JPH01121057A - 低圧過酸化水素蒸気滅菌方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 発明の分計 本発明は物品の蒸気滅菌に関し、特に、医療器具のよう
な対象物上の微生物を殺すために非常に低圧で過酸化水
素を用いている。

従来技術の記述 滅菌の種々の方法が、取外し可能で繰返し利用できる医
療用補給品、器具および食品、食品収容器のような物品
の滅菌のために、過去に用いられている。スチームや乾
燥加熱による滅菌が過去に広く用いられたが、高温や湿
気で悪い影響を受ける材料を殺菌するのには用いられて
いない。酸化エチレンガスも用いられているが、滅菌物
品に毒性の残留物を残すにうな不利な点がある。拡大し
た空気暴露サイクル（［！ｘｔｅｒ＋ｄｅｄ　ａｅｒａ
ｔｉｏｎ　ｃｙｃｌｅｓ）が、酸化エチレン滅菌プロセ
スが過剰に長く行われた物品から残留酸化エチレンを減
少するために必要である。

過酸化水素は殺菌特性を持つことが知られており、種々
の表面上のバクテリアを殺すのに溶液で用いられている
。米国特許明細書Ｎｏ、４　、４３７　、５６７号は、
医療もしくは外科用のパックされた製品を滅菌するのに
、例えば０．０１ないし０．１０の重量％の低い濃度で
過酸化水素を用いることが記述しである。室温において
そのような滅菌には、効果をあげるのに少なくとも１５
日が必要である。高温での滅菌は、はぼ１日で達成する
ことができる。

米国特許明細書Ｎα４．１６９．１２３　、　４．１６
９．１２４および４，２３０．６６３号では、滅菌およ
び殺菌のために、リッター当たり０．１０ないし７５ｍ
ｇの過酸化水素蒸気の濃度で、８０℃以下の温度で過酸
化水素蒸気を用いることが記述されている。これらの特
許は、また、過酸化水素蒸気を利用する滅菌プロセスに
おいて水銀柱でマイナス１５あるいは２５インチ（３８
１あるいは１２７トール）のような減圧を用いることを
記述している。濃度および温度に依存して、減面時間が
３０分から４時間の間で変動することが報告されている
。

米国特許明細書Ｎα４，６４３．８７６号では、プラズ
マ滅菌プロセスが記述されており、これはプラズマ生成
サイクルの間に発生した活動的な核（ｓｐｅｃｆｅｓ）
のための誘導物質（ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）として過酸化
水素蒸気を用い、また、プラズマ生成サイクルに先立つ
予備処理サイクルに用いている。

米国特許明細書Ｎα４．５１２．９５１では過酸化水素
の液膜による滅菌方法が記述されている。ここに記述さ
れた方法では、過酸化水素が滅菌室内で蒸発する前に、
上記滅菌室が水銀柱で２および４インチの間（５０，８
および１０１トール）の絶対圧で掃気（ｅｖａｃｕａ　
ｔｅｄ）される。そして、過酸化水素は上記滅菌室に導
入され、蒸気混合物の融点以下で、対象物の温度を維持
することによってその滅菌されるべき対象物の表面に凝
縮する。

従来の蒸気滅菌方法の幾つかは販売契約をなしているが
、それらは効力、便宜、安全性および技術的あるいは経
済的な事実を含む１つ以上の事項に関する重要な問題に
ついて交わされている。例えば、滅菌剤の胞子撲滅活性
を増大する公知の方法は、滅菌室における滅菌剤の濃度
を増大する。

このような仕方は滅菌のための時間を短縮するけれども
、滅菌剤の高濃度は、幾つかの材料に対して有害な影響
を与え、また、滅菌プロセスが完成した後に残留物を除
くための活発でかつ負担になる方法が必要となる。例え
ば、過酸化水素は酸化剤であり、高い濃度では、成る材
料には品質低下あるいは漂白をもたらす。上述の特許に
述べられているような従来のプロセスの幾つかでは、滅
菌は蒸気拡散を改善するために減圧（実質的に５０およ
び１００トール間）で遂行され、これによって、滅菌剤
の濃度を減らし、また、滅菌のために必要な時間を減ら
す。こさらの状態下においても、滅菌剤の高濃度あるい
は昇温は、上記プロセスを増強するのに必要なのである
。

米国特許Ｎα４．５１２．９５１号では、滅菌されるべ
き対象物の表面に液膜として加熱された蒸気を凝縮する
ことによって、また、蒸気減面が完成するまで上記液膜
を維持することによって、過酸化水素蒸気の胞子撲滅活
性を改善することが試みられている。上記特許は、また
、１５℃から５５℃の範囲内での温度で、時間内におけ
るほとんどの物品の滅菌効果を゛あげることを記述して
いる。凝縮で過酸化水素の濃度の増加が多少、滅菌性を
増強するとしても、少なくともその表面において、過酸
化水素を高いレベルで吸収し、また、空気暴露（ａｅｒ
ａｔｉｏｎ）のような除去のための追加的手段を必要と
することは明らかであり、これによって、滅菌されるべ
き対象物の継続的な収益間隔が長くなる。

したがって、本発明の目的とするところは、従来技術の
蒸気プロセスの制約を越え、また、減面が周囲の比較的
低い温度で、気相において遂行され、かつ過酸化水素の
ような滅菌剤の低い濃度で、短期間内に達成され、そし
て滅菌された物品上の滅菌剤の残留が最小であるような
方法を用いることによって蒸気凝縮減菌プロセスを達成
することにある。

発明の概要 本発明は、超低圧過酸化水素蒸気滅菌システムにおいて
過酸化水素を用いるものである。上記プロセスは、滅菌
室内に滅菌されるべき物品を置き、２０ト一ル程度、好
ましくはｌトール程度以下の圧力で掃気しくｅｖａｃｕ
ａｔｉｎｇ）　、過酸化水素を導入し、少なくともその
個所で、上記滅菌室内で過酸化水素雰囲気を生成するよ
うに蒸発し、所要の滅菌を達成するのに充分な期間で、
過酸化水素の蒸気圧以下に上記滅菌室内圧を維持するこ
とにより遂行される。本出願人は本発明の超低圧におい
て、室温でかつ過酸化水素の低濃度でも滅菌が数時間よ
り更に短い時分の内に達成されるような、過酸化水素の
胞子撲滅活性が、予想外にかつドラマティックに増進さ
れることを発見した。ここでは、滅菌速度の非常に素晴
らしい改善が、過酸化水素の噴射後の滅菌室の圧力が過
酸化水素溶液の蒸気圧以下に維持されている時にも、通
常帯られることが認められる。

本発明では、熱の発生あるいは適用なしに、過酸化水素
の低濃度での素早い滅菌が達成されるこの滅菌方法を用
いることで、従来の蒸気プロセスの制約をさけることが
できる。そこで、ここに例示した装置が、滅菌のために
使用されるが、材料の広い範囲のものが、上記方法で安
全に滅菌できる。

発明の詳細な説明 本発明のプロセスは、幾つかの重要な関係において、従
来の過酸化水素滅菌プロセスは相違している。先ず、滅
菌室は従来の過酸化水素滅菌プロセスに通常用いられる
圧力より相当低い超低圧で最初に掃気される（ｅｖａｃ
ｕａｔｅｄ　）　、以下で述べられるように、この初期
低圧は胞子撲滅活性の重要な増進をもたらす。

次に、滅菌プロセスを推進するのに温度の上昇あるいは
液膜での過酸化水素の濃度に依存する従来のプロセスに
対比して、本発明のプロセスは室温でかつ完全な気相で
取り扱われる。このプロセスの追加的な利点は、過酸化
水素が低濃度であって、気相での滅菌剤の維持され、滅
菌されるべき対象物での過酸化水素の残留が最小になる
ことである。更に、本発明のプロセスは、プロセス中に
いかなる加熱使用もなしに、数時間より短い数分の中で
滅菌を達成できる。これは、勿論、上記プロセスの重要
な利点が、通常４０℃以下の比較的低温で遂行されるよ
うに、熱の適用によって推進されることを否定するもの
ではない。

本発明のプロセスにおいて、滅菌されるべき物品は滅菌
室内に置かれ、上記滅菌室は閉じられ、約２０トール以
下に、好ましくは１．０トール以下に上記滅菌室内の圧
力を減らすように、真空引きされる。過酸化水素の水溶
液は上記掃気された滅菌室内に噴射され、蒸発され、こ
れによって滅菌すべき物品は、上記滅菌室内圧が約３０
トール以下、好ましくは１５トール以下に維持される間
に過酸化水素蒸気に触れる。上記過酸化水素蒸気は、完
全な滅菌がなされるのに充分な期間で、滅菌されるべき
物品に接触を維持される。

このプロセスによって滅菌されるべき物品は、例えば酸
化エチレンのようなガス媒体によって滅菌されたパッケ
ージ製品に通常用いられる種々の材料でパッケージされ
てもよい。これに適した材料は、商標名″ＨＹＬＡＲ”
のもとで一般に用いられているポリエチレン　テレフタ
レートによる商標名”ＴＹＶＥＫ’”のもとで一般に用
いられている通気性紡８１　（ｓｐｕｎｂｏｎｄｅｄ）
ポリエチレンあるいは“ＴＹＶＥＫ”の組成物である。

他の同様なパッケージ材料もまた使用されてもよい。

今、第１図をみるに、そこには本発明を実施するのに用
いられる適当な滅菌装置が概略的に図解されている。上
記装置は、滅菌されるべき物品を導入することができる
扉１０を有する滅菌室２０を具備している。上記滅菌室
には、又、過酸化水素および滅菌空気の供給源に接続さ
れたガス人口１１および上記滅菌室を掃気するための真
空ポンプ１３に接続された出口１２がある。このプロセ
スで用いられる適当な真空ポンプは、レイボルドーへり
ヤス　モデルＤ８Ａのロータリーベーンポンプである。

上記ガス人口１１のボート１４は滅苗室２０内へ過酸化
水素水溶液を導入できるようにしである。本発明のシス
テムは、また、上記滅菌室内の温度を連続的にモニター
するのに温度センサ／レコーダ１５を具備している。こ
こではサーモカップルのような温度を感知する適当な装
置が用いられるとよい。二重素子変換器１５　（ｄｕａ
ｌｅｌｅｍｅｎｔ　ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）　、バルブ
１７、バルブ制御器１８および出力供給読取器１９より
なる圧力制御システムがライン１２に配置されている。

上記変換器は１つの素子で１０から１０００トールまで
、他の素子で１０−″から１０トールまでの室内圧力を
モニターする。上記圧力制御システムの適当な構成部材
は、ＭＫＳモデル２２２ＣＡ−０１０００ＡＢおよびモ
デル２２２ＣＡ　−０００１０Ａ　Ｂの変換器、ＭＫＳ
モデル２５３Ａ−１−４０−１−３Ｐスロットルバルブ
、ＭＫＳモデル２５２Ａ−ＭＳＯ−４バルブ制御器、お
よびＭＫＳ　　ＰＤＲ−Ｃ−２Ｃ出力供給読取器である
。

好ましい形として、本発明のプロセスでは、過酸化水素
の溶液は滅菌のための蒸発を促進するため、高度に掃気
された滅菌室内へ噴射される。上記過酸化水素は、好ま
しくは、過酸化水素の約１０から７０重量％をいれてお
り、約３０％から５０％になった最も好ましい濃度の水
溶液の形になっている。上記プロセスの成果が、上記溶
液中の過酸化水素の濃度が増加するのを是認するのであ
るなら、より高濃度の溶液による重要な取扱い上の問題
があることになる。したがって、３０％から５０％の溶
液が、このプロセスで用いられるのが有効で、かつ最も
好ましいのである。上記滅菌室内の過酸化水素蒸気の濃
度は、通常、室内容積の１リツター当たり過酸化水素０
．１から１０ミリグラムの範囲にある。上記過酸化水素
の高濃度は、より短い滅菌時間をもたらす。

本発明のプロセスの通常の操作は次の如くである。

（１）滅菌されるべき対象物あるいは物品は滅菌室に配
置される。

（２）上記滅菌室は約２０トール以下、好ましくは約１
．Ｏトール以下の圧力で掃気される。商用の掃気装置を
取り扱うという実際的な理由で、圧力の有用な下限は約
０．０５から０．１トールである。

（３）過酸化水素の水溶液は上記滅菌室内に噴射され、
上記室内圧力が約３０トール、好ましくは約２０トール
以下に維持される間に、上記過酸化水素雰囲気を生成す
るように蒸発する。上記滅菌室内に噴射される過酸化水
素の量は室内容量の１リツター当たり過酸化水素約０．
１から１０ｍｇを具備するに充分でなければならない。

その好ましい濃度は、リッター当たり過酸化水素約１か
ら５■である。

（４）滅菌されるべき対象物は完全な滅菌を有効ならし
めるに充分な期間、過酸化水素蒸気に接触を維持される
。多くの場合、上記滅菌は２０分かそれ以下で完全であ
る。

全体のプロセスが通常、４０゛Ｃ以下の温度で遂行され
るのであり、はとんどの場合、上記プロセスは室温で遂
行される。上述したように、高い温度では滅菌を達成す
る時間は短縮されるが、しかし、このプロセスでは、従
来のプロセスに比べて、低い温度で、より短いサイクル
時間で有効な滅菌が得られる。

上記滅菌サイクルの完成後、バクテリヤに犯されないフ
ィルターをかけられた空気のような滅菌ガスが入口１１
を介して上記滅菌室内に供給でき、これで、大気圧レベ
ルに圧力を上げ、滅菌された物品の取り出しを可能にす
る。過酸化水素が滅菌されるべき物品に接触するのに、
気相が維持されるような温度および圧力で上記滅菌プロ
セスが取り扱われるので、滅菌された物品あるいはその
パッケージ品から残留過酸化水素を除くのに、滅菌サイ
クルの完成に当たって、長くかつ複雑なステップを必要
としない。

以下の実施例において、上記滅菌サイクルの有効性が、
試験片の上に置かれた初期細菌数（Ｓｏ）に対する生残
りテストでの細菌数（Ｓ）の割合として説明されている
。すべてのテストはベーパディスク上に胞子をおいた“
’Ｔｙｖｅｋ”でパッケージしたビシラス・サブチルス
（ｖａｒ、ｇｌｏｂｉｇｉｉ）上でなされている。

試験片は１２リツターの室内に置かれ、上記滅菌室内は
所要の初期圧力で掃気され、そして、上記室内に過酸化
水素水溶液が噴射され、蒸発される。特定の温度と圧力
のもとで、予め定めた時間、上記蒸気と試験片との間の
接触が維持された後、上記滅菌室内の負圧はフィルター
をかけられた滅菌空気の導入によって解除され、上記試
験片は取り出されて、生き残った細菌数を決定するため
評点される。

実施例■ 一連のテストは本発明の過酸化水素滅菌システムにおけ
る胞子撲滅活性についての種々の初期圧力の効果を決定
するためになされた。

特に、胞子撲滅活性における初期圧力の効果は予め０．
０２５　、　０１．　１．０および５．０トールの初期
圧力で掃気された滅菌室内へ３０％過酸化水素水溶液を
噴射することによって設定された。充分な過酸化水素が
室内における全蒸発が１．０■の過酸化水素濃度をなす
ように噴射された。上記過酸化水素が蒸発された時、僅
かに増加されたシステム中の圧力およびフィルターをか
けられ空気の追加的な量は１０トールの滅菌室圧を達成
するのに必要とされる程度にされた。全滅菌時間は２０
分で、全ての実験は室温で取り扱われた。これらの実験
の結果はテーブルＩに示されるように、システムでの初
期圧力が減少する時、過酸化水素の胞子撲滅活性が増大
し、その最もドラマティックな改善が１．０トール以下
に圧力が減少した時に起こっていることを提示している
。

テーブルＩ 胞子を置いたバシイルス　サブティルス（ｖａｒ。

ｇｌｏｂｉｇｉｉ　）での胞子撲滅活性についての過酸
化水素蒸気の初期圧力の効果 初期圧力　　　最終圧力　　　胞子撲滅活性（トール）
（トール）　　　　　　（Ｓ／５ｏ）０．０２５　　　
　　１０　　　　　　０．００．１　　　　　　１０　
　　　１．Ｉ　Ｘ　１０−’１．０　　　　　　１０　
　　　１．８　Ｘ　１０−’５．０　　　　　　１０　
　　　２．８　ｘ　１０−’上記テーブル■のデータは
第２図にグラフで図示している。

実施例■ 一連の実験は０．１トールの一定の初期圧力での胞子撲
滅活性における滅菌圧の効果を提示するのに遂行された
。各ケースにおいて、充分な３０％過酸化水素溶液が上
記滅菌室に１．０■の過酸化水素の蒸気濃度を生成する
のに導入された。上記Ｈ，Ｏ□溶液は、２分間蒸発され
、拡散され、その後、システムの圧力はフィルターをか
けた滅菌空気によって、滅菌のために必要とされるレベ
ルまで増大された。全てのテストにおいて、過酸化水素
に対する試験片の全露出時間は２分の蒸発および拡散の
時間を含む２０分であり、実験は室温でなされた。これ
らテストの結果はテーブル■に示されている。それらの
データで図示されるように、充分に改善された胞子撲滅
活性は２０トール以下の滅菌圧力で得られる。これらの
圧力は室温で過酸化水素の蒸気圧以下、すなわち、実質
的に１８トールであり、これらの圧力での増大された胞
子撲滅活性は過酸化水素のより完全な蒸発で少なくとも
部分的に満足するはずである。

テーブル■ 胞子をおいたバシイルス　サブティス（ｖａｒ。

ｇｌｏｂｉｇｉｉ）での胞子撲滅活性についての過酸化
水素蒸気の最終圧力の効果 初期圧力　　　最終圧力　　　胞子撲滅活性（トール）
（トール）　　　　　　（Ｓ／５ｏ）０．１　　　　　
、　５０　　　　７．３ｘｌＯ−’０．１　　　　　　
４０　　　　６．９　Ｘ　１０−’０．１　　　　　　
３０　　　　５．４　Ｘ　１０−’０．１　　　　　　
２５　　　　３．５　ｘ　１０−’０．１　　　　　　
２０　　　　２．８　Ｘ　１０−’０．１　　　　　　
１５　　　　６．５　Ｘ　１０−”０．１　　　　　　
１０　　　　１．Ｉ　Ｘ　１０−’０．１　　　　　　
５　　　　４．２　Ｘ　１０−７０．１　　　　　　２
．５　　　　　　０．０上記テーブル■のデータは第３
図にグラフで図示している。

実施例■ 実施例■の手順が、滅菌温度を４０℃に上昇して繰り返
された。４０℃の温度での全ての実験で観察された胞子
撲滅活性（Ｓ／Ｓ６）は零（全殺菌）であり、これは本
発明の低圧滅菌状態での胞子撲滅活性について比較的小
さな温度上昇の積極的効果を提示している。

実施例■ 一連の実験は、滅菌プロセスにおける過酸化水素の濃度
の増加効果を提示するのに遂行された。

上記実施例■の手順が４つの殺菌圧力の変更における３
０％過酸化水素溶液の量についてのみなされた。テーブ
ル■は過酸化水素蒸気が室内容量の１リツター当たり１
．０および２．５■である時の観察結果を示している。

テーブル■ 胞子を置いたバシイルス　サブティス（ｖａｒ。

ｇｌｏｂｉｇｉｉ）での胞子撲滅活性についての過酸化
水素蒸気の効果 最終圧力 （トール）１．０　■＃！　　　　　２．５　■／２５
０　　　　　７．３　Ｘ　１０−’　　　２．２　Ｘ　
１０−’４０　　　　　　　６．９　　ｘ　　１０−’
　　　　１．９　　ｘ　　１０−’３０　　　　　　　
５．４　　ｘ　　１０−’　　　　　　０．０２０　　
　　　　　２．８　　Ｘ　　１０−’　　　　　　０．
０これらのデータは蒸気中における過酸化水素濃度が増
大される時、期待されるように、胞子撲滅活性が増大す
ることを示している。

実施例Ｖ 一連の実験は、滅菌プロセスでの暴露時間、すなわち接
触時間の効果を提示するのに遂行された。

このシリーズでは、実施例■の手順が、３つの最終滅菌
圧力の各変更における滅菌時間についてのみなされた。

テーブルＶは滅菌接触時間が２０分および６０分である
時の観察結果を示している。

テーブルＶ 胞子を置いたバシイルス　サブティス（ｖａｒ。

ｇｌｏｂｉｇｉｉ）での胞子撲滅活性についての滅菌時
間の効果 最終圧力 （トール）　　　２０分　　　　　６０分５０　　　７
．３　Ｘ　１０−’　　　３．７　Ｘ　１０−’４０　
　　　　６．９　　ｘ　　１０−’　　　　　　０．０
３０　　　　　５．４　　Ｘ　　１０−’　　　　　　
０．０上記データは、接触時間、すなわち暴露時間が増
大される時、期待されるように、胞子撲滅活性が増大す
ることを示している。

本発明の超低圧力状態での胞子撲滅活性の素数でかつ予
想外の増進の理由は充分には理解されていないが、しか
し、種々の低初期掃気圧力および滅菌の間に維持される
低圧が過酸化水素滅菌剤溶液を蒸発させる全てではない
にしても、はとんどそうであることを明らかにしている
。加うるに、胞子あるいは微生物がある表面での吸収お
よび排出現象が低圧においてより重要なファクターにな
っており、蒸気プロセスでは過酸化水素蒸気に対して胞
子のより多くの所在が有効に作用されるのである。

なお、本発明は、その特定した実施例を参照して詳述さ
れているが、それは当該技術において種々の変更が可能
であり、その技術範囲を逸脱しない限りにおいて、有効
であることは明らかである。

発明の要約は次の通り １、滅菌室に、滅菌されるべき物品を設置し、約２０ト
ール以下の圧力に上記滅菌室を掃気し、上記滅菌室内に
過酸化水素雰囲気を生成して過酸化水素蒸気を上記物品
に接触し、滅菌室を達成するのに充分な時間で、上記過
酸化水素の蒸気圧以下に上記滅菌室を保持する工程を具
備する蒸気滅菌のプロセス λ　上記物品に接する過酸化水素蒸気の濃度は１リツタ
ー当たり、約０．１から約１０■の範囲にある第１項の
プロセス ３、　上記滅菌室は上記過酸化水素を導入する前に１０
トール以下の圧力で掃気される第１項のプロセス ４、上記過酸化水素は水溶液の形で上記滅菌室に導入さ
れる第１項のプロセス ５、上記溶液での過酸化水素の濃度は約１０％から７０
％である第４項のプロセス ６、上記溶液での過酸化水素の濃度は約３０％から５０
％である第４項のプロセス ７、　上記時間は１時間以下である第１項のプロセス ８、上記滅菌室はプロセスの間、約４０℃以下の温度に
維持されている第１項のプロセス９、上記滅菌室は滅菌
プロセスの間、室温に維持されている第１項のプロセス １０、滅菌室に、滅菌されるべき物品を設置し、約１０
トール以下の初期圧力に上記滅菌室を掃気し、上記滅菌
室に過酸化水素の溶液を導入し、上記過酸化水素溶液を
蒸発し、滅菌されるべき物品に接触し、滅菌を達成する
のに充分な時間で、上記過酸化水素の蒸気圧以下の圧力
および約４０℃以下の温度に上記滅菌室を保持する工程
を具備する蒸気滅菌のプロセス １１、上記過酸化水素は過酸化水素水溶液の形で上記滅
菌室に導入される第１１項のプロセス１２、上記溶液中
の過酸化水素濃度が約３０％から約５０％である第１１
項のプロセス １３、上記滅菌室は１．０トール以下の初期圧力に掃気
される第１０項のプロセス １４、上記物品に接触する過酸化水素蒸気の濃度は上記
滅菌室の容積についてリッター当たり約０．１から約１
０ｎＩｇの範囲にある第１２項のプロセス１５、上記滅
菌室は上記過酸化水素蒸気が上記物品に接触している間
、室温に維持される第１Ｏ項のプロセス １６、上記滅菌室は上記過酸化水素蒸気が上記物品に接
触している間、２０トール以下の圧力に維持される第１
５項のプロセス

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に用いる滅菌装置の概略図、第２図は過
酸化水素の胞子撲滅活性における初期滅菌圧力の効果を
示す実験データのプロットを表したグラフ１５ 第３図は過酸化水素の胞子撲滅活性における実ｌＯ・・
・扉　　　　　１１・・・ガス入口１２・・・出　口　
　　１３・・・真空ポンプ１４・・・ボート　　　　１
５・・・温度センサ／レコーダ１６・・・変換器　　　
　１７・・・バルブ１８・・・バルブ制御器　１９・・
・出力供給読取器２０・・・滅菌室 特許出願人　サーギコス・インコーホレイテッド Ｈｈ　　ρψす 手続補正書（方式）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）滅菌室に、滅菌されるべき物品を設置し、（
   ｂ）約２０トール以下の圧力に上記滅菌室を掃気し、 （ｃ）上記滅菌室内に過酸化水素雰囲気を生成して過酸
   化水素蒸気を上記物品に接触し、 （ｄ）滅菌を達成するのに充分な時間で、上記過酸化水
   素の蒸気圧以下に上記滅菌室を保持することを特徴とす
   る低圧過酸化水素蒸気滅菌システム。 ２、（ａ）滅菌室に、滅菌されるべき物品を設置し、（
   ｂ）約１０トール以下の初期圧力に上記滅菌室を掃気し
   、 （ｃ）上記滅菌室に過酸化水素の溶液を導入し、上記過
   酸化水素溶液を蒸発し、滅菌されるべき物品に接触し、 （ｄ）滅菌を達成するのに充分な時間で、上記過酸化水
   素の蒸気圧以下の圧力および約４０℃以下の温度に上記
   滅菌室を保持する ことを特徴とする低圧過酸化水素蒸気滅菌システム。