JPH1022371A - 試料固定装置 - Google Patents

試料固定装置

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JPH1022371A
JPH1022371A JP17369196A JP17369196A JPH1022371A JP H1022371 A JPH1022371 A JP H1022371A JP 17369196 A JP17369196 A JP 17369196A JP 17369196 A JP17369196 A JP 17369196A JP H1022371 A JPH1022371 A JP H1022371A
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JP
Japan
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sample
carrier
stage
fixing
sample carrier
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Pending
Application number
JP17369196A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Kunioka
達也 國岡
Nobuo Shimazu
信生 島津
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の課題は、試料または試料キャリアの固
定に際し曲げ応力または水平応力を蓄積せず、XYステ
ージの運動時に試料、試料キャリア、XYステージの三
者の相対位置変化の生じない試料固定装置を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明は、試料1を装填した試料キャリア
2をXYステージ3に固定する試料固定装置において、
前記試料1と前記試料キャリア2間および前記試料キャ
リア2と前記XYステージ3間を固定する絶縁膜5,8
と双極型電極6,9からなる静電チャック4,7を設け
たことを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば荷電ビーム描
画装置等において、試料を装填した試料キャリアをXY
ステージに固定する試料固定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多種類の試料に描画する荷電ビーム描画
装置では、図4に示すように試料1を装置外でトレー状
の試料キャリア2に手動で装填し、荷電ビーム装置内で
は試料1と試料キャリア2を一体として搬送し、最終的
に描画用XYステージ3上に試料1を試料キャリア2ご
と固定するキャリア試料ハンドリングが採用されてい
る。
【0003】荷電ビーム描画装置では試料1の位置をレ
ーザー干渉測長計で測定してこれをシステムにフィード
バックすることによって描画位置精度を保証している
が、実際の荷電ビーム描画装置では図5に示すように、
レーザー干渉測長計用の移動鏡12は試料1にではなく
XYステージ3の端に取り付けられているためXYステ
ージ3上での試料の位置ずれ、すなわちXYステージ3
が運動したときの試料1とXYステージ3の相対位置の
変化はレーザー干渉測長計では測れず描画位置誤差とな
る。したがって、試料1はXYステージ3に確実に固定
されなければならない。
【0004】キャリア試料ハンドリングを採用した荷電
ビーム描画装置では図5に示すように試料1とXYステ
ージ3の間に試料キャリア2が介在するので、試料1を
試料キャリア2に、試料キャリア2をXYステージ3に
確実に固定してXYステージ3が運動したときに試料
1、試料キャリア2、XYステージ3の三者の相対位置
変化が生じないようにすることが高精度な描画を実現す
る上で重要である。
【0005】従来は図6に示すように試料1の試料キャ
リア2への固定(試料固定)、試料キャリア2のXYス
テージ3への固定(試料キャリア固定)ともにクランプ
や板バネなどの押しつけ力を使用した機械式固定機構1
4が採用されてきた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のクランプや板バ
ネなどを使用した機械式固定機構14では、固定する際
に試料1または試料キャリア2を押さえる機構部材に試
料1または試料キャリア2を水平方向に動かそうとする
曲げ応力や水平応力が蓄積されることは避けられなかっ
た。そのため、これらの蓄積された応力がXYステージ
3の運動に伴う振動によって開放されることにより10
〜30nm程度の「試料1−試料キャリア2間」または
「試料キャリア2−XYステージ3間」の相対位置変化
が生じて描画位置誤差を発生することがあった。
【0007】又、試料または試料キャリアを水平方向に
動かそうとする応力の蓄積を避けるために、試料または
試料キャリアの3点のみを上下からクランプする方法な
ども試みられたが、製造誤差による上下のクランプ位置
のずれによる曲げ応力の発生などにより問題の解決に至
っていない。
【0008】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、試料または試料キャリアの固定に際し曲げ応力また
は水平応力を蓄積せず、したがってXYステージの運動
時に試料、試料キャリア、XYステージの三者の相対位
置変化の生じない試料固定装置を提供することを目的と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、試料を装填した試料キャリアをXYステー
ジに固定する試料固定装置において、前記試料と前記試
料キャリア間および前記試料キャリアと前記XYステー
ジ間を固定する絶縁膜と双極型電極からなる静電チャッ
クを設けたことを特徴とするものである。
【0010】また本発明は、上記試料固定装置におい
て、試料と試料キャリア間および試料キャリアとXYス
テージ間を固定する絶縁膜と双極型電極からなる静電チ
ャックを試料キャリアに設けたことを特徴とするもので
ある。このように本発明における試料固定装置は試料固
定および試料キャリア固定の双方に静電チャックを使用
することを主要な特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態例を詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施
形態例を示す断面図である。図1において、1は試料
(導電性)、2は試料キャリア(導電性)、3はXYス
テージ、4は試料固定用静電チャック(双極型)、5は
絶縁膜、6は電極、7は試料キャリア固定用静電チャッ
ク(双極型)、8は絶縁膜、9は電極、10は直流高圧
電源、11は電気接点、11aは電気接点(キャリア
側)、11bは電気接点(XYステージ側)である。
【0012】図1に示すようにXYステージ3の表面に
2枚の電極9および絶縁膜8からなる双極型の試料キャ
リア固定用静電チャック7を内蔵し、このXYステージ
3の表面に導電性の試料キャリア2を載置して一方の電
極9に直流高電圧10の正極を印加すると共に他方の電
極9に直流高電圧10の負極を印加すれば電極9表面と
試料キャリア2の裏面との間に静電引力(〜1kg/c
2 )が働き、この静電引力によってXYステージ3の
表面(絶縁膜8の表面)と試料キャリア2の裏面の間に
摩擦力が発生するのでXYステージ3上に試料キャリア
2を固定することができる。
【0013】ここでの静電引力は互いに平行な面と面と
の間に働く面力であるので試料キャリア2を水平方向に
動かそうとする曲げ応力や水平応力は静電チャック7の
部材(絶縁膜8、電極9)には蓄積しない。
【0014】よって、XYステージ3の表面に試料キャ
リア固定用静電チャック7を内蔵することによって固定
機構に応力を蓄積せずに試料キャリア2を固定すること
が実現できる。すなわち、XYステージ3の運動時の試
料キャリア2とXYステージ3の相対位置変化が避けら
れる。
【0015】同様に試料キャリア2の表面に2枚の電極
6および絶縁膜5からなる双極型の試料固定用静電チャ
ック4を内蔵し、この試料キャリア2の表面に導電性の
試料1を載置して一方の電極6に直流高電圧10の正極
を印加すると共に他方の電極6に直流高電圧10の負極
を印加すれば電極6表面と試料1の裏面との間に静電引
力(〜1kg/cm2 )が働き、この静電引力によって
試料キャリア2の表面(絶縁膜5の表面)と試料1の裏
面の間に摩擦力が発生するので試料キャリア2上に試料
1を固定することができる。
【0016】ここでの静電引力は互いに平行な面と面と
の間に働く面力であるので試料1を水平方向に動かそう
とする曲げ応力や水平応力は静電チャック4の部材(絶
縁膜5、電極6)には蓄積しない。
【0017】よって、試料キャリア2の表面に試料固定
用静電チャック4を内蔵することによって導電性の試料
1を試料キャリア2上に固定機構に応力を蓄積せずに固
定することができ、XYステージ運動時の試料1と試料
キャリア2の相対位置変化を回避できる。ただし、試料
キャリア2は装置外からXYステージ3上に搬送される
ので2枚の電極6に直接結線して直流高電圧を印加する
ことはできない。そのため、2枚の電極6には電気接点
11を介在して直流高圧電源10から直流高電圧が印加
される。
【0018】図2は本発明の第2の実施形態例を示す斜
視図である。図2は試料キャリア固定用静電チャック7
をXYステージ3の表面に内蔵し、かつ機械式試料補助
固定機構13を用いた場合の実施形態例の構成図であ
る。図2において、1は試料(導電性)、2は試料キャ
リア(導電性)、3はXYステージ、4は試料固定用静
電チャック(双極型)、7は試料キャリア固定用静電チ
ャック(双極型)、10は直流高圧電源、11aは電気
接点(キャリア側)、11bは電気接点(XYステージ
側)、12はレーザー干渉測長計用移動鏡、13は機械
式試料補助固定機構である。
【0019】以上のように構成された本発明の第2の実
施形態例についてその動作を説明する。試料1は装置外
で試料キャリア2にクランプや板バネなどの機械式試料
補助固定機構13を使って手動で仮止めされる。この機
械式試料補助固定機構13は試料キャリア2がXYステ
ージ3上に搬送され試料固定用静電キャック4に給電可
能となるまでの間、試料1が試料キャリア2上で動かな
いようにするのが目的であるので押さえる力は弱くて良
い。さらに言えば、仮に動いたとしてもその量がXYス
テージ3に載置されたときに試料1の位置検出が可能な
範囲内であれば問題はない。
【0020】試料1が機械式試料補助固定機構13によ
り仮止めされた試料キャリア2は荷電ビーム描画装置の
ロードロック室に手動で装填され、真空引き後、XYス
テージ3上までオートローダーによって搬送される。X
Yステージ3上に試料キャリア2が載置されると試料キ
ャリア固定用静電チャック7に直流高圧電源10から給
電され試料キャリア2はXYステージ3に確実に固定さ
れる。この場合、直流高圧電源10の電圧+Eは試料キ
ャリア固定用静電チャック7の一方の電極9に印加さ
れ、直流高圧電源10の電圧−Eは試料キャリア固定用
静電チャック7の他方の電極9に印加される。
【0021】試料キャリア2がXYステージ3上に固定
されることによって試料キャリア側の電気接点11aと
XYステージ側の電気接点11bが接触接続するので、
試料固定用静電チャック4はこれらの接点11a、11
bを経由して直流高圧電源10に接続される。試料固定
用静電チャック4に直流高圧電源10から給電すること
により試料1は試料キャリア2に確実に固定される。こ
の場合、直流高圧電源10の電圧+Eは試料固定用静電
チャック4の一方の電極6に印加され、直流高圧電源1
0の電圧−Eは試料固定用静電チャック4の他方の電極
6に印加される。
【0022】ここで使用した機械式試料補助固定機構1
3には試料1を水平方向に動かそうとする応力が多少蓄
積されるが、この応力は試料固定用静電チャック4によ
る固定力に比べて十分に小さいのでXYステージ3の運
動時に試料1と試料キャリア2の相対位置変化が生じる
心配はない。
【0023】実際に本実施形態例の構成でXYステージ
3を通常描画時の最大加速度の約3倍の1Gで運動させ
たところ、「試料1−試料キャリア2間」および「試料
キャリア2−XYステージ3間」の相対位置変化は高感
度容量式微小変位計の検出限界の2.5nm以下で全く
観測されなかった。
【0024】図3は本発明の第3の実施形態例を示す断
面図である。図3において、1は試料(導電性)、2は
試料キャリア、3はXYステージ(導電性)、4は試料
固定用静電チャック(双極型)、5は絶縁膜、6は電
極、7は試料キャリア固定用静電チャック(双極型)、
8は絶縁膜、9は電極、10は直流高圧電源、11は電
気接点である。
【0025】上記第1の実施形態例及び第2の実施形態
例では試料キャリア固定用静電チャック7をXYステー
ジ3の表面に内蔵した場合について説明したが、図3に
示すように試料キャリア固定用静電チャック7を試料キ
ャリア2の下面に内蔵し、対向するXYステージ3の表
面を導電性とした場合も全く同様な結果が得られる。た
だし、試料キャリア2は装置外からXYステージ3上に
搬送されるので試料キャリア固定用静電チャック7の2
枚の電極9に直接結線して直流高電圧を印加することは
できない。そのため、2枚の電極9には電気接点11を
介在して直流高圧電源10から直流高電圧が印加され
る。
【0026】以上のように上記実施形態例によれば、試
料を試料キャリア上に、試料キャリアをXYステージ上
に確実に固定することができる。したがって、本実施形
態例は荷電ビーム描画装置の描画位置精度の向上に寄与
することができる。
【0027】尚、上記実施形態例では機械式試験補助固
定機構13を使用する場合について説明したが、接点付
き電気ケーブルや接点付きロードアームなどを使用して
装置外で試料1が試料キャリア2に装填されてから試料
キャリア2がXYステージ3まで搬送される間も試料固
定用静電チャック4に給電できる構造とすれば機械式試
料補助固定機構13が不要となることは明らかである。
【0028】又、上記実施形態例では静電チャックに双
極型を使用したが単極型をはじめとするその他の型式の
静電チャックを用いても実現可能であることは明らかで
ある。
【0029】この場合、単極型の静電チャックでは試料
と導通を取るために試料表面に針を立てるが、レジスト
などが付着して接触不良を起こすことが多いので双極型
に比べて信頼性が低い。また、針を上下させる機構が必
要となるので構造が複雑となり、この点からも信頼性が
低下する。
【0030】又、上記実施形態例においては試料固定な
らびに試料キャリア固定の双方に静電チャックを使用し
たが、どちらか一方のみに静電チャックを使用しても従
来技術と比較して描画位置精度の向上が期待できること
は言うまでもない。
【0031】尚、上記実施形態例では荷電ビーム描画装
置について説明したが、本発明は荷電ビーム描画装置に
限定されるものではなく、試料を装填した試料キャリア
をXYステージに固定する試料固定装置に用いることが
できるものである。
【0032】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、試料
を装填した試料キャリアをXYステージに固定する試料
固定装置において、前記試料と前記試料キャリア間およ
び前記試料キャリアと前記XYステージ間に絶縁膜と双
極型電極からなる静電チャックを設けたことにより、試
料を試料キャリアしいてはXYステージに確実に固定す
ることができる。また、双極型静電チャックを用いてい
るので試料に直接(高圧電源から)配線する必要がない
ため導通機構が不要である。そのため、実現が容易であ
り、かつ信頼性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態例を示す断面図であ
る。
【図2】本発明の第2の実施形態例を示す斜視図であ
る。
【図3】本発明の第3の実施形態例を示す断面図であ
る。
【図4】荷電ビーム描画装置におけるキャリア式試料ハ
ンドリングを示す説明図である。
【図5】荷電ビーム描画装置におけるキャリア式試料ハ
ンドリングを示す断面図である。
【図6】従来技術である機械式固定機構を示す断面図で
ある。
【符号の説明】
1…試料(導電性)、2…試料キャリア(導電性)、3
…XYステージ、4…試料固定用静電キャック(双極
型)、5…絶縁膜、6…電極、7…試料キャリア固定用
静電チャック(双極型)、8…絶縁膜、9…電極、10
…直流高圧電源、11…電気接点、11a…電気接点
(キャリア側)、11b…電気接点(XYステージ
側)、12…レーザー干渉測長計用移動鏡、13…機械
式試料補助固定機構。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料を装填した試料キャリアをXYステ
    ージに固定する試料固定装置において、前記試料と前記
    試料キャリア間および前記試料キャリアと前記XYステ
    ージ間を固定する絶縁膜と双極型電極からなる静電チャ
    ックを設けたことを特徴とする試料固定装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の試料固定装置において、
    試料と試料キャリア間および試料キャリアとXYステー
    ジ間を固定する絶縁膜と双極型電極からなる静電チャッ
    クを試料キャリアに設けたことを特徴とする試料固定装
    置。
JP17369196A 1996-07-03 1996-07-03 試料固定装置 Pending JPH1022371A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013534049A (ja) * 2010-06-08 2013-08-29 アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド 加熱環状チャック
CN111413340A (zh) * 2016-08-29 2020-07-14 爱威科技股份有限公司 加样装置及样本检测系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05198663A (ja) * 1992-01-21 1993-08-06 Hitachi Ltd 試料搬送ホルダ
JPH05259048A (ja) * 1992-03-09 1993-10-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05198663A (ja) * 1992-01-21 1993-08-06 Hitachi Ltd 試料搬送ホルダ
JPH05259048A (ja) * 1992-03-09 1993-10-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013534049A (ja) * 2010-06-08 2013-08-29 アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド 加熱環状チャック
CN111413340A (zh) * 2016-08-29 2020-07-14 爱威科技股份有限公司 加样装置及样本检测系统
CN111413340B (zh) * 2016-08-29 2024-05-28 爱威科技股份有限公司 加样装置及样本检测系统

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