JPH10258112A - 液体滅菌剤を使用する２段階滅菌方法及び装置 - Google Patents
液体滅菌剤を使用する２段階滅菌方法及び装置Info
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- JPH10258112A JPH10258112A JP9365310A JP36531097A JPH10258112A JP H10258112 A JPH10258112 A JP H10258112A JP 9365310 A JP9365310 A JP 9365310A JP 36531097 A JP36531097 A JP 36531097A JP H10258112 A JPH10258112 A JP H10258112A
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- A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
- A61L2202/20—Targets to be treated
- A61L2202/24—Medical instruments, e.g. endoscopes, catheters, sharps
Abstract
(57)【要約】
【課題】 長く狭い内腔のような拡散が制限される領域
を有する製品をポンプダウン速度を使用して効果的に滅
菌する方法と装置を提供する。 【解決手段】 装置を滅菌する方法は、以下のような、
この装置を、蒸気圧を有する液体滅菌剤に第１圧力で接
触させる工程と、装置をそのチャンバー内に置く工程
と、チャンバーの圧力を滅菌剤の蒸気圧以下の第２圧力
に下げる工程を有する。液体滅菌剤の略蒸気圧以下への
圧力の少なくとも低下が、チャンバーが空で乾燥してい
る時、チャンバーを大気圧から２０torrまで排気するの
に必要な時間に基づいて計算された毎秒０．８リットル
未満のポンプダウン速度で生じる。
を有する製品をポンプダウン速度を使用して効果的に滅
菌する方法と装置を提供する。 【解決手段】 装置を滅菌する方法は、以下のような、
この装置を、蒸気圧を有する液体滅菌剤に第１圧力で接
触させる工程と、装置をそのチャンバー内に置く工程
と、チャンバーの圧力を滅菌剤の蒸気圧以下の第２圧力
に下げる工程を有する。液体滅菌剤の略蒸気圧以下への
圧力の少なくとも低下が、チャンバーが空で乾燥してい
る時、チャンバーを大気圧から２０torrまで排気するの
に必要な時間に基づいて計算された毎秒０．８リットル
未満のポンプダウン速度で生じる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本出願は１９９６年１２月２
０日に出願された米国特許出願第６０／０３３，６９２
の３５Ｕ．Ｓ．Ｃ§１１９（ｅ）による出願日の利益を
求める。本発明は液体滅菌剤を使用する医療器具の滅菌
方法およびその装置に関する。さらに詳しくは本発明は
制御されたポンプダウン速度を使用して過酸化水素を蒸
発させることによって滅菌を達成する方法およびその装
置に関する。
０日に出願された米国特許出願第６０／０３３，６９２
の３５Ｕ．Ｓ．Ｃ§１１９（ｅ）による出願日の利益を
求める。本発明は液体滅菌剤を使用する医療器具の滅菌
方法およびその装置に関する。さらに詳しくは本発明は
制御されたポンプダウン速度を使用して過酸化水素を蒸
発させることによって滅菌を達成する方法およびその装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】医療
器具は伝統的に蒸気（スチーム）により供給されるよう
な熱あるいは気体または蒸気状態のホルムアルデヒドあ
るいは酸化エチレンのような化学薬品を使用して滅菌さ
れている。これらの方法は何れも欠点を有する。ファイ
バーオプチック装置（fiberoptic device)、内視鏡、パ
ワーツール（電動工具）などのような医療装置の多くは
熱、水分（湿気）あるいはその双方に対して敏感であ
る。ホルムアルデヒドと酸化エチレンは共に、作業員の
ヘルスケアに潜在的な危険をもたらす毒性の気体であ
る。酸化エチレンに関する問題は、それを使用すると滅
菌された製品からその気体を除去するのに長時間のエア
レーションを必要とするため特に深刻である。このこと
により滅菌のサイクル時間が長くなり、望ましくない。
器具は伝統的に蒸気（スチーム）により供給されるよう
な熱あるいは気体または蒸気状態のホルムアルデヒドあ
るいは酸化エチレンのような化学薬品を使用して滅菌さ
れている。これらの方法は何れも欠点を有する。ファイ
バーオプチック装置（fiberoptic device)、内視鏡、パ
ワーツール（電動工具）などのような医療装置の多くは
熱、水分（湿気）あるいはその双方に対して敏感であ
る。ホルムアルデヒドと酸化エチレンは共に、作業員の
ヘルスケアに潜在的な危険をもたらす毒性の気体であ
る。酸化エチレンに関する問題は、それを使用すると滅
菌された製品からその気体を除去するのに長時間のエア
レーションを必要とするため特に深刻である。このこと
により滅菌のサイクル時間が長くなり、望ましくない。
【０００３】液体過酸化水素溶液を使用する滅菌方法は
高濃度の滅菌剤、長い暴気時間および／または高温を必
要とすることがわかった。しかしながら、過酸化水素蒸
気を使用する滅菌は他の化学滅菌方法（プロセス）より
幾分有利であることが示された（例えば、米国特許第
４，１６９，１２３号、および第４，１６９，１２４号
を参照のこと）。過酸化水素とプラズマの組み合わせ
は、米国特許第４，６４３，８７６号に開示してあるよ
うにさらに有利である。長い狭い内腔のような拡散が制
限された領域を含む製品の滅菌は特別な課題を提供す
る。過酸化水素の水溶液から出た過酸化水素蒸気を使用
する方法はある不具合がでる。不具合の１つは、水が過
酸化水素より蒸気圧が高いため水分が早く蒸発すること
である。不具合の他の１つは、水の分子量が低いため、
蒸気状態の過酸化水素より先に水分が拡散することであ
る。これらの物理的特性のために過酸化水素水溶液を滅
菌すべき製品の周囲の領域で蒸発させると、水分が最初
に高濃度でその製品に達する。従って、水蒸気は、小さ
な割れ目と長い内腔のような拡散制限領域内に過酸化水
素が入り込むことに対するバリヤーになる。この問題
は、特に、６５重量％より大きな過酸化水素溶液がその
酸化ポテンシャルのために危険であることから、水分を
その水溶液から除いたり、高い濃度の過酸化水素を使用
することによって対処することはできない。
高濃度の滅菌剤、長い暴気時間および／または高温を必
要とすることがわかった。しかしながら、過酸化水素蒸
気を使用する滅菌は他の化学滅菌方法（プロセス）より
幾分有利であることが示された（例えば、米国特許第
４，１６９，１２３号、および第４，１６９，１２４号
を参照のこと）。過酸化水素とプラズマの組み合わせ
は、米国特許第４，６４３，８７６号に開示してあるよ
うにさらに有利である。長い狭い内腔のような拡散が制
限された領域を含む製品の滅菌は特別な課題を提供す
る。過酸化水素の水溶液から出た過酸化水素蒸気を使用
する方法はある不具合がでる。不具合の１つは、水が過
酸化水素より蒸気圧が高いため水分が早く蒸発すること
である。不具合の他の１つは、水の分子量が低いため、
蒸気状態の過酸化水素より先に水分が拡散することであ
る。これらの物理的特性のために過酸化水素水溶液を滅
菌すべき製品の周囲の領域で蒸発させると、水分が最初
に高濃度でその製品に達する。従って、水蒸気は、小さ
な割れ目と長い内腔のような拡散制限領域内に過酸化水
素が入り込むことに対するバリヤーになる。この問題
は、特に、６５重量％より大きな過酸化水素溶液がその
酸化ポテンシャルのために危険であることから、水分を
その水溶液から除いたり、高い濃度の過酸化水素を使用
することによって対処することはできない。
【０００４】米国特許第４，９５２，３７０号は、水性
過酸化水素蒸気が滅菌される製品に先ず凝縮し、続い
て、滅菌チャンバーを真空にしてその製品から水分と過
酸化水素を抜く滅菌方法を開示している。この方法は表
面滅菌には適切であるが、この方法が過酸化水素蒸気の
内腔への拡散により滅菌を行なうため、長く狭い内腔の
ような拡散制限領域の滅菌には適していない。
過酸化水素蒸気が滅菌される製品に先ず凝縮し、続い
て、滅菌チャンバーを真空にしてその製品から水分と過
酸化水素を抜く滅菌方法を開示している。この方法は表
面滅菌には適切であるが、この方法が過酸化水素蒸気の
内腔への拡散により滅菌を行なうため、長く狭い内腔の
ような拡散制限領域の滅菌には適していない。
【０００５】米国特許第４，９４３，４１４号は、少量
の蒸発可能な液体滅菌剤を入れた容器を内腔に取り付
け、滅菌サイクル時に圧力を下げるとその滅菌剤が蒸発
し、製品の内腔に直接流れる方法を開示している。この
システムは水分と過酸化水素蒸気がその時の圧力差によ
り内腔から引かれ、内腔の滅菌速度を上げる利点を有す
るが、容器を、滅菌する各内腔に取り付ける必要がある
不具合を有する。さらに、水分は早く蒸発し、過酸化水
素蒸気より先に内腔に達する。
の蒸発可能な液体滅菌剤を入れた容器を内腔に取り付
け、滅菌サイクル時に圧力を下げるとその滅菌剤が蒸発
し、製品の内腔に直接流れる方法を開示している。この
システムは水分と過酸化水素蒸気がその時の圧力差によ
り内腔から引かれ、内腔の滅菌速度を上げる利点を有す
るが、容器を、滅菌する各内腔に取り付ける必要がある
不具合を有する。さらに、水分は早く蒸発し、過酸化水
素蒸気より先に内腔に達する。
【０００６】米国特許第５，４９２，６７２号には狭い
内腔を滅菌する方法が開示されている。この方法は多成
分滅菌剤蒸気を使用し、滅菌剤蒸気の流れとそのような
流れの中断を連続的に交互に繰り返す周期が必要であ
る。この方法を行なうには複雑な装置が使用される。蒸
気の流れを使用するため端部が閉じた内腔はこの方法で
は簡単に滅菌されない。
内腔を滅菌する方法が開示されている。この方法は多成
分滅菌剤蒸気を使用し、滅菌剤蒸気の流れとそのような
流れの中断を連続的に交互に繰り返す周期が必要であ
る。この方法を行なうには複雑な装置が使用される。蒸
気の流れを使用するため端部が閉じた内腔はこの方法で
は簡単に滅菌されない。
【０００７】従って、長く狭い内腔のようなこれらの蒸
気が制限される領域を有する製品の蒸気滅菌を簡単にし
かも効果的に行なう方法のニーズがまだ残っている。
気が制限される領域を有する製品の蒸気滅菌を簡単にし
かも効果的に行なう方法のニーズがまだ残っている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の実施形態の１つ
は、滅菌チャンバー内で装置を滅菌する方法であって、
この装置を、蒸気圧を有する液体滅菌剤に第１圧力で接
触させる工程と、装置をそのチャンバー内に置く工程
と、チャンバーの圧力を滅菌剤の蒸気圧以下の第２圧力
に下げる工程であって、液体滅菌剤の略蒸気圧以下への
圧力の低下の少なくとも一部分が、チャンバーが空で乾
燥している時、チャンバーを大気圧から２０torrまで排
気するのに必要な時間に基づいて計算された毎秒０．８
リットル未満のポンプダウン速度で生じる工程を含む方
法である。
は、滅菌チャンバー内で装置を滅菌する方法であって、
この装置を、蒸気圧を有する液体滅菌剤に第１圧力で接
触させる工程と、装置をそのチャンバー内に置く工程
と、チャンバーの圧力を滅菌剤の蒸気圧以下の第２圧力
に下げる工程であって、液体滅菌剤の略蒸気圧以下への
圧力の低下の少なくとも一部分が、チャンバーが空で乾
燥している時、チャンバーを大気圧から２０torrまで排
気するのに必要な時間に基づいて計算された毎秒０．８
リットル未満のポンプダウン速度で生じる工程を含む方
法である。
【０００９】この好ましい実施形態の１態様によれば、
液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍以下への少なくとも圧力の
低下は毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速度で生
じる。この好ましい実施形態の他の態様によれば、液体
滅菌剤の蒸気圧の約４倍以下への少なくとも圧力の低下
は毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速度で生じ
る。ポンプダウン速度は毎秒０．６リットル以下が好ま
しく、毎秒０．４リットル以下がより好ましく、毎秒
０．２リットル以下が最も好ましい。第１圧力は大気圧
であることが有利である。液体滅菌剤は過酸化水素であ
ることが好ましい。他の態様ではこの装置は内腔を有す
る医療器具である。
液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍以下への少なくとも圧力の
低下は毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速度で生
じる。この好ましい実施形態の他の態様によれば、液体
滅菌剤の蒸気圧の約４倍以下への少なくとも圧力の低下
は毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速度で生じ
る。ポンプダウン速度は毎秒０．６リットル以下が好ま
しく、毎秒０．４リットル以下がより好ましく、毎秒
０．２リットル以下が最も好ましい。第１圧力は大気圧
であることが有利である。液体滅菌剤は過酸化水素であ
ることが好ましい。他の態様ではこの装置は内腔を有す
る医療器具である。
【００１０】本発明はまた、滅菌チャンバー内で装置を
滅菌する方法であって、（ａ）この装置を液体滅菌剤に
第１圧力で接触させる工程と、（ｂ）装置を前記チャン
バー内に置く工程と、（ｃ）そのチャンバーを第１圧力
より低い第２圧力に第１速度でポンプダウンする工程
と、（ｄ）チャンバーを第２圧力より低い第３圧力にポ
ンプダウンする工程であって、第３圧力へのポンプダウ
ンの少なくとも一部分が第１速度より遅い第２速度であ
る工程を含む方法を提供する。第２圧力以上および／ま
たは以下でポンプダウン速度は一定または可変とするこ
とができる。ある実施形態では第２圧力以上および／ま
たは以下でポンプダウン速度は段階的に低下する。第２
圧力は液体滅菌剤の約蒸気圧より大きいか等しいことが
好ましい。第２圧力は液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍より
大きいか等しいことがより好ましい。第２圧力は液体滅
菌剤の蒸気圧の約４倍より大きいか等しいことが最も好
ましい。工程（ｄ）のポンプダウン速度は、空で乾燥状
態で、チャンバーを大気圧から２０torrまで排気するの
に必要な時間に基づいて計算された０．８リットル／秒
以下であることが有利であり、０．６リットル／秒以下
がより有利であり、０．４リットル／秒以下がさらに有
利であり、０．２リットル／秒以下が最も有利である。
液体滅菌剤は過酸化水素であることが好ましい。他の態
様ではこの装置は内腔を有する医療器具である。工程
（ｃ）のポンプダウンは液体滅菌剤の蒸気圧の約３倍未
満が好ましく、約２倍未満がより好ましい。
滅菌する方法であって、（ａ）この装置を液体滅菌剤に
第１圧力で接触させる工程と、（ｂ）装置を前記チャン
バー内に置く工程と、（ｃ）そのチャンバーを第１圧力
より低い第２圧力に第１速度でポンプダウンする工程
と、（ｄ）チャンバーを第２圧力より低い第３圧力にポ
ンプダウンする工程であって、第３圧力へのポンプダウ
ンの少なくとも一部分が第１速度より遅い第２速度であ
る工程を含む方法を提供する。第２圧力以上および／ま
たは以下でポンプダウン速度は一定または可変とするこ
とができる。ある実施形態では第２圧力以上および／ま
たは以下でポンプダウン速度は段階的に低下する。第２
圧力は液体滅菌剤の約蒸気圧より大きいか等しいことが
好ましい。第２圧力は液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍より
大きいか等しいことがより好ましい。第２圧力は液体滅
菌剤の蒸気圧の約４倍より大きいか等しいことが最も好
ましい。工程（ｄ）のポンプダウン速度は、空で乾燥状
態で、チャンバーを大気圧から２０torrまで排気するの
に必要な時間に基づいて計算された０．８リットル／秒
以下であることが有利であり、０．６リットル／秒以下
がより有利であり、０．４リットル／秒以下がさらに有
利であり、０．２リットル／秒以下が最も有利である。
液体滅菌剤は過酸化水素であることが好ましい。他の態
様ではこの装置は内腔を有する医療器具である。工程
（ｃ）のポンプダウンは液体滅菌剤の蒸気圧の約３倍未
満が好ましく、約２倍未満がより好ましい。
【００１１】本発明の他の態様は滅菌チャンバーで製品
を滅菌する方法である。この方法は製品を液体滅菌剤に
接触させる工程と、製品をチャンバー内に置く工程と、
チャンバーの滅菌剤の蒸発速度を制御するようにポンプ
ダウン速度を制御しながらチャンバーの圧力を下げる工
程を有する。上記何れの方法でも、接触工程は液体また
は蒸気の使用を含む。上記これらの方法はチャンバーを
さらに排気して残った滅菌剤を除去する工程を付加的に
含む。さらに、上記これらの方法は装置をプラズマに当
て残った滅菌剤を除去しまたは滅菌効力を上げる工程を
含む。これらの方法での接触工程は直接または間接接触
によって行なうことができる。以下、説明するように、
間接接触は滅菌される製品を直接接触しないで滅菌剤を
チャンバー内に導入する工程を含む。
を滅菌する方法である。この方法は製品を液体滅菌剤に
接触させる工程と、製品をチャンバー内に置く工程と、
チャンバーの滅菌剤の蒸発速度を制御するようにポンプ
ダウン速度を制御しながらチャンバーの圧力を下げる工
程を有する。上記何れの方法でも、接触工程は液体また
は蒸気の使用を含む。上記これらの方法はチャンバーを
さらに排気して残った滅菌剤を除去する工程を付加的に
含む。さらに、上記これらの方法は装置をプラズマに当
て残った滅菌剤を除去しまたは滅菌効力を上げる工程を
含む。これらの方法での接触工程は直接または間接接触
によって行なうことができる。以下、説明するように、
間接接触は滅菌される製品を直接接触しないで滅菌剤を
チャンバー内に導入する工程を含む。
【００１２】本発明の他の実施形態は、中に液体滅菌剤
を有するチャンバーと、チャンバーに流体を用いて接続
される第１バルブと第２バルブであって、バルブの各々
がチャンバーの圧力を制御するように適合され、第２バ
ルブが形成されるより速いポンプダウン速度で第１バル
ブが前記チャンバーの圧力を制御するように形成される
第１バルブと第２バルブと、チャンバーの圧力を下げる
ためにバルブに流体を用いて接続されるポンプを含む製
品を滅菌するための装置である。第２バルブは第１バル
ブより小さいことが好ましい。この好ましい実施形態の
１態様では、第１バルブは第１真空ラインに接続され、
第２バルブは第１真空ラインより小さい第２真空ライン
に接続されることが好ましい。バルブは平行にまたは連
続的に形成することができる。
を有するチャンバーと、チャンバーに流体を用いて接続
される第１バルブと第２バルブであって、バルブの各々
がチャンバーの圧力を制御するように適合され、第２バ
ルブが形成されるより速いポンプダウン速度で第１バル
ブが前記チャンバーの圧力を制御するように形成される
第１バルブと第２バルブと、チャンバーの圧力を下げる
ためにバルブに流体を用いて接続されるポンプを含む製
品を滅菌するための装置である。第２バルブは第１バル
ブより小さいことが好ましい。この好ましい実施形態の
１態様では、第１バルブは第１真空ラインに接続され、
第２バルブは第１真空ラインより小さい第２真空ライン
に接続されることが好ましい。バルブは平行にまたは連
続的に形成することができる。
【００１３】本発明はまた、中に液体滅菌剤を有するチ
ャンバーと、チャンバーの圧力を下げるためにチャンバ
ーに流体を用いて接続される２つ以上のポンプと、ポン
プの少なくとも１つに、そしてチャンバーに、各々が流
体を用いて接続され、各々がチャンバーの圧力を独立し
て制御するように適合される２つ以上のバルブを含む製
品を滅菌するための装置を提供する。
ャンバーと、チャンバーの圧力を下げるためにチャンバ
ーに流体を用いて接続される２つ以上のポンプと、ポン
プの少なくとも１つに、そしてチャンバーに、各々が流
体を用いて接続され、各々がチャンバーの圧力を独立し
て制御するように適合される２つ以上のバルブを含む製
品を滅菌するための装置を提供する。
【００１４】本発明の他の実施形態は、中に液体滅菌剤
を有するチャンバーと、各々がチャンバーに流体を用い
て接続されており、チャンバーの圧力を下げるための第
１ポンプと第２ポンプであって、第１ポンプは第２ポン
プより速いポンプダウン速度を供給する第１ポンプと第
２ポンプと、チャンバーの圧力を制御するように適合さ
れており、ポンプの各々とチャンバーに流体を用いて接
続されるバルブを含む製品を滅菌するための装置であ
る。
を有するチャンバーと、各々がチャンバーに流体を用い
て接続されており、チャンバーの圧力を下げるための第
１ポンプと第２ポンプであって、第１ポンプは第２ポン
プより速いポンプダウン速度を供給する第１ポンプと第
２ポンプと、チャンバーの圧力を制御するように適合さ
れており、ポンプの各々とチャンバーに流体を用いて接
続されるバルブを含む製品を滅菌するための装置であ
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】内腔状装置の内部の滅菌方法はい
つも滅菌システムに対する課題となっている。全体の内
容を参考文献としてこの明細書に含める出願人の同時係
属米国特許出願第０８／６２８，９６９号は、真空にさ
らす前に過酸化水素希釈溶液で滅菌される製品を予熱す
ることによって過酸化水素の蒸気圧より低い圧力で、長
く狭い内腔のような拡散制限環境を過酸化水素蒸気滅菌
する方法を開示している。
つも滅菌システムに対する課題となっている。全体の内
容を参考文献としてこの明細書に含める出願人の同時係
属米国特許出願第０８／６２８，９６９号は、真空にさ
らす前に過酸化水素希釈溶液で滅菌される製品を予熱す
ることによって過酸化水素の蒸気圧より低い圧力で、長
く狭い内腔のような拡散制限環境を過酸化水素蒸気滅菌
する方法を開示している。
【００１６】上記引用した同時係属出願では、内部の拡
散制限環境の利点を採用することにより狭い内腔の内部
を効果的に滅菌することができることが説明されてい
る。我々は現在、拡散制限環境に作られた条件と同じ条
件が、滅菌される製品を置くチャンバーの排気速度を制
御することによって作ることができることを見出した。
これらの条件により拡散制限スペースと非拡散制限スペ
ースの両方を効果的に滅菌することができる。従って、
製品の内部と外部の両方を、特殊な容器または装置を必
要とすることなく滅菌することができる。
散制限環境の利点を採用することにより狭い内腔の内部
を効果的に滅菌することができることが説明されてい
る。我々は現在、拡散制限環境に作られた条件と同じ条
件が、滅菌される製品を置くチャンバーの排気速度を制
御することによって作ることができることを見出した。
これらの条件により拡散制限スペースと非拡散制限スペ
ースの両方を効果的に滅菌することができる。従って、
製品の内部と外部の両方を、特殊な容器または装置を必
要とすることなく滅菌することができる。
【００１７】本発明では、先行技術の滅菌システムに関
係した本来の問題を、ポンプダウン速度が制御される滅
菌方法で解消する。この方法では、滅菌チャンバーをゆ
っくり排気して、滅菌されている拡散制限環境の内部と
外部から滅菌剤の拡散が生じる際に達成される利点を幾
つか作り出す。この方法は、過酸化水素より高い蒸気圧
を有する水が最初に蒸発し、システムから迅速に除去さ
れ、その結果、過酸化水素の濃度になるため、拡散制限
環境の様相を呈している。
係した本来の問題を、ポンプダウン速度が制御される滅
菌方法で解消する。この方法では、滅菌チャンバーをゆ
っくり排気して、滅菌されている拡散制限環境の内部と
外部から滅菌剤の拡散が生じる際に達成される利点を幾
つか作り出す。この方法は、過酸化水素より高い蒸気圧
を有する水が最初に蒸発し、システムから迅速に除去さ
れ、その結果、過酸化水素の濃度になるため、拡散制限
環境の様相を呈している。
【００１８】本発明の方法に有効な装置が図１及び図２
に概略的に示されており、この装置はチャンバー２、ス
ロットルバルブ４およびポンプ６を有している。図２で
はチャンバー２がスロットルバルブ４によりポンプ６が
取り付けられている。スロットルバルブ４は自動的にま
たは手動で制御して圧力維持することができる。手動制
御は遅いポンプダウン速度を達成するため使用すること
ができる。自動の作業モードでは、スロットルバルブ４
は圧力トランスジューサーとバルブコントローラーによ
るチャンバーの圧力に基づいて開く。そのようなバルブ
は、例えば、ＭＫＳ（Andover、ＭＤ）から市販されてい
る。この方法では過酸化水素の希釈水性溶液が図１に示
すようにウェル（well：くぼみ）８に入れられる。過酸
化水素の水溶液も滅菌される長く狭い物の内腔内に置く
ことができる。滅菌チャンバー２の圧力を減らすと、過
酸化水素は蒸発し、トレー１４に載る金属グリッド１２
に配置される滅菌される表面（すなわち、図１の結腸内
視鏡）に接触する。好ましい実施形態では、このトレー
は知られた体積の液体滅菌剤を保持するように設計され
た複数のウェルを備えた形状とすることができる。１つ
の実施形態では滅菌チャンバー２の体積が約１８．５リ
ットルで、その寸法は約２２インチ（５５．９ｃｍ）×
４．２５インチ（１０．８ｃｍ）×１２インチ（３０．
５ｃｍ）である。
に概略的に示されており、この装置はチャンバー２、ス
ロットルバルブ４およびポンプ６を有している。図２で
はチャンバー２がスロットルバルブ４によりポンプ６が
取り付けられている。スロットルバルブ４は自動的にま
たは手動で制御して圧力維持することができる。手動制
御は遅いポンプダウン速度を達成するため使用すること
ができる。自動の作業モードでは、スロットルバルブ４
は圧力トランスジューサーとバルブコントローラーによ
るチャンバーの圧力に基づいて開く。そのようなバルブ
は、例えば、ＭＫＳ（Andover、ＭＤ）から市販されてい
る。この方法では過酸化水素の希釈水性溶液が図１に示
すようにウェル（well：くぼみ）８に入れられる。過酸
化水素の水溶液も滅菌される長く狭い物の内腔内に置く
ことができる。滅菌チャンバー２の圧力を減らすと、過
酸化水素は蒸発し、トレー１４に載る金属グリッド１２
に配置される滅菌される表面（すなわち、図１の結腸内
視鏡）に接触する。好ましい実施形態では、このトレー
は知られた体積の液体滅菌剤を保持するように設計され
た複数のウェルを備えた形状とすることができる。１つ
の実施形態では滅菌チャンバー２の体積が約１８．５リ
ットルで、その寸法は約２２インチ（５５．９ｃｍ）×
４．２５インチ（１０．８ｃｍ）×１２インチ（３０．
５ｃｍ）である。
【００１９】図３は本発明の滅菌に使用するための平行
な２個バルブ配置を示している。この実施形態では、チ
ャンバー２はバルブ１６，１８を介してポンプ６と流体
で通じている。バルブ１６は２段階排気プロセスの第１
段階である初めの迅速排気を仲介する。バルブ１８は２
段階排気プロセスの第２段階である減速排気を仲介す
る。この減速排気により滅菌される製品と蒸発した水性
過酸化水素との接触が最大になる。ポンプダウン速度は
ポンプ速度および／またはバルブのパーセント開度によ
り制御することができる。
な２個バルブ配置を示している。この実施形態では、チ
ャンバー２はバルブ１６，１８を介してポンプ６と流体
で通じている。バルブ１６は２段階排気プロセスの第１
段階である初めの迅速排気を仲介する。バルブ１８は２
段階排気プロセスの第２段階である減速排気を仲介す
る。この減速排気により滅菌される製品と蒸発した水性
過酸化水素との接触が最大になる。ポンプダウン速度は
ポンプ速度および／またはバルブのパーセント開度によ
り制御することができる。
【００２０】図４は２つのポンプ２０，２２および１つ
のバルブ４を有する滅菌装置を示す。ポンプ２０はチャ
ンバー２の迅速ポンプダウンを可能にし、一方、ポンプ
２２は減速ポンプダウンを可能にする。図５はポンプ２
０と２２にそれぞれ流体で通じる２つのバルブ２４と２
６を有する交互使用形態を示す。図６はポンプ６と流体
で通じる連続配置のスロットルバルブ４と手動バルブ２
８を有する他の形態を示す。この手動バルブ２８はチャ
ンバー２のポンプダウン速度をより正確に制御すること
ができる。
のバルブ４を有する滅菌装置を示す。ポンプ２０はチャ
ンバー２の迅速ポンプダウンを可能にし、一方、ポンプ
２２は減速ポンプダウンを可能にする。図５はポンプ２
０と２２にそれぞれ流体で通じる２つのバルブ２４と２
６を有する交互使用形態を示す。図６はポンプ６と流体
で通じる連続配置のスロットルバルブ４と手動バルブ２
８を有する他の形態を示す。この手動バルブ２８はチャ
ンバー２のポンプダウン速度をより正確に制御すること
ができる。
【００２１】どちらの形態を使用するかにかかわらず、
液体として過酸化水素をチャンバー内に導入することが
できる。好ましい実施形態において過酸化水素が蒸気と
して導入され、その蒸気が滅菌される製品の内面に液体
として凝縮するように、チャンバーのパラメーターが変
えられる。そのような変化によって圧力が上がる。
液体として過酸化水素をチャンバー内に導入することが
できる。好ましい実施形態において過酸化水素が蒸気と
して導入され、その蒸気が滅菌される製品の内面に液体
として凝縮するように、チャンバーのパラメーターが変
えられる。そのような変化によって圧力が上がる。
【００２２】過酸化水素の水性溶液は、滅菌が過酸化水
素溶液との接触で行なわれるが、真空で過酸化水素にさ
らすと低温（好ましくは１５℃〜８０℃、より好ましく
は２０℃〜６０℃、さらに好ましくは４０℃〜５５
℃）、短時間（好ましくは１時間より短時間、より好ま
しくは１／２時間より短時間）で行なわれるため、例え
ば、１−６重量％の過酸化物と低く、比較的薄めること
ができる。本発明の方法はアクセスが不可能であるか、
その場所に届きにくい製品について特に有効である。そ
のような製品は長く狭い内腔、ヒンジおよび蒸気の拡散
が制限されるスペースを有する他の製品を含む。過酸化
水素はこの明細書に記載された実施例で使用されるが、
供給される溶剤の蒸気圧より低い蒸気圧を有する別の液
体滅菌剤の使用も考えられる。そのような滅菌剤は例え
ば、水性過酢酸溶液および水性グルタルアルデヒド溶液
を含む。
素溶液との接触で行なわれるが、真空で過酸化水素にさ
らすと低温（好ましくは１５℃〜８０℃、より好ましく
は２０℃〜６０℃、さらに好ましくは４０℃〜５５
℃）、短時間（好ましくは１時間より短時間、より好ま
しくは１／２時間より短時間）で行なわれるため、例え
ば、１−６重量％の過酸化物と低く、比較的薄めること
ができる。本発明の方法はアクセスが不可能であるか、
その場所に届きにくい製品について特に有効である。そ
のような製品は長く狭い内腔、ヒンジおよび蒸気の拡散
が制限されるスペースを有する他の製品を含む。過酸化
水素はこの明細書に記載された実施例で使用されるが、
供給される溶剤の蒸気圧より低い蒸気圧を有する別の液
体滅菌剤の使用も考えられる。そのような滅菌剤は例え
ば、水性過酢酸溶液および水性グルタルアルデヒド溶液
を含む。
【００２３】滅菌される製品と滅菌剤との接触は直接あ
るいは間接的に行なうことができる。間接接触方法はチ
ャンバー内に滅菌剤を、滅菌される製品にあるいは製品
内に直接ではなく導入する方法である。この方法の最後
に、真空度を強くして残った滅菌剤を除去することがで
きる。プラズマを使用して残った滅菌剤を除去し、滅菌
効力を上げることができる。
るいは間接的に行なうことができる。間接接触方法はチ
ャンバー内に滅菌剤を、滅菌される製品にあるいは製品
内に直接ではなく導入する方法である。この方法の最後
に、真空度を強くして残った滅菌剤を除去することがで
きる。プラズマを使用して残った滅菌剤を除去し、滅菌
効力を上げることができる。
【００２４】本明細書で使用した用語「ポンプダウン速
度」は、チャンバーが空で乾燥している時、すなわち、
チャンバー滅菌される製品も目に見える量の液体も中に
入っていない時、大気圧（７６０torr）から２０torrま
でチャンバーを排気するのに必要な時間に基づいてい
る。この「ポンプダウン速度」は、排気されているチャ
ンバーの体積を、特別な形態を使用してチャンバーを２
０torrまで排気するのに必要とされる時間で割るように
して計算される。この特別な形態には、ポンプ、チャン
バーおよびそのポンプとチャンバー間のバルブまたはチ
ューブのような材料がある。従って、本明細書で使用し
たように、「ポンプダウン速度」は、たとえポンプ動作
（排出）の実際の速度が特別の形態を使用する際に、ポ
ンプサイクルを通して自然に変わっても特別な形態に対
しては一定である。
度」は、チャンバーが空で乾燥している時、すなわち、
チャンバー滅菌される製品も目に見える量の液体も中に
入っていない時、大気圧（７６０torr）から２０torrま
でチャンバーを排気するのに必要な時間に基づいてい
る。この「ポンプダウン速度」は、排気されているチャ
ンバーの体積を、特別な形態を使用してチャンバーを２
０torrまで排気するのに必要とされる時間で割るように
して計算される。この特別な形態には、ポンプ、チャン
バーおよびそのポンプとチャンバー間のバルブまたはチ
ューブのような材料がある。従って、本明細書で使用し
たように、「ポンプダウン速度」は、たとえポンプ動作
（排出）の実際の速度が特別の形態を使用する際に、ポ
ンプサイクルを通して自然に変わっても特別な形態に対
しては一定である。
【００２５】複数の図面に概略的に示されたポンプは何
れも市販されているポンプとすることができる。好まし
いポンプはLeybold Vacuum Products 社製の（Export,
PA）（モデルD16A, ポンプ速度＝４００リットル／分）
およびKNF Neuberger社製（Trenton, NJ, モデルN740，
ポンプ速度＝４５リットル／分）の２つである。このLe
ybold ポンプは０．１torr未満の圧力に到達することが
でき、KNF ポンプは１０torr未満の圧力に到達すること
ができる。ポンプダウンの効力に対する効果を比較する
ために、チャンバーを２０torrまたは２５torrに排気し
た。パラメーターは以下の通りである。すなわち、チャ
ンバーの温度＝４５℃；ステンレス鋼（ＳＳ）ブレード
毎で２．３×１０6 枯草菌ステアロテルモフィラス（Ba
cillus searothermophilus)（Bst)；オリンパスＣＦ１
０結腸内視鏡の挿入チューブにブレード配置；４８滴×
５０μｌ／滴の６％Ｈ2 Ｏ2 である。結果を表１に示
し、処理後、まだ汚染している接種ブレードの本数対テ
ストした接種ブレードの本数の比として示した。
れも市販されているポンプとすることができる。好まし
いポンプはLeybold Vacuum Products 社製の（Export,
PA）（モデルD16A, ポンプ速度＝４００リットル／分）
およびKNF Neuberger社製（Trenton, NJ, モデルN740，
ポンプ速度＝４５リットル／分）の２つである。このLe
ybold ポンプは０．１torr未満の圧力に到達することが
でき、KNF ポンプは１０torr未満の圧力に到達すること
ができる。ポンプダウンの効力に対する効果を比較する
ために、チャンバーを２０torrまたは２５torrに排気し
た。パラメーターは以下の通りである。すなわち、チャ
ンバーの温度＝４５℃；ステンレス鋼（ＳＳ）ブレード
毎で２．３×１０6 枯草菌ステアロテルモフィラス（Ba
cillus searothermophilus)（Bst)；オリンパスＣＦ１
０結腸内視鏡の挿入チューブにブレード配置；４８滴×
５０μｌ／滴の６％Ｈ2 Ｏ2 である。結果を表１に示
し、処理後、まだ汚染している接種ブレードの本数対テ
ストした接種ブレードの本数の比として示した。
【００２６】 表１ 圧力 使用 スロットルバル 実施に要する 暴露時間 真空下の 滅菌結果 ポンプ ブモード 時間 全時間 25torr KNF 自動 ５分５秒 ５分 10分 5秒 ０／２ leybold 自動 ３５秒 ５分 5分35秒 ２／２ １０分 10分35秒 ２／２ 20torr KNF 自動 ５分５０秒 ５分 10分50秒 ０／２ leybold 自動 ３５秒 ５分 5分35秒 ２／２ １０分 10分35秒 ２／２
【００２７】表１に示したように、効力結果は真空下で
の同じ暴露時間ではKNF ポンプが良好であった。KNF ポ
ンプはLeybold ポンプよりチャンバーを排気するのに約
５分以上かかった。
の同じ暴露時間ではKNF ポンプが良好であった。KNF ポ
ンプはLeybold ポンプよりチャンバーを排気するのに約
５分以上かかった。
【００２８】KNF ポンプで到達できる最低の圧力は約１
０torrであるため、２０％開度に手動制御したスロット
ルバルブを備えたLeybold ポンプを使用して１０torrよ
り低い圧力でポンプダウン速度を比較した。排気時スロ
ットルバルブを２０％開度に制御し、設定圧力に到達し
た時に、自動モードにセットした。反応パラメーターは
以下のようにした。すなわち、Ｔ＝４５℃；ブレード毎
に２．３×１０6 Bst；ブレードの位置＝覆いのないペ
トリ皿；４８滴×５０μｌ／滴６％Ｈ2 Ｏ2 である。こ
の結果を表２に示す。
０torrであるため、２０％開度に手動制御したスロット
ルバルブを備えたLeybold ポンプを使用して１０torrよ
り低い圧力でポンプダウン速度を比較した。排気時スロ
ットルバルブを２０％開度に制御し、設定圧力に到達し
た時に、自動モードにセットした。反応パラメーターは
以下のようにした。すなわち、Ｔ＝４５℃；ブレード毎
に２．３×１０6 Bst；ブレードの位置＝覆いのないペ
トリ皿；４８滴×５０μｌ／滴６％Ｈ2 Ｏ2 である。こ
の結果を表２に示す。
【００２９】 表２ 圧力 使用 スロットルバル 実施に要 暴露時間 真空下の 滅菌結果 ポンプ ブモード する時間 全時間 5torr leybold 自動 ４０秒 ５分 5分40秒 ２／２ １０分 10分40秒 ２／２ ３０分 30分40秒 ２／２ ６０分 60分40秒 １／２ １２０分 120分40秒 ０／２ 手動（２０ ５分１５秒 ５分 10分15秒 ０／２ ％ 開度） 1torr leybold 自動 ５０秒 ５分 5分50秒 ２／２ １０分 10分50秒 ２／２ ３０分 30分50秒 ２／２ ６０分 60分50秒 ２／２ １２０分 120分50秒 １／２ １８０分 180分50秒 ０／２ 手動（２０ ２４分３０秒 １０分 34分30秒 ０／２ ％開度）
【００３０】表２に示したデータからわかるように、ス
ロットルバルブを自動で制御すると５torrと１torrに圧
力を下げるのにそれぞれ４０秒と５０秒だけ必要であっ
た。これらの条件下では、完全な滅菌を行なうには２〜
３時間必要であった。対照的に、バルブを２０％開度に
セットしたら、完全な滅菌を５〜１０分で達成した。こ
れらのパラメーターを使用してチャンバーをポンプダウ
ンするには長くかかるが、全体の時間は短い。
ロットルバルブを自動で制御すると５torrと１torrに圧
力を下げるのにそれぞれ４０秒と５０秒だけ必要であっ
た。これらの条件下では、完全な滅菌を行なうには２〜
３時間必要であった。対照的に、バルブを２０％開度に
セットしたら、完全な滅菌を５〜１０分で達成した。こ
れらのパラメーターを使用してチャンバーをポンプダウ
ンするには長くかかるが、全体の時間は短い。
【００３１】表１と表２からの結果では滅菌の効力はポ
ンプダウン速度により制御することができる。何ら特定
のモードによる作用に縛られたくはないが、チャンバー
をゆっくり排気する時は、チャンバーを徐々に排気する
ことが、滅菌剤が拡散制限領域の内部からその外部に拡
散する際に発生する様相を呈すると思われる。溶媒とし
ての水分が先ず蒸発し、システムから除去され、一方、
過酸化物がさらにゆっくり蒸発し、製品に接触し続ける
と思われる。従って、過酸化物はシステム内で濃縮して
より迅速な滅菌を達成する。チャンバーを迅速に排気す
ると、そのような過酸化物の濃縮は起こらず、それによ
り低濃度の過酸化物蒸気で製品を滅菌することになり、
それで完全な滅菌を達成するには必ず時間が長くなる。
ンプダウン速度により制御することができる。何ら特定
のモードによる作用に縛られたくはないが、チャンバー
をゆっくり排気する時は、チャンバーを徐々に排気する
ことが、滅菌剤が拡散制限領域の内部からその外部に拡
散する際に発生する様相を呈すると思われる。溶媒とし
ての水分が先ず蒸発し、システムから除去され、一方、
過酸化物がさらにゆっくり蒸発し、製品に接触し続ける
と思われる。従って、過酸化物はシステム内で濃縮して
より迅速な滅菌を達成する。チャンバーを迅速に排気す
ると、そのような過酸化物の濃縮は起こらず、それによ
り低濃度の過酸化物蒸気で製品を滅菌することになり、
それで完全な滅菌を達成するには必ず時間が長くなる。
【００３２】大気圧から２０torrまでの様々な条件の下
でLeybold とKNF ポンプのポンプダウン速度を表３にま
とめた。使用したチャンバーは、滅菌剤が入っていない
乾燥した空の１８．５リットルのチャンバーであった。
使用した装置は図２に示した装置である。
でLeybold とKNF ポンプのポンプダウン速度を表３にま
とめた。使用したチャンバーは、滅菌剤が入っていない
乾燥した空の１８．５リットルのチャンバーであった。
使用した装置は図２に示した装置である。
【００３３】 表３ ポンプ スロットルバルブ チャンバーを排気する ポンプダウン速度 の開度％ のに要した時間 （リットル／秒） KNF １００％ １９５秒 ０．０９ leybold １００％ １５秒 １．２３ ２０％ ９３秒 ０．２０
【００３４】次に様々なポンプダウン速度で、液体／蒸
気滅菌プロセスの効力に対するポンプダウン速度の効果
を調べた。滅菌剤のない乾燥した空の１８．５リットル
チャンバーを１気圧から２０torrまで排気するのに要す
る時間に基づいて、ポンプダウン速度を決めた。効力を
決めるのに使用した装置は、図２に示された、９３秒お
よび１５秒の第２ポンプダウン時点（すなわち、０．２
０リットル／秒および１．２３リットル／秒のポンプダ
ウン速度）の装置であった。２３秒、３０秒および６０
秒のポンプダウン時点（すなわち、０．８０リットル／
秒、０．６２リットル／秒および０．３１リットル／秒
のポンプダウン速度）に使用した装置は図６に示した装
置である。ポンプダウン速度を様々な開度で手動バルブ
２８を設定することによって制御した。チャンバーの温
度は４５℃であった。０．２０および１．２３リットル
／秒のポンプダウン速度で取った結果の場合は複数のス
テンレス鋼（ＳＳ）ブレードにブレード毎に２．３×１
０6 枯草菌ステアロテルモフィラス（Bst)を接種し、
０．３１，０．６２および０．８０リットル／秒のポン
プダウン速度で取った結果の場合はブレード毎に１．９
×１０6 Bst を接種した。ブレードは覆いのないペトリ
皿に入れ、チャンバーは１積載のオリンパスＣＦ１０結
腸内視鏡を収容した。５０μｌ／滴の４８滴の６％液体
過酸化水素をチャンバー内部に置いた。その結果を表４
にまとめた。
気滅菌プロセスの効力に対するポンプダウン速度の効果
を調べた。滅菌剤のない乾燥した空の１８．５リットル
チャンバーを１気圧から２０torrまで排気するのに要す
る時間に基づいて、ポンプダウン速度を決めた。効力を
決めるのに使用した装置は、図２に示された、９３秒お
よび１５秒の第２ポンプダウン時点（すなわち、０．２
０リットル／秒および１．２３リットル／秒のポンプダ
ウン速度）の装置であった。２３秒、３０秒および６０
秒のポンプダウン時点（すなわち、０．８０リットル／
秒、０．６２リットル／秒および０．３１リットル／秒
のポンプダウン速度）に使用した装置は図６に示した装
置である。ポンプダウン速度を様々な開度で手動バルブ
２８を設定することによって制御した。チャンバーの温
度は４５℃であった。０．２０および１．２３リットル
／秒のポンプダウン速度で取った結果の場合は複数のス
テンレス鋼（ＳＳ）ブレードにブレード毎に２．３×１
０6 枯草菌ステアロテルモフィラス（Bst)を接種し、
０．３１，０．６２および０．８０リットル／秒のポン
プダウン速度で取った結果の場合はブレード毎に１．９
×１０6 Bst を接種した。ブレードは覆いのないペトリ
皿に入れ、チャンバーは１積載のオリンパスＣＦ１０結
腸内視鏡を収容した。５０μｌ／滴の４８滴の６％液体
過酸化水素をチャンバー内部に置いた。その結果を表４
にまとめた。
【００３５】 表４ チャンバーを ポンプダウン ５torrでBst/SSブレードに関する過酸化物の効力 ２０torrに 速度 ５ １０ ２０ ３０ ４０ ５０ ６０ １２０ 排気する時間 分 分 分 分 分 分 分 分 ９３秒 ０．２０ 0/2 - - - - - - - ６０秒 ０．３１ 2/2 0/2 0/2 - - - - - ３０秒 ０．６２ 2/2 2/2 2/2 0/2 0/2 - - - ２３秒 ０．８０ 2/2 2/2 2/2 1/2 1/2 1/2 1/2 - １５秒 １．２３ 2/2 2/2 - 2/2 - - 1/2 0/2
【００３６】この結果は、０．８リットル／秒未満のポ
ンプダウン速度では、１．２３リットル／秒のポンプダ
ウン速度で達成した滅菌効力より滅菌効果がかなり増大
することを示している。低下したポンプダウン速度を使
用する滅菌効力は、チャンバー内の積載量、過酸化物濃
度、過酸化物の体積、温度およびチャンバーの体積に依
存するだろう。これらのファクターのすべてが滅菌プロ
セス時にチャンバー内の過酸化物の蒸気濃度に影響する
だろう。好ましい実施形態では、これらのファクターは
少なくとも０．０５ｍｇ／ｌ、より好ましくは少なくと
も０．１ｍｇ／ｌおよびさらに好ましくは０．２ｍｇ／
ｌ以上の過酸化水素の蒸気濃度を作るように調整される
だろう。滅菌効力を達成しながら蒸気相に存在すること
ができる過酸化物の量について、システムの飽和限界以
外の上限界はない。
ンプダウン速度では、１．２３リットル／秒のポンプダ
ウン速度で達成した滅菌効力より滅菌効果がかなり増大
することを示している。低下したポンプダウン速度を使
用する滅菌効力は、チャンバー内の積載量、過酸化物濃
度、過酸化物の体積、温度およびチャンバーの体積に依
存するだろう。これらのファクターのすべてが滅菌プロ
セス時にチャンバー内の過酸化物の蒸気濃度に影響する
だろう。好ましい実施形態では、これらのファクターは
少なくとも０．０５ｍｇ／ｌ、より好ましくは少なくと
も０．１ｍｇ／ｌおよびさらに好ましくは０．２ｍｇ／
ｌ以上の過酸化水素の蒸気濃度を作るように調整される
だろう。滅菌効力を達成しながら蒸気相に存在すること
ができる過酸化物の量について、システムの飽和限界以
外の上限界はない。
【００３７】ナイロンまたはポリウレタンのような滅菌
されているある物質の場合、システム内の過剰な過酸化
水素は、除去しにくい残留物を残すかも知れない。過剰
な残留物を避けるため、過酸化水素の濃度は好ましくは
３０ｍｇ／ｌ以下、より好ましくは２０ｍｇ／ｌ未満、
さらに好ましくは１５ｍｇ／ｌ未満に維持されることが
好ましい。高い蒸気濃度の過酸化水素が望まれる場合、
過剰な残留物はガスプラズマを使用して除去することが
できる。残留物を保持しないステンレス鋼、ポリウレタ
ンあるいはポリプロピレンのような基板を使用する場
合、滅菌時にシステム内の蒸気相に存在することができ
る過酸化物の量に限定する理由はない。
されているある物質の場合、システム内の過剰な過酸化
水素は、除去しにくい残留物を残すかも知れない。過剰
な残留物を避けるため、過酸化水素の濃度は好ましくは
３０ｍｇ／ｌ以下、より好ましくは２０ｍｇ／ｌ未満、
さらに好ましくは１５ｍｇ／ｌ未満に維持されることが
好ましい。高い蒸気濃度の過酸化水素が望まれる場合、
過剰な残留物はガスプラズマを使用して除去することが
できる。残留物を保持しないステンレス鋼、ポリウレタ
ンあるいはポリプロピレンのような基板を使用する場
合、滅菌時にシステム内の蒸気相に存在することができ
る過酸化物の量に限定する理由はない。
【００３８】上記特定の条件を使用して、滅菌時、望ま
しい蒸気濃度の過酸化物は、空の乾燥したチャンバーを
大気圧から２０torrまで排気するのに０．８リットル／
秒未満のポンプダウン速度で達成することができる。ポ
ンプダウン速度は０．６リットル／秒以下、さらに好ま
しくは０．４リットル／秒以下、またさらに好ましくは
０．２リットル／秒以下であることが好ましい。これら
のポンプダウン速度は１リットルと小さいチャンバーあ
るいは２０００リットルと大きいチャンバーの場合に効
果的にすることができる。しかしながら、これらのポン
プダウン速度は、２−１０００ｌの範囲内、より好まし
くは５−２００ｌの範囲内、さらに好ましくは１０−１
００ｌの範囲内のチャンバーに対して使用されることが
より好ましい。
しい蒸気濃度の過酸化物は、空の乾燥したチャンバーを
大気圧から２０torrまで排気するのに０．８リットル／
秒未満のポンプダウン速度で達成することができる。ポ
ンプダウン速度は０．６リットル／秒以下、さらに好ま
しくは０．４リットル／秒以下、またさらに好ましくは
０．２リットル／秒以下であることが好ましい。これら
のポンプダウン速度は１リットルと小さいチャンバーあ
るいは２０００リットルと大きいチャンバーの場合に効
果的にすることができる。しかしながら、これらのポン
プダウン速度は、２−１０００ｌの範囲内、より好まし
くは５−２００ｌの範囲内、さらに好ましくは１０−１
００ｌの範囲内のチャンバーに対して使用されることが
より好ましい。
【００３９】滅菌剤の多くは圧力が液体滅菌剤の蒸気圧
の４倍に近づくまで蒸発しないため、このシステムを初
めは迅速に排気することができ、その後、圧力が滅菌剤
の蒸気圧に近づいたらより減速してポンプダウンするこ
とができる。従って、本発明の好ましい実施形態では、
圧力を２段階で徐々に低下させて滅菌に必要な時間を短
縮する。第１段階では圧力を大気圧から、大気圧以上の
滅菌剤の濃縮が起きる圧力まで迅速に低下させる。従っ
て、好ましい実施形態では、第１段階はチャンバーを約
蒸気圧以上に、より好ましくは蒸気圧の約２倍以上に、
またさらに好ましくは蒸気圧の４倍以上にする。第１段
階のポンプダウン速度は約０．８リットル／秒、０．６
リットル／秒、０．４リットル／秒、または０．２リッ
トル／秒より大きく、一方、第２段階のポンプダウン速
度は約０．８リットル／秒、０．６リットル／秒、０．
４リットル／秒、または０．２リットル／秒未満であ
る。これらのポンプダウン速度は乾燥した空のチャンバ
ーを７６０torrから２０torrまで排気するのに必要な時
間に基づいている。
の４倍に近づくまで蒸発しないため、このシステムを初
めは迅速に排気することができ、その後、圧力が滅菌剤
の蒸気圧に近づいたらより減速してポンプダウンするこ
とができる。従って、本発明の好ましい実施形態では、
圧力を２段階で徐々に低下させて滅菌に必要な時間を短
縮する。第１段階では圧力を大気圧から、大気圧以上の
滅菌剤の濃縮が起きる圧力まで迅速に低下させる。従っ
て、好ましい実施形態では、第１段階はチャンバーを約
蒸気圧以上に、より好ましくは蒸気圧の約２倍以上に、
またさらに好ましくは蒸気圧の４倍以上にする。第１段
階のポンプダウン速度は約０．８リットル／秒、０．６
リットル／秒、０．４リットル／秒、または０．２リッ
トル／秒より大きく、一方、第２段階のポンプダウン速
度は約０．８リットル／秒、０．６リットル／秒、０．
４リットル／秒、または０．２リットル／秒未満であ
る。これらのポンプダウン速度は乾燥した空のチャンバ
ーを７６０torrから２０torrまで排気するのに必要な時
間に基づいている。
【００４０】大気圧から、滅菌剤の濃縮が起きる圧力以
上の圧力（第２圧力）までのポンプダウン速度は一定あ
るいは可変または段階的に下がる。同様にこの第２圧力
から第３圧力までの第２段階ポンプダウン速度は一定あ
るいは可変または段階的に下がる。
上の圧力（第２圧力）までのポンプダウン速度は一定あ
るいは可変または段階的に下がる。同様にこの第２圧力
から第３圧力までの第２段階ポンプダウン速度は一定あ
るいは可変または段階的に下がる。
【００４１】この第１段階を実施する圧力は、好ましい
滅菌条件下では滅菌剤の蒸気圧に依存するだろう。その
圧力は滅菌剤の蒸気圧の約４倍であることがが普通であ
る。その圧力は滅菌剤の蒸気圧の約３倍であることがよ
り好ましい。その圧力は滅菌剤の蒸気圧の約２倍である
ことが最も好ましい。従って、典型的な実施例では迅速
なポンプダウンは２００〜４００torrの圧力範囲に圧力
を下げることができる。第２段階では圧力を２００〜４
００torrから滅菌に好ましい圧力範囲に徐々に下げる。
第２段階の最適な圧力は０．１〜８０torr、より好まし
くは１〜５０torr、さらに好ましきは１〜２０torrの範
囲内にある。
滅菌条件下では滅菌剤の蒸気圧に依存するだろう。その
圧力は滅菌剤の蒸気圧の約４倍であることがが普通であ
る。その圧力は滅菌剤の蒸気圧の約３倍であることがよ
り好ましい。その圧力は滅菌剤の蒸気圧の約２倍である
ことが最も好ましい。従って、典型的な実施例では迅速
なポンプダウンは２００〜４００torrの圧力範囲に圧力
を下げることができる。第２段階では圧力を２００〜４
００torrから滅菌に好ましい圧力範囲に徐々に下げる。
第２段階の最適な圧力は０．１〜８０torr、より好まし
くは１〜５０torr、さらに好ましきは１〜２０torrの範
囲内にある。
【００４２】本発明は詳細な説明に記載された発明の実
施形態のみに限定されないことに注目する必要がある。
本発明の趣旨を保持する他の実施形態もすべて本発明の
範囲に入るものと考える必要がある。しかしながら、本
発明は特許請求の範囲によってのみ制限される。
施形態のみに限定されないことに注目する必要がある。
本発明の趣旨を保持する他の実施形態もすべて本発明の
範囲に入るものと考える必要がある。しかしながら、本
発明は特許請求の範囲によってのみ制限される。
【００４３】なお本発明の好適な実施態様として以下の
ものがある。 （１）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行なわ
れる請求項１に記載の方法。 （２）前記接触工程は前記配置工程後に行なわれる請求
項１に記載の方法。 （３）前記滅菌剤の蒸気圧の約２倍以下の少なくとも圧
力の低下は、毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速
度で生じる請求項１に記載の方法。 （４）前記滅菌剤の蒸気圧の約４倍以下の少なくとも圧
力の低下は、毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速
度で生じる請求項１に記載の方法。 （５）前記ポンプダウン速度は毎秒０．６リットル以下
である請求項１に記載の方法。
ものがある。 （１）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行なわ
れる請求項１に記載の方法。 （２）前記接触工程は前記配置工程後に行なわれる請求
項１に記載の方法。 （３）前記滅菌剤の蒸気圧の約２倍以下の少なくとも圧
力の低下は、毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速
度で生じる請求項１に記載の方法。 （４）前記滅菌剤の蒸気圧の約４倍以下の少なくとも圧
力の低下は、毎秒０．８リットル未満のポンプダウン速
度で生じる請求項１に記載の方法。 （５）前記ポンプダウン速度は毎秒０．６リットル以下
である請求項１に記載の方法。
【００４４】（６）前記ポンプダウン速度は毎秒０．４
リットル以下である実施態様（３）に記載の方法。 （７）前記ポンプダウン速度は毎秒０．２リットル以下
である実施態様（４）に記載の方法。 （８）前記第１圧力は大気圧である請求項１に記載の方
法。 （９）前記液体滅菌剤は過酸化水素ある請求項１に記載
の方法。 （１０）前記装置は内腔を有する医療器具である請求項
１に記載の方法。 （１１）前記接触工程は液体あるいは凝縮された蒸気の
使用を含む請求項１に記載の方法。 （１２）チャンバーを排気して残った滅菌剤を除去する
工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
リットル以下である実施態様（３）に記載の方法。 （７）前記ポンプダウン速度は毎秒０．２リットル以下
である実施態様（４）に記載の方法。 （８）前記第１圧力は大気圧である請求項１に記載の方
法。 （９）前記液体滅菌剤は過酸化水素ある請求項１に記載
の方法。 （１０）前記装置は内腔を有する医療器具である請求項
１に記載の方法。 （１１）前記接触工程は液体あるいは凝縮された蒸気の
使用を含む請求項１に記載の方法。 （１２）チャンバーを排気して残った滅菌剤を除去する
工程をさらに含む請求項１に記載の方法。
【００４５】（１３）前記装置プラズマに当て残った滅
菌剤を除去し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求
項１に記載の方法。 （１４）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項１に記載の方法。 （１５）前記チャンバーの体積は約１リットルから約２
０００リットルまでの範囲にある請求項１に記載の方
法。 （１６）前記チャンバーの体積は約１０リットルから約
１００リットルまでの範囲にある請求項１に記載の方
法。 （１７）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行な
われる請求項２に記載の方法。
菌剤を除去し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求
項１に記載の方法。 （１４）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項１に記載の方法。 （１５）前記チャンバーの体積は約１リットルから約２
０００リットルまでの範囲にある請求項１に記載の方
法。 （１６）前記チャンバーの体積は約１０リットルから約
１００リットルまでの範囲にある請求項１に記載の方
法。 （１７）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行な
われる請求項２に記載の方法。
【００４６】（１８）前記接触工程は前記配置工程後に
行なわれる請求項２に記載の方法。 （１９）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は一定で
ある請求項２に記載の方法。 （２０）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は可変で
ある請求項２に記載の方法。 （２１）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は段階的
に低下する請求項２に記載の方法。 （２２）前記第２圧力以下のポンプダウン速度は一定で
ある請求項２に記載の方法。
行なわれる請求項２に記載の方法。 （１９）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は一定で
ある請求項２に記載の方法。 （２０）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は可変で
ある請求項２に記載の方法。 （２１）前記第２圧力以上のポンプダウン速度は段階的
に低下する請求項２に記載の方法。 （２２）前記第２圧力以下のポンプダウン速度は一定で
ある請求項２に記載の方法。
【００４７】（２３）前記第２圧力以下のポンプダウン
速度は可変である請求項２に記載の方法。 （２４）前記第２圧力以下のポンプダウン速度は段階的
に低下する請求項２に記載の方法。 （２５）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧より大
きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。 （２６）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧の約２
倍より大きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。 （２７）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧の約４
倍より大きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。
速度は可変である請求項２に記載の方法。 （２４）前記第２圧力以下のポンプダウン速度は段階的
に低下する請求項２に記載の方法。 （２５）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧より大
きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。 （２６）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧の約２
倍より大きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。 （２７）前記第２圧力は前記液体滅菌剤の蒸気圧の約４
倍より大きいかまたは等しい請求項２に記載の方法。
【００４８】（２８）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速
度は、チャンバーが空で乾燥している場合、前記チャン
バーを大気圧から２０torrまで排気するのに必要な時間
に基づいて計算される０．８リットル／秒以下である請
求項２に記載の方法。 （２９）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速度は、チャン
バーが空で乾燥している場合、前記チャンバーを大気圧
から２０torrまで排気するのに必要な時間に基づいて計
算される０．６リットル／秒以下である請求項２に記載
の方法。 （３０）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速度は、チャン
バーが空で乾燥している場合、前記チャンバーを大気圧
から２０torrまで排気するのに必要な時間に基づいて計
算される０．４リットル／秒以下である請求項２に記載
の方法。
度は、チャンバーが空で乾燥している場合、前記チャン
バーを大気圧から２０torrまで排気するのに必要な時間
に基づいて計算される０．８リットル／秒以下である請
求項２に記載の方法。 （２９）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速度は、チャン
バーが空で乾燥している場合、前記チャンバーを大気圧
から２０torrまで排気するのに必要な時間に基づいて計
算される０．６リットル／秒以下である請求項２に記載
の方法。 （３０）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速度は、チャン
バーが空で乾燥している場合、前記チャンバーを大気圧
から２０torrまで排気するのに必要な時間に基づいて計
算される０．４リットル／秒以下である請求項２に記載
の方法。
【００４９】（３１）工程（ｄ）の前記ポンプダウン速
度は、チャンバーが空で乾燥している場合、前記チャン
バーを大気圧から２０torrまで排気するのに必要な時間
に基づいて計算される０．２リットル／秒以下である請
求項２に記載の方法。 （３２）前記液体滅菌剤は過酸化水素ある請求項２に記
載の方法。 （３３）前記装置は内腔を有する医療器具である請求項
２に記載の方法。 （３４）前記工程（ｃ）のポンプダウン工程は、圧力を
液体滅菌剤の蒸気圧の約３倍未満に下げる請求項２に記
載の方法。 （３５）前記工程（ｃ）のポンプダウン工程は、圧力を
液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍未満に下げる請求項２に記
載の方法。 （３６）前記接触工程は液体あるいは凝縮された蒸気の
使用を含む請求項２に記載の方法。
度は、チャンバーが空で乾燥している場合、前記チャン
バーを大気圧から２０torrまで排気するのに必要な時間
に基づいて計算される０．２リットル／秒以下である請
求項２に記載の方法。 （３２）前記液体滅菌剤は過酸化水素ある請求項２に記
載の方法。 （３３）前記装置は内腔を有する医療器具である請求項
２に記載の方法。 （３４）前記工程（ｃ）のポンプダウン工程は、圧力を
液体滅菌剤の蒸気圧の約３倍未満に下げる請求項２に記
載の方法。 （３５）前記工程（ｃ）のポンプダウン工程は、圧力を
液体滅菌剤の蒸気圧の約２倍未満に下げる請求項２に記
載の方法。 （３６）前記接触工程は液体あるいは凝縮された蒸気の
使用を含む請求項２に記載の方法。
【００５０】（３７）チャンバーを排気して残った滅菌
剤を除去する工程をさらに含む請求項２に記載の方法。 （３８）前記装置プラズマに当て残った滅菌剤を除去
し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求項２に記載
の方法。 （３９）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項２に記載の方法。 （４０）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行な
われる請求項３に記載の方法。 （４１）前記接触工程は前記配置工程前に行なわれる請
求項３に記載の方法。
剤を除去する工程をさらに含む請求項２に記載の方法。 （３８）前記装置プラズマに当て残った滅菌剤を除去
し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求項２に記載
の方法。 （３９）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項２に記載の方法。 （４０）前記接触工程は前記滅菌チャンバー外部で行な
われる請求項３に記載の方法。 （４１）前記接触工程は前記配置工程前に行なわれる請
求項３に記載の方法。
【００５１】（４２）前記接触工程は液体あるいは凝縮
された蒸気の使用を含む請求項３に記載の方法。 （４３）チャンバーを排気して残った滅菌剤を除去する
工程をさらに含む請求項３に記載の方法。 （４４）前記装置プラズマに当て残った滅菌剤を除去
し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求項３に記載
の方法。 （４５）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項３に記載の方法。 （４６）滅菌剤は過酸化水素であり、低下工程は滅菌チ
ャンバー内の少なくとも０．０５ｍｇ／ｌの過酸化水素
の蒸気濃度を作る請求項３に記載の方法。
された蒸気の使用を含む請求項３に記載の方法。 （４３）チャンバーを排気して残った滅菌剤を除去する
工程をさらに含む請求項３に記載の方法。 （４４）前記装置プラズマに当て残った滅菌剤を除去
し、滅菌効力を上げる工程をさらに含む請求項３に記載
の方法。 （４５）前記接触工程は滅菌される製品に直接接触させ
ないで前記チャンバー内に滅菌剤を導入する工程を含む
請求項３に記載の方法。 （４６）滅菌剤は過酸化水素であり、低下工程は滅菌チ
ャンバー内の少なくとも０．０５ｍｇ／ｌの過酸化水素
の蒸気濃度を作る請求項３に記載の方法。
【００５２】（４７）滅菌剤は過酸化水素であり、低下
工程は滅菌チャンバー内の約０．２ｍｇ／ｌから約３０
ｍｇ／ｌまでの範囲の過酸化水素の蒸気濃度を作る実施
態様 （４６）に記載の方法。 （４８）前記第２バルブは前記第１バルブより小さい請
求項４に記載の装置。 （４９）前記第１バルブは第１真空ラインに接続され、
前記第２バルブは前記第２真空ラインに接続され、前記
第２真空ラインは前記第１真空ラインより小さい請求項
４に記載の装置。 （５０）前記バルブは平行に形成される請求項４に記載
の装置。 （５１）前記バルブは連続的に形成される請求項４に記
載の装置。
工程は滅菌チャンバー内の約０．２ｍｇ／ｌから約３０
ｍｇ／ｌまでの範囲の過酸化水素の蒸気濃度を作る実施
態様 （４６）に記載の方法。 （４８）前記第２バルブは前記第１バルブより小さい請
求項４に記載の装置。 （４９）前記第１バルブは第１真空ラインに接続され、
前記第２バルブは前記第２真空ラインに接続され、前記
第２真空ラインは前記第１真空ラインより小さい請求項
４に記載の装置。 （５０）前記バルブは平行に形成される請求項４に記載
の装置。 （５１）前記バルブは連続的に形成される請求項４に記
載の装置。
【００５３】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る滅菌方
法によれば、長く狭い内腔のような拡散が制限される領
域を有する製品の滅菌をポンプダウン速度を使用して効
果的に行なうことができる。
法によれば、長く狭い内腔のような拡散が制限される領
域を有する製品の滅菌をポンプダウン速度を使用して効
果的に行なうことができる。
【図１】本発明の過酸化水素滅菌方法で使用するのに適
したチャンバーと付属品の概略図である。
したチャンバーと付属品の概略図である。
【図２】本発明の過酸化水素滅菌方法で使用するチャン
バー、ポンプおよびスロットルバルブの概略図である。
バー、ポンプおよびスロットルバルブの概略図である。
【図３】１つのチャンバーと、１つが速いポンプダウン
用の大きなポンプ真空ラインを有するバルブと１つが遅
いポンプダウン用の小さな真空ラインを有するバルブの
２つのバルブとを備えたシステムの概略図である。
用の大きなポンプ真空ラインを有するバルブと１つが遅
いポンプダウン用の小さな真空ラインを有するバルブの
２つのバルブとを備えたシステムの概略図である。
【図４】１つが遅いポンプダウン用で１つが速いポンプ
ダウン用の２つのポンプを有する１つのバルブ滅菌シス
テムの概略図である。
ダウン用の２つのポンプを有する１つのバルブ滅菌シス
テムの概略図である。
【図５】１つが遅いポンプダウン用で１つが速いポンプ
ダウン用の２つのポンプと、２つのバルブを備えたシス
テムの概略図である。
ダウン用の２つのポンプと、２つのバルブを備えたシス
テムの概略図である。
【図６】１つのポンプと、ポンプダウン速度をさらに制
御調節するためのスロットルバルブと手動バルブの２つ
のバルブをとを備えたシステムの概略図である。
御調節するためのスロットルバルブと手動バルブの２つ
のバルブをとを備えたシステムの概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ポール・テイラー・ジェイコブス アメリカ合衆国、92679 カリフォルニア 州、トラブコ・キャニオン、レイニア ８
Claims (6)
- 【請求項１】 滅菌チャンバー内で装置の滅菌方法であ
って、 前記装置を蒸気圧を有する液体滅菌剤に第１圧力で接触
させる工程と、 前記装置を前記チャンバー内に置く工程と、 前記チャンバーの圧力を前記滅菌剤の蒸気圧以下の第２
圧力に下げる工程であって、 前記液体滅菌剤の略蒸気圧以下への圧力の低下の少なく
とも一部分が、前記チャンバーが空で乾燥している時、
前記チャンバーを大気圧から２０torrまで排気するのに
必要な時間に基づいて計算された毎秒０．８リットル未
満のポンプダウン速度で生じる工程を含む滅菌方法。 - 【請求項２】 滅菌チャンバー内で装置の滅菌方法であ
って、 （ａ）前記装置を液体滅菌剤に第１圧力で接触させる工
程と、 （ｂ）前記装置を前記チャンバー内に置く工程と、 （ｃ）前記チャンバーを前記第１圧力より低い第２圧力
に第１速度でポンプダウンする工程と、 （ｄ）前記チャンバーを前記第２圧力より低い第３圧力
にポンプダウンする工程であって、前記第３圧力へのポ
ンプダウンの少なくとも一部分が前記第１速度より遅い
第２速度である工程を含む滅菌方法。 - 【請求項３】 滅菌チャンバー内で製品の滅菌方法であ
って、 前記製品を液体滅菌剤に接触させる工程と、 前記製品を前記チャンバー内に置く工程と、 前記チャンバーの滅菌剤の蒸発速度を制御するようにポ
ンプダウン速度を制御しながら前記チャンバーの圧力を
下げる工程を含む滅菌方法。 - 【請求項４】 中に液体滅菌剤を有するチャンバーと、 前記チャンバーに流体を用いて接続される第１バルブと
第２バルブであって、前記バルブの各々が前記チャンバ
ーの圧力を制御するように適合され、前記第２バルブが
形成されるより速いポンプダウン速度で前記第１バルブ
が前記チャンバーの圧力を制御するように形成される第
１バルブと第２バルブと、 前記チャンバーの圧力を下げるために前記バルブに流体
を用いて接続されるポンプとを備えた製品の滅菌装置。 - 【請求項５】 中に液体滅菌剤を有するチャンバーと、 前記チャンバーの圧力を下げるために前記チャンバーに
流体を用いて接続される２つ以上のポンプと、 前記ポンプの少なくとも１つに、そして前記チャンバー
に、各々が流体を用いて接続され、各々が前記チャンバ
ーの圧力を独立して制御するように適合される２つ以上
のバルブを備えた製品の滅菌装置。 - 【請求項６】 中に液体滅菌剤を有するチャンバーと、 各々が前記チャンバーに流体を用いて接続されており、
前記チャンバーの圧力を下げるための第１ポンプと第２
ポンプであって、前記第１ポンプは第２ポンプより速い
ポンプダウン速度を供給する第１ポンプと第２ポンプ
と、 前記チャンバーの圧力を制御するように適合されてお
り、前記ポンプの各々と前記チャンバーに流体を用いて
接続されるバルブを備えた製品の滅菌装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3369296P | 1996-12-20 | 1996-12-20 | |
| US08/891,866 US5851485A (en) | 1996-12-20 | 1997-07-09 | Process for sterilization with liquid sterilant using controlled pumpdown rate |
| US033692 | 1997-07-09 | ||
| US891866 | 1997-07-09 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36531097A Expired - Fee Related JP3990014B2 (ja) | 1996-12-20 | 1997-12-19 | 液体滅菌剤を使用する２段階滅菌方法及び装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5851485A (ja) |
| JP (1) | JP3990014B2 (ja) |
| KR (1) | KR100701440B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US6077480A (en) * | 1997-06-19 | 2000-06-20 | Steris Corporation | Multiple flashpoint vaporization system |
| US6013227A (en) * | 1997-12-17 | 2000-01-11 | Johnson & Johnson Medical, Inc. | Lumen device reprocessor without occlusion |
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| US6685895B1 (en) | 1997-12-17 | 2004-02-03 | Ethicon, Inc. | Method and apparatus for processing device with reduced occlusion |
| US6015529A (en) * | 1997-12-17 | 2000-01-18 | Johnson & Johnson Medical, Inc. | Tray/container system for cleaning/sterilization processes |
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| US6852279B2 (en) * | 2002-06-28 | 2005-02-08 | Ethicon, Inc. | Sterilization with temperature-controlled diffusion path |
| US6534002B1 (en) * | 1998-12-30 | 2003-03-18 | Ethicon, Inc. | Flow of fluid through a lumen device from smaller-caliber end to larger-caliber end |
| US7569180B2 (en) | 2004-10-12 | 2009-08-04 | Ethicon, Inc. | Sterilization system and method and orifice inlet control apparatus therefor |
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