酸素ガスを６ｓｃｃｍにて導入し、
同条件にてアルゴンイオン注入、クロム蒸着を行い、第
３層膜１５である酸化クロム膜を４０００Åの厚さに形
成した。
同条件にてアルゴンイオン注入、クロム蒸着を行い、第
３層膜１５である酸化クロム膜を４０００Åの厚さに形
成した。
【００５８】上記各膜を形成した後、大気雰囲気にて６
００℃、１時間保持する熱処理を行い、成形型１Ａを作
成した（以後、「実施の形態２型」とする）。
００℃、１時間保持する熱処理を行い、成形型１Ａを作
成した（以後、「実施の形態２型」とする）。
【００５９】成形型１Ａの成膜、熱処理後の状態を表面
分析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握し
た。その結果を図４に示す。
分析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握し
た。その結果を図４に示す。
【００６０】図４から明らかなように、膜厚０乃至２０
００Åまでが型母材２上に形成した第１層膜（クロム
膜）３であり、２０００Å乃至６０００Åまでが第２層
膜１４であるクロム膜と酸化クロム膜との混合膜（第１
層膜２側で、Ｃｒ Ａ１００％、Ｏ ０％であり、厚さ
５０００Åの位置でＣｒ ５０％、Ｏ ５０％、第３層
膜１５側で、Ｃｒ ４０％、Ｏ ６０％）である。ま
た、６０００Å乃至１００００Åまでが第３層膜１５と
しての酸化クロム膜（Ｃｒ ４０％、Ｎ ６０％）であ
る。
００Åまでが型母材２上に形成した第１層膜（クロム
膜）３であり、２０００Å乃至６０００Åまでが第２層
膜１４であるクロム膜と酸化クロム膜との混合膜（第１
層膜２側で、Ｃｒ Ａ１００％、Ｏ ０％であり、厚さ
５０００Åの位置でＣｒ ５０％、Ｏ ５０％、第３層
膜１５側で、Ｃｒ ４０％、Ｏ ６０％）である。ま
た、６０００Å乃至１００００Åまでが第３層膜１５と
しての酸化クロム膜（Ｃｒ ４０％、Ｎ ６０％）であ
る。
【００６１】前記成形型１Ａの成形表面の表面粗さを評
価したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
価したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
【００６２】また、比較用成形型として、混合膜を形成
せず、クロム膜 ２０００Å、酸化クロム ４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施し型を作成した（以後、「比較例２型」と
する）。比較例２型の表面粗さはＲｍａｘ＝０．０３μ
ｍであった。
せず、クロム膜 ２０００Å、酸化クロム ４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施し型を作成した（以後、「比較例２型」と
する）。比較例２型の表面粗さはＲｍａｘ＝０．０３μ
ｍであった。
【００６３】（作用）上記２種類の成形型１Ａ、比較例
２型で、実施の形態１と同様にフリント系ガラスＬａＳ
ＦＯ３（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ＝６
１０℃）を用いて成形機にてプレス成形を行い、不良発
生までの成形回数を比較して評価した。
２型で、実施の形態１と同様にフリント系ガラスＬａＳ
ＦＯ３（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ＝６
１０℃）を用いて成形機にてプレス成形を行い、不良発
生までの成形回数を比較して評価した。
【００６４】混合膜を施していない比較例２型は、１０
００ショット経過時に膜剥離が発生し、不良となった。
００ショット経過時に膜剥離が発生し、不良となった。
【００６５】その後、膜剥離部を電子顕微鏡による観
察、元素分析装置にて分析したところ型母材とクロム膜
との界面からの膜剥離を確認した。
察、元素分析装置にて分析したところ型母材とクロム膜
との界面からの膜剥離を確認した。
【００６６】これに対し、本実施の形態２による実施の
形態２型では、１００００ショット以上の成形が可能で
あった。また、１００００ショット成形した後の実施の
形態２型を、比較例２型と同様に電子顕微鏡及び元素分
析装置にて観察、分析したところ、膜剥離、傷、クラッ
クといった不良は認められなかった。
形態２型では、１００００ショット以上の成形が可能で
あった。また、１００００ショット成形した後の実施の
形態２型を、比較例２型と同様に電子顕微鏡及び元素分
析装置にて観察、分析したところ、膜剥離、傷、クラッ
クといった不良は認められなかった。
【００６７】次に成形面の表面粗さを測定したところＲ
ｍａｘ＝０．０３μｍであり、初期状態との変化は認め
られなかった。
ｍａｘ＝０．０３μｍであり、初期状態との変化は認め
られなかった。
【００６８】また、成形品についても検査した結果、表
面租さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りといった問題もなかった。
面租さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りといった問題もなかった。
【００６９】（効果）本実施の形態２によれば、クロム
膜と酸化クロム膜との間にクロム成分の仕率が最表面の
酸化クロム膜方向に従い徐々に減少する混合膜である第
３層膜１５を形成することにより、それぞれの膜の間に
明繚な界面が無くなり、成膜時の応力及び熱特性の違い
を緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒートショッ
クによる膜剥離を防止することができる。
膜と酸化クロム膜との間にクロム成分の仕率が最表面の
酸化クロム膜方向に従い徐々に減少する混合膜である第
３層膜１５を形成することにより、それぞれの膜の間に
明繚な界面が無くなり、成膜時の応力及び熱特性の違い
を緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒートショッ
クによる膜剥離を防止することができる。
【００７０】（実施の形態３） （構成）実施の形態１と同様なガラスレンズ（曲率半径
Ｒ＝１５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、直
径＝５ｍｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図５に示す成
形型１Ｂを作成した。型母材２としてＷＣ（超硬；商品
名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加工し
た後、成形面を鏡面研磨したものを用いた。
Ｒ＝１５０ｍｍ、表面粗さＲｍａｘ＝０．０３μｍ、直
径＝５ｍｍ、肉厚＝２ｍｍ）を得るため、図５に示す成
形型１Ｂを作成した。型母材２としてＷＣ（超硬；商品
名Ｊ０５：富士ダイス（株）製）を所定の形状に加工し
た後、成形面を鏡面研磨したものを用いた。
【００７１】この成形型１Ｂを洗浄した後、ＥＢ蒸着装
置と高エネルギーのイオン源を持つ装置に設置した。
置と高エネルギーのイオン源を持つ装置に設置した。
【００７２】成形型をチャンバー内に設置されているラ
ンプヒータにて４５０℃に加熱し、高エネルギーのイオ
ン源を用いて、アルゴンイオン（Ａｒ＋）を成形面にイ
オンエネルギー１０ｋｅＶ、電流密度２０μＡ／ｃｍ２
で注入すると同時に、ＥＢ蒸着により、チタンを蒸着
し、第１層膜２３であるチタン膜を５００Åの厚さに形
成した。
ンプヒータにて４５０℃に加熱し、高エネルギーのイオ
ン源を用いて、アルゴンイオン（Ａｒ＋）を成形面にイ
オンエネルギー１０ｋｅＶ、電流密度２０μＡ／ｃｍ２
で注入すると同時に、ＥＢ蒸着により、チタンを蒸着
し、第１層膜２３であるチタン膜を５００Åの厚さに形
成した。
【００７３】次に高エネルギーのイオン源より窒素イオ
ンを２０ｋｅＶ、２０μＡ／ｃｍ２で注入すると同時
に、チタン蒸着を行い、更にアンモニアガスを膜厚に応
じて流量を増大し、第２層膜２４である混合膜の５５０
０Åの厚さとなる形成時点に６ｓｃｃｍに達するように
プログラムを設定し、チャンバーへ導入し成膜した。
ンを２０ｋｅＶ、２０μＡ／ｃｍ２で注入すると同時
に、チタン蒸着を行い、更にアンモニアガスを膜厚に応
じて流量を増大し、第２層膜２４である混合膜の５５０
０Åの厚さとなる形成時点に６ｓｃｃｍに達するように
プログラムを設定し、チャンバーへ導入し成膜した。
【００７４】その後６ｓｃｃｍにてアンモニアガスを導
入し続け、同条件にて窒素イオン注入、チタン蒸着を行
い、第３層膜２５である窒化チタン膜を４０００Åの厚
さに形成した。
入し続け、同条件にて窒素イオン注入、チタン蒸着を行
い、第３層膜２５である窒化チタン膜を４０００Åの厚
さに形成した。
【００７５】前記各膜を形成した後、窒素雰囲気にて６
００℃、１時間保持する熱処理を行い成形型１Ｂを作成
した（以後、「実施の形態３型」とする）。
００℃、１時間保持する熱処理を行い成形型１Ｂを作成
した（以後、「実施の形態３型」とする）。
【００７６】成形型１Ｂの成膜、熱処理後の状態を表面
分析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握し
た。その結果を図６に示す。
分析（ＥＳＣＡディプストプロファイル）にて把握し
た。その結果を図６に示す。
【００７７】図６から明らかなように、膜厚０乃至５０
０Åまでが型母材２上に形成した第１層膜（クロム膜）
２３、５００Å乃至６０００Åまでが第２層膜１４であ
るチタンとチッ化チタンとの混合膜（第１層膜２３側
で、Ｔｉ １００％、Ｎ ０％であり、第３層膜２５側
の厚さ６０００Åの位置でＴｉ ５０％、Ｎ ５０％）
であり、６０００Å乃至１０００Åが第３層膜２５であ
るチッ化チタン（Ｔｉ５０％、Ｎ ５０％）である。
０Åまでが型母材２上に形成した第１層膜（クロム膜）
２３、５００Å乃至６０００Åまでが第２層膜１４であ
るチタンとチッ化チタンとの混合膜（第１層膜２３側
で、Ｔｉ １００％、Ｎ ０％であり、第３層膜２５側
の厚さ６０００Åの位置でＴｉ ５０％、Ｎ ５０％）
であり、６０００Å乃至１０００Åが第３層膜２５であ
るチッ化チタン（Ｔｉ５０％、Ｎ ５０％）である。
【００７８】前記成形型１Ｂの成形表面の表面粗さを評
価したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
価したところ、Ｒｍａｘ＝０．０３μｍであった。
【００７９】また、比較用成形型として、混合膜を形成
せず、チタン膜：５００Å、窒化チタン膜：４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施し型を作成した（以後、「比較例３型」と
する）。比較例３型の表面粗さはＲｍａｘ＝０．０３μ
ｍであった。
せず、チタン膜：５００Å、窒化チタン膜：４０００Å
を形成した同形状の成形型を同条件にて作成し、同様な
熱処理を実施し型を作成した（以後、「比較例３型」と
する）。比較例３型の表面粗さはＲｍａｘ＝０．０３μ
ｍであった。
【００８０】（作用）上記２種類の実施の形態３型、比
較例３型で、実施の形態１と同様にフリント系ガラスＬ
ａＳＦＯ３（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ
＝６１０℃）を用いて成形機にてプレス成形を行い、不
良発生までの成形回数を比較して評価した。混合膜を施
していない比較例３型は、１０００ショット経過時に膜
剥離が発生し、不良となった。
較例３型で、実施の形態１と同様にフリント系ガラスＬ
ａＳＦＯ３（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ
＝６１０℃）を用いて成形機にてプレス成形を行い、不
良発生までの成形回数を比較して評価した。混合膜を施
していない比較例３型は、１０００ショット経過時に膜
剥離が発生し、不良となった。
【００８１】その後、膜剥離部を電子顕微鏡による観
察、元素分析装置にて分析したところ、型母材とチタン
膜、チタン膜と窒化チタン膜との界面からの膜剥離を各
々確認した。
察、元素分析装置にて分析したところ、型母材とチタン
膜、チタン膜と窒化チタン膜との界面からの膜剥離を各
々確認した。
【００８２】これに対し、本実施の形態３による実施の
形態３型では、１００００ショット以上の成形が可能で
あった。
形態３型では、１００００ショット以上の成形が可能で
あった。
【００８３】また、１００００ショット成形した後の実
施の形態３型を同様に電子顛微鏡及び元素分析装置にて
観察、分析したところ膜剥離、傷、クラックといった不
良は認められなかった。次に成形面の表面粗さを測定し
たところＲｍａｘ＝０．０３μｍであり、初期状態との
変化は認められなかった。
施の形態３型を同様に電子顛微鏡及び元素分析装置にて
観察、分析したところ膜剥離、傷、クラックといった不
良は認められなかった。次に成形面の表面粗さを測定し
たところＲｍａｘ＝０．０３μｍであり、初期状態との
変化は認められなかった。
【００８４】また、成形品についても検査した結果、表
面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りと言った問題もなかった。
面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でガラス成
分の析出や成形時のガス残りと言った問題もなかった。
【００８５】（効果）本実施の形態３によれば、第１層
膜２４であるチタン膜と、第３層膜２５である窒化チタ
ン膜との間に、チタン成分の比率が最表面の窒化チタン
膜方向に至るに従い、徐々に減少する第２層膜２４であ
る混合膜を形成することにより、それぞれの膜の間に明
瞭な界面が無くなり、成膜時の応力及び熱特性の違いを
緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒートショック
による膜剥離を防止することができる。
膜２４であるチタン膜と、第３層膜２５である窒化チタ
ン膜との間に、チタン成分の比率が最表面の窒化チタン
膜方向に至るに従い、徐々に減少する第２層膜２４であ
る混合膜を形成することにより、それぞれの膜の間に明
瞭な界面が無くなり、成膜時の応力及び熱特性の違いを
緩和し、繰り返しの成形によって生じるヒートショック
による膜剥離を防止することができる。
【００８６】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、膜剥離、
クラック等の膜に対する不具合が無く、また、型母材に
対する劣化もなく、繰り返しの成形に対する耐久性の優
れ生産性向上に寄与し得る光学素子成形用型を提供する
ことができる。
クラック等の膜に対する不具合が無く、また、型母材に
対する劣化もなく、繰り返しの成形に対する耐久性の優
れ生産性向上に寄与し得る光学素子成形用型を提供する
ことができる。
【００８７】請求項２記載の発明によれば、第２層膜に
含まれる第１層膜の金属成分の比率が、第３層膜方向に
至るに従い徐々に減少する構成であることにより、第１
層膜と第３層膜との間に明瞭な界面が無くなり、第２層
膜により成膜時の応力及び熱特性の違いを緩和させ、繰
り返しの成形によって生じるヒートショックによる膜剥
離を防止することができる光学素子成形用型を提供する
ことができる。
含まれる第１層膜の金属成分の比率が、第３層膜方向に
至るに従い徐々に減少する構成であることにより、第１
層膜と第３層膜との間に明瞭な界面が無くなり、第２層
膜により成膜時の応力及び熱特性の違いを緩和させ、繰
り返しの成形によって生じるヒートショックによる膜剥
離を防止することができる光学素子成形用型を提供する
ことができる。
【００８８】請求項３記載の発明によれば、前記一連の
工程により、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融
着もない光学素子成型用型を容易に製造することができ
る製造方法を提供することができる。
工程により、膜剥離がなく耐久性に優れ、ガラスとの融
着もない光学素子成型用型を容易に製造することができ
る製造方法を提供することができる。
【００８９】請求項４記載の発明によれば、前記第１層
膜と第３層膜との間に明瞭な界面を無くす緩和膜として
機能する第２層膜を効率よく成膜して、膜剥離がなく耐
久性に優れ、ガラスとの融着もない光学素子成型用型を
容易に製造することができる製造方法を提供することが
できる。
膜と第３層膜との間に明瞭な界面を無くす緩和膜として
機能する第２層膜を効率よく成膜して、膜剥離がなく耐
久性に優れ、ガラスとの融着もない光学素子成型用型を
容易に製造することができる製造方法を提供することが
できる。
【図１】本発明の実施の形態１の成形型の概略断面図で
ある。
ある。
【図２】実施の形態１の成形型のＥＳＣＡディプストプ
ロファイルを示す図である。
ロファイルを示す図である。
【図３】本発明の実施の形態２の成形型の概略断面図で
ある。
ある。
【図４】実施の形態２の成形型のＥＳＣＡディプストプ
ロファイルを示す図である。
ロファイルを示す図である。
【図５】本発明の実施の形態２の成形型の概略断面図で
ある。
ある。
【図６】実施の形態３の成形型のＥＳＣＡディプストプ
ロファイルを示す図である。
ロファイルを示す図である。
１ 成形型 １Ａ 成形型 １Ｂ 成形型 ２ 型母材 ２ａ 成形面 ３ 第１層膜 ４ 第２層膜 ５ 第３層膜 １４ 第２層膜 １５ 第３層膜 ２３ 第１層膜 ２４ 第２層膜 ２５ 第３層膜
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に
用いる光学素子成形用型において、 前記光学素子成形用型の型母材の少なくとも成形面に、
金属から選ばれる少なくとも一種の金属膜を第１層膜と
して配置し、 最表面には窒化物、炭化物、酸化物から選ばれる少なく
とも一種の化合物の膜を第３層膜として配置し、 前記第１層膜と第３層膜との間に第１層膜の金属と第３
層膜の化合物との混合物からなり、前記第３層膜の膜厚
に対し１／５以上の膜厚を有する第２層膜を配置したこ
と、 を特徴とする光学素子成形用型。 - 【請求項２】 前記第２層膜の混合物に含まれる第１層
膜成分の比率が、前記第３層膜方向に至るに従い、徐々
に減少することを特徴とする請求項１記載の光学素子成
形用型。 - 【請求項３】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に
用いる光学素子成形用型の製造方法において、 前記光学素子成形用型の型母材の少なくとも成形面に、
金属から選ばれる少なくとも一種の金属膜を第１層膜と
して形成する工程と、 第１層膜上に、前記第１層膜の金属と後工程で形成され
る第３層膜の化合物との混合物からなり、第３層膜の膜
厚に対し１／５以上の膜厚を有する第２層膜を形成する
工程と、 前記型母材の最表面に、窒化物、炭化物、酸化物から選
ばれる少なくとも一種の化合物からなる第３層膜を形成
する工程と、 を有することを特徴とする光学素子成形用型の製造方
法。 - 【請求項４】 前記第２層膜の形成は、前記第１層膜の
金属と第３層膜の化合物との成分を含む成膜材料を使用
し、成膜される第２層膜における第１層膜成分の比率
が、前記第３層膜方向に至るに従い徐々に減少する成膜
条件を設定して行われることを特徴とする請求項３記載
の光学素子成形用型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201105A JP2002020129A (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | 光学素子成形用型及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201105A JP2002020129A (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | 光学素子成形用型及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002020129A true JP2002020129A (ja) | 2002-01-23 |
Family
ID=18698856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000201105A Withdrawn JP2002020129A (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | 光学素子成形用型及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002020129A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8327663B2 (en) | 2004-12-21 | 2012-12-11 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method of manufacturing an optical glass element |
| JP5569927B2 (ja) * | 2008-02-08 | 2014-08-13 | 学校法人東京理科大学 | 金属膜を有する構造体の製造方法及びそれにより製造される構造体 |
-
2000
- 2000-07-03 JP JP2000201105A patent/JP2002020129A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8327663B2 (en) | 2004-12-21 | 2012-12-11 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method of manufacturing an optical glass element |
| JP5569927B2 (ja) * | 2008-02-08 | 2014-08-13 | 学校法人東京理科大学 | 金属膜を有する構造体の製造方法及びそれにより製造される構造体 |
| JP2014144639A (ja) * | 2008-02-08 | 2014-08-14 | Tokyo Univ Of Science | 金属膜を有する構造体の製造方法、それに用いる母型及びそれにより製造される構造体 |
| US9332651B2 (en) | 2008-02-08 | 2016-05-03 | Tokyo University Of Science Foundation | Process for producing structure with metal film, mother die for use in the process, and structure produced by the process |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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