JPH10214716A - 交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用いた磁気抵抗効果素子 - Google Patents
交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用いた磁気抵抗効果素子Info
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- JPH10214716A JPH10214716A JP9014247A JP1424797A JPH10214716A JP H10214716 A JPH10214716 A JP H10214716A JP 9014247 A JP9014247 A JP 9014247A JP 1424797 A JP1424797 A JP 1424797A JP H10214716 A JPH10214716 A JP H10214716A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
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- H—ELECTRICITY
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い熱安定性と、高い交換結合磁界を得るこ
とを可能とする。 【解決手段】 交換結合膜は、強磁性体層3と、上記強
磁性体層3に隣接して形成されたMnPt合金からなる
反強磁性体層4とを備え、強磁性体層3の構造がfcc
構造で(111)配向しており、強磁性体層3と上記反
強磁性体層4との積層膜に対して、交換結合磁界を高め
るための熱処理が施されている。強磁性体層3の格子の
最密面である(111)面が反強磁性体層4の界面に配
列するため、また、熱処理によって反強磁性体層4の反
強磁性秩序が向上するので、交換結合磁界が高くなる。
とを可能とする。 【解決手段】 交換結合膜は、強磁性体層3と、上記強
磁性体層3に隣接して形成されたMnPt合金からなる
反強磁性体層4とを備え、強磁性体層3の構造がfcc
構造で(111)配向しており、強磁性体層3と上記反
強磁性体層4との積層膜に対して、交換結合磁界を高め
るための熱処理が施されている。強磁性体層3の格子の
最密面である(111)面が反強磁性体層4の界面に配
列するため、また、熱処理によって反強磁性体層4の反
強磁性秩序が向上するので、交換結合磁界が高くなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録用再生ヘ
ッドあるいは磁気センサ等に使用される磁気抵抗効果素
子に用いられる、強磁性体膜と反強磁性体膜とを積層し
た構造の交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用
いた磁気抵抗効果素子に関するものである。
ッドあるいは磁気センサ等に使用される磁気抵抗効果素
子に用いられる、強磁性体膜と反強磁性体膜とを積層し
た構造の交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用
いた磁気抵抗効果素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスクや磁気テープ装置などの磁
気記録装置においては、媒体の記録密度の増加と小型化
に伴い、記録ヘッドや再生ヘッドなどの磁気ヘッドの高
性能化が求められている。
気記録装置においては、媒体の記録密度の増加と小型化
に伴い、記録ヘッドや再生ヘッドなどの磁気ヘッドの高
性能化が求められている。
【0003】すなわち、記録ヘッドでは磁気記録媒体の
高保磁力化に伴い、飽和磁束密度の大きな材料が求めら
れている。また、再生ヘッドでは、媒体の記録密度の増
加に対応して、より高い再生感度を実現できるデバイス
の開発が期待されている。再生ヘッドは媒体から漏れる
磁束を検知して信号を再生するが、媒体の記録密度が増
加すると、媒体からの漏れ磁束が小さくなる。再生ヘッ
ドの再生感度が高ければ、小さな漏れ磁束で再生が可能
となる。ここで、再生感度とは同じ磁束に対して得られ
る電圧信号の高低である。
高保磁力化に伴い、飽和磁束密度の大きな材料が求めら
れている。また、再生ヘッドでは、媒体の記録密度の増
加に対応して、より高い再生感度を実現できるデバイス
の開発が期待されている。再生ヘッドは媒体から漏れる
磁束を検知して信号を再生するが、媒体の記録密度が増
加すると、媒体からの漏れ磁束が小さくなる。再生ヘッ
ドの再生感度が高ければ、小さな漏れ磁束で再生が可能
となる。ここで、再生感度とは同じ磁束に対して得られ
る電圧信号の高低である。
【0004】また、媒体が小型化すると、再生ヘッドと
媒体との相対速度が低下するので、再生出力が相対速度
に比例する従来の誘導型ヘッドは使いにくくなる。そこ
で、相対速度の影響を受けない、磁気抵抗効果を利用し
たいわゆるMR(magnetoresistive effect)ヘッドが用
いられるようになった。
媒体との相対速度が低下するので、再生出力が相対速度
に比例する従来の誘導型ヘッドは使いにくくなる。そこ
で、相対速度の影響を受けない、磁気抵抗効果を利用し
たいわゆるMR(magnetoresistive effect)ヘッドが用
いられるようになった。
【0005】MRヘッドは誘導型ヘッドより再生感度が
高く、高密度化された媒体の再生に適している。磁気抵
抗効果を示す材料としては、従来より、NiFe合金や
NiCo合金からなる磁性薄膜が知られている。
高く、高密度化された媒体の再生に適している。磁気抵
抗効果を示す材料としては、従来より、NiFe合金や
NiCo合金からなる磁性薄膜が知られている。
【0006】MRヘッドの再生感度はその磁場感度が高
いほど、また、抵抗変化率が大きいほどよくなる。ここ
で、抵抗変化率rは、外部磁場がない場合の抵抗値をR
o 、外部磁場によって変化した抵抗値をRh とすると、 r=|Rh −Ro |/Ro と表され、NiFe合金では2〜3%程度、NiCo合
金では最大6%程度である。
いほど、また、抵抗変化率が大きいほどよくなる。ここ
で、抵抗変化率rは、外部磁場がない場合の抵抗値をR
o 、外部磁場によって変化した抵抗値をRh とすると、 r=|Rh −Ro |/Ro と表され、NiFe合金では2〜3%程度、NiCo合
金では最大6%程度である。
【0007】上記の磁気抵抗効果はスピン軌道相互作用
に起因し、抵抗変化率は測定電流の方向と磁性薄膜の磁
化方向とのなす角度に依存するので、異方性磁気抵抗効
果(AMR:anisotropic magnetoresistive effect)と
呼ばれている。
に起因し、抵抗変化率は測定電流の方向と磁性薄膜の磁
化方向とのなす角度に依存するので、異方性磁気抵抗効
果(AMR:anisotropic magnetoresistive effect)と
呼ばれている。
【0008】ところで、近年、AMRとは異なる発現機
構で磁気抵抗効果を示す、巨大磁気抵抗効果(GMR:
giant magnetoresistive effect)と呼ばれる現象が見い
出され、注目されている。GMRを示す構造として、例
えば、磁性層と非磁性層とを交互に数十層積層した人工
格子多層膜があり、この人工格子多層膜は、非磁性層を
介して上下に配置された各磁性層の磁化が反平行(向き
が180°異なる)の場合と平行の場合とで伝導電子の
散乱が大きく異なるために抵抗変化が現れるものであ
る。
構で磁気抵抗効果を示す、巨大磁気抵抗効果(GMR:
giant magnetoresistive effect)と呼ばれる現象が見い
出され、注目されている。GMRを示す構造として、例
えば、磁性層と非磁性層とを交互に数十層積層した人工
格子多層膜があり、この人工格子多層膜は、非磁性層を
介して上下に配置された各磁性層の磁化が反平行(向き
が180°異なる)の場合と平行の場合とで伝導電子の
散乱が大きく異なるために抵抗変化が現れるものであ
る。
【0009】人工格子多層膜に印可される外部磁場が低
い場合、各磁性層の磁化は、磁性層間の交換相互作用に
よって反平行になっている。このとき、人工格子多層膜
の抵抗は最大になる。これは、磁性層と非磁性層との境
界で、伝導電子の散乱が大きくなるためである。一方、
人工格子多層膜に印加される外部磁場が上記交換相互作
用を打ち破る程に強くなると、各磁性層の磁化は外部磁
場の向きに揃って互いに平行になり、抵抗値が下がる。
これは、各磁性層の磁化が互いに平行な状態では、磁性
層と非磁性層との境界での伝導電子の散乱が減少するた
めである。各磁性層の磁化の向きが反平行状態と平行状
態に相対的に変化する間の人工格子多層膜の抵抗変化率
は、AMRに比較して一桁以上大きく、なかでも現在最
大の抵抗変化を示す材料系であるCo/Cu多層膜で
は、常温においても60%以上の抵抗変化率が得られて
いる。
い場合、各磁性層の磁化は、磁性層間の交換相互作用に
よって反平行になっている。このとき、人工格子多層膜
の抵抗は最大になる。これは、磁性層と非磁性層との境
界で、伝導電子の散乱が大きくなるためである。一方、
人工格子多層膜に印加される外部磁場が上記交換相互作
用を打ち破る程に強くなると、各磁性層の磁化は外部磁
場の向きに揃って互いに平行になり、抵抗値が下がる。
これは、各磁性層の磁化が互いに平行な状態では、磁性
層と非磁性層との境界での伝導電子の散乱が減少するた
めである。各磁性層の磁化の向きが反平行状態と平行状
態に相対的に変化する間の人工格子多層膜の抵抗変化率
は、AMRに比較して一桁以上大きく、なかでも現在最
大の抵抗変化を示す材料系であるCo/Cu多層膜で
は、常温においても60%以上の抵抗変化率が得られて
いる。
【0010】しかしながら、このような人工格子多層膜
では、得られる抵抗変化率は非常に大きいものの、各磁
性層の磁化を互いに平行にするためには、数100Oe
から数KOeの外部磁場が必要となる。これは、無磁場
で磁化の反平行状態を実現するために交換相互作用を用
いているため、磁性層間の結合が非常に強く、この交換
相互作用を断ち切って磁化の平行状態を実現しなければ
ならないからである。このため、微弱な外部磁場では抵
抗変化は起こらず、人工格子多層膜を磁気記録用のヘッ
ドとして用いるには磁場感度が悪すぎて非実用的であ
る。
では、得られる抵抗変化率は非常に大きいものの、各磁
性層の磁化を互いに平行にするためには、数100Oe
から数KOeの外部磁場が必要となる。これは、無磁場
で磁化の反平行状態を実現するために交換相互作用を用
いているため、磁性層間の結合が非常に強く、この交換
相互作用を断ち切って磁化の平行状態を実現しなければ
ならないからである。このため、微弱な外部磁場では抵
抗変化は起こらず、人工格子多層膜を磁気記録用のヘッ
ドとして用いるには磁場感度が悪すぎて非実用的であ
る。
【0011】そこで、磁場感度の高いGMR膜であるス
ピンバルブ膜が注目されている。スピンバルブ膜は、反
強磁性体層/強磁性体層/非磁性体層/強磁性体層の4
層薄膜構造を有している。スピンバブル膜では、反強磁
性体層との交換相互作用により、反強磁性体層と接する
強磁性体層の磁化が一方向に固定されている。この磁化
方向が固定された強磁性体層とは非磁性体層で分離され
ている、もう一方の強磁性体層の磁化は、決まった磁化
方向をとらず外部磁場に対して自由に回転するようにな
っている。この自由に磁化方向が回転する方の強磁性体
層にNiFe合金などのソフト性の高い薄膜を用いるこ
とで磁場感度の向上が図れ、現在最も実用的な構造と言
える。
ピンバルブ膜が注目されている。スピンバルブ膜は、反
強磁性体層/強磁性体層/非磁性体層/強磁性体層の4
層薄膜構造を有している。スピンバブル膜では、反強磁
性体層との交換相互作用により、反強磁性体層と接する
強磁性体層の磁化が一方向に固定されている。この磁化
方向が固定された強磁性体層とは非磁性体層で分離され
ている、もう一方の強磁性体層の磁化は、決まった磁化
方向をとらず外部磁場に対して自由に回転するようにな
っている。この自由に磁化方向が回転する方の強磁性体
層にNiFe合金などのソフト性の高い薄膜を用いるこ
とで磁場感度の向上が図れ、現在最も実用的な構造と言
える。
【0012】なお、以下、反強磁性体層と、この反強磁
性体層との交換相互作用によって磁化を固定される強磁
性体層とからなる膜を交換結合膜とする。また、磁化の
方向が固定される強磁性体層をピン層と称する一方、外
部磁場にて磁化の方向が自由に回転するよう設けられる
強磁性体層をフリー層と称する。
性体層との交換相互作用によって磁化を固定される強磁
性体層とからなる膜を交換結合膜とする。また、磁化の
方向が固定される強磁性体層をピン層と称する一方、外
部磁場にて磁化の方向が自由に回転するよう設けられる
強磁性体層をフリー層と称する。
【0013】上記のようなスピンバルブ膜の、強磁性体
層の磁化を固定する反強磁性体層については様々な報告
がなされており、反強磁性材料としてFeMn合金やN
iOを用いる例が従来よりよく知られている。
層の磁化を固定する反強磁性体層については様々な報告
がなされており、反強磁性材料としてFeMn合金やN
iOを用いる例が従来よりよく知られている。
【0014】しかしながら、FeMn合金を用いたもの
では、交換結合磁界は温度の上昇とともに減少し、約1
50℃で交換結合磁界は消失してしまう。すなわち約1
50℃でFeMn合金は反強磁性を失う。この温度をブ
ロッキング温度(Tb )とよんでいる。このようにFe
Mn合金ではブロッキング温度が約150℃と低く、ま
た、交換結合磁界が温度の上昇と共に単調に減少するた
め、FeMn合金を用いた交換結合膜を磁気抵抗効果素
子に応用した際、その使用温度を低温に維持しておく必
要がある。
では、交換結合磁界は温度の上昇とともに減少し、約1
50℃で交換結合磁界は消失してしまう。すなわち約1
50℃でFeMn合金は反強磁性を失う。この温度をブ
ロッキング温度(Tb )とよんでいる。このようにFe
Mn合金ではブロッキング温度が約150℃と低く、ま
た、交換結合磁界が温度の上昇と共に単調に減少するた
め、FeMn合金を用いた交換結合膜を磁気抵抗効果素
子に応用した際、その使用温度を低温に維持しておく必
要がある。
【0015】また、このFeMn合金を用いた交換結合
膜は、昇温降温プロセス(熱履歴)によって交換結合磁
界が大幅に減少する。このため、FeMn合金を用いた
交換結合膜を用いて磁気抵抗効果素子を製造する際、そ
の製造プロセス温度を低温に制御する必要がある。この
ことは磁気抵抗効果素子の構造的な信頼性低下の原因に
つながる。また、このFeMn合金は腐食に弱く、水分
を含む空気中にさらしておくと急速に錆びてしまい、本
来の機能を失ってしまう。
膜は、昇温降温プロセス(熱履歴)によって交換結合磁
界が大幅に減少する。このため、FeMn合金を用いた
交換結合膜を用いて磁気抵抗効果素子を製造する際、そ
の製造プロセス温度を低温に制御する必要がある。この
ことは磁気抵抗効果素子の構造的な信頼性低下の原因に
つながる。また、このFeMn合金は腐食に弱く、水分
を含む空気中にさらしておくと急速に錆びてしまい、本
来の機能を失ってしまう。
【0016】一方、NiOは酸化物であるため、その耐
食性は非常に優れたものである。また、NiOを用いた
交換結合膜のブロッキング温度も、200℃とFeMn
合金より高い。ところが、その交換結合磁界はFeMn
合金に比べて小さい上に、100℃程度の温度になると
大きく減少してしまう。従って、これを磁気抵抗効果素
子に用いるには問題がある。
食性は非常に優れたものである。また、NiOを用いた
交換結合膜のブロッキング温度も、200℃とFeMn
合金より高い。ところが、その交換結合磁界はFeMn
合金に比べて小さい上に、100℃程度の温度になると
大きく減少してしまう。従って、これを磁気抵抗効果素
子に用いるには問題がある。
【0017】上記の理由により、これらFeMn合金や
NiOを反強磁性体層に用いた交換結合膜を応用して、
磁気特性や構造的な信頼性が優れた磁気抵抗効果素子を
製造することは困難である。
NiOを反強磁性体層に用いた交換結合膜を応用して、
磁気特性や構造的な信頼性が優れた磁気抵抗効果素子を
製造することは困難である。
【0018】そこで、反強磁性体層の材料にMnの合金
を用いることによって、優れた交換結合膜を得るための
検討が行われており、特開平6−314617号公報に
は、反強磁性体層としてMnにCu,Ru,Rh,R
e,Ag,Au,Os,Irを25〜76原子%添加、
あるいはPd,Ptを25〜60原子%または65〜7
6原子%添加したものを用いることによって、反強磁性
体層の耐食性と熱的安定性を向上させ、それを強磁性体
層と積層することによって交換結合膜を形成する例が開
示されている。
を用いることによって、優れた交換結合膜を得るための
検討が行われており、特開平6−314617号公報に
は、反強磁性体層としてMnにCu,Ru,Rh,R
e,Ag,Au,Os,Irを25〜76原子%添加、
あるいはPd,Ptを25〜60原子%または65〜7
6原子%添加したものを用いることによって、反強磁性
体層の耐食性と熱的安定性を向上させ、それを強磁性体
層と積層することによって交換結合膜を形成する例が開
示されている。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に開示されている、MnにCu,Ru,Rh,Re,
Ag,Au,Os,Ir,Pd,Pt等を添加した材料
を反強磁性体層に用いた交換結合膜では、耐食性は確か
にFeMn合金を用いた交換結合膜より向上している
が、交換結合磁界が小さく、最大でも20Oe程でしか
ない。前述したように、磁気抵抗効果素子とは、外部磁
場に応じて磁化の方向が回転するフリー層の強磁性体層
と、非磁性層と、磁化の方向が一方向に固定されたピン
層の強磁性体層とがこの順に配置され、二つの強磁性体
層の磁化の向きのなす角度によって磁気抵抗効果が生じ
るものである。したがって、このとき二つの強磁性体層
の磁気特性が同様のものであると、外部磁場によって二
つの強磁性体層の磁化が同時に回転してしまい、両者の
磁化の向きに角度が生じず、磁気抵抗効果が得られな
い。
報に開示されている、MnにCu,Ru,Rh,Re,
Ag,Au,Os,Ir,Pd,Pt等を添加した材料
を反強磁性体層に用いた交換結合膜では、耐食性は確か
にFeMn合金を用いた交換結合膜より向上している
が、交換結合磁界が小さく、最大でも20Oe程でしか
ない。前述したように、磁気抵抗効果素子とは、外部磁
場に応じて磁化の方向が回転するフリー層の強磁性体層
と、非磁性層と、磁化の方向が一方向に固定されたピン
層の強磁性体層とがこの順に配置され、二つの強磁性体
層の磁化の向きのなす角度によって磁気抵抗効果が生じ
るものである。したがって、このとき二つの強磁性体層
の磁気特性が同様のものであると、外部磁場によって二
つの強磁性体層の磁化が同時に回転してしまい、両者の
磁化の向きに角度が生じず、磁気抵抗効果が得られな
い。
【0020】このため、ピン層となるべき強磁性体層に
接して反強磁性体層を積層し、強磁性体層と反強磁性体
層との間で生じる交換結合磁界によって強磁性体層の磁
化を一方向に固定し、ピン層とフリー層との磁化の方向
に角度を持たせるようにしている。
接して反強磁性体層を積層し、強磁性体層と反強磁性体
層との間で生じる交換結合磁界によって強磁性体層の磁
化を一方向に固定し、ピン層とフリー層との磁化の方向
に角度を持たせるようにしている。
【0021】したがって、上記公報に記載されている、
最大でも20Oe程度の小さな交換結合磁界の交換結合
膜では、外部磁場によって容易にピン層の磁化が回転し
てしまい、信号磁界からの出力を安定して得られなくな
り、磁気抵抗効果素子に応用することは困難である。
最大でも20Oe程度の小さな交換結合磁界の交換結合
膜では、外部磁場によって容易にピン層の磁化が回転し
てしまい、信号磁界からの出力を安定して得られなくな
り、磁気抵抗効果素子に応用することは困難である。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の請求項1に記載の交換結合膜は、強磁性
体膜と、該強磁性体膜に隣接して形成された反強磁性体
膜とを備え、上記強磁性体膜と上記反強磁性体膜との交
換結合により、上記強磁性体膜の磁化の方向が固定され
ている交換結合膜において、上記反強磁性体膜がMnP
t合金からなると共に、上記強磁性体膜がfcc構造で
(111)配向しており、かつ、これら反強磁性体膜と
強磁性体膜との積層膜には、交換結合磁界を高めるため
の熱処理が施されていることを特徴としている。
めに、本発明の請求項1に記載の交換結合膜は、強磁性
体膜と、該強磁性体膜に隣接して形成された反強磁性体
膜とを備え、上記強磁性体膜と上記反強磁性体膜との交
換結合により、上記強磁性体膜の磁化の方向が固定され
ている交換結合膜において、上記反強磁性体膜がMnP
t合金からなると共に、上記強磁性体膜がfcc構造で
(111)配向しており、かつ、これら反強磁性体膜と
強磁性体膜との積層膜には、交換結合磁界を高めるため
の熱処理が施されていることを特徴としている。
【0023】また、本発明の請求項3に記載の交換結合
膜の製造方法は、強磁性体膜と、該強磁性体膜に隣接し
て形成された反強磁性体膜とを備え、上記強磁性体膜と
上記反強磁性体膜との交換結合により、上記強磁性体膜
の磁化の方向が固定されている交換結合膜の製造方法に
おいて、fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向
させて成膜すると共に、さらにこの上にMnPt合金か
らなる反強磁性体膜を成膜し、その後、これら強磁性体
膜と反強磁性体膜との積層膜に対して、交換結合磁界を
高めるための熱処理を施すことを特徴としている。
膜の製造方法は、強磁性体膜と、該強磁性体膜に隣接し
て形成された反強磁性体膜とを備え、上記強磁性体膜と
上記反強磁性体膜との交換結合により、上記強磁性体膜
の磁化の方向が固定されている交換結合膜の製造方法に
おいて、fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向
させて成膜すると共に、さらにこの上にMnPt合金か
らなる反強磁性体膜を成膜し、その後、これら強磁性体
膜と反強磁性体膜との積層膜に対して、交換結合磁界を
高めるための熱処理を施すことを特徴としている。
【0024】請求項1および請求項3の構成では、強磁
性体膜の構造がfcc構造で(111)配向している。
fcc構造の最密面は(111)面であるため、強磁性
体膜は、反強磁性体膜との界面に最も多くの原子が配列
している配向になり、反強磁性体膜のMn原子と交換結
合する原子が多くなっている。
性体膜の構造がfcc構造で(111)配向している。
fcc構造の最密面は(111)面であるため、強磁性
体膜は、反強磁性体膜との界面に最も多くの原子が配列
している配向になり、反強磁性体膜のMn原子と交換結
合する原子が多くなっている。
【0025】また、上記熱処理は、反強磁性体膜のMn
原子の磁気秩序を向上させる働きをする。すなわち、熱
処理前の反強磁性体膜では、Mn原子とPt原子とが無
秩序に配列している。このため、Mn原子のもつ磁化の
向きが無秩序になっており、強磁性体膜の原子と交換結
合するMn原子は少ない。ところが、反強磁性体膜を強
磁性体膜と接合した状態で熱処理を行うと、熱振動によ
るMn原子とPt原子の再配列によって結晶が規則化
し、反強磁性体膜のMn原子の反強磁性秩序化が促進さ
れる。同時に、反強磁性体膜と強磁性体膜との界面で
は、ある程度ランダムに向いていたMn原子の磁気モー
メントが熱振動によって回転し、NiFe合金の磁気モ
ーメントと強磁性的に結合する。これら二つの効果によ
り、強磁性体膜と反強磁性体膜との交換結合が増大する
のである。
原子の磁気秩序を向上させる働きをする。すなわち、熱
処理前の反強磁性体膜では、Mn原子とPt原子とが無
秩序に配列している。このため、Mn原子のもつ磁化の
向きが無秩序になっており、強磁性体膜の原子と交換結
合するMn原子は少ない。ところが、反強磁性体膜を強
磁性体膜と接合した状態で熱処理を行うと、熱振動によ
るMn原子とPt原子の再配列によって結晶が規則化
し、反強磁性体膜のMn原子の反強磁性秩序化が促進さ
れる。同時に、反強磁性体膜と強磁性体膜との界面で
は、ある程度ランダムに向いていたMn原子の磁気モー
メントが熱振動によって回転し、NiFe合金の磁気モ
ーメントと強磁性的に結合する。これら二つの効果によ
り、強磁性体膜と反強磁性体膜との交換結合が増大する
のである。
【0026】従って、本発明の交換結合膜では、交換結
合にかかる反強磁性体膜のMn原子と強磁性体膜の原子
が多いので、従来の20Oe以上の交換結合磁界を得る
ことができる。
合にかかる反強磁性体膜のMn原子と強磁性体膜の原子
が多いので、従来の20Oe以上の交換結合磁界を得る
ことができる。
【0027】ここで、上記反強磁性体膜をなすMnPt
合金のPtの組成比は32〜50原子%であることが好
ましい。これによって、現在実用に供されているFeM
n合金を用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界よ
りも大きな交換結合磁界を得ることができる。
合金のPtの組成比は32〜50原子%であることが好
ましい。これによって、現在実用に供されているFeM
n合金を用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界よ
りも大きな交換結合磁界を得ることができる。
【0028】また、上記の製造方法においては、特に、
fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向させて成
膜する前に、該強磁性体膜の(111)方向への配向性
を高める下地膜を形成しておき、該下地膜の上に上記強
磁性体膜を形成することが好ましい。
fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向させて成
膜する前に、該強磁性体膜の(111)方向への配向性
を高める下地膜を形成しておき、該下地膜の上に上記強
磁性体膜を形成することが好ましい。
【0029】このように、強磁性体膜の(111)方向
への配向性を高める下地層を形成してから強磁性体膜を
成膜することで、fcc構造を持つ強磁性体膜の配向を
(111)配向にそろえ、かつ、熱処理の際に、強磁性
体膜が形成される基板と該強磁性体膜との間で起こる不
要な反応を防止できる。
への配向性を高める下地層を形成してから強磁性体膜を
成膜することで、fcc構造を持つ強磁性体膜の配向を
(111)配向にそろえ、かつ、熱処理の際に、強磁性
体膜が形成される基板と該強磁性体膜との間で起こる不
要な反応を防止できる。
【0030】なお、本発明の交換結合膜とその製造方法
とにおける強磁性体膜は、結晶構造がfcc構造であれ
ば特に限定されないが、例えばNiFe合金、FeCo
合金等が挙げられる。
とにおける強磁性体膜は、結晶構造がfcc構造であれ
ば特に限定されないが、例えばNiFe合金、FeCo
合金等が挙げられる。
【0031】また、本発明の交換結合膜とその製造方法
における下地層は、強磁性体膜の配向性を高めると共に
強磁性体膜と基板との反応を防ぐものであれば特に限定
されないが、Taの単層膜やTaを含む積層膜等が挙げ
られる。また、基板には、ガラスやSi等が用いられ、
特にSi基板を用いた場合、熱処理によって基板のSi
と強磁性体膜とが反応し、強磁性体膜の磁化が失われる
といった事態を招来し易いので、このような製造方法が
特に好ましい。
における下地層は、強磁性体膜の配向性を高めると共に
強磁性体膜と基板との反応を防ぐものであれば特に限定
されないが、Taの単層膜やTaを含む積層膜等が挙げ
られる。また、基板には、ガラスやSi等が用いられ、
特にSi基板を用いた場合、熱処理によって基板のSi
と強磁性体膜とが反応し、強磁性体膜の磁化が失われる
といった事態を招来し易いので、このような製造方法が
特に好ましい。
【0032】本発明の請求項5に記載の磁気抵抗効果素
子は、請求項1又は2に記載の交換結合膜或いは請求項
3又は4に記載の交換結合膜の製造方法によって製造さ
れた交換結合膜を備え、上記交換結合膜における強磁性
体膜に隣接して金属非磁性層が形成されると共に、上記
金属非磁性層に隣接して磁化の方向が自由に回転する第
2の強磁性体膜が形成されており、上記交換結合膜にお
ける強磁性体膜と上記第2の強磁性体膜との磁化の向き
のなす角度によって磁気抵抗効果を持つことを特徴とし
ている。
子は、請求項1又は2に記載の交換結合膜或いは請求項
3又は4に記載の交換結合膜の製造方法によって製造さ
れた交換結合膜を備え、上記交換結合膜における強磁性
体膜に隣接して金属非磁性層が形成されると共に、上記
金属非磁性層に隣接して磁化の方向が自由に回転する第
2の強磁性体膜が形成されており、上記交換結合膜にお
ける強磁性体膜と上記第2の強磁性体膜との磁化の向き
のなす角度によって磁気抵抗効果を持つことを特徴とし
ている。
【0033】上記のような磁気抵抗効果素子では、強磁
性体層は、強磁性体層と金属非磁性層とを通して、下地
層によってその(111)配向を高められている。
性体層は、強磁性体層と金属非磁性層とを通して、下地
層によってその(111)配向を高められている。
【0034】この磁気抵抗効果素子は上記の交換結合膜
を用いているので、製造工程における加熱や冷却などの
熱履歴によるダメージがない。また、この素子を磁気記
録用再生システムに組み込んで使用する際に、素子に印
加される外乱磁場や気温等の環境の変化に影響されるこ
とがない。従って、信頼性の高い磁気抵抗効果素子を得
ることができる。
を用いているので、製造工程における加熱や冷却などの
熱履歴によるダメージがない。また、この素子を磁気記
録用再生システムに組み込んで使用する際に、素子に印
加される外乱磁場や気温等の環境の変化に影響されるこ
とがない。従って、信頼性の高い磁気抵抗効果素子を得
ることができる。
【0035】この結果、本発明の交換結合膜は、磁気記
録用再生ヘッドあるいは磁気センサ等に使用される磁気
抵抗効果素子に応用できる。
録用再生ヘッドあるいは磁気センサ等に使用される磁気
抵抗効果素子に応用できる。
【0036】
【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
1ないし図7に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。本実施の形態に係る交換結合膜は、図1に示すよう
に、ガラスまたはSiからなる基板1上に、下地層(下
地膜)2を介して、fcc構造で(111)配向されて
いる強磁性体層(強磁性体膜)3と、MnPt合金から
なる反強磁性体層(反強磁性体膜)4とが順に積層され
た構成を有している。そして、これら強磁性体層3と反
強磁性体層4とには、積層された状態で交換結合磁界を
強めるべく、所定の温度での熱処理が施されている。
1ないし図7に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。本実施の形態に係る交換結合膜は、図1に示すよう
に、ガラスまたはSiからなる基板1上に、下地層(下
地膜)2を介して、fcc構造で(111)配向されて
いる強磁性体層(強磁性体膜)3と、MnPt合金から
なる反強磁性体層(反強磁性体膜)4とが順に積層され
た構成を有している。そして、これら強磁性体層3と反
強磁性体層4とには、積層された状態で交換結合磁界を
強めるべく、所定の温度での熱処理が施されている。
【0037】上記強磁性体層3は、結晶構造がfcc構
造である強磁性体からなり、(111)配向されている
ので、交換結合磁界を高めることができる。つまり、f
cc構造の最密面は(111)面であるため、(11
1)配向とすることで、強磁性体層3は、反強磁性体層
4との界面に最も多く原子が配列している配向になり、
反強磁性体層4のMn原子と相互作用する原子が多くな
るためである。強磁性体層3の材料としては、結晶構造
がfcc構造である強磁性体であれば、特に限定される
ものではないが、NiFe合金や、CoFe合金等が用
いられる。
造である強磁性体からなり、(111)配向されている
ので、交換結合磁界を高めることができる。つまり、f
cc構造の最密面は(111)面であるため、(11
1)配向とすることで、強磁性体層3は、反強磁性体層
4との界面に最も多く原子が配列している配向になり、
反強磁性体層4のMn原子と相互作用する原子が多くな
るためである。強磁性体層3の材料としては、結晶構造
がfcc構造である強磁性体であれば、特に限定される
ものではないが、NiFe合金や、CoFe合金等が用
いられる。
【0038】反強磁性体層4は、MnPt合金からな
り、隣接する上記強磁性体層3との間に生じる交換結合
磁界により、強磁性体層3の磁化方向を一方向に固定す
るものである。下地層2は、fcc構造を持つ強磁性体
層3の(111)方向への配向性を高めるためのもの
で、fcc構造を持つ強磁性体層3の(111)方向へ
の配向性を高めるものであれば特に限定されないが、T
aの単層膜やTaを含む積層膜を用いることができる。
り、隣接する上記強磁性体層3との間に生じる交換結合
磁界により、強磁性体層3の磁化方向を一方向に固定す
るものである。下地層2は、fcc構造を持つ強磁性体
層3の(111)方向への配向性を高めるためのもの
で、fcc構造を持つ強磁性体層3の(111)方向へ
の配向性を高めるものであれば特に限定されないが、T
aの単層膜やTaを含む積層膜を用いることができる。
【0039】なお、実験的には、NiFe合金は結晶質
の基板上に成膜すれば(111)配向しやすく、非晶質
の基板上では配向しないことが確認されている。また、
NiFe合金の格子定数とほぼ一致する格子定数をも
つ、Taのような下地上に成膜すると、NiFe合金の
(111)配向が強くなると考えられている。
の基板上に成膜すれば(111)配向しやすく、非晶質
の基板上では配向しないことが確認されている。また、
NiFe合金の格子定数とほぼ一致する格子定数をも
つ、Taのような下地上に成膜すると、NiFe合金の
(111)配向が強くなると考えられている。
【0040】また、この下地層2は、上記の熱処理の際
に、基板1と強磁性体層3との反応を防止する機能も有
している。
に、基板1と強磁性体層3との反応を防止する機能も有
している。
【0041】強磁性体層3と反強磁性体層4とを積層し
た後に行なう熱処理は、反強磁性体層4のMn原子の磁
気秩序を向上させる働きをするものである。すなわち、
熱処理前の反強磁性体層4では、Mn原子とPt原子と
が無秩序に配列しているため、Mn原子のもつ磁化の向
きが無秩序になっており、強磁性体層3の原子と交換結
合するMn原子は少ない。ところが、反強磁性体層4を
強磁性体層3と接合した状態で熱処理を行うと、熱振動
によって反強磁性体層4の結晶構造が規則化され、Mn
原子の反強磁性秩序化が促進される。同時に、反強磁性
体層4と強磁性体層3との界面では、ある程度ランダム
に向いていたMn原子の磁気モーメントが熱振動によっ
て回転し、NiFe合金の磁気モーメントと強磁性的に
結合する。これら二つの効果により、強磁性体膜3と反
強磁性体膜4との交換結合が増大するのである。
た後に行なう熱処理は、反強磁性体層4のMn原子の磁
気秩序を向上させる働きをするものである。すなわち、
熱処理前の反強磁性体層4では、Mn原子とPt原子と
が無秩序に配列しているため、Mn原子のもつ磁化の向
きが無秩序になっており、強磁性体層3の原子と交換結
合するMn原子は少ない。ところが、反強磁性体層4を
強磁性体層3と接合した状態で熱処理を行うと、熱振動
によって反強磁性体層4の結晶構造が規則化され、Mn
原子の反強磁性秩序化が促進される。同時に、反強磁性
体層4と強磁性体層3との界面では、ある程度ランダム
に向いていたMn原子の磁気モーメントが熱振動によっ
て回転し、NiFe合金の磁気モーメントと強磁性的に
結合する。これら二つの効果により、強磁性体膜3と反
強磁性体膜4との交換結合が増大するのである。
【0042】熱処理温度としては、交換結合磁界が向上
する温度であればよいが、(111)配向した強磁性体
層3とMnPt合金からなる反強磁性体層4の積層膜の
場合、200℃程度から交換結合磁界が高まる。そし
て、処理温度の上昇と共に交換結合磁界が高まるが、そ
の上限は、温度が高くなることで生じる、強磁性体層3
の磁気特性劣化や、反強磁性体層4と強磁性体層3との
界面での原子の拡散等の問題を考慮する必要がある。こ
のような構成を有する交換結合膜においては、従来の2
0Oe以上の交換結合磁界を得ることができる。
する温度であればよいが、(111)配向した強磁性体
層3とMnPt合金からなる反強磁性体層4の積層膜の
場合、200℃程度から交換結合磁界が高まる。そし
て、処理温度の上昇と共に交換結合磁界が高まるが、そ
の上限は、温度が高くなることで生じる、強磁性体層3
の磁気特性劣化や、反強磁性体層4と強磁性体層3との
界面での原子の拡散等の問題を考慮する必要がある。こ
のような構成を有する交換結合膜においては、従来の2
0Oe以上の交換結合磁界を得ることができる。
【0043】そして、ブロッキング温度も、従来から報
告されているFeMn合金とNiOを反強磁性体層4に
用いた交換結合膜のブロッキング温度(それぞれ150
℃、200℃)に比べ、より高いものとなり、高い熱的
安定性を示すものとなる。
告されているFeMn合金とNiOを反強磁性体層4に
用いた交換結合膜のブロッキング温度(それぞれ150
℃、200℃)に比べ、より高いものとなり、高い熱的
安定性を示すものとなる。
【0044】また、MnPt合金のPt組成としては、
32〜50原子%であることが好ましい。このような組
成比とすることで、現在実用に供されているFeMnを
用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界よりも大き
な交換結合磁界を得ることができる。例えば、反強磁性
体層4のMnPt合金のPt組成比を上記範囲内とする
ことで、200℃で50Oe以上、270℃で330O
e以上の交換結合磁界を得ることができる。
32〜50原子%であることが好ましい。このような組
成比とすることで、現在実用に供されているFeMnを
用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界よりも大き
な交換結合磁界を得ることができる。例えば、反強磁性
体層4のMnPt合金のPt組成比を上記範囲内とする
ことで、200℃で50Oe以上、270℃で330O
e以上の交換結合磁界を得ることができる。
【0045】尚、反強磁性体層4の層厚は、反強磁性を
発現する範囲であれば特に限定されないが、高い交換結
合磁界を得るためにはできるだけ厚い方が好ましい。
発現する範囲であれば特に限定されないが、高い交換結
合磁界を得るためにはできるだけ厚い方が好ましい。
【0046】そして、図7に示すように、本交換結合膜
の構成を採用し、基板1上に、下地層2を介して磁化の
方向が自由に回転するフリー層となる第2の強磁性体層
(第2の強磁性体膜)11と金属非磁性層12とを順に
形成し、この上に、上記交換結合膜の強磁性体層3をピ
ン層として形成し、この上に反強磁性体層4を構成し、
保護層13を形成し、その後所定の温度で熱処理するこ
とで、第2の強磁性体層11と強磁性体層3との磁化の
向きのなす角度によって磁気抵抗効果を持つ磁気抵抗効
果素子を得ることができる。上記のような磁気抵抗効果
素子では、強磁性体層3は、第2の強磁性体層11と金
属非磁性層12とを通して、下地層2によってその(1
11)配向を高められている。
の構成を採用し、基板1上に、下地層2を介して磁化の
方向が自由に回転するフリー層となる第2の強磁性体層
(第2の強磁性体膜)11と金属非磁性層12とを順に
形成し、この上に、上記交換結合膜の強磁性体層3をピ
ン層として形成し、この上に反強磁性体層4を構成し、
保護層13を形成し、その後所定の温度で熱処理するこ
とで、第2の強磁性体層11と強磁性体層3との磁化の
向きのなす角度によって磁気抵抗効果を持つ磁気抵抗効
果素子を得ることができる。上記のような磁気抵抗効果
素子では、強磁性体層3は、第2の強磁性体層11と金
属非磁性層12とを通して、下地層2によってその(1
11)配向を高められている。
【0047】このようにして得た磁気抵抗効果素子で
は、製造工程における加熱や冷却などの熱履歴によるダ
メージがなく、また、この素子を磁気記録用再生システ
ムに組み込んで使用する際に、素子に印加される外乱磁
場や気温等の環境の変化に影響されることがないので、
信頼性の高い磁気抵抗効果素子を得ることができる。
は、製造工程における加熱や冷却などの熱履歴によるダ
メージがなく、また、この素子を磁気記録用再生システ
ムに組み込んで使用する際に、素子に印加される外乱磁
場や気温等の環境の変化に影響されることがないので、
信頼性の高い磁気抵抗効果素子を得ることができる。
【0048】次に、本実施の形態に係る実施例を説明す
る。
る。
【0049】〔実施例1〕本発明の第1の実施例を、図
1および図3を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜のサンプル#1・#2と比較サンプル
#1・#2を、図1を用いて以下に示す。
1および図3を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜のサンプル#1・#2と比較サンプル
#1・#2を、図1を用いて以下に示す。
【0050】サンプル#1は、ガラスからなる基板1の
上に、Taからなる下地層2、NiFe合金からなる強
磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金か
らなる反強磁性体層4を積層して作成した。
上に、Taからなる下地層2、NiFe合金からなる強
磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金か
らなる反強磁性体層4を積層して作成した。
【0051】比較サンプル#1は、ガラスからなる基板
1の上に、下地層2を用いずに、NiFe合金からなる
強磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金
からなる反強磁性体層4を積層して作成した。
1の上に、下地層2を用いずに、NiFe合金からなる
強磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金
からなる反強磁性体層4を積層して作成した。
【0052】サンプル#2は、Siからなる基板1の上
に、Taからなる下地層2、NiFe合金からなる強磁
性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金から
なる反強磁性体層4を積層して作成した。
に、Taからなる下地層2、NiFe合金からなる強磁
性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金から
なる反強磁性体層4を積層して作成した。
【0053】比較サンプル#2は、Siからなる基板1
の上に、下地層2を用いずに、NiFe合金からなる強
磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金か
らなる反強磁性体層4を積層して作成した。
の上に、下地層2を用いずに、NiFe合金からなる強
磁性体層3、Ptの組成が48原子%のMnPt合金か
らなる反強磁性体層4を積層して作成した。
【0054】サンプル#1・#2の各層2〜4および比
較サンプル#1・#2の各層3・4は、一つの成膜装置
を用いて4×10-7Torr以下まで排気後、同一真空
中で成膜したものである。また、上記各層2〜4の膜厚
は、各サンプル#1・#2および各比較サンプル#1・
#2において等しくなっている。
較サンプル#1・#2の各層3・4は、一つの成膜装置
を用いて4×10-7Torr以下まで排気後、同一真空
中で成膜したものである。また、上記各層2〜4の膜厚
は、各サンプル#1・#2および各比較サンプル#1・
#2において等しくなっている。
【0055】また、上記各層2〜4のスパッタ条件は以
下の通りである。下地層2、および反強磁性体層4は、
DCマグネトロンスパッタ法にて、Ar圧が5mTor
r、Power=641mW/cm2 、の成膜条件で所
定膜厚成膜した。強磁性体層3はRFコンベンショナル
スパッタ法にて、Ar圧:5mTorr、Power:
130mW/cm2 、基板バイアス=+50Vの成膜条
件で所定膜厚成膜した。
下の通りである。下地層2、および反強磁性体層4は、
DCマグネトロンスパッタ法にて、Ar圧が5mTor
r、Power=641mW/cm2 、の成膜条件で所
定膜厚成膜した。強磁性体層3はRFコンベンショナル
スパッタ法にて、Ar圧:5mTorr、Power:
130mW/cm2 、基板バイアス=+50Vの成膜条
件で所定膜厚成膜した。
【0056】上記のようなサンプル#1・#2、比較サ
ンプル#1・#2に、300Oeの磁界を印加しなが
ら、真空中で270°Cの温度で熱処理を行い、磁化測
定とX線回折(XRD)とを行った。サンプル#1・#
2の磁化測定のデータを図2(a)・(c)に、また、
XRDの結果を図3(a)・(c)に示す。また、比較
サンプル#1・#2の磁化測定のデータを図2(b)・
(d)に、また、XRDの結果を図3(b)・(d)に
示す。なお、図示していないが、熱処理前には、サンプ
ル#1・#2、比較サンプル#1・#2の交換結合磁界
は見られなかった。
ンプル#1・#2に、300Oeの磁界を印加しなが
ら、真空中で270°Cの温度で熱処理を行い、磁化測
定とX線回折(XRD)とを行った。サンプル#1・#
2の磁化測定のデータを図2(a)・(c)に、また、
XRDの結果を図3(a)・(c)に示す。また、比較
サンプル#1・#2の磁化測定のデータを図2(b)・
(d)に、また、XRDの結果を図3(b)・(d)に
示す。なお、図示していないが、熱処理前には、サンプ
ル#1・#2、比較サンプル#1・#2の交換結合磁界
は見られなかった。
【0057】図2(a)〜(c)に示すように、サンプ
ル#1・#2および比較サンプル#1では、交換結合に
よる磁化曲線のシフトがみられ、熱処理前にはなかった
交換結合磁界(Hex)が現れていることを示しており、
特にTaの下地層2のあるサンプル#1・#2で著しく
大きいことがわかる。また、比較サンプル#2では磁化
曲線は平坦になり、磁化が消失していることを示してい
る。なお、この測定では、磁化曲線の0磁界からのシフ
ト量を交換結合磁界としている。
ル#1・#2および比較サンプル#1では、交換結合に
よる磁化曲線のシフトがみられ、熱処理前にはなかった
交換結合磁界(Hex)が現れていることを示しており、
特にTaの下地層2のあるサンプル#1・#2で著しく
大きいことがわかる。また、比較サンプル#2では磁化
曲線は平坦になり、磁化が消失していることを示してい
る。なお、この測定では、磁化曲線の0磁界からのシフ
ト量を交換結合磁界としている。
【0058】また、図3(a)・(b)・(d)に見ら
れるように、サンプル#1・#2および比較サンプル#
2では、NiFe合金の(111)ピークが現れてお
り、強磁性体層3は(111)配向していることがわか
る。一方、比較サンプル#1では、図3(b)に示すよ
うに、MnPt合金の弱い(111)ピークが見られる
のみで、NiFe合金の(111)ピークは見られず、
強磁性体層3は(111)配向していないことがわか
る。上記の結果を表1にまとめて示す。
れるように、サンプル#1・#2および比較サンプル#
2では、NiFe合金の(111)ピークが現れてお
り、強磁性体層3は(111)配向していることがわか
る。一方、比較サンプル#1では、図3(b)に示すよ
うに、MnPt合金の弱い(111)ピークが見られる
のみで、NiFe合金の(111)ピークは見られず、
強磁性体層3は(111)配向していないことがわか
る。上記の結果を表1にまとめて示す。
【0059】
【表1】
【0060】上記の結果より、サンプル#1・#2で
は、強磁性体層3が(111)配向しているので、交換
結合磁界が高いと考えられる。また、比較サンプル#1
の交換結合磁界が低いのは、下地層2がないために強磁
性体層3の(111)配向がないためと考えられる。
は、強磁性体層3が(111)配向しているので、交換
結合磁界が高いと考えられる。また、比較サンプル#1
の交換結合磁界が低いのは、下地層2がないために強磁
性体層3の(111)配向がないためと考えられる。
【0061】一方、比較サンプル#2は、強磁性体層3
が(111)配向しているにもかかわらず、その磁化曲
線が平坦になり強磁性体層3の磁化が消失している。こ
れは、熱処理によって基板1のSiと、強磁性体層3の
NiFe合金とが反応したため、NiFe合金の磁化が
消失してしまったものと考えられる。
が(111)配向しているにもかかわらず、その磁化曲
線が平坦になり強磁性体層3の磁化が消失している。こ
れは、熱処理によって基板1のSiと、強磁性体層3の
NiFe合金とが反応したため、NiFe合金の磁化が
消失してしまったものと考えられる。
【0062】従って、下地層2は、NiFe合金からな
る強磁性体層3を(111)に配向させ、さらに、Si
の基板1とNiFe合金の強磁性体層3の反応を防ぐ拡
散防止膜の役割を果たしているといえる。
る強磁性体層3を(111)に配向させ、さらに、Si
の基板1とNiFe合金の強磁性体層3の反応を防ぐ拡
散防止膜の役割を果たしているといえる。
【0063】以上より、サンプル#1・#2のように、
下地層にTaを用いて成膜すると、高い交換結合磁界を
持つ交換結合膜を得ることができるといえる。
下地層にTaを用いて成膜すると、高い交換結合磁界を
持つ交換結合膜を得ることができるといえる。
【0064】〔実施例2〕本発明の第2の実施例を、図
1および図4を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜は、図1に示すように、ガラスからな
る基板1上に、下地層2としてTaを200Å、強磁性
体層3としてNiFe合金を100Å、反強磁性体層4
としてMnPt合金を200Å積層したものである。こ
こで、反強磁性体層4であるMnPt合金のPt組成比
は、32〜50原子%の範囲で種々に変化させている。
なお、各層2〜4の成膜条件は、実施例1と同様であ
る。
1および図4を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜は、図1に示すように、ガラスからな
る基板1上に、下地層2としてTaを200Å、強磁性
体層3としてNiFe合金を100Å、反強磁性体層4
としてMnPt合金を200Å積層したものである。こ
こで、反強磁性体層4であるMnPt合金のPt組成比
は、32〜50原子%の範囲で種々に変化させている。
なお、各層2〜4の成膜条件は、実施例1と同様であ
る。
【0065】これらの交換結合膜に、真空中において、
300Oeの磁界中で200℃、230℃、250℃、
270℃の温度でそれぞれ12時間熱処理し、その交換
結合磁界を測定した。その結果を図4に示す。熱処理温
度が高くなるほど、交換結合磁界が最大値をとるPt組
成比は小さくなり、その最大値は大きくなる傾向を示
す。
300Oeの磁界中で200℃、230℃、250℃、
270℃の温度でそれぞれ12時間熱処理し、その交換
結合磁界を測定した。その結果を図4に示す。熱処理温
度が高くなるほど、交換結合磁界が最大値をとるPt組
成比は小さくなり、その最大値は大きくなる傾向を示
す。
【0066】図4に示すように、反強磁性体層4のPt
組成比が45〜48原子%の交換結合膜では、熱処理温
度が200℃と比較的低温であっても、FeMn合金の
反強磁性体層を持つ交換結合膜と比較して、遜色のない
強い交換結合磁界が得られ、さらに、熱処理温度が23
0℃のものでは、約170〜200Oeという非常に強
い交換結合磁界が得られている。
組成比が45〜48原子%の交換結合膜では、熱処理温
度が200℃と比較的低温であっても、FeMn合金の
反強磁性体層を持つ交換結合膜と比較して、遜色のない
強い交換結合磁界が得られ、さらに、熱処理温度が23
0℃のものでは、約170〜200Oeという非常に強
い交換結合磁界が得られている。
【0067】また、250℃以上の熱処理では、反強磁
性体層4のPt組成比が32〜50原子%の広い組成範
囲で交換結合磁界が得られ、特に、45〜48原子%の
組成範囲では強い交換結合を得ることができる。
性体層4のPt組成比が32〜50原子%の広い組成範
囲で交換結合磁界が得られ、特に、45〜48原子%の
組成範囲では強い交換結合を得ることができる。
【0068】〔実施例3〕本発明の第3の実施例を、図
1および図5を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜は、図1に示すように、ガラスからな
る基板1上に、下地層2としてTaを200Å、強磁性
体層3としてNiFe合金を100Å、反強磁性体層4
としてMnPt合金を1000Å積層した構造である。
ここで、反強磁性体層4であるMnPt合金のPt組成
比は、32〜50原子%の範囲で種々に変化させてい
る。なお、各層2〜4の成膜条件は、実施例1と同様で
ある。
1および図5を用いて以下に説明する。本実施例に用い
られる交換結合膜は、図1に示すように、ガラスからな
る基板1上に、下地層2としてTaを200Å、強磁性
体層3としてNiFe合金を100Å、反強磁性体層4
としてMnPt合金を1000Å積層した構造である。
ここで、反強磁性体層4であるMnPt合金のPt組成
比は、32〜50原子%の範囲で種々に変化させてい
る。なお、各層2〜4の成膜条件は、実施例1と同様で
ある。
【0069】これらの交換結合膜に、真空中において、
300Oeの磁界中で200℃、230℃、250℃、
270℃の温度でそれぞれ12時間熱処理し、その交換
結合磁界を測定した。その結果を図5に示す。
300Oeの磁界中で200℃、230℃、250℃、
270℃の温度でそれぞれ12時間熱処理し、その交換
結合磁界を測定した。その結果を図5に示す。
【0070】これらの交換結合膜では、交換結合磁界の
Pt組成比依存性が非常に敏感になり、48原子%近傍
で急峻なピークをもつ傾向が見られ、実施例2に示した
交換結合膜よりも、交換結合磁界が大きくなるPt組成
比領域は狭くなっている。しかし、交換結合磁界が最大
となるPt48原子%での値は大きく、特に低温の熱処
理においても高い交換結合磁界を示している。
Pt組成比依存性が非常に敏感になり、48原子%近傍
で急峻なピークをもつ傾向が見られ、実施例2に示した
交換結合膜よりも、交換結合磁界が大きくなるPt組成
比領域は狭くなっている。しかし、交換結合磁界が最大
となるPt48原子%での値は大きく、特に低温の熱処
理においても高い交換結合磁界を示している。
【0071】以上のように、反強磁性体層4の層厚を厚
くすることで、より高い交換結合磁界を得ることができ
る。
くすることで、より高い交換結合磁界を得ることができ
る。
【0072】〔実施例4〕本発明の第4の実施例を、図
1および図6を用いて以下に示す。本実施例では、本発
明の交換結合膜におけるブロッキング温度の測定の一例
を示す。本実施例に用いられる交換結合膜は、図1に示
すように、ガラスからなる基板1上に、下地層2として
Taを200Å、強磁性体層3としてNiFe合金を1
00Å、反強磁性体層4としてPt組成比が48%のM
nPt合金を1000Å積層した構造である。なお、各
層2〜4の成膜条件は実施例1と同様である。
1および図6を用いて以下に示す。本実施例では、本発
明の交換結合膜におけるブロッキング温度の測定の一例
を示す。本実施例に用いられる交換結合膜は、図1に示
すように、ガラスからなる基板1上に、下地層2として
Taを200Å、強磁性体層3としてNiFe合金を1
00Å、反強磁性体層4としてPt組成比が48%のM
nPt合金を1000Å積層した構造である。なお、各
層2〜4の成膜条件は実施例1と同様である。
【0073】この交換結合膜に、真空中にて、300O
eの外部磁場中で270℃の温度で熱処理し、350°
までの温度範囲の加熱雰囲気中において、交換結合磁界
の雰囲気温度依存性を測定した。その結果を図6に示
す。
eの外部磁場中で270℃の温度で熱処理し、350°
までの温度範囲の加熱雰囲気中において、交換結合磁界
の雰囲気温度依存性を測定した。その結果を図6に示
す。
【0074】交換結合磁界は、130℃まで増加し20
0℃から減少を始める。さらに温度を上げると交換結合
磁界は単調に減少し350℃で消失する。すなわち、こ
の交換結合膜のブロッキング温度は350℃である。
0℃から減少を始める。さらに温度を上げると交換結合
磁界は単調に減少し350℃で消失する。すなわち、こ
の交換結合膜のブロッキング温度は350℃である。
【0075】従来から報告されているFeMn合金とN
iOを反強磁性体層に用いた交換結合膜のブロッキング
温度が、それぞれ150℃、200℃であることを考え
ると、本発明の交換結合膜は非常に高い熱的安定性を示
すことがわかる。
iOを反強磁性体層に用いた交換結合膜のブロッキング
温度が、それぞれ150℃、200℃であることを考え
ると、本発明の交換結合膜は非常に高い熱的安定性を示
すことがわかる。
【0076】なお、この交換結合膜の反強磁性体層4の
Ptの組成比を32〜50原子%の範囲で、また、熱処
理の温度を200℃〜270℃の範囲で種々に変化させ
て上記のように交換結合磁界の雰囲気温度依存性を測定
したところ、それぞれ高いブロッキング温度を持つこと
が確認された。また、反強磁性体層4の層厚を200Å
にして上記のように測定を行ったところ、この場合も高
いブロッキング温度を持つことが確認された。
Ptの組成比を32〜50原子%の範囲で、また、熱処
理の温度を200℃〜270℃の範囲で種々に変化させ
て上記のように交換結合磁界の雰囲気温度依存性を測定
したところ、それぞれ高いブロッキング温度を持つこと
が確認された。また、反強磁性体層4の層厚を200Å
にして上記のように測定を行ったところ、この場合も高
いブロッキング温度を持つことが確認された。
【0077】〔実施例5〕本発明の第5の実施例を図7
を用いて以下に示す。実施例2において、充分な交換結
合磁界が得られた47原子%のMnPt合金からなる反
強磁性体層4を持つ交換結合膜を用いて、磁気抵抗効果
素子を製造した。
を用いて以下に示す。実施例2において、充分な交換結
合磁界が得られた47原子%のMnPt合金からなる反
強磁性体層4を持つ交換結合膜を用いて、磁気抵抗効果
素子を製造した。
【0078】この磁気抵抗効果素子は、図7に示すよう
に、ガラス基板1上に、50ÅのTaからなる下地層
2、100ÅのNiFe合金からなる第2の強磁性体層
11、20ÅのCuからなる金属非磁性層12、100
ÅのNiFe合金からなる強磁性体層3、さらに、Pt
の組成比が47%の200ÅのMnPt合金からなる反
強磁性体層4、200ÅのTaからなる保護層13の順
に磁界中で成膜を行った構造である。成膜後、300O
eの磁場を印加しながら、真空中にて、250℃で12
時間の熱処理を行った。
に、ガラス基板1上に、50ÅのTaからなる下地層
2、100ÅのNiFe合金からなる第2の強磁性体層
11、20ÅのCuからなる金属非磁性層12、100
ÅのNiFe合金からなる強磁性体層3、さらに、Pt
の組成比が47%の200ÅのMnPt合金からなる反
強磁性体層4、200ÅのTaからなる保護層13の順
に磁界中で成膜を行った構造である。成膜後、300O
eの磁場を印加しながら、真空中にて、250℃で12
時間の熱処理を行った。
【0079】このようにして得られた磁気抵抗効果素子
に外部磁場を印加して、磁気抵抗効果を測定したとこ
ろ、抵抗変化率4.5%,磁場感度0.7%/Oeの良
好な値を得た。
に外部磁場を印加して、磁気抵抗効果を測定したとこ
ろ、抵抗変化率4.5%,磁場感度0.7%/Oeの良
好な値を得た。
【0080】以上のように、本発明の交換結合膜を用い
れば、抵抗変化率、磁場感度ともに優れた磁気抵抗効果
素子を製造することが可能である。
れば、抵抗変化率、磁場感度ともに優れた磁気抵抗効果
素子を製造することが可能である。
【0081】
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項1に記載
の交換結合膜は、上記反強磁性体膜がMnPt合金から
なると共に、上記強磁性体膜がfcc構造で(111)
配向しており、かつ、これら反強磁性体膜と強磁性体膜
との積層膜には、交換結合磁界を高めるための熱処理が
施されている構成である。
の交換結合膜は、上記反強磁性体膜がMnPt合金から
なると共に、上記強磁性体膜がfcc構造で(111)
配向しており、かつ、これら反強磁性体膜と強磁性体膜
との積層膜には、交換結合磁界を高めるための熱処理が
施されている構成である。
【0082】これにより、交換結合にかかる反強磁性体
膜のMn原子と強磁性体膜の原子が多くなり、20Oe
以上の交換結合磁界を得ることができるという効果を奏
する。
膜のMn原子と強磁性体膜の原子が多くなり、20Oe
以上の交換結合磁界を得ることができるという効果を奏
する。
【0083】また、請求項2に記載の交換結合膜は、請
求項1に記載の構成に加えて、上記反強磁性体膜をなす
MnPt合金のPt組成が32〜50原子%である構成
である。
求項1に記載の構成に加えて、上記反強磁性体膜をなす
MnPt合金のPt組成が32〜50原子%である構成
である。
【0084】これにより、現在実用に供されているFe
Mn合金を用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界
よりも大きな交換結合磁界を得ることができるという効
果を奏する。
Mn合金を用いた交換結合膜にて得られる交換結合磁界
よりも大きな交換結合磁界を得ることができるという効
果を奏する。
【0085】また、請求項3に記載の交換結合膜の製造
方法は、fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向
させて成膜すると共に、さらにこの上にMnPt合金か
らなる反強磁性体膜を成膜し、その後、これら強磁性体
膜と反強磁性体膜との積層膜に対して、交換結合磁界を
高めるための熱処理を施す構成である。
方法は、fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向
させて成膜すると共に、さらにこの上にMnPt合金か
らなる反強磁性体膜を成膜し、その後、これら強磁性体
膜と反強磁性体膜との積層膜に対して、交換結合磁界を
高めるための熱処理を施す構成である。
【0086】これにより、交換結合にかかる反強磁性体
膜のMn原子と強磁性体膜の原子が多くなり、20Oe
以上の交換結合磁界をもつ交換結合膜を得ることができ
るという効果を奏する。
膜のMn原子と強磁性体膜の原子が多くなり、20Oe
以上の交換結合磁界をもつ交換結合膜を得ることができ
るという効果を奏する。
【0087】また、請求項4に記載の交換結合膜の製造
方法は、請求項3に記載の構成に加えて、fcc構造を
とる強磁性体膜を(111)配向させて成膜する前に、
該強磁性体膜の(111)方向への配向性を高める下地
膜を形成しておき、該下地膜の上に上記強磁性体膜を形
成する構成である。
方法は、請求項3に記載の構成に加えて、fcc構造を
とる強磁性体膜を(111)配向させて成膜する前に、
該強磁性体膜の(111)方向への配向性を高める下地
膜を形成しておき、該下地膜の上に上記強磁性体膜を形
成する構成である。
【0088】これにより、fcc構造を持つ強磁性体膜
の配向を(111)配向にそろえ、かつ、熱処理の際
に、強磁性体膜が形成される基板と該強磁性体膜との間
で起こる不要な反応を防止できるという効果を奏する。
の配向を(111)配向にそろえ、かつ、熱処理の際
に、強磁性体膜が形成される基板と該強磁性体膜との間
で起こる不要な反応を防止できるという効果を奏する。
【0089】また、請求項5に記載の磁気抵抗効果素子
は、請求項1又は2に記載の交換結合膜或いは請求項3
又は4に記載の交換結合膜の製造方法によって製造され
た交換結合膜を備え、上記交換結合膜における強磁性体
膜に隣接して金属非磁性層が形成されると共に、上記金
属非磁性層に隣接して磁化の方向が自由に回転する第2
の強磁性体膜が形成されており、上記交換結合膜におけ
る強磁性体膜と上記第2の強磁性体膜との磁化の向きの
なす角度によって磁気抵抗効果を持つ構成である。
は、請求項1又は2に記載の交換結合膜或いは請求項3
又は4に記載の交換結合膜の製造方法によって製造され
た交換結合膜を備え、上記交換結合膜における強磁性体
膜に隣接して金属非磁性層が形成されると共に、上記金
属非磁性層に隣接して磁化の方向が自由に回転する第2
の強磁性体膜が形成されており、上記交換結合膜におけ
る強磁性体膜と上記第2の強磁性体膜との磁化の向きの
なす角度によって磁気抵抗効果を持つ構成である。
【0090】これにより、製造工程における加熱や冷却
などの熱履歴によるダメージを受けることのない磁気抵
抗効果素子を得ることができるという効果を奏する。ま
た、この素子を磁気記録用再生システムに組み込んで使
用する際に、素子に印加される外乱磁場や気温等の環境
の変化に影響されることがない。従って、信頼性の高い
磁気抵抗効果素子を得ることができるという効果を奏す
る。
などの熱履歴によるダメージを受けることのない磁気抵
抗効果素子を得ることができるという効果を奏する。ま
た、この素子を磁気記録用再生システムに組み込んで使
用する際に、素子に印加される外乱磁場や気温等の環境
の変化に影響されることがない。従って、信頼性の高い
磁気抵抗効果素子を得ることができるという効果を奏す
る。
【図1】本発明に係る実施の一形態の交換結合膜の膜構
造を示す構成図である。
造を示す構成図である。
【図2】(a)(c)はサンプル#1・#2の交換結合膜
の磁化曲線を表す図であり、(b)(d)は比較サンプル
#1・#2の交換結合膜の磁化曲線を表す図である。
の磁化曲線を表す図であり、(b)(d)は比較サンプル
#1・#2の交換結合膜の磁化曲線を表す図である。
【図3】(a)(c)はサンプル#1・#2の交換結合膜
のX線回折の結果を表す図であり、(b)(d)は、比較
サンプル#1・#2の交換結合膜のX線回折の結果を表
す図である。
のX線回折の結果を表す図であり、(b)(d)は、比較
サンプル#1・#2の交換結合膜のX線回折の結果を表
す図である。
【図4】膜厚200Åの反強磁性体層を用いた交換結合
膜の交換結合磁界のPt組成比依存性を表すグラフであ
る。
膜の交換結合磁界のPt組成比依存性を表すグラフであ
る。
【図5】膜厚1000Åの反強磁性体層を用いた交換結
合膜の交換結合磁界のPt組成比依存性を表すグラフで
ある。
合膜の交換結合磁界のPt組成比依存性を表すグラフで
ある。
【図6】上記交換結合膜の交換結合磁界の、雰囲気温度
依存性を表すグラフである。
依存性を表すグラフである。
【図7】上記交換結合膜を用いた磁気抵抗効果素子の構
成図である。
成図である。
1 基板 2 下地層(下地膜) 3 強磁性体層(強磁性体膜) 4 反強磁性体層(反強磁性体膜) 11 第2の強磁性体層(第2の強磁性体膜) 12 金属非磁性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中林 敬哉 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 吉良 徹 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】強磁性体膜と、該強磁性体膜に隣接して形
成された反強磁性体膜とを備え、上記強磁性体膜と上記
反強磁性体膜との交換結合により、上記強磁性体膜の磁
化の方向が固定されている交換結合膜において、 上記反強磁性体膜がMnPt合金からなると共に、 上記強磁性体膜がfcc構造で(111)配向してお
り、 かつ、これら反強磁性体膜と強磁性体膜との積層膜に
は、交換結合磁界を高めるための熱処理が施されている
ことを特徴とする交換結合膜。 - 【請求項2】上記反強磁性体膜をなすMnPt合金のP
t組成が32〜50原子%であることを特徴とする請求
項1に記載の交換結合膜。 - 【請求項3】強磁性体膜と、該強磁性体膜に隣接して形
成された反強磁性体膜とを備え、上記強磁性体膜と上記
反強磁性体膜との交換結合により、上記強磁性体膜の磁
化の方向が固定されている交換結合膜の製造方法におい
て、 fcc構造をとる強磁性体膜を(111)配向させて成
膜すると共に、さらにこの上にMnPt合金からなる反
強磁性体膜を成膜し、その後、これら強磁性体膜と反強
磁性体膜との積層膜に対して、交換結合磁界を高めるた
めの熱処理を施すことを特徴とする交換結合膜の製造方
法。 - 【請求項4】fcc構造をとる強磁性体膜を(111)
配向させて成膜する前に、該強磁性体膜の(111)方
向への配向性を高める下地膜を形成しておき、該下地膜
の上に上記強磁性体膜を形成することを特徴とする請求
項3に記載の交換結合膜の製造方法。 - 【請求項5】請求項1又は2に記載の交換結合膜或いは
請求項3又は4に記載の交換結合膜の製造方法によって
製造された交換結合膜を備え、 上記交換結合膜における強磁性体膜に隣接して金属非磁
性層が形成されると共に、上記金属非磁性層に隣接して
磁化の方向が自由に回転する第2の強磁性体膜が形成さ
れており、 上記交換結合膜における強磁性体膜と上記第2の強磁性
体膜との磁化の向きのなす角度によって磁気抵抗効果を
持つことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9014247A JPH10214716A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用いた磁気抵抗効果素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9014247A JPH10214716A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用いた磁気抵抗効果素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10214716A true JPH10214716A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=11855768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9014247A Pending JPH10214716A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 交換結合膜およびその製造方法並びにそれを用いた磁気抵抗効果素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10214716A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6504688B2 (en) | 2000-12-01 | 2003-01-07 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive sensor capable of providing strong exchange coupling magnetic field, and thin-film magnetic head using the same |
US7050275B2 (en) * | 2001-02-20 | 2006-05-23 | Alps Electric Co., Ltd. | Exchange coupled film having improved current-carrying reliability and improved rate of change in resistance and magnetic sensing element using same |
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- 1997-01-28 JP JP9014247A patent/JPH10214716A/ja active Pending
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