JPH05259048A - 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置 - Google Patents

試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Info

Publication number
JPH05259048A
JPH05259048A JP8592592A JP8592592A JPH05259048A JP H05259048 A JPH05259048 A JP H05259048A JP 8592592 A JP8592592 A JP 8592592A JP 8592592 A JP8592592 A JP 8592592A JP H05259048 A JPH05259048 A JP H05259048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
plate
spacer
stage
mounting surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8592592A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuo Shimazu
信生 島津
Tatsuya Kunioka
達也 國岡
Yuji Takeda
有司 武田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP8592592A priority Critical patent/JPH05259048A/ja
Publication of JPH05259048A publication Critical patent/JPH05259048A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 板状試料に対する試料加工用装置および試料
搬送用装置、あるいは試料搬送・加工用装置において、
試料加工用ステ―ジ上で板状試料の厚さが異なっても、
上面が同じ高さに位置するようにする。 【構成】 板状試料2は板状スペーサ3を用いて試料加
工用ステージ1上に配される。該ステージ内に試料載置
面1aに沿って第1電極層5を配し、スペーサ3の下面
上に平行に第2電極層6を、またスペーサの上面側に平
行に第3電極層7を配する。第1電極層5と導電性環体
9間に高圧電源8を接続すれば、第1と第2電極層5,
6間に静電吸引力が生じ、板状スペーサ3はステージ1
の試料載置面1a上に静電吸着固定保持される。また試
料2と第3電極層7間にも静電吸引力が働き試料はスペ
ーサ上面に静電吸着保持され、従ってステージの試料載
置面上に固定される。試料の厚さに応じた厚さのスペー
サを用いれば、試料厚さが異っても載置面から同じ高さ
に位置するよう固定できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、板状試料を電子ビ―ム
によって露光させるために試料加工用ステ―ジ上に固定
保持させるのに適用し得る試料加工用装置、板状試料を
電子ビ―ムによって露光させるために試料搬送用ステ―
ジを用いて試料加工用ステ―ジ上に搬送させるのに適用
し得る試料搬送用装置、及び板状試料を電子ビ―ムによ
って露光させるために試料搬送用ステ―ジを用いて試料
加工用ステ―ジ上に搬送させ且つその板状試料を試料加
工用ステ―ジ上に固定保持させるのに適用し得る試料搬
送・加工用装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、板状試料を平らな試料載置面を有
する試料加工用ステ―ジ上に固定保持させるようにした
試料加工用装置が種々提案されている。しかしながら、
従来の試料加工用装置の場合、板状試料を、試料加工用
ステ―ジの試料載置面上に、厚さが異なっても、上面が
試料載置面からみて同じ高さ位置に位置するように固定
保持させることができず、従って板状試料を加工するの
に不都合が生ずる、などの欠点を有していた。
【0003】また、従来、板状試料を、平らな試料載置
面を有する試料搬送用ステ―ジを用いて、平らな試料載
置面を有する試料加工用ステ―ジ上に搬送させるように
した試料搬送用装置も種々提案されている。しかしなが
ら、従来の試料搬送用装置の場合、板状試料を、試料加
工用ステ―ジの試料載置面上に搬送された状態でみて、
厚さが異なっても、上面が試料加工用ステ―ジの試料載
置面からみて同じ高さ位置に位置するように、試料加工
用ステ―ジ上に搬送させることができず、従って、板状
試料を加工するのに不都合が生ずる、などの欠点を有し
ていた。
【0004】さらに、従来、板状試料を、平らな試料載
置面を有する試料搬送用ステ―ジを用いて、平らな試料
載置面を有する試料加工用ステ―ジ上に搬送させ且つそ
の板状試料を試料加工用ステ―ジ上に固定保持させるよ
うにした試料搬送・加工用装置も種々提案されている。
しかしながら、従来の試料搬送・加工用装置の場合、板
状試料を、試料加工用ステ―ジ上に搬送された状態でみ
て、厚さが異なっても、上面が試料加工用ステ―ジの試
料載置面上でみて同じ高さ位置に位置するように試料加
工用ステ―ジ上に搬送させることができないとともに、
板状試料を、試料加工用ステ―ジ上に、厚さが異なって
も、上面が試料加工用ステ―ジの試料載置面上でみて同
じ高さに位置するように保持させることができず、従っ
て、板状試料を搬送・加工するのに不都合が生ずる、な
どの欠点を有していた。
【0005】よって、本発明は、上述した欠点のない、
試料加工用装置、試料搬送用装置、及び試料搬送・加工
用装置を提案せんとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による試料加工用
装置は、(i)平らな試料載置面を有する試料加工用ス
テ―ジと、(ii)上記試料加工用ステ―ジの上記試料
載置面上に、板状試料を、その上面が上記試料載置面か
らみて予定の高さ位置に位置するように配するための、
絶縁材でなる板状スペ―サと、(iii)上記板状スペ
―サを上記試料加工用ステ―ジの試料載置面上に静電吸
着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板状スペ―サ上
に静電吸着固定させるための静電吸着固定保持手段とを
有し、そして、(iv)上記静電吸着固定保持手段が、
上記試料加工用ステ―ジ内にその試料載置面に沿って延
長するように配されている第1の電極層と、上記板状ス
ペ―サ内の下面側または上記板状スペ―サの下面上に、
その下面に沿って延長するように配されている第2の電
極層と、上記板状スペ―サ内の上面側に、その上面に沿
って延長するように配され且つ上記第2の電極層と互に
接続されている第3の電極層と、上記第1の電極層に接
続される高圧電源とを有する。
【0007】この場合、上記板状スペ―サに、上記板状
試料をその上面周辺部において上記板状スペ―サ側に押
付けている導電性環体が取付けられているのを可とす
る。
【0008】本発明による試料搬送装置は、(i)平ら
な試料載置面を有する試料搬送用ステ―ジと、(ii)
上記試料搬送用ステ―ジの上記試料載置面上に、板状試
料を、その上面が上記試料載置面からみて予定高さ位置
に位置するように配するための板状スペ―サと、(ii
i)上記板状スペ―サを上記試料搬送用ステ―ジの試料
載置面上に真空吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上
記板状スペ―サ上に真空吸着固定保持させるための真空
吸着固定保持手段とを有し、そして、(iv)上記真空
吸着固定保持手段が、上記試料搬送用ステ―ジにその厚
さを横切って延長するように形成されている第1の吸着
用貫通孔と、上記試料搬送用ステ―ジの上記試料載置面
に上記第1の吸着用貫通孔に連通するように形成された
吸着用溝と、上記板状スペ―サにその厚さを横切って延
長するように形成されている第2の吸着用貫通孔と、上
記第1の吸着用貫通孔に連結される真空ポンプとを有す
る。
【0009】本発明による試料搬送・加工用装置は、
(i)平らな試料載置面を有する試料加工用ステ―ジ
と、(ii)平らな試料載置面を有する試料搬送用ステ
―ジと、(iii)上記試料加工用ステ―ジ及び上記試
料搬送用ステ―ジの試料載置面上に、板状試料を、その
上面が上記試料載置面からみて予定の高さ位置に位置す
るように配するための、絶縁材でなる板状スペ―サと、
(iv)上記板状スペ―サを上記試料加工用ステ―ジの
試料載置面上に静電吸着固定保持させ且つ上記板状試料
を上記板状スペ―サ上に静電吸着固定保持させるための
静電吸着固定保持手段と、(v)上記板状スペ―サを上
記試料搬送用ステ―ジの試料載置面上に真空吸着固定保
持させ且つ上記板状試料を上記板状スペ―サ上に真空吸
着固定保持させるための真空吸着固定保持手段とを有
し、そして、(vi)上記静電吸着固定保持手段が、上
記試料加工用ステ―ジ内にその試料載置面に沿って延長
するように配されている第1の電極層と、上記板状スペ
―サ内の下面側または上記板状スペ―サの下面上に、そ
の下面に沿って延長するようにに配されている第2の電
極層と、上記板状スペ―サ内の上面側に、その上面に沿
って延長するように配されている第3の電極層と、上記
第1の電極層に接続れている高圧電源とを有し、また、
(vii)上記真空吸着固定保持手段が、上記試料搬送
用ステ―ジにその厚さを横切って延長するように形成さ
れている第1の吸着用貫通孔と、上記試料搬送用ステ―
ジの上記試料載置面に上記第1の吸着用貫通孔に連通す
るように形成された吸着用溝と、上記板状スペ―サにそ
の厚さを横切って延長するように形成されている第2の
吸着用貫通孔と、上記第1の吸着用貫通孔に連結された
真空ポンプとを有する。
【0010】
【作用・効果】本発明による試料加工用装置によれば、
板状スペ―サ上に、それ自身導電性乃至半導電性を有す
るか下面または上面に導電性層を有する板体を、板状試
料として配し、その状態で、板状スペ―サを試料加工用
ステ―ジの試料載置面上に配し、そして、その状態で、
静電吸着固定保持手段を構成している第1の電極層に、
高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極層間に静電
吸引力が発生することによって、板状スペ―サが試料加
工用ステ―ジの試料載置面上に静電吸着固定保持され、
また、試料及び第3の電極層間にも静電吸引力が発生す
ることによって、試料が板状スペ―サの上面上に静電吸
着固定保持され、よって、板状試料を、板状スペ―サを
介して、試料加工用ステ―ジの試料載置面上に固定保持
させることができる。従って、試料加工用装置としての
機能を呈する。
【0011】そして、本発明による試料加工用装置によ
れば、板状試料を、試料加工用ステ―ジの試料載置面上
に固定保持させるのに、板状スペ―サを用いているの
で、その板状スペ―サとして、板状試料の厚さに応じた
厚さを有するものを用いることによって、板状試料を、
厚さが異なっても、試料加工用ステ―ジの試料載置面か
らみて同じ高さ位置に位置するように、試料加工用ステ
―ジの試料載置面上に固定保持させることができ、従っ
て、板状試料を加工するのに前述した従来の試料加工用
装置の場合に不都合を有効に回避させることができる。
【0012】また、板状試料を、試料加工用ステ―ジの
試料載置面上に固定保持させるのに板状スペ―サに第
1、第2及び第3の電極層を設け、また第1の電極層に
接続される高圧電圧を設けるだけの簡単な構成でよい。
【0013】本発明による試料搬送用装置によれば、板
状スペ―サ上に、それ自身導電性乃至半導電性を有する
か下面または上面に導電性層を有する板体を、板状試料
として配し、その状態で、板状スペ―サを試料搬送用ス
テ―ジの試料載置面上に配し、そして、その状態で、真
空吸着固定保持手段を構成している第1の吸着用貫通孔
に、真空ポンプを連結すれば、板状スペ―サが試料搬送
用ステ―ジ側に真空吸着されることによって、板状スペ
―サが試料搬送用ステ―ジの試料載置面に真空吸着固定
保持され、また、板状試料が板状スペ―サ側に真空吸着
されることによって、板状試料が板状スペ―サの上面に
真空吸着固定保持され、よって、板状試料を、板状スペ
―サを介して、試料搬送用ステ―ジの試料載置面上に固
定保持されている状態で、試料加工用ステ―ジの試料載
置面上に搬送させることができる。従って、試料搬送用
装置としての機能を呈する。そして、本発明による試料
搬送用装置によれば、板状試料を、試料搬送用ステ―ジ
を用いて試料加工用ステ―ジの試料載置面上に搬送させ
るのに、板状スペ―サを用いているので、その板状スペ
―サとして、板状試料の厚さに応じた厚さを有するもの
を用いることによって、板状試料を試料加工用ステ―ジ
の試料載置面上に搬送された状態でみて、厚さが異なっ
ても、上面が試料加工用ステ―ジの試料載置面からみて
同じ高さ位置に位置するように、試料加工用ステ―ジ上
に搬送させることができ、従って、板状試料を加工する
のに従来の試料搬送用装置の場合の不都合を有効に回避
させることができる。
【0014】本発明による試料搬送・加工用装置によれ
ば、板状スペ―サ上に、それ自身導電性乃至半導電性を
有するか下面または上面に導電性層を有する板体を、板
状試料として配し、その状態で、板状スペ―サを試料搬
送用ステ―ジの試料載置面上に配し、そして、その状態
で、真空吸着固定保持手段を構成している第1の吸着用
貫通孔に、真空ポンプを連結すれば、板状スペ―サが試
料搬送用ステ―ジ側に真空吸着されることによって、板
状スペ―サが試料搬送用ステ―ジの試料載置面に真空吸
着固定保持され、また、板状試料が板状スペ―サ側に真
空吸着されることによって、板状試料が板状スペ―サの
上面に真空吸着固定保持され、よって、板状試料を、板
状スペ―サを介して、試料搬送用ステ―ジの試料載置面
上に固定保持されている状態で、試料加工用ステ―ジの
試料載置面上に搬送させることができ、また、板状試料
を、上述したように試料加工用ステ―ジの試料載置面上
に搬送させた状態で、真空吸着固定保持手段の真空ポン
プに代え、静電吸着固定保持手段を構成している第1の
電極層に、高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極
層間に静電吸引力が発生することによって、板状スペ―
サが試料加工用ステ―ジの試料載置面上に静電吸着固定
保持され、また、試料及び第3の電極層間にも静電吸引
力が発生することによって、試料が板状スペ―サの上面
上に静電吸着固定保持され、よって、板状試料を、板状
スペ―サを介して、試料加工用ステ―ジの試料載置面上
に固定保持させることができる。従って、試料搬送・加
工用装置としての機能を呈する。
【0015】そして、本発明による試料搬送・加工用装
置によれば、板状試料を、試料搬送用ステ―ジを用いて
試料加工用ステ―ジの試料載置面上に搬送させるのに、
板状スペ―サを用いているので、その板状スペ―サとし
て、板状試料の厚さに応じた厚さを有するものを用いる
ことによって、板状試料を試料加工用ステ―ジの試料載
置面上に搬送された状態でみて、厚さが異なっても、上
面が試料加工用ステ―ジの試料載置面からみて同じ高さ
位置に位置するように、試料加工用ステ―ジ上に搬送さ
せることができ、従って、板状試料を加工するのに従来
の試料搬送・加工用装置の場合の不都合を有効に回避さ
せることができる。
【0016】
【実施例1】次に、図1を伴って、本発明による試料加
工用装置の実施例を述べよう。
【0017】図1に示す本発明による試料加工用装置
は、次に述べる構成を有する。
【0018】すなわち、平らな試料載置面1aを有する
試料加工用ステ―ジ1と、その試料加工用ステ―ジ1の
試料載置面1a上に、板状試料2を、その上面が試料載
置面1aからみて予定の高さ位置に位置するように配す
るための、絶縁材でなる板状スペ―サ3と、板状スペ―
サ3を試料加工用ステ―ジ1の試料載置面1a上に静電
吸着固定保持させ且つ板状試料2を板状スペ―サ3上に
静電吸着固定させるための静電吸着固定保持手段4とを
有する。
【0019】そして、静電吸着固定保持手段4が、試料
加工用ステ―ジ3内にその試料載置面1aに沿って延長
するように配されている第1の電極層5と、板状スペ―
サ3内の下面側または板状スペ―サ3の下面(図におい
ては下面上)上に、その下面に沿って延長するように配
されている第2の電極層6と、板状スペ―サ3内の上面
側に、その上面に沿って延長するように配され且つ第2
の電極層6と互に接続されている第3の電極層7と、第
1の電極層5に接続される高圧電源8とを有する。
【0020】また、板状スペ―サ3に、板状試料2をそ
の上面周辺部において板状スペ―サ3側に押付けている
導電性環体9が取付けられている。
【0021】さらに、板状スペ―サ3に、その厚さを横
切って延長している吸着用貫通孔27が、後述する本発
明による試料搬送用装置の実施例における真空吸着固定
保持手段を構成するのに形成されている。
【0022】以上が、本発明による試料加工用装置の第
1の実施例の構成である。
【0023】このような本発明による試料加工用装置の
第1の実施例によれば、板状スペ―サ3上に、それ自身
導電性乃至半導電性を有するか下面または上面に導電性
層を有する板体を、板状試料2として配し、その状態
で、板状スペ―サ3を試料加工用ステ―ジ1の試料載置
面1a上に配し、そして、その状態で、静電吸着固定保
持手段4を構成している第1の電極層5及び導電性環体
9間に、高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極層
5及び6間に静電吸引力が発生することによって、板状
スペ―サ3が試料加工用ステ―ジ1の試料載置面1a上
に静電吸着固定保持され、また、試料2及び第3の電極
層7間にも静電吸引力が発生することによって、試料2
が板状スペ―サ3の上面上に静電吸着固定保持され、よ
って、板状試料2を、板状スペ―サ3を介して、試料加
工用ステ―ジ1の試料載置面1a上に固定保持させるこ
とができる。従って、試料加工用装置としての機能を呈
する。
【0024】そして、図1に示す本発明による試料加工
用装置によれば、板状試料2を、試料加工用ステ―ジ1
の試料載置面1a上に固定保持させるのに、板状スペ―
サ3を用いているので、その板状スペ―サ3として、板
状試料2の厚さに応じた厚さを有するものを用いること
によって、板状試料2を、厚さが異なっても、試料加工
用ステ―ジ1の試料載置面1aからみて同じ高さ位置に
位置するように、試料加工用ステ―ジ1の試料載置面1
a上に固定保持させることができ、従って、板状試料2
を加工するのに前述した従来の試料加工用装置の場合に
不都合を有効に回避させることができる。
【0025】また、板状試料2を、試料加工用ステ―ジ
1の試料載置面1a上に固定保持させるのに、板状スペ
―サ3に第1、第2及び第3の電極層5、6及び7を設
け、また第1の電極層5に接続される高圧電源8を設け
るだけの簡単な構成でよい。
【0026】
【実施例2】次に、図2を伴って、本発明による試料加
工用装置の第2の実施例を述べよう。
【0027】図2において、図1との対応部分には同一
符号を付して示す。
【0028】図2に示す本発明による試料加工用装置
は、電極層5が電極層5a及び5bに分割され、これに
応じて、電極層6が電極層6a及び6bに分割され且つ
電極層7が電極層7a及び7bに分割され、そして、高
圧電源8が電極層5a及び5b間に接続されるように構
成されていることを除いて、図1で上述した本発明によ
る試料加工用装置と同様の構成を有する。
【0029】以上が本発明による試料加工用装置の第2
の実施例の構成である。
【0030】このような構成を有する本発明による試料
加工用装置によれば、上述した事項を除いて、図1で上
述した本発明による試料加工用装置の場合と同様の構成
を有するので、詳細説明は省略するが、図1で上述した
本発明による試料加工用装置の場合と同様の作用効果が
得られることは明らかである。
【0031】しかしながら、図2に示す本発明による試
料加工用装置の場合、導電性環体9を高圧電源8の一端
に接地しておく必要がないので、その分、試料加工用装
置を簡易な構成とすることができる。
【0032】
【実施例3】次に、図3を伴って本発明による試料搬送
用装置の実施例を述べよう。
【0033】図3において、図1との対応部分には同一
符号を付して示す。
【0034】図3に示す本発明による試料搬送用装置
は、次に述べる構成を有する。
【0035】すなわち、平らな試料載置面21aを有す
る試料搬送用ステ―ジ21と、その試料搬送用ステ―ジ
21の試料載置面21a上に、板状試料2を、その上面
が試料載置面21aからみて予定高さ位置に位置するよ
うに配するための、図1の場合と同様の板状スペ―サ3
と、その板状スペ―サ2を試料搬送用ステ―ジ21の試
料載置面21a上に真空吸着固定保持させ且つ板状試料
2を板状スペ―サ3上に真空吸着固定保持させるための
真空吸着固定保持手段24とを有する。
【0036】そして、真空吸着固定保持手段29が、試
料搬送用ステ―ジ21にその厚さを横切って延長するよ
うに形成されている第1の吸着用貫通孔25と、試料搬
送用ステ―ジ21の試料載置面21aに第1の吸着用貫
通孔25に連通するように形成された吸着用溝26と、
板状スペ―サ3にその厚さを横切って延長するように形
成されている第2の吸着用貫通孔27と、第1の吸着用
貫通孔25に連結される真空ポンプ28とを有する。
【0037】以上が、本発明による試料搬送用装置の実
施例の構成である。
【0038】このような本発明による試料搬送用装置の
実施例によれば、板状スペ―サ3上に、それ自身導電性
乃至半導電性を有するか下面または上面に導電性層を有
する板体を、板状試料2として配し、その状態で、板状
スペ―サ3を試料搬送用ステ―ジ21の試料載置面21
a上に配し、そして、その状態で、真空吸着固定保持手
段24を構成している第1の吸着用貫通孔25に、真空
ポンプ28を連結すれば、板状スペ―サ3が試料搬送用
ステ―ジ側に真空吸着されることによって、板状スペ―
サが試料搬送用ステ―ジの試料載置面に真空吸着固定保
持され、また、板状試料が板状スペ―サ側に真空吸着さ
れることによって、板状試料が板状スペ―サの上面に真
空吸着固定保持され、よって、板状試料を、板状スペ―
サを介して、試料搬送用ステ―ジの試料載置面上に固定
保持されている状態で、試料加工用ステ―ジの試料載置
面上に搬送させることができる。従って、試料搬送用装
置としての機能を呈する。
【0039】そして、図3に示す本発明による試料搬送
用装置によれば、板状試料を、試料搬送用ステ―ジを用
いて試料加工用ステ―ジの試料載置面上に搬送させるの
に、板状スペ―サを用いているので、その板状スペ―サ
として、板状試料の厚さに応じた厚さを有するものを用
いることによって、板状試料を試料加工用ステ―ジの試
料載置面上に搬送された状態でみて、厚さが異なって
も、上面が試料加工用ステ―ジの試料載置面からみて同
じ高さ位置に位置するように、試料加工用ステ―ジ上に
搬送させることができ、従って、板状試料を加工するの
に従来の試料搬送用装置の場合の不都合を有効に回避さ
せることができる。
【0040】
【実施例4】次に、図4を伴って、電子ビ―ム露光装置
に適用された本発明による試料搬送・加工用装置の実施
例を述べよう。
【0041】図4に示す電子ビ―ム露光装置において、
31は、図1で上述した試料加工用装置及び図3で上述
した試料搬送用装置に用いている板状スペ―サ3を、そ
の上面上に、板状試料2を導電性環体9によって保持し
ている状態で収容している収容装置を示す。また、32
は、収容装置31から、上述したように板状試料2を保
持している板状スペ―サ3を、図3で上述したように、
試料搬送用装置の試料搬送用ステ―ジ21の試料載置面
21aに真空吸着固定してX−Yステ―ジ33上の図1
で上述した試料加工用ステ―ジ1の試料載置面1a上に
搬送させる搬送部を示す。また、34は、試料加工用ス
テ―ジの試料載置面上にずてで上述したように静電吸着
固定されている板状試料に電子ビ―ムを露光させるため
の電子光学鏡筒を示す。さらに、35は、電子光学鏡筒
34に対するX−Yステ―ジ33の移動装置、従って板
状試料の位置を制御するために用いられているレ―ザ測
長機本体、 36反射鏡を示す。
【0042】以上が、電子ビ―ム露光装置に適用された
本発明による試料搬送・加工用装置の実施例である。
【0043】このような本発明による試料搬送・加工用
装置によれば、詳細説明は省略するが、試料搬送・加工
用装置としての機能を呈し、実施例1及び2及び実施例
3で述べた試料加工用装置、及び試料搬送用装置の作用
効果を呈することは明らかであろう。
【0044】なお、上述においては、試料加工用装置、
試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置のそれぞれに
ついて、1つの実施例を示したに留まり、図1及び図2
に示す試料加工用装置において、板状スペ―サ3に設け
ている吸着用貫通孔を省略し、また、図3に示す試料搬
送用装置において、板状スペ―サ に設けられている電
極層 及び を省略することもでき、また、図1及び図
2に示す試料加工用装置において、導電性層 を板状ス
ペ―サ 内にその下面に沿って延長させて配することも
でき、その他、本発明の精神を脱することなしに、種々
の変型、変更をなし得るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による試料加工用装置の第1の実施例を
示す略線的断面図である。
【図2】本発明による試料加工用装置の第1の実施例を
示す略線的断面図である。
【図3】本発明による試料搬送用装置の実施例を示す略
線的断面図である。
【図4】本発明による試料搬送・加工用装置の適用され
た電子ビ―ム露光装置の実施例を示す略線図である。
【符号の説明】
1 試料加工用ステ―ジ 1a 試料載置面 2 板状試料 3 板状スペ―サ 4 静電吸着固定保持手段 5、6、7 電極層 8 高圧電源 9 導電性環体 21 試料搬送用ステ―ジ 24 真空吸着固定保持手段 25 吸着用貫通孔 26 吸着用溝 27 吸着用貫通孔 28 真空ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 試料加工用装置、試料搬送用装置及び
試料搬送・加工用装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、板状試料を電子ビーム
によって露光させるために試料加工用ステージ上に固定
保持させるのに適用し得る試料加工用装置、板状試料を
電子ビームによって露光させるために試料搬送用ステー
ジを用いて試料加工用ステージ上に搬送させるのに適用
し得る試料搬送用装置、及び板状試料を電子ビームによ
って露光させるために試料搬送用ステージを用いて試料
加工用ステージ上に搬送させ且つその板状試料を試料加
工用ステージ上に固定保持させるのに適用し得る試料搬
送・加工用装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、板状試料を平らな試料載置面を有
する試料加工用ステージ上に固定保持させるようにした
試料加工用装置が種々提案されている。しかしながら、
従来の試料加工用装置の場合、板状試料を、試料加工用
ステージの試料載置面上に、厚さが異なっても、上面が
試料載置面からみて同じ高さ位置に位置するように固定
保持させることができず、従って板状試料を加工するの
に不都合が生ずる、などの欠点を有していた。
【0003】また、従来、板状試料を、平らな試料載置
面を有する試料搬送用ステージを用いて、平らな試料載
置面を有する試料加工用ステージ上に搬送させるように
した試料搬送用装置も種々提案されている。しかしなが
ら、従来の試料搬送用装置の場合、板状試料を、試料加
工用ステージの試料載置面上に搬送された状態でみて、
厚さが異なっても、上面が試料加工用ステージの試料載
置面からみて同じ高さ位置に位置するように、試料加工
用ステージ上に搬送させることができず、従って、板状
試料を加工するのに不都合が生ずる、などの欠点を有し
ていた。
【0004】さらに、従来、板状試料を、平らな試料載
置面を有する試料搬送用ステージを用いて、平らな試料
載置面を有する試料加工用ステージ上に搬送させ且つそ
の板状試料を試料加工用ステージ上に固定保持させるよ
うにした試料搬送・加工用装置も種々提案されている。
しかしながら、従来の試料搬送・加工用装置の場合、板
状試料を、試料加工用ステージ上に搬送された状態でみ
て、厚さが異なっても、上面が試料加工用ステージの試
料載置面上でみて同じ高さ位置に位置するように試料加
工用ステージ上に搬送させることができないとともに、
板状試料を、試料加工用ステージ上に、厚さが異なって
も、上面が試料加工用ステージの試料載置面上でみて同
じ高さに位置するように保持させることができず、従っ
て、板状試料を搬送・加工するのに不都合が生ずる、な
どの欠点を有していた。
【0005】よって、本発明は、上述した欠点のない、
試料加工用装置、試料搬送用装置、及び試料搬送・加工
用装置を提案せんとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による試料加工用
装置は、(i)平らな試料載置面を有する試料加工用ス
テージと、(ii)上記試料加工用ステージの上記試料
載置面上に、板状試料を、その上面が上記試料載置面か
らみて予定の高さ位置に位置するように配するための、
絶縁材でなる板状スペーサと、(iii)上記板状スペ
ーサを上記試料加工用ステージの試料載置面上に静電吸
着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板状スペーサ上
に静電吸着固定させるための静電吸着固定保持手段とを
有し、そして、(iv)上記静電吸着固定保持手段が、
上記試料加工用ステージ内にその試料載置面に沿って延
長するように配されている第1の電極層と、上記板状ス
ペーサ内の下面側または上記板状スペーサの下面上に、
その下面に沿って延長するように配されている第2の電
極層と、上記板状スペーサ内の上面側に、その上面に沿
って延長するように配され且つ上記第2の電極層と互に
接続されている第3の電極層と、上記第1の電極層に接
続される高圧電源とを有する。
【0007】この場合、上記板状スペーサに、上記板状
試料をその上面周辺部において上記板状スペーサ側に押
付けている導電性環体が取付けられているのを可とす
る。
【0008】本発明による試料搬送装置は、(i)平ら
な試料載置面を有する試料搬送用ステージと、(ii)
上記試料搬送用ステージの上記試料載置面上に、板状試
料を、その上面が上記試料載置面からみて予定高さ位置
に位置するように配するための板状スペーサと、(ii
i)上記板状スペーサを上記試料搬送用ステージの試料
載置面上に真空吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上
記板状スペーサ上に真空吸着固定保持させるための真空
吸着固定保持手段とを有し、そして、(iv)上記真空
吸着固定保持手段が、上記試料搬送用ステージにその厚
さを横切って延長するように形成されている第1の吸着
用貫通孔と、上記試料搬送用ステージの上記試料載置面
に上記第1の吸着用貫通孔に連通するように形成された
吸着用溝と、上記板状スペーサにその厚さを横切って延
長するように形成されている第2の吸着用貫通孔と、上
記第1の吸着用貫通孔に連結される真空ポンプとを有す
る。
【0009】本発明による試料搬送・加工用装置は、
(i)平らな試料載置面を有する試料加工用ステージ
と、(ii)平らな試料載置面を有する試料搬送用ステ
ージと、(iii)上記試料加工用ステージ及び上記試
料搬送用ステージの試料載置面上に、板状試料を、その
上面が上記試料載置面からみて予定の高さ位置に位置す
るように配するための、絶縁材でなる板状スペーサと、
(iv)上記板状スペーサを上記試料加工用ステージの
試料載置面上に静電吸着固定保持させ且つ上記板状試料
を上記板状スペーサ上に静電吸着固定保持させるための
静電吸着固定保持手段と、(v)上記板状スペーサを上
記試料搬送用ステージの試料載置面上に真空吸着固定保
持させ且つ上記板状試料を上記板状スペーサ上に真空吸
着固定保持させるための真空吸着固定保持手段とを有
し、そして、(vi)上記静電吸着固定保持手段が、上
記試料加工用ステージ内にその試料載置面に沿って延長
するように配されている第1の電極層と、上記板状スペ
ーサ内の下面側または上記板状スペーサの下面上に、そ
の下面に沿って延長するようにに配されている第2の電
極層と、上記板状スペーサ内の上面側に、その上面に沿
って延長するように配されている第3の電極層と、上記
第1の電極層に接続れている高圧電源とを有し、また、
(vii)上記真空吸着固定保持手段が、上記試料搬送
用ステージにその厚さを横切って延長するように形成さ
れている第1の吸着用貫通孔と、上記試料搬送用ステー
ジの上記試料載置面に上記第1の吸着用貫通孔に連通す
るように形成された吸着用溝と、上記板状スペーサにそ
の厚さを横切って延長するように形成されている第2の
吸着用貫通孔と、上記第1の吸着用貫通孔に連結された
真空ポンプとを有する。
【0010】
【作用・効果】本発明による試料加工用装置によれば、
板状スペーサ上に、それ自身導電性乃至半導電性を有す
るか下面または上面に導電性層を有する板体を、板状試
料として配し、その状態て、板状スペーサを試料加工用
ステージの試料載置面上に配し、そして、その状態で、
静電吸着固定保持手段を構成している第1の電極層に、
高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極層間に静電
吸引力が発生することによって、板状スペーサが試料加
工用ステージの試料載置面上に静電吸着固定保持され、
また、試料及び第3の電極層間にも静電吸引力が発生す
ることによって、試料が板状スペーサの上面上に静電吸
着固定保持され、よって、板状試料を、板状スペーサを
介して、試料加工用ステージの試料載置面上に固定保持
させることができる。従って、試料加工用装置としての
機能を呈する。
【0011】そして、本発明による試料加工用装置によ
れば、板状試料を、試料加工用ステージの試料載置面上
に固定保持させるのに、板状スペーサを用いているの
で、その板状スペーサとして、板状試料の厚さに応じた
厚さを有するものを用いることによって、板状試料を、
厚さが異なっても、試料加工用ステージの試料載置面か
らみて同じ高さ位置に位置するように、試料加工用ステ
ージの試料載置面上に固定保持させることができ、従っ
て、板状試料を加工するのに前述した従来の試料加工用
装置の場合に不都合を有効に回避させることができる。
【0012】また、板状試料を、試料加工用ステージの
試料載置面上に固定保持させるのに板状スペーサに第
1、第2及び第3の電極層を設け、また第1の電極層に
接続される高圧電圧を設けるだけの簡単な構成でよい。
【0013】本発明による試料搬送用装置によれば、板
状スペーサ上に、それ自身導電性乃至半導電性を有する
か下面または上面に導電性層を有する板体を、板状試料
として配し、その状態で、板状スペーサを試料搬送用ス
テージの試料載置面上に配し、そして、その状態で、真
空吸着固定保持手段を構成している第1の吸着用貫通孔
に、真空ポンプを連結すれば、板状スペーサが試料搬送
用ステージ側に真空吸着されることによって、板状スペ
ーサが試料搬送用ステージの試料載置面に真空吸着固定
保持され、また、板状試料が板状スペーサ側に真空吸着
されることによって、板状試料が板状スペーサの上面に
真空吸着固定保持され、よって、板状試料を、板状スペ
ーサを介して、試料搬送用ステージの試料載置面上に固
定保持されている状態で、試料加工用ステージの試料載
置面上に搬送させることができる。従って、試料搬送用
装置としての機能を呈する。そして、本発明による試料
搬送用装置によれば、板状試料を、試料搬送用ステージ
を用いて試料加工用ステージの試料載置面上に搬送させ
るのに、板状スペーサを用いているので、その板状スペ
ーサとして、板状試料の厚さに応じた厚さを有するもの
を用いることによって、板状試料を試料加工用ステージ
の試料載置面上に搬送された状態でみて、厚さが異なっ
ても、上面が試料加工用ステージの試料載置面からみて
同じ高さ位置に位置するように、試料加工用ステージ上
に搬送させることができ、従って、板状試料を加工する
のに従来の試料搬送用装置の場合の不都合を有効に回避
させることができる。
【0014】本発明による試料搬送・加工用装置によれ
ば、板状スペーサ上に、それ自身導電性乃至半導電性を
有するか下面または上面に導電性層を有する板体を、板
状試料として配し、その状態で、板状スペーサを試料搬
送用ステージの試料載置面上に配し、そして、その状態
で、真空吸着固定保持手段を構成している第1の吸着用
貫通孔に、真空ポンプを連結すれば、板状スペーサが試
料搬送用ステージ側に真空吸着されることによって、板
状スペーサが試料搬送用ステージの試料載置面に真空吸
着固定保持され、また、板状試料が板状スペーサ側に真
空吸着されることによって、板状試料が板状スペーサの
上面に真空吸着固定保持され、よって、板状試料を、板
状スペーサを介して、試料搬送用ステージの試料載置面
上に固定保持されている状態で、試料加工用ステージの
試料載置面上に搬送させることができ、また、板状試料
を、上述したように試料加工用ステージの試料載置面上
に搬送させた状態で、真空吸着固定保持手段の真空ポン
プに代え、静電吸着固定保持手段を構成している第1の
電極層に、高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極
層間に静電吸引力が発生することによって、板状スペー
サが試料加工用ステージの試料載置面上に静電吸着固定
保持され、また、試料及び第3の電極層間にも静電吸引
力が発生することによって、試料が板状スペーサの上面
上に静電吸着固定保持され、よって、板状試料を、板状
スペーサを介して、試料加工用ステージの試料載置面上
に固定保持させることができる。従って、試料搬送・加
工用装置としての機能を呈する。
【0015】そして、本発明による試料搬送・加工用装
置によれば、板状試料を、試料搬送用ステージを用いて
試料加工用ステージの試料載置面上に搬送させるのに、
板状スペーサを用いているので、その板状スペーサとし
て、板状試料の厚さに応じた厚さを有するものを用いる
ことによって、板状試料を試料加工用ステージの試料載
置面上に搬送された状態でみて、厚さが異なっても、上
面が試料加工用ステージの試料載置面からみて同じ高さ
位置に位置するように、試料加工用ステージ上に搬送さ
せることができ、従って、板状試料を加工するのに従来
の試料搬送・加工用装置の場合の不都合を有効に回避さ
せることができる。
【0016】
【実施例1】次に、図1を伴って、本発明による試料加
工用装置の実施例を述べよう。
【0017】図1に示す本発明による試料加工用装置
は、次に述べる構成を有する。
【0018】すなわち、平らな試料載置面1aを有する
試料加工用ステージ1と、その試料加工用ステージ1の
試料載置面1a上に、板状試料2を、その上面が試料載
置面1aからみて予定の高さ位置に位置するように配す
るための、絶縁材でなる板状スペーサ3と、板状スペー
サ3を試料加工用ステージ1の試料載置面1a上に静電
吸着固定保持させ且つ板状試料2を板状スペーサ3上に
静電吸着固定させるための静電吸着固定保持手段4とを
有する。
【0019】そして、静電吸着固定保持手段4が、試料
加工用ステージ3内にその試料載置面1aに沿って延長
するように配されている第1の電極層5と、板状スペー
サ3内の下面側または板状スペーサ3の下面(図におい
ては下面上)上に、その下面に沿って延長するように配
されている第2の電極層6と、板状スペーサ3内の上面
側に、その上面に沿って延長するように配され且つ第2
の電極層6と互に接続されている第3の電極層7と、第
1の電極層5に接続される高圧電源8とを有する。
【0020】また、板状スペーサ3に、板状試料2をそ
の上面周辺部において板状スペーサ3側に押付けている
導電性環体9が取付けられている。
【0021】さらに、板状スペーサ3に、その厚さを横
切って延長している吸着用貫通孔27が、後述する本発
明による試料搬送用装置の実施例における真空吸着固定
保持手段を構成するのに形成されている。
【0022】以上が、本発明による試料加工用装置の第
1の実施例の構成である。
【0023】このような本発明による試料加工用装置の
第1の実施例によれば、板状スペーサ3上に、それ自身
導電性乃至半導電性を有するか下面または上面に導電性
層を有する板体を、板状試料2として配し、その状態
で、板状スペーサ3を試料加工用ステージ1の試料載置
面1a上に配し、そして、その状態で、静電吸着固定保
持手段4を構成している第1の電極層5及び導電性環体
9間に、高圧電源を接続すれば、第1及び第2の電極層
5及び6間に静電吸引力が発生することによって、板状
スペーサ3が試料加工用ステージ1の試料載置面1a上
に静電吸着固定保持され、また、試料2及び第3の電極
層7間にも静電吸引力が発生することによって、試料2
が板状スペーサ3の上面上に静電吸着固定保持され、よ
って、板状試料2を、板状スペーサ3を介して、試料加
工用ステージ1の試料載置面1a上に固定保持させるこ
とができる。従って、試料加工用装置としての機能を呈
する。
【0024】そして、図1に示す本発明による試料加工
用装置によれば、板状試料2を、試料加工用ステージ1
の試料載置面1a上に固定保持させるのに、板状スペー
サ3を用いているので、その板状スペーサ3として、板
状試料2の厚さに応じた厚さを有するものを用いること
によって、板状試料2を、厚さが異なっても、試料加工
用ステージ1の試料載置面1aからみて同じ高さ位置に
位置するように、試料加工用ステージ1の試料載置面1
a上に固定保持させることができ、従って、板状試料2
を加工するのに前述した従来の試料加工用装置の場合に
不都合を有効に回避させることができる。
【0025】また、板状試料2を、試料加工用ステージ
1の試料載置面1a上に固定保持させるのに、板状スペ
ーサ3に第1、第2及び第3の電極層5、6及び7を設
け、また第1の電極層5に接続される高圧電源8を設け
るだけの簡単な構成でよい。
【0026】
【実施例2】次に、図2を伴って、本発明による試料加
工用装置の第2の実施例を述べよう。
【0027】図2において、図1との対応部分には同一
符号を付して示す。
【0028】図2に示す本発明による試料加工用装置
は、電極層5が電極層5a及び5bに分割され、これに
応じて、電極層6が電極層6a及び6bに分割され且つ
電極層7が電極層7a及び7bに分割され、そして、高
圧電源8が電極層5a及び5b間に接続されるように構
成されていることを除いて、図1で上述した本発明によ
る試料加工用装置と同様の構成を有する。
【0029】以上が本発明による試料加工用装置の第2
の実施例の構成である。
【0030】このような構成を有する本発明による試料
加工用装置によれば、上述した事項を除いて、図1で上
述した本発明による試料加工用装置の場合と同様の構成
を有するので、詳細説明は省略するが、図1で上述した
本発明による試料加工用装置の場合と同様の作用効果が
得られることは明らかである。
【0031】しかしながら、図2に示す本発明による試
料加工用装置の場合、導電性環体9を高圧電源8の一端
に接地しておく必要がないので、その分、試料加工用装
置を簡易な構成とすることができる。
【0032】
【実施例3】次に、図3を伴って本発明による試料搬送
用装置の実施例を述べよう。
【0033】図3において、図1との対応部分には同一
符号を付して示す。
【0034】図3に示す本発明による試料搬送用装置
は、次に述べる構成を有する。
【0035】すなわち、平らな試料載置面21aを有す
る試料搬送用ステージ21と、その試料搬送用ステージ
21の試料載置面21a上に、板状試料2を、その上面
が試料載置面21aからみて予定高さ位置に位置するよ
うに配するための、図1の場合と同様の板状スペーサ3
と、その板状スペーサ2を試料搬送用ステージ21の試
料載置面21a上に真空吸着固定保持させ且つ板状試料
2を板状スペーサ3上に真空吸着固定保持させるための
真空吸着固定保持手段24とを有する。
【0036】そして、真空吸着固定保持手段29が、試
料掴送用ステージ21にその厚さを横切って延長するよ
うに形成されている第1の吸着用貰通孔25と、試料搬
送用ステージ21の試料載置面21aに第1の吸着用貫
通孔25に連通するように形成された吸着用溝26と、
板状スペーサ3にその厚さを横切って延長するように形
成されている第2の吸着用貰通孔27と、第1の吸着用
貰通孔25に連結される真空ポンプ28とを有する。
【0037】以上が、本発明による試料搬送用装置の実
施例の構成である。
【0038】このような本発明による試料搬送用装置の
実施例によれば、板状スペーサ3上に、それ自身導電性
乃至半導電性を有するか下面または上面に導電性層を有
する板体を、板状試料2として配し、その状態で、板状
スペーサ3を試料搬送用ステージ21の試料載置面21
a上に配し、そして、その状態で、真空吸着固定保持手
段24を構成している第1の吸着用貫通孔25に、真空
ポンプ28を連結すれば、板状スペーサ3が試料搬送用
ステージ側に真空吸着されることによって、板状スペー
サ3が試料搬送用ステージ21の試料載置面21aに真
空吸着固定保持され、また、板状試料2が板状スペーサ
3側に真空吸着されることによって、板状試料2が板状
スペーサ3の上面に真空吸着固定保持され、よって、板
状試料2を、板状スペーサ3を介して、試料搬送用ステ
ージ21の試料載置面21a上に固定保持されている状
態で、試料加工用ステージの試料載置面上に搬送させる
ことができる。従って、試料搬送用装置としての機能を
呈する。
【0039】そして、図3に示す本発明による試料搬送
用装置によれば、板状試料2を、試料搬送用ステージ2
1を用いて試料加工用ステージの試料載置面上に搬送さ
せるのに、板状スペーサ3を用いているので、その板状
スペーサ3として、板状試料2の厚さに応じた厚さを有
するものを用いることによって、板状試料2を試料加工
用ステージ21の試料載置面21a上に搬送された状態
でみて、厚さが異なっても、上面が試料加工用ステージ
21の試料載置面21aからみて同じ高さ位置に位置す
るように、試料加工用ステージ上に搬送させることがで
き、従って、板状試料2を加工するのに従来の試料搬送
用装置の場合の不都合を有効に回避させることができ
る。
【0040】
【実施例4】次に、図4を伴って、電子ビーム露光装置
に適用された本発明による試料搬送・加工用装置の実施
例を述べよう。
【0041】図4に示す電子ビーム露光装置において、
31は、図1で上述した試料加工用装置及び図3で上述
した試料搬送用装置に用いている板状スペーサ3を、そ
の上面上に、板状試料2を導電性環体9によって保持し
ている状態で収容している収容装置を示す。また、32
は、収容装置31から、上述したように板状試料2を保
持している板状スペーサ3を、図3で上述したように、
試料搬送用装置の試料搬送用ステージ21の試料載置面
21aに真空吸着固定してX−Yステージ33上の図1
で上述した試料加工用ステージ1の試料載置面1a上に
搬送させる搬送部を示す。また、34は、試料加工用ス
テージ1の試料載置面1a上に上述したように静電吸着
固定されている板状試料に電子ビームを露光させるため
の電子光学鏡筒を示す。さらに、35は、電子光学鏡筒
34に対するX−Yステージ33の移動装置、従って板
状試料2の位置を制御するために用いられているレーザ
測長機本体、36は反射鏡を示す。
【0042】以上が、電子ビーム露光装置に適用された
本発明による試料搬送・加工用装置の実施例である。
【0043】このような本発明による試料搬送・加工用
装置によれば、詳細説明は省略するが、試料搬送・加工
用装置としての機能を呈し、実施例1及び2及び実施例
3で述べた試料加工用装置、及び試料搬送用装置の作用
効果を呈することは明らかであろう。
【0044】なお、上述においては、試料加工用装置、
試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置のそれぞれに
ついて、1つの実施例を示したに留まり、図1及び図2
に示す試料加工用装置において、板状スペーサ3に設け
ている吸着用貫通孔27を省路し、また、図3に示す試
料搬送用装置において、板状スペーサ3に設けられてい
る電極層6及び7を省略することもでき、また、図1及
び図2に示す試料加工用装置において、電極層6を板状
スペーサ3内にその下面に沿って延長させて配すること
もでき、その他、本発明の精神を脱することなしに、種
々の変型、変更をなし得るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による試料加工用装置の第1の実施例を
示す略線的断面図である。
【図2】本発明による試料加工用装置の第1の実施例を
示す略線的断面図である。
【図3】本発明による試料搬送用装置の実施例を示す略
線的断面図である。
【図4】本発明による試料搬送・加工用装置の適用され
た電子ビーム露光装置の実施例を示す略線図である。
【符号の説明】 1 試料加工用ステージ 1a 試料載置面 2 板状試料 3 板状スペーサ 4 静電吸着固定保持手段 5、6、7 電極層 8 高圧電源 9 導電性環体 21 試料搬送用ステージ 24 真空吸着固定保持手段 25 吸着用貫通孔 26 吸着用溝 27 吸着用貰通孔 28 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 R 8418−4M

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平らな試料載置面を有する試料加工用ス
    テ―ジと、 上記試料加工用ステ―ジの上記試料載置面上に、板状試
    料を、その上面が上記試料載置面からみて予定の高さ位
    置に位置するように配するための、絶縁材でなる板状ス
    ペ―サと、 上記板状スペ―サを上記試料加工用ステ―ジの試料載置
    面上に静電吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板
    状スペ―サ上に静電吸着固定させるための静電吸着固定
    保持手段とを有し、 上記静電吸着固定保持手段が、上記試料加工用ステ―ジ
    内にその試料載置面に沿って延長するように配されてい
    る第1の電極層と、上記板状スペ―サ内の下面側または
    上記板状スペ―サの下面上に、その下面に沿って延長す
    るように配されている第2の電極層と、上記板状スペ―
    サ内の上面側に、その上面に沿って延長するように配さ
    れ且つ上記第2の電極層と互に接続されている第3の電
    極層と、上記第1の電極層に接続される高圧電源とを有
    することを特徴とする試料加工用装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の試料加工用装置におい
    て、 上記板状スペ―サに、上記板状試料をその上面周辺部に
    おいて上記板状スペ―サ側に押付けている導電性環体が
    取付けられていることを特徴とする試料加工用装置。
  3. 【請求項3】 平らな試料載置面を有する試料搬送用ス
    テ―ジと、 上記試料搬送用ステ―ジの上記試料載置面上に、板状試
    料を、その上面が上記試料載置面からみて予定高さ位置
    に位置するように配するための板状スペ―サと、 上記板状スペ―サを上記試料搬送用ステ―ジの試料載置
    面上に真空吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板
    状スペ―サ上に真空吸着固定保持させるための真空吸着
    固定保持手段とを有し、 上記真空吸着固定保持手段が、上記試料搬送用ステ―ジ
    にその厚さを横切って延長するように形成されている第
    1の吸着用貫通孔と、上記試料搬送用ステ―ジの上記試
    料載置面に上記第1の吸着用貫通孔に連通するように形
    成された吸着用溝と、上記板状スペ―サにその厚さを横
    切って延長するように形成されている第2の吸着用貫通
    孔と、上記第1の吸着用貫通孔に連結される真空ポンプ
    とを有することを特徴とする試料搬送用装置。
  4. 【請求項4】 平らな試料載置面を有する試料加工用ス
    テ―ジと、 平らな試料載置面を有する試料搬送用ステ―ジと、 上記試料加工用ステ―ジ及び上記試料搬送用ステ―ジの
    試料載置面上に、板状試料を、その上面が上記試料載置
    面からみて予定の高さ位置に位置するように配するため
    の、絶縁材でなる板状スペ―サと、 上記板状スペ―サを上記試料加工用ステ―ジの試料載置
    面上に静電吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板
    状スペ―サ上に静電吸着固定保持させるための静電吸着
    固定保持手段と、 上記板状スペ―サを上記試料搬送用ステ―ジの試料載置
    面上に真空吸着固定保持させ且つ上記板状試料を上記板
    状スペ―サ上に真空吸着固定保持させるための真空吸着
    固定保持手段とを有し、 上記静電吸着固定保持手段が、上記試料加工用ステ―ジ
    内にその試料載置面に沿って延長するように配されてい
    る第1の電極層と、上記板状スペ―サ内の下面側または
    上記板状スペ―サの下面上に、その下面に沿って延長す
    るようにに配されている第2の電極層と、上記板状スペ
    ―サ内の上面側に、その上面に沿って延長するように配
    されている第3の電極層と、上記第1の電極層に接続れ
    ている高圧電源とを有し、 上記真空吸着固定保持手段が、上記試料搬送用ステ―ジ
    にその厚さを横切って延長するように形成されている第
    1の吸着用貫通孔と、上記試料搬送用ステ―ジの上記試
    料載置面に上記第1の吸着用貫通孔に連通するように形
    成された吸着用溝と、上記板状スペ―サにその厚さを横
    切って延長するように形成されている第2の吸着用貫通
    孔と、上記第1の吸着用貫通孔に連結された真空ポンプ
    とを有することを特徴とする試料搬送・加工用装置。
JP8592592A 1992-03-09 1992-03-09 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置 Pending JPH05259048A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8592592A JPH05259048A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8592592A JPH05259048A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05259048A true JPH05259048A (ja) 1993-10-08

Family

ID=13872345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8592592A Pending JPH05259048A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05259048A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09162272A (ja) * 1995-12-04 1997-06-20 Sony Corp 静電チャック、薄板保持装置及び半導体製造装置並びに搬送方法
JPH1022371A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 試料固定装置
US7708860B2 (en) 2003-07-23 2010-05-04 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus
WO2015111616A1 (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 株式会社アルバック プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ
KR20150146408A (ko) * 2014-06-23 2015-12-31 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 트레이 및 웨이퍼 고정 장치

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09162272A (ja) * 1995-12-04 1997-06-20 Sony Corp 静電チャック、薄板保持装置及び半導体製造装置並びに搬送方法
JPH1022371A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 試料固定装置
US7708860B2 (en) 2003-07-23 2010-05-04 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus
KR101032396B1 (ko) * 2003-07-23 2011-05-03 파나소닉 주식회사 플라즈마 처리 장치
WO2015111616A1 (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 株式会社アルバック プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ
JP6088670B2 (ja) * 2014-01-22 2017-03-01 株式会社アルバック プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ
JPWO2015111616A1 (ja) * 2014-01-22 2017-03-23 株式会社アルバック プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ
KR20150146408A (ko) * 2014-06-23 2015-12-31 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 트레이 및 웨이퍼 고정 장치
JP2016009715A (ja) * 2014-06-23 2016-01-18 新光電気工業株式会社 静電吸着用トレイ、基板固定装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5532903A (en) Membrane electrostatic chuck
US4746548A (en) Method for registration of shadow masked thin-film patterns
JPH05259048A (ja) 試料加工用装置、試料搬送用装置及び試料搬送・加工用装置
JP3243168B2 (ja) 原版保持装置およびこれを用いた露光装置
JP6442563B1 (ja) 搬送ハンド、搬送装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法及び保持機構
JP2804664B2 (ja) 試料の静電吸着機構及び電子線描画装置
JP3076727B2 (ja) 試料ホルダの固定装置
JP2613035B2 (ja) 基板吸着固定装置
JP2896090B2 (ja) レ−ザ加工装置
JP3321225B2 (ja) 露光装置
JPH05323251A (ja) 近接露光装置の基板搬送機構
JP3726582B2 (ja) 半導体製造装置及び製造方法
US5154729A (en) Semiconductor manufacturing apparatus
CN1572683A (zh) 工件输送装置
JP2017168724A (ja) 電子部品の移載方法および装置
JP5560590B2 (ja) 基板貼り合わせ装置
JPH05343507A (ja) 静電吸着方法
JPWO2019031374A1 (ja) 基板処理方法及び基板処理システム
JPH0410452A (ja) 基板の縦型搬送装置
JP3143896B2 (ja) 荷電粒子線露光装置
JPH08141966A (ja) ガラス基板のハンドリング機構
WO2023053624A1 (ja) 支持ユニット、支持体及びイオン化方法
JPH06112304A (ja) 基板収納容器
JPS61214517A (ja) カセツト保持装置
TW393436B (en) Wafers transportation means and methods