JPH10247318A

JPH10247318A - 磁気ディスク及びその製造方法

Info

Publication number: JPH10247318A
Application number: JP5013097A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Kinoshita; 喜裕木下; Osamu Shimomura; 理下村
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-03-05
Filing date: 1997-03-05
Publication date: 1998-09-14

Abstract

(57)【要約】【課題】薄型のカートリッジと組合せて用いるのに好
適な高密度記録のための磁気ディスクを提供する。【解決手段】可撓性非磁性支持体上に非磁性下地層を
設け、その上に比表面積が３５ｍ²／ｇ以上の強磁性金
属粉末を含有する厚さが０．５μｍ以下の磁性層を設け
てなる最大磁束反転密度が３５ｋｆｔｐｉ以上の磁気デ
ィスクであって、厚みが１０〜５０μｍであり、半径方
向のカール比が０．０５以下であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクに関す
るものであり、ヘッドタッチの改善によりエラーが低減
し、電磁変換特性が改善された、特に薄型のカートリッ
ジと組合わせるのに好適な磁気ディスクに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年携
帯用コンピューターの小型化や各種デジタルデータを取
り扱う携帯機器の普及により、そのデータ記録媒体の小
型化及び高密度化が図られている。その一環としてフロ
ッピーディスクの小型化、薄型化及び高密度化が図られ
ているが、ドライブの省電力化・カートリッジ内部の空
間厚み・媒体厚みの薄型化に伴いヘッドタッチの確保が
困難になっている。ヘッドタッチとは、広くは磁気ディ
スクと磁気記録再生ヘッドとの接触具合を意味するが、
主としてその安定性を指す。

【０００３】すなわちヘッドタッチが良好な場合には、
ヘッドと磁気ディスクとのスペーシングが小さく出力が
高くなるだけではなく、その状態が安定している。逆に
ヘッドタッチが充分でない場合には、周期的または非周
期的に起こるヘッドと磁気ディスクとのスペーシングの
増大により、ドロップアウトが起こってエラーが増加し
たり、時には電磁変換特性も下がることになる。一般に
ヘッドタッチの影響は高密度記録になるにつれて大きく
なる。従って本発明は、良好なヘッドタッチ特性を有す
る、薄い高密度記録用の磁気ディスクを提供しようとす
るものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
クは、非磁性可撓性支持体上に非磁性下地層を設け、そ
の上に比表面積が３５ｍ²／ｇ以上の強磁性金属粉末及
び結合剤を含有する厚さが０．５μｍ以下の磁性層を設
けてなる、最大磁束反転密度が３５ｋｆｔｐｉ以上の磁
気ディスクであって、厚さが１０〜５０μｍであり、半
径方向のカール比が０．０５以下であることを特徴とす
るものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において磁気ディスクのカール比は、次のように
して測定する。先ず、磁気ディスクから磁気ディスクの
中心を通る線が中央に来るようにして、長さが磁気ディ
スクの直径の１／３で、幅が磁気ディスクの直径の１／
１５の長方形の試料を切出す。この試料を室温で水平な
台上に２４時間載置したのち、一方の端から１／６の長
さの部分までを水平な支持台上に固定具で支持し、残り
の５／６の長さの部分を非支持状態で１０分間維持し
て、その先端の垂下量（＝支持台表面から先端までの垂
直距離）を測定する。次いで試料を裏返しにして同様に
測定を行い、その垂下量の差の絶対値を磁気ディスクの
直径で除した値をもってカール比とする。測定は５点の
試料について室温で行い、その平均値を採用する。

【０００６】本発明は小型の磁気ディスク、特に現在実
用化が進められつつある直径１．７インチの磁気ディス
クのような直径２インチ以下の磁気ディスクに適用する
のに好適であるが、直径の大きな磁気ディスクにも適用
することができる。本発明に係る磁気ディスクの厚さは
１０〜５０μｍである。厚さが５０μｍを越えると十分
なヘッドタッチが確保できなくなる。また、厚さが１０
μｍ未満では磁気ディスクを良好に回転させるのが困難
となる。磁気ディスクの好ましい厚さは２０〜４０μｍ
である。

【０００７】本発明の磁気ディスクに用いる非磁性可撓
性支持体としては、従来からこの用途に用いることが提
案されているものを用いればよく、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル類、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレ
フィン類、セルロースアセテートなどのセルロース誘導
体、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド等の各
種プラスチック類等が使用できる。中でも優れた機械特
性、耐熱性、電気的特性、耐薬品性などを有している点
よりしてポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナ
フタレート等のポリエステル類が好ましい。

【０００８】しかしこれらのポリエステルフィルムのな
かには、高度に結晶配向されているために非磁性下地層
との接着性に乏しい場合がある。従ってこれらの支持体
は、アルカリ水溶液、アミン水溶液、トリクロロ酢酸、
フェノール類等の表面改質剤による処理を施してから磁
気ディスクの製造に供しても良い。また支持体の厚さ
は、磁気ディスクの厚さが１０〜５０μｍとなる範囲で
あれば任意であるが、通常は９〜４９μｍであり、好ま
しくは１９〜３９μｍである。また支持体のガラス転移
温度は５０〜１２０℃が好ましい。ガラス転移点が５０
℃未満では容易に軟化してしまい、耐久性、特に高温環
境下での耐久性が悪化する。また、ガラス転移点が１２
０℃を越えると高剛性化するためにヘッドタッチの確保
が困難になってくる。

【０００９】また、支持体の表面粗さ（Ｒａ）は１０ｎ
ｍ以下が好ましい。表面粗さ（Ｒａ）が大きくなると、
これが磁性層表面の表面粗さに影響して磁性層表面が粗
面化する。その結果、スペーシングが増大して、低出力
化し、高密度記録に適さなくなる。磁性層に含有させる
強磁性金属粉末は、高密度記録をなしうるように、比表
面積が３５ｍ²／ｇ以上のものを用いる。３５ｍ²／ｇ
未満では磁気ディスクに充分な表面性が得られず、高密
度記録に適さないことがある。また磁性層中の強磁性金
属粉末の充填率も十分に上がらないために高い出力を得
られない。しかし比表面積が大きくなり過ぎて６５ｍ²
／ｇを越えると、磁性層を形成するための磁性塗料中で
の分散性が低下したり、磁気ディスクの耐久性が低下す
ることがある。従って強磁性金属粉末の比表面積は３５
〜６５ｍ²／ｇが好ましい。

【００１０】強磁性金属粉末の平均長軸長は０．５μｍ
以下、特に０．３μｍ以下が好ましい。又、針状軸比は
磁性層における強磁性金属粉末の密度を増加させ、磁気
記録の高密度化をはかるために１２以下が好ましい。磁
性層中の強磁性金属粉末の含有量は、５０〜９０重量
％、特に６０〜７０重量％が好ましい。５０重量％未満
では磁性層中の強磁性金属粉末の充填率が低いために高
い保磁力が得られず、高密度記録に適さなくなる。逆に
９０重量％を越えると磁性塗料中での分散性が低下した
り、磁気ディスクの耐久性が低下することがある。

【００１１】磁性層に含有させる結合剤としては非磁性
下地層との密着性や耐磨耗性に優れるものを使用するの
が好ましい。例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロースアセテートブチレート、セルロースジ
アセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、塩化ビニル−塩化
ビニリデン系共重合体、塩化ビニル−アクリル系共重合
体等の塩化ビニル系樹脂、各種合成ゴム、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂等が用いられる。これらは単独で用
いてもよく、または２種以上を任意の割合で混合して使
用しても良い。結合剤は磁性層中の含有量が通常２〜４
５重量％、特に５〜２５重量％となるようにするのが好
ましい。

【００１２】なお、磁性層を形成する磁性塗料中には、
イソシアネート基を複数個有する低分子ポリイソシアネ
ート化合物を含有させることにより、磁性層内に三次元
網目構造を形成させ、その機械的強度を向上させること
ができる。そのような低分子ポリイソシアネート化合物
としては、例えばトリレンジイソシアネートのトリメチ
ロールプロパン付加体等が用いられる。このような低分
子ポリイソシアネート化合物は、結合剤に対して１０〜
５０重量％の割合で使用するのが好ましい。

【００１３】本発明に係る磁気ディスクの磁性層の厚み
は、高密度記録に際しての自己減磁損失、厚み損失など
の問題を避けるため、０．５μｍ以下である。しかし、
磁性層厚みが０．０１μｍに満たないと磁気ディスクの
耐久性が低下することがあるので、磁性層の厚みは０．
０１μｍ以上、特に０．０５〜０．３μｍであることが
好ましい。また、磁性層中には、必要に応じて、潤滑
剤、研磨剤、分散剤、帯電防止剤等の常用の助剤を含有
させてもよい。潤滑剤としては脂肪族系、フッ素系、シ
リコーン系又は炭化水素系等の各種潤滑剤が使用でき
る。脂肪族系潤滑剤としては、オレイン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸等の脂肪酸、これらとマグネシウム、アルミニウ
ム、ナトリウム、カルシウム等の金属との塩、これらの
ブチルエステル、オクチルエステル、グリセリド等の脂
肪酸エステル、これらのアミドやリノール酸アミド、カ
プロン酸アミド等の脂肪酸アミドなどが用いられる。

【００１４】また、ラウリルアルコール、ステアリルア
ルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコー
ル、オレイルアルコール等の脂肪族アルコールや、ペル
フルオロアルキルポリエーテル、ペルフルオロアルキル
カルボン酸等のフッ素系潤滑剤、シリコーンオイル、変
性シリコーンオイル等のシリコーンオイル系潤滑剤、パ
ラフィン、スクアラン等の炭化水素系潤滑剤も用いられ
る。さらには、二硫化モリブデン、二硫化タングステン
等の固形潤滑剤や、リン酸エステル類等も使用できる。
通常は脂肪酸エステル又はこれと他のもの、例えば脂肪
酸とを併用するのが好ましい。脂肪酸エステル系潤滑剤
は、磁性層中における含有量が０．１〜１５重量％、好
ましくは１〜１５重量％となるように用いられる。潤滑
剤量が少な過ぎると耐久性が不十分となる。また、１５
重量％以上の場合はヘッドが潤滑剤で汚れる危険性があ
る。

【００１５】脂肪酸は磁性層中における含有量が０．１
〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％となるように用
いられる。脂肪酸の含有量が少ないと走行性が低下しや
すく、逆に多過ぎると耐久性劣化や出力低下が生じやす
くなる。研磨剤としては、アルミナ、コランダム、炭化
珪素、酸化クロム、窒化珪素等の硬度の高いものがよ
い。また、研磨剤の平均粒子径は０．６μｍ以下である
ことが好ましい。研磨剤は、磁性層中における含有量が
１〜１５重量％の範囲となるように用いるのが好まし
い。分散剤としては、カプリン酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、オレイン酸、リノール酸等の炭素数１０〜１８
の脂肪酸やこれらのアルカリ金属塩またはアルカリ土類
金属塩からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。分
散剤は、通常、磁性層中の含有量が０〜５重量％となる
ように用いられる。

【００１６】帯電防止剤としては、カーボンブラック、
金属およびその導電性化合物や酸化物、サポニン等の天
然界面活性剤、アルキレンオキサイド系、グリセリン系
等のノニオン界面活性剤、高級アルキルアミン類、第４
級アンモニウム塩類、ピリジニウム塩類その他の含窒素
複素環塩類等のカチオン界面活性剤、カルボン酸基、ス
ルホン酸基、燐酸基、硫酸エステル基、燐酸エステル基
等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類等の両性界面活性剤等が使用される。これら
の界面活性剤は、単独で用いてもよく又は混合して用い
てもよい。

【００１７】これらのなかでカーボンブラックとして
は、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマ
ルブラック等が用いられる。具体例としては、キャボッ
ト社製のＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１００
０、９００、８００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、コロ
ンビアンカーボン社製のＲＡＶＥＮ８８００、８００
０、７０００、三菱化学社製の＃３７５０Ｂ、＃３７５
０、＃３２５０Ｂ、＃３２５０、＃９５０、＃８５０
Ｂ、＃６５０Ｂ、＃４５、＃４０、＃５、ＭＡ−７７、
ＭＡ−７等などがあげられる。これらのカーボンブラッ
クは、単独で又は複数組み合わせて用いることができ
る。また、カーボンブラックの表面を分散剤等で処理し
たり、一部をグラファイト化して用いてもよい。

【００１８】また、金属及びその導電性化合物や酸化物
としては、酸化スズ、インジウムスズ酸化物等を用いる
ことができる。帯電防止剤は、通常、磁性層中の含有量
が０．１〜１０重量％の範囲となるように用いられる。
なお、上記の説明からも明らかなように、一つの添加剤
がいくつもの効果を発揮することもある。磁性層を構成
する上述の各成分は、溶剤と混合し、混練、分散させて
磁性塗料とする。混練、分散はボールミルなど常用の装
置を用いて行うことができる。溶剤としては、例えばメ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ヘキサン等の脂肪族炭化水素など従来公知の溶剤が
挙げられる。

【００１９】本発明では、可撓性非磁性支持体上に非磁
性下地層を介して磁性層を設ける。磁性層の下に非磁性
下地層を設けることにより、導電性の付与と潤滑剤の保
持によりエラーの低減や耐久性が向上する。非磁性下地
層の厚みは０．１μｍ以上が好ましく、特に０．２〜
５．０μｍが好ましい。非磁性下地層は主として結合剤
と非磁性粒子とで構成する。非磁性粒子としては、金属
酸化物、金属炭酸塩、金属窒化物、金属炭化物などの無
機化合物及びカーボンブラックなどが用いられる。無機
化合物としてはグラファイト、酸化チタン、α−酸化
鉄、α−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、二酸化ケ
イ素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウ
ム、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、
二硫化モリブデンなどが挙げられる。この中で好ましい
のは二酸化チタン、α−酸化鉄、硫酸バリウム、炭酸カ
ルシウム、α−アルミナであり、更に好ましいのは二酸
化チタン、α−酸化鉄である。これらの非磁性粒子の形
状は針状、球状、多面体上、板状のいずれでも良い。こ
れらの非磁性粒子は所望により表面処理して用いてもよ
く、表面処理方法としては、従来から知られている方
法、例えば焼結防止の為の表面処理等で良い。

【００２０】カーボンブラックとしてはアセチレンブラ
ック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が用い
られる。具体例としては、キャボット社製のＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ２０００、１０００、９００、８００、
ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、Ｍｏｇｕｌ−Ｌ、コロンビ
アンカーボン社製のＲＡＶＥＮ８８００、８０００、
７０００、三菱化学社製の＃３７５０Ｂ、＃３７５０、
＃３２５０Ｂ、＃３２５０、＃９５０、＃８５０Ｂ、＃
６５０Ｂ、＃４５、＃４０、＃５、ＭＡ−７７、ＭＡ−
７等などがあげられる。また、カーボンブラックの表面
を分散剤等で処理したり、一部をグラファイト化して用
いてもよい。通常はカーボンブラック又はこれと他のも
のとを併用する。

【００２１】結合剤としては可撓性非磁性支持体との密
着性や耐摩耗性に優れ、ガラス転移点が−１００〜１５
０℃、数平均分子量１０００〜１５００００程度のもの
を使用するのが好ましい。例えば、ポリウレタン樹脂、
ポリエステル樹脂、セルロースアセテートブチレート、
セルロースジアセテート、ニトロセルロース等のセルロ
ース誘導体、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、塩化
ビニル−塩化ビニリデン系共重合体、塩化ビニル−アク
リレート系共重合体等の塩化ビニル系樹脂、スチレン−
ブタジエン共重合体等の各種合成ゴム、エポキシ樹脂、
フェノキシ樹脂等が用いられ、これらは単独で又は２種
以上混合して使用することができる。結合剤は、非磁性
下地層中の含有量が２〜５０重量％、特に５〜３５重量
％となるように使用するのが好ましい。非磁性下地層に
は、上述の非磁性粒子と結合剤のほかに、所望により架
橋剤、潤滑剤、分散剤などを含有させてもよい。

【００２２】これらの添加剤としては先に磁性層の添加
剤として説明したものを用いることができ、例えば潤滑
剤として脂肪酸エステルを含有させる。非磁性下地層を
構成する各成分は溶剤と混合し、混練、分散させて非磁
性下地層用の塗料とする。溶剤は磁性塗料の溶剤として
説明したものを用いることができ、また混練、分散も磁
性塗料の調製と同様に行うことができる。本発明に係る
磁気ディスクは、可撓性非磁性支持体上に上述の非磁性
下地層用の塗料及び磁性塗料を順次塗布して製造され
る。塗布方法としては、エアードクターコーティング、
ブレードコーティング、リバースロールコーティング、
グラビアコーティングなど常用の各種の方法を用いるこ
とができる。磁性層は非磁性下地層が湿潤状態のうちに
塗布してもよく、又は乾燥させてから塗布してもよい。

【００２３】また非磁性下地層及び磁性層を塗布後、可
撓性非磁性支持体に、６０℃以上の温度で０．１ｋｇ／
ｃｍ〜５ｋｇ／ｃｍ、好ましくは０．３ｋｇ／ｃｍ〜３
ｋｇ／ｃｍの張力をかける工程を行うことによりカール
比を小さくすることが出来る。温度が低い場合には張力
をかける効果がでず、また張力が低い場合もその効果は
わずかである。また、張力を５ｋｇ／ｃｍよりも高くす
ると可撓性非磁性支持体自身が切れたり、走行方向に皺
ができたりすることがある。この張力をかける工程は塗
布・乾燥・カレンダー・スリット・打ち抜きという従来
の磁気ディスク製造プロセスにおいていずれの工程間に
設けても効果を奏するが、特に打ち抜き前またはカレン
ダーの前に設けるのがよい。

【００２４】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例に制限されるものではない。なお、実施例中
「部」の表示は「重量部」を表す。また、磁気ディスク
の評価項目中、出力は、磁気ディスクを厚さ２ｍｍの薄
型カートリッジに納め、スピンスタンドにてＭＩＧヘッ
ドを使用し、書き込み周波数５００ｋＨｚにて回転数４
５０ｒｐｍ、測定位置Ｒ１２ｍｍにて測定した数値であ
り、実施例１の出力を１００％とする相対値で表示し
た。

【００２５】ヘッドタッチは、上記スピンスタンドにて
ガラスヘッドを使用し、回転数４５０ｒｐｍ、測定位置
Ｒ２１ｍｍにて、ヘッド底部と磁気ディスク表面で白色
光を反射させることによって生じる干渉縞を観察するこ
とによって、浮上高さとヘッドタッチの安定性を◎・○
・△・×の４段階で評価した。ヘッドタッチが安定で３
分間の走行中に干渉縞の乱れが２回以内であった場合を
◎とし、同様に５回以内を○、またヘッドタッチが不安
定で干渉縞が安定せず絶えず揺らいでいる場合を△、そ
して１周に１回以上の干渉縞の乱れがあり、良好なヘッ
ドタッチを得られない場合を×とした。

【００２６】耐久性は、上記スピンスタンドにて温度２
５℃、湿度５０％ＲＨの雰囲気にて、回転数４５０ｒｐ
ｍ、測定位置Ｒ１２ｍｍにて４８時間走行させた後、出
力を測定し、走行前の出力を１００として評価した。ま
た、非磁性下地層用塗料及び磁性層用の磁性塗料は下記
により調製した。

【００２７】非磁性下地層用塗料の調製；表１の各成分
を配合して混練したのちサンドミルで分散処理した。得
られた分散液にポリイソシアネート（トルエンジイソシ
アネートのトリメチロールプロパン付加体、三菱化学社
製ＡＤ３０）を６部加え、３μｍの平均孔径を有する
フィルターで濾過して非磁性下地層用塗料とした。

【００２８】

【表１】表１非磁性下地層用塗料の組成カーボンブラック（BET 法による比表面積＝138m²/g,DBP 吸収量＝60ml/100g,平均粒径24nm) １００部ポリエステルポリウレタン樹脂２０部トリデシルステアレート３部オレイン酸２部メチルエチルケトン３００部シクロヘキサノン１００部

【００２９】磁性層用磁性塗料の調製；表２の各成分を
配合して混練したのちサンドミルで分散処理した。得ら
れた分散液にポリイソシアネート（ＡＤ３０）を５部加
え、１μｍの平均孔径を有するフィルターで濾過して磁
性塗料とした。

【００３０】

【表２】表２磁性層用磁性塗料の組成強磁性金属粉末１００部塩化ビニル系共重合体１５部ポリエステルポリウレタン樹脂４部 α−アルミナ１０部カーボンブラック８部トリデシルステアレート９部オレイン酸１部メチルエチルケトン２８０部シクロヘキサノン１２０部

【００３１】実施例１〜７及び比較例１〜６可撓性非磁性支持体に非磁性下地層用塗料を乾燥厚さが
０．７μｍとなるように塗布し、０．３ｋｇ／ｃｍの張
力をかけた状態で８０℃の乾燥機で数分間乾燥させた。
この非磁性下地層の上に磁性層用磁性塗料を乾燥厚さが
０．３μｍとなるように塗布し、同じく０．３ｋｇ／ｃ
ｍの張力をかけた状態で乾燥機で８０℃で数分間乾燥さ
せた。このものを８０℃、約３３０ｋｇ／ｃｍでカレン
ダー処理したのち、直径１．７インチのディスク状に打
抜いた。これを支持台上に水平に置き、５０℃の雰囲気
中で４８時間静置して両面に磁性層を有する磁気ディス
クとした。結果を表３に示す。

【００３２】

【表３】

【００３３】強磁性金属粉末Ａ：Fe/Co=85/15 （原子比）、σ_S＝150emu/g 、Hc=1700 Oe 、 BET 法による比表面積42m²/g Ｂ：Fe/Co=85/20 、σ_S＝140emu/g 、Hc=1750 Oe 、BET 法による比表面積58m²/g Ｃ：σ_S＝144emu/g 、Hc=1500 Oe 、BET 法による比表面積33m² /g 可撓性非磁性支持体Ａ：ガラス転移温度６５℃、厚さ３２μｍ、表面粗さ(Ra) ７ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルムＢ：ガラス転移温度６５℃、厚さ４５μｍ、表面粗さ(Ra) ７ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルムＣ：ガラス転移温度４３℃、厚さ３２μｍ、表面粗さ(Ra) ８ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルムＤ：ガラス転移温度１３０℃、厚さ３２μｍ、表面粗さ (Ra)７ｎｍのポリイミドフィルムＥ：ガラス転移温度６５℃、厚さ３２μｍ、表面粗さ(Ra) １３ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルムＦ：ガラス転移温度６５℃、厚さ６２μｍ、表面粗さ(Ra) ７ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルムＧ：ガラス転移温度６５℃、厚さ６．４μｍ、表面粗さ (Ra)７ｎｍのポリエチレンテレフタレートフィルム＊１乾燥機内での乾燥を０．０５ｋｇ／ｃｍの張力をかけた状態で行った。＊２カレンダー処理後、ロール状に巻いた状態で５０℃で４８時間静置してから直径１．７インチのディスク状に打抜いた。＊３磁性層の乾燥厚みが１．０μｍとなるように磁性塗料を塗布した。＊４可撓性非磁性支持体上に非磁性下地層を設けずに磁性層を形成した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】可撓性非磁性支持体上に非磁性下地層を
設け、その上に比表面積が３５ｍ²／ｇ以上の強磁性金
属粉末及び結合剤を含有する厚さが０．５μｍ以下の磁
性層を設けてなる最大磁束反転密度が３５ｋｆｔｐｉ以
上の磁気ディスクであって、厚さが１０〜５０μｍであ
り、半径方向のカール比が０．０５以下であることを特
徴とする磁気ディスク。
【請求項２】可撓性非磁性支持体がガラス転移温度が
５０〜１２０℃、表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下の樹
脂フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の磁
気ディスク。
【請求項３】長尺状可撓性非磁性支持体上に非磁性下
地層及び磁性層を塗布により設け、６０℃以上の温度で
０．１〜５ｋｇ／ｃｍの張力をかける工程を経た後にデ
ィスク形状とすることを特徴とする請求項１又は２に記
載の磁気ディスクの製造方法。