JPH1020489A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH1020489A
JPH1020489A JP8176452A JP17645296A JPH1020489A JP H1020489 A JPH1020489 A JP H1020489A JP 8176452 A JP8176452 A JP 8176452A JP 17645296 A JP17645296 A JP 17645296A JP H1020489 A JPH1020489 A JP H1020489A
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JP
Japan
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resin
acid
photosensitive
group
compound
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JP8176452A
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English (en)
Inventor
Nobumasa Sasa
信正 左々
Takeo Akiyama
健夫 秋山
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】現像性を低下せずに耐刷力、擦り傷耐性、オー
バー現像性及び耐薬品性が改善されたPS版、カラー校
正用等の感光性組成物を提供する。 【解決手段】 フェノール性ヒドロキシル基を有する
芳香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合樹脂、フェノー
ル誘導体と、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニル
エーテル、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニル硫
化物、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニルメタン
又は4,4′−ビスメトキシメチルジフェニルとの縮合
樹脂、又はN−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド
とその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性モノ
マーとの共重合樹脂を含有する感光性組成物。上記
の樹脂に感光基を導入した化合物を含有する感光性組成
物。上記の樹脂のヒドロキシル基を酸で離脱する保
護基でブロックした反応物及び光酸発生剤を含有する感
光性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性組成物に関
し、更に詳しくは、感光性成分としてジアゾニウム塩、
キノンジアジド化合物等を用いた感光性組成物に用いる
新規な結合樹脂及び該結合樹脂に感光基を導入した新規
な感光性樹脂並びに酸触媒脱保護反応を利用する新規な
感光性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】特公昭56−30850号、特公昭49
−24361号、特公昭52−41052号、特公昭5
2−28401号、特公昭52−41050、Poly
m.Eng.Sci.,26,1096(1986)に
は、フェノール誘導体のホルマリン縮合樹脂、ヒドロキ
シフェニルアクリレートやヒドロキシフェニルメタアク
リルアミドの重合体、ヒドロキシスチレンの重合体、N
−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミドの重合体とキ
ノンジアジド化合物を含有する感光性組成物が開示され
ている。
【0003】特公昭56−35854号、特公昭52−
36043号、特公昭50−24641号には、フェノ
ール誘導体のホルマリン縮合樹脂、ヒドロキシスチレン
の重合体、ヒドロキシフェニルメタアクリルアミドの重
合体のヒドロキシル基をキノンジアジド化合物でエステ
ル化した化合物を含有する感光性組成物が開示されてい
る。
【0004】特公昭45−22085号、J.Poly
m.Sci.,A−1,7,259(1969)、J.
Appl.Polym.Sci.,2,6,302(1
959)、日本印刷学会第87回秋期研究発表会講演予
稿集,81(1991)には、α、β−不飽和ケトン
基、フリル基、フェニルマレイミド基、アジド基、ジア
ゾ基等の光架橋基を導入した感光性樹脂が開示されてい
る。
【0005】米国特許第4,491,628号、J.P
hotopolym.Sci.Tech.,4,357
(1991)、ACS Symp.Ser.,346,
201(1987)には、ヒドロキシスチレン重合体、
ヒドロキシフェニルアクリレート重合体、N−(p−ヒ
ドロキシフェニル)マレイミドの重合体のヒドロキシル
基をブトキシカルボニル基でブロックした化合物および
光酸発生剤を含有する感光性組成物が開示されている。
【0006】しかしながら、上記感光性組成物にはいず
れも物理的強度及び化学的強度と現像性とのバランスに
難点がある。即ち、従来のノボラック樹脂に代表される
縮合型樹脂は分子量が低いことも起因しているが、物理
的・化学的強度が高くなる組成構造にすると現像速度が
極めて遅くなった。また、フェノール性ヒドロキシル基
を有する重合性モノマーが1種のみ導入された重合体で
は、他の重合性モノマー(フェノール性ヒドロキシル基
は含有しない)との共重合で樹脂組成を調整しても物理
的・化学的強度と現像性をバランス良く向上させること
はできなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、物理的強度及び化学的強度と現像性とがバランス良
く向上した感光性組成物を提供することである。
【0008】本発明の第2の目的は、感光性平版印刷版
の感光層としたとき、現像速度を劣化することなく、耐
刷力、擦り傷耐性、オーバー現像性及び耐薬品性に優れ
た感光性組成物を提供することである。
【0009】本発明の第3の目的は、カラープルーフ用
感光材料の感光層としたとき、擦り傷耐性、現像性(特
にオーバー現像性)及び画像形成性に優れた感光性組成
物を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
(1)ないし(7)のいずれかによって達成される。 (1) フェノール性ヒドロキシル基を有する芳香族ジ
アルデヒドとジアミンとの縮合樹脂を含有することを特
徴とする感光性組成物。 (2) フェノール誘導体と4,4′−ビスメトキシメ
チルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキシメチ
ルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメチルジ
フェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチルジフ
ェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物との縮合樹
脂を含有することを特徴とする感光性組成物。
【0011】(3) N−(p−ヒドロキシフェニル)
マレイミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有
重合性モノマーとの共重合樹脂を含有することを特徴と
する感光性組成物。
【0012】(4) フェノール性ヒドロキシル基を有
する芳香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合樹脂に感光
基を導入した化合物を含有することを特徴とする感光性
組成物。
【0013】(5) フェノール誘導体と4,4′−ビ
スメトキシメチルジフェニルエーテル、4,4′−ビス
メトキシメチルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメト
キシメチルジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキ
シメチルジフェニルから選ばれる少なくとも1種の化合
物との縮合樹脂に感光基を導入した化合物を含有するこ
とを特徴とする感光性組成物。
【0014】(6) N−(p−ヒドロキシフェニル)
マレイミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有
重合性モノマーとの共重合樹脂から選ばれる少なくとも
1種の樹脂に感光基を導入した化合物を含有することを
特徴とする感光性組成物。
【0015】(7) 下記、及びから選ばれる少
なくとも1種及び光酸発生剤を含有することを特徴とす
る感光性組成物。
【0016】フェノール性ヒドロキシル基を有する芳
香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合樹脂のヒドロキシ
ル基が酸により離脱する保護基でブロックされた反応
物。
【0017】フェノール誘導体と4,4′−ビスメト
キシメチルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキ
シメチルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメ
チルジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチ
ルジフェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物との
縮合樹脂のヒドロキシル基が酸により離脱する保護基で
ブロックされた反応物。
【0018】N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイ
ミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性
モノマーとの共重合樹脂のヒドロキシル基が酸により離
脱する保護基でブロックされた反応物。
【0019】以下、本発明について詳述する。
【0020】請求項1、4、又は7に係る発明の縮合樹
脂の合成に用いられるフェノール性ヒドロキシル基を有
する芳香族ジアルデヒドとしては、2−オキシイソフタ
ルアルデヒド、2−オキシ−5−メチルイソフタルアル
デヒド、4−オキシイソフタルアルデヒド、4−オキシ
−5−メチルイソフタルアルデヒド、2、4−ジオキシ
イソフタルアルデヒド、4,5−ジオキシイソフタルア
ルデヒド、2,4−ジオキシ−6−イソフタルアルデヒ
ド、2,4−ジオキシ−6−メチルイソフタルアルデヒ
ド、4,6−ジオキシ−2−メチルイソフタルアルデヒ
ド等が挙げられる。
【0021】上記縮合樹脂の合成に用いられるジアミン
としては、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、1,7−ジアミノヘプタン、
1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、
1,10−ジアミノデカン、o−フェニレンジアミン、
m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノ安息
香酸、ジアミンアントラキノン、ジアミノジフェニルア
ミン、4,4−ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノ
ジフェニルメタン、4,4′−ジアミノスチルベン−
2,2′−ジスルホン酸、4,4′−ジアミノトラン、
ジアミノトルエン、ジアミノナフタレン、ジアミノビフ
ェニル、ジアミノピリジン、ジアミノフェノール、9,
10−ジアミノフェナントレン、ジアミノ−p−ベンゾ
キノン、ジアミノベンゾフェノン
【0022】
【化1】
【0023】等が挙げられる。
【0024】請求項1に係る発明の縮合樹脂は公知の合
成法によって製造することができる。例えば、フェノー
ル性ヒドロキシル基を有する芳香族ジアルデヒドとジア
ミンを適当な溶剤に溶解し、室温で適当な時間撹拌する
ことによって縮合樹脂がえられる。
【0025】請求項2、5又は7に係る発明の縮合樹脂
の合成に用いられるフェノール誘導体としては、フェノ
ール、クレゾール、キシレノール、ハイドロキノン、カ
テコール、レゾルシノール、ピロガロール等が挙げられ
る。
【0026】請求項2に係る発明の縮合樹脂は公知の合
成法によって製造することができる。
【0027】例えばフェノール誘導体を縮合媒体として
使用される酸、例えば燐酸、メタンスルホン酸及び硫酸
に溶かし、次いで縮合可能な4,4′−ビスメトキシメ
チルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキシメチ
ルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメチルジ
フェニルメタン、4,4′−ビスメトキシメチルジフェ
ニルを、そのままかまたは適当な溶媒、例えば氷酢酸、
メタノール又は蟻酸に溶かして加え、次にこの混合物を
70℃までの温度、好ましくは10〜40℃の温度で数
時間から数十時間縮合させる。縮合生成物は撹拌下の水
に沈殿させたりして、任意の形で分離される。
【0028】請求項3、6又は7に係る発明のN−(p
−ヒドロキシフェニル)マレイミド以外のフェノール性
ヒドロキシル基含有重合性モノマーとしては、例えば、
o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、ヒ
ドロキシフェニルメタクリルアミド、ヒドロキシフェニ
ルアクリレート等が挙げられる。
【0029】N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミ
ドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性モ
ノマーとの比率は40/60〜80/20(モル比)の
範囲が好ましい。
【0030】請求項3に係る発明の共重合樹脂は高分子
合成法(大津隆行著、化学同人、1982)等の文献に
記載の公知のラジカル溶液重合により容易に合成でき
る。
【0031】請求項4に係る発明のフェノール性ヒドロ
キシル基を有する芳香族ジアルデヒドとジアミンとの縮
合樹脂に導入する感光基、請求項5に係る発明のフェノ
ール誘導体と4,4′−ビスメトキシメチルジフェニル
エーテル、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニル硫
化物、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニルメタン
及び4,4′−ビスメトキシメチルジフェニルから選ば
れる少なくとも1種の化合物との縮合樹脂に導入する感
光基、及び請求項6に係る発明のN−(p−ヒドロキシ
フェニル)マレイミドとその他のフェノール性ヒドロキ
シル基含有重合性モノマーとの共重合樹脂に導入する感
光基としては、キノンジアジド基、α,β−不飽和ケト
ン基、フリル基、フェニルマレイミド基、アジド基、ジ
アゾ基等が挙げられる。
【0032】請求項4、5又は6に係る発明の各感光基
を導入した化合物は、特公昭56−35854号、特公
昭52−36043号、特公昭50−24641号、特
公昭45−22085号、J.Polym.Sci.,
A−1,7,259(1969)、J.Appl.Po
lym.Sci.,2,6,302(1959)、日本
印刷学会第87回秋期研究発表会講演予稿集,81(1
991)等の文献に記載された公知の方法に準じて合成
することができる。
【0033】請求項7に係る発明において、フェノール
性ヒドロキシル基を有する芳香族ジアルデヒドとジアミ
ンとの縮合樹脂、フェノール誘導体と4,4′−ビスメ
トキシメチルビフェニルエーテル、4,4′−ビスメト
キシメチルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシ
メチルジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメ
チルジフェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物と
の縮合樹脂、並びにN−(p−ヒドロキシフェニル)マ
レイミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重
合性モノマーとの共重合樹脂における、ヒドロキシル基
を酸により離脱する保護基でブロックした反応物として
は、上記縮合樹脂又は共重合樹脂の合成に用いるフェノ
ール性ヒドロキシル基を有するモノマーとして該モノマ
ーのフェノール性ヒドロキシル基の水素原子をアルコキ
シカルボニル基等で置換したモノマーを用いて合成した
縮合樹脂又は共重合樹脂を用いることができる。
【0034】上記ヒドロキシル基を酸により離脱する保
護基でブロックした反応物については化学増幅型レジス
ト等で公知の技術を参照することができ、例えば、伊藤
洋、上田 充;J.Photopolymer.Sc
i.Technol.,Vol2,No.1(198
9)1〜10、上野 巧、岩柳 隆夫、野々垣 三郎、
伊藤 洋、C.G.Willson;「短波長ホトレジ
スト材料」(ぶんしん出版)、Floyd A.Ray
mond、Walter R.Hertler;Jou
rnal of Imaging Science a
nd Technology 36・No.3(199
2)243〜248、KLAUSU−JOERGEN
PRZYBILLA,RALPH DAMMERL,H
ORSTROESCHERT,WALTER SPIE
SS,GEORG PAWLOWSKI;J.Phot
opolym.Sci.Technol.,Vol.4
No.3(1991)421〜432,Kwang−D
uk Ahn,Deok−Il Koo;J.Phot
opolym.Sci.Technol.,Vol.4
No.3(1991)433〜443,Makoto
Murata,Eiiti Kobayasi,Mi
kio Yamatika,Yasutaka Kob
ayasi,Yosiji Yumoto,TakaO
Miura;J.Photopolym.Sci.T
echnol.,Vol.5 No.1(1991)7
9−84,KLAUSU−JOERGEN PRZYB
ILLA,HORST ROESCHERT,GEPR
G PAWLOWSKI,J.Photopolym.
Sci.Technol.,Vol.5 No.1(1
992)85〜92,Hirosi Ito;J.Ph
otopolym.Sci.Technol.,Vo
l.5 No.1(1992)123〜140等を参照
することができる。
【0035】次に、フェノール誘導体のモノマーのヒド
ロキシル基を酸により離脱する保護基でブロックしたモ
ノマーの具体例を示す。
【0036】
【化2】
【0037】
【化3】
【0038】
【化4】
【0039】N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミ
ドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性モ
ノマーとの共重合樹脂において、前記モノマー以外のモ
ノマーを共重合することができる。そのようなモノマー
としてはカルボキシル基又はヒドロキシル基を有するビ
ニル系モノマーが好ましく、例えばヒドロキシル基を有
するモノマーとしては、ビニルアルコール、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート、N−(4−ヒドロキシエチルフェニル)メタ
クリルアミド、ヒドロキシメチルジアセトン(メタ)ア
クリルアミド、N−(4−ヒドロキシエチルフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタ
クリルアミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、
o−,m−,p−ヒドロキシフェニルアクリレート又は
メタクリレート等が挙げられる。カルボキシ基を有する
ビニルモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、
ビニル安息香酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等が挙げられる。
【0040】また、前記共重合樹脂において、共重合す
ることができるモノマーとして、メチルメタアクリレー
ト、エチルアクリレート、メタアクリル酸、ブチルメタ
アクリレート、エチルメタアクリレート、グリシジルメ
タアクリレート、スチレンおよびアリルメタアクリレー
トであり、その他の有用なモノマーにはアクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル、アクリル酸及び2−メチル
−ヘキシルアクリレートなどが挙げられる。
【0041】請求項7に係る発明の反応物は、請求項
1、2及び3に係る発明の樹脂及び化合物の前記製造方
法に準じて製造することができる。
【0042】請求項7に係る発明の感光性組成物に含有
させる光酸発生剤としては、特開昭59−180543
号、特開昭59−148784号、特開昭60−138
539号、特公昭60−27673号、特公昭49−2
1601号、特開昭63−58440号、特公昭57−
1819号等に記載された有機ハロゲン化合物;特公昭
54−14277号、特公昭54−14278号、特開
昭51−56885号、米国特許第3,708,296
号、同第3,835,002号等に記載されたジアゾニ
ウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のうち本発明
の前記熱重量分析の重量変化条件を満足するものを好ま
しく使用することができる。これらの光酸発生剤のう
ち、より好ましいのは、特開昭59−180543号、
同59−148784号、同60−138539号、特
公昭60−27673号及び特開昭63−58440号
公報に記載のトリハロアルキル化合物及びハロメチルト
リアジン化合物である。
【0043】請求項7に係る発明に用いる光酸発生剤の
好ましい具体例を下記に挙げる。
【0044】
【化5】
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】光酸発生剤の感光性組成物中に占める割合
は、0.01〜20%が好ましく、更に好ましくは0.
1〜10%である。
【0048】請求項1ないし3に係る発明の感光性組成
物は、上記以外に次のような成分を含有することができ
る。
【0049】請求項1、2又は3に係る発明の感光性組
成物含有させる感光性成分としては、o−キノンジアジ
ド化合物又はジアゾニウム塩が有用である。
【0050】上記o−キノンジアジド化合物は分子中に
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、特に限
定されるものではなく、例えばo−キノンジアジド基を
有する重縮合樹脂(o−ナフトキノンジアジドスルホン
酸とフェノール類及びアルデヒド又はケトンとの重縮合
樹脂とのエステル化合物)等が挙げられる。
【0051】上記フェノール類及びアルデヒド又はケト
ンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例え
ばフェノール、o−,m−,p−クレゾール、3,5−
キシレノール、カルバクロール、チモール等の1価フェ
ノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の2
価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の3価
フェノール等が挙げられる。アルデヒドとしては、例え
ばホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、クロトンアルデヒドフルフラール等が挙げられ
る。これらのうちで好ましいのはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。ケトンとしては例えばアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0052】上記フェノール類及びアルデヒド又はケト
ンとの重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロ
ール・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0053】上記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は15〜80%が好ましく、より好ましくは20〜
45%である。さらに本発明に用いられるo−キノンジ
アジド化合物としては特開昭58−43451号記載の
以下の化合物も挙げることができる。
【0054】1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸
エステル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミ
ド、1、2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等
の公知の1,2−キノンジアジド化合物、さらに具体的
にはJ.Kosar著「Light−Sensitiv
e Systems」(1965年)339頁〜352
頁、John Willey &Sons社(New
York)やW.S.De Forest著「Phot
oresist」第50巻(1975年)、McGra
w Hill社(New York)に記載されている
1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニ
ルエステル、1,2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノン
ジアジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル
−N−β−ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエス
テル、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニル)−3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシ
ジフェニル−4′−アゾ−β−ナフト−ルエステル、
N,N−ジ−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニル)−アニリン、2′−(1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシア
ントラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−
2,3,4,−トリヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸ク
ロリド2モルと4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−
1、1′−ジフェニルスルホン酸1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド1モルとプルプロガリン1モルとの縮合物、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒドロアビエチ
ル)スルホンアミドなどの1,2−ナフトキノンジアジ
ド化合物を例示することができる。また、特公昭37−
1953号、同37−3627号、同37−13109
号、同40−26126号、同40−3801号、同4
5−5604号、同45−27345号、同51−13
013号、特開昭48−96575号、同48−638
02号、同48−63803号記載の1,2−キノンジ
アジド化合物も挙げることがでできる。上記o−キノン
ジアジド化合物のうち、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホニルクロリド又は1、2−ナフトキノンジアジド
スルホニルクロリドをピロガロール・アセトン縮合樹脂
又は2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと反応
させて得られるo−キノンジアジドエステル化合物が特
に好ましい。上記化合物は各々単独で用いてもよいし、
2種以上組み合わせて用いてもよい。感光性組成物中に
占める割合は5〜60重量%が好ましく、特に好ましい
のは10〜50重量%である。
【0055】上記ジアゾニウム塩は、感光性化合物とし
て機能するものであれば、任意のものを用いることがで
きるが、例えば、芳香族ジアゾニウム化合物とカルボニ
ル化合物との縮合樹脂が挙げられる。
【0056】上記縮合樹脂においては、下記一般式
(1)又は(2)で表される構造を有するジアゾ樹脂を
用いるのが好ましい。
【0057】
【化8】
【0058】一般式(1)及び(2)において、Rは、
水素原子、アルキル基又はフェニル基を表し、R1、R2
及びR3は、それぞれ、水素原子、アルコキシ基又はア
ルキル基を表し、Xは対アニオンを示す。Yは、−NH
−、−O−又は−S−を表す。nは整数を表す。
【0059】上記一般式(1)又は(2)で表されるジ
アゾ樹脂の構造単位とする芳香族ジアゾニウム化合物に
は、例えば特公昭49−48001号に挙げられるよう
なジアゾニウム塩を用いることができるが、特に、ジフ
ェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフ
ェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類は、4−アミノジ
フェニルアミン類から誘導されるが、このような4−ア
ミノジフェニルアミン類としては、4−アミノジフェニ
ルアミン、4−アミノ−3−メトキシジフェニルアミ
ン、4−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、4′
−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、4′−アミ
ノ−4−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ−3−
メチルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシジ
フェニルアミン、4−アミノ−3−(β−ヒドロキシエ
トキシ)ジフェニルアミン、4−アミノジフェニルアミ
ン−2−スルホン酸、4−アミノジフェニルアミン−2
−カルボン酸、4−アミノジフェニルアミン−2′−カ
ルボン酸等を挙げることができる。これらのうち、特に
好ましいものとしては、4−アミノジフェニルアミン及
び4−アミノ−3−メトキシジフェニルアミンを挙げる
ことができる。
【0060】上記一般式(2)において、Aで表される
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、m−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、
p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、
2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、
4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)
安息香酸、4−(p−メチルベンゾイル)安息香酸、4
−(p−メチルアニリノ)安息香酸、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルレゾル
シン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテ
コール、フロログルシン、p−ヒドロキシエチルフェノ
ール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−
ヒドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾルシ
ン、ビフェニル−4,4′−ジオール、1,2,4−ベ
ンゼントリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4′−ジ
メトキシジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブ
ロモフェノール、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸、 2,6−ジヒドロキシ安息香
酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、4−クロロ−2,
6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジ
ヒドロキシ安息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボ
ン酸、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、
桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、p−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、
4−ヒドロキシスチルベン、4,4′−ジヒドロキシス
チルベン、4−カルボキシスチルベン、4,4′−ジカ
ルボキシスチルベン、ジフェニールエーテル、ジフェニ
ルアミン、ジフェニルチオエーテル、4−メトキシジフ
ェニルエーテル、4−メトキシジフェニルアミン、4−
メトキシジフェニルチオエーテル等を挙げることができ
る。
【0061】請求項1ないし3に係る発明の感光性組成
物中に含有されるこれらのジアゾ化合物のなかでも、分
子内にカルボキシル基を有するジアゾ化合物が特に好ま
しく用いられる。分子内にカルボキシル基を有するジア
ゾ化合物の好ましい例としては、上記一般式(2)にお
いて、Aで表される芳香族性基中にカルボキシル基を含
有する構造を有するジアゾ樹脂が挙げられる。この際、
Aで表される芳香族性基を与えるために用いることがで
きる芳香族化合物の好ましい具体例としては、p−ヒド
ロキシ安息香酸、p−メトキシ安息香酸、p−ヒドロキ
シ桂皮酸、フェノキシ酢酸が挙げられる。
【0062】上記ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニア
リング(Photo.Sci.Eng.)第17巻、第
33頁(1973)、米国特許第2,063,631
号、同第2,679,498号各明細書、特公昭49−
48001号公報に記載の方法に従い、硫酸や燐酸ある
いは塩酸中で芳香族ジアゾニウム塩、必要に応じて上記
一般式(2)においてAで表される芳香族性基を与える
芳香族化合物、及び活性カルボニル化合物、例えばパラ
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、アセトン、あるいはアセトフェノン等を重縮合させ
ることによって得られる。
【0063】また、一般式(2)において、Aで表され
る芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合
物及び活性カルボニル化合物はその相互の組み合わせは
自由であり、さらに各々2種以上を混ぜて縮合すること
も可能である。
【0064】また、縮合の際に、Aで表される芳香族性
基を与える芳香族化合物の仕込のモル数は、芳香族ジア
ゾニウム化合物のモル数に対し、好ましくは0.1〜1
0倍、より好ましくは0.2〜2倍、さらに好ましくは
0.2〜1倍である。また、この場合、Aで表される芳
香族性基を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム
化合物の合計モル数に対し、活性カルボニル化合物をモ
ル数で通常好ましくは0.5倍〜1.5倍、より好まし
くは0.6〜1.2倍で仕込み、低温で短時間、例えば
3時間程度反応させることによりジアゾ樹脂が得られ
る。
【0065】請求項1ないし3に係る発明においてより
好ましく用いることのできる、分子内にカルボキシル基
を有するジアゾ樹脂を合成する手段は任意であるが、代
表的な手段としては、(A)芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族カルボン酸及び活性カルボニル化合物の重縮合反
応、(B)カルボキシル基を有する芳香族ジアゾニウム
塩と活性カルボニル化合物の重縮合反応、(C)芳香族
ジアゾニウム塩とカルボキシル基を有する活性カルボニ
ル化合物の重縮合反応の3通りが挙げられる。これらの
方法のうち、(A)の手段が合成手法上と合成原料の入
手しやすさの点で好ましい。
【0066】上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶
となすアニオンが好ましい。このようなアニオンを形成
する酸としては、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボ
ン酸、フェニル燐酸等の有機燐酸、有機スルホン酸を含
み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエ
タンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ア
ントラキノンスルホン酸、ナフチルスルホン酸、アルキ
ル置換ナフチルスルホン酸等の脂肪族スルホン酸及び芳
香族スルホン酸、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロ
ホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、過塩素酸、過ヨウ素酸
等の過ハロゲン酸等を挙げることができる。ただし、こ
れに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いのは、ヘキサフルオロ燐酸及びテトラフルオロホウ酸
である。
【0067】請求項1ないし3に係る発明において、ジ
アゾ樹脂の分子量には特に限定は無く、例えば、上記の
ジアゾ樹脂は、各単量体のモル比及び縮合条件を種々変
えることによりその分子量は任意の値として得ることが
できるが、本発明においては一般に、好ましくは、分子
量が約400〜10000のものが有効に使用でき、よ
り好ましくは、約800〜5000のものが適当であ
る。
【0068】また、請求項1ないし3に係る発明の感光
性組成物中に含有されるこれらのジアゾ化合物の量は0
〜30重量%が好ましいが、より好ましくは0.5〜2
0重量%である。
【0069】請求項4又は6に係る発明の感光性組成物
には、バインダー樹脂として公知の樹脂を用いることが
できるが、特に以下に記載する樹脂が好適に用いられ
る。
【0070】例えば、ノボラック樹脂、フェノール性水
酸基を有するビニル系重合体、特開昭55−57841
号記載の多価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮
合樹脂等を挙げることができる。
【0071】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭55−57841号記載のフェノ
ール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特
開昭55−127553記載のp−置換フェノールとフ
ェノール若しくはクレゾールとホルムアルデヒドとの共
重合体樹脂等が挙げられる。ノボラック樹脂の分子量
(ポリスチレン標準)は、好ましくは数平均分子量Mn
が3.00×102〜7.50×103、重量平均分子量
Mwが1.00×103〜3.00×104、より好まし
くはMnが5.00×102〜4.00×103、Mwが
3.00×103〜2.00×104である。上記ノボラ
ック樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わ
せて用いても良い。ノボラック樹脂は感光性組成物中に
5〜95重量%含有させるのが好ましい。
【0072】上記フェノール性水酸基を有するビニル系
重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分子
構造中に有する共重合体であり、下記一般式(3)〜
(7)で表される構造単位を少なくとも1つ含む重合体
が好ましい。
【0073】
【化9】
【0074】一般式(3)〜(7)において、R1及び
2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカルボキシ
ル基を表し、好ましくは水素原子である。R3は水素原
子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好ましくは水
素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基である。R
4は水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル
基を表し、好ましくは水素原子である。Aは窒素原子又
は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有
してもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を
表し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基又は置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。
【0075】上記フェノール性水酸基を有するビニル系
重合体は、前記一般式(3)〜(7)で表される構造単
位を有する共重合体型の構造を有するものが好ましく、
共重合させる単量体としては、例えばエチレン、プロピ
レン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチ
レン系不飽和オレフィン類、例えばスチレン、α−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン
等のスチレン類、アクリル酸メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸
等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸ト゛デシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロ
ロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族
モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアク
リルアミド、メタクリルアミド等のアミド類、例えばア
クリルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニ
トロアクリルアニリドm−メトキシアクリルアニリド等
のアニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル等のビニルエステル
類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニ
ルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、ビニリデンシアナイド、例えば1−メチル−
1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレン、
1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシカル
ボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン等の
エチレン誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニル
ピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル系単
量体がある。これらの単量体は不飽和二重結合が開裂し
た構造で高分子化合物中に存在する。上記の単量体のう
ち脂肪族モノカルボン酸のエステル類及びニトリル類が
優れた性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発
明に用いられる重合体中にブロック又はランダムのいず
れかの状態で結合していてもよい。フェノール性水酸基
を有するビニル系重合体は感光性組成物中に0.5〜7
0重量%含有させることが好ましい。フェノール性水酸
基を有するビニル系重合体は上記重合体を単独で用いて
もよいし、2種以上を組み合わせてもよい。また、他の
高分子化合物等と組み合わせて用いることもできる。上
記バインダー成分の感光性組成物中に占める割合は5〜
90重量%が好ましく、特に好ましくは20〜60重量
%である。
【0076】請求項1〜7に係る発明の感光性組成物
は、用途によって異なるが、前記以外に種々の添加剤を
含有してもよく、該添加剤として、例えば特開昭60−
88942号、特願昭63−293107号各公報に記
載の有機酸、日本化学会編「化学便覧新版」(丸善出
版)92頁〜158頁記載の無機酸、公知の両性界面活
性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、顔料や染
料等の色材を挙げることができる。
【0077】請求項1ないし7に係る樹脂の合成例を次
に示す。
【0078】合成例1 N−メチル−2−ピロリドン100g中に2−オキシ−
5−メチルイソフタルアルデヒド8.2g(0.05モ
ル)および4,4′−ジアミノジフェニルエーテル10
g(0.05モル)を20℃で撹拌下1時間溶解させ
て、樹脂溶液を得た。
【0079】合成例2 86%燐酸70.7ml中のm−クレゾール10.8g
(0.1モル)溶液に、4,4′−ビスメトキシメチル
ジフェニルエーテル12.9g(0.05モル)を撹拌
下に滴下した。40℃で20時間縮合した後に、混合物
を水330ml中に溶かし、塩化物を含まないメタンス
ルホン酸ナトリウムの水溶液240mlを加えた。沈澱
を新たに水に溶かし、同様にして再び沈澱させ、分離
し、真空乾燥を行って、19.4gの粉末状の縮合樹脂
を得た。
【0080】合成例3 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド 31.1
g(0.18モル)、p−ヒドロキシスチレン14.4
g(0.12モル)、アクリロニトリル15.9g
(0.30モル)、メチルメタクリレート40.0g
(0.40モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の
混合溶媒500mlに溶解し窒素ガス置換した封管中6
5℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。
この共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ
過し、乾燥して白色の共重合樹脂を86.2g得た。
【0081】合成例4 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド 86.4
g(0.5モル)、p−ヒドロキシスチレン60.0g
(0.5モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニト
リル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の混
合溶媒650mlに溶解し窒素ガス置換した封管中65
℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。こ
の共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過
し、乾燥して白色の共重合樹脂を130.6g得た。
【0082】合成例5 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド31.1g
(0.18モル)、p−ヒドロキシフェニルメタアクリ
ルアミド21.1g(0.12モル)、アクリロニトリ
ル13.3g(0.25モル)、エチルアクリリレート
40.0g(0.40モル)、メタクリル酸4.3g
(0.05モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の
混合溶媒500mlに溶解し窒素ガス置換した封管中6
5℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。
この共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ
過し、乾燥して白色の共重合樹脂を97.7g得た。
【0083】合成例6 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド121g
(0.7モル)、p−ヒドロキシフェニルメタアクリル
アミド52.8g(0.3モル)及びα,α′−アゾビ
スイソブチロニトリル0.16gをアセトンとメタノー
ル(1:1)の混合溶媒750mlに溶解し窒素ガス置
換した封管中65℃で30時間加熱すると共重合体の溶
液が得られた。この共重合体溶液を水5l中に注入し生
じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色の共重合樹脂を15
6.7g得た。
【0084】合成例7 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド31.1g
(0.18モル)、p−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト19.7g(0.12モル)、アクリロニトリル1
3.3g(0.25モル)、メチルメタアクリレート4
0.0g(0.40モル)、メタクリル酸4.3g
(0.05モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の
混合溶媒500mlに溶解し、窒素ガス置換した封管中
65℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られ
た。この共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物
をろ過し、乾燥して白色の共重合樹脂を97.2g得
た。
【0085】合成例8 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド69.2g
(0.4モル)、p−ヒドロキシフェニルアクリレート
98.5g(0.6モル)及びα,α′−アゾビスイソ
ブチロニトリル0.16gをアセトンとメタノール
(1:1)の混合溶媒750mlに溶解し、窒素ガス置
換した封管中65℃で30時間加熱すると共重合体の溶
液が得られた。この共重合体溶液を水5l中に注入し生
じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色の共重合樹脂を15
0.2g得た。
【0086】合成例9 合成例1で得られた樹脂20gとo−キノンジアジド−
4−スルホニルクロライド4.7gをγ−ブチロラクト
ン500mlと水10mlの混合溶媒に溶解し、40℃
で撹拌下に5%炭酸ソーダ溶液150mlを滴下し、滴
下終了後30分間撹拌してからこの反応液を希塩酸2l
中に注入して沈澱を生成させ、この沈澱をろ過し、メタ
ノール次いでエチルアセテートでよく洗浄し乾燥して感
光基を有する重合体化合物を20.3g得た。
【0087】合成例10 合成例2で得られた縮合樹脂20gとo−キノンジアジ
ド−4−スルホニルクロライド4.9gをγ−ブチロラ
クトン500mlと水10mlの混合溶媒に溶解し、4
0℃で撹拌下に5%炭酸ソーダ溶液150mlを滴下
し、滴下終了後30分間撹拌してからこの反応液を希塩
酸2l中に注入して沈澱を生成させ、この沈澱をろ過
し、メタノール次いでエチルアセテートでよく洗浄し、
乾燥して感光基を有する重合体化合物を20.5g得
た。
【0088】合成例11 合成例4で得られた共重合樹脂20gとo−キノンジア
ジド−4−スルホニルクロライド4.5gをγ−ブチロ
ラクトン500mlと水10mlの混合溶媒に溶解し、
40℃で撹拌下に5%炭酸ソーダ溶液150mlを滴下
し、滴下終了後30分間撹拌してからこの反応液を希塩
酸2l中に注入して沈澱を生成させ、この沈澱をろ過
し、メタノール次いでエチルアセテートでよく洗浄し、
乾燥して感光基を有する重合体化合物を21.3g得
た。
【0089】合成例12 合成例6で得られた共重合樹脂120gを10%苛性ソ
ーダ1lに溶解し、0℃に冷却し、0.2gのテトラメ
チルアンモニウムクロライドを添加した。別にベンゼン
200mlにケイ皮酸クロライド99.5gを溶解し、
前者の樹脂溶液に急激に加え、1時間撹拌後、徐々に2
0℃まで加温し、反応を終了させた。得られた樹脂を良
く水洗し、イソプロパノールで白濁がなくなるまで洗浄
後、真空乾燥させ、感光基を有する重合体化合物を17
6g得た。
【0090】合成例13 合成例8で得られた共重合樹脂120gを10%苛性ソ
ーダ1lに溶解し、−5℃に冷却した。別にメチルエチ
ルケトン200mlに2−フリルアクリルクロライド8
8.3gを溶解し、前者の樹脂溶液に急激に加え、1時
間撹拌後反応を終了させた。得られた樹脂をよく水洗
し、イソプロパノールで白濁がなくなるまで洗浄後、真
空乾燥させ、感光基を有する重合体化合物を174g得
た。
【0091】合成例14 合成例4で得られた共重合樹脂60gとジ−t−ブチル
カーボネート90gをテトラヒドロフランに溶解し、加
熱撹拌下で1Nの炭酸カリウム水溶液450mlを反応
液がpH7〜8を維持するように徐々に滴下し、滴下終
了後さらに1時間同温度にて撹拌を続けた。この反応液
を希塩酸中に注入して沈澱を生成させ、その後ろ過、水
洗、乾燥して重合体反応物を87.8g得た。
【0092】合成例15 J.Polym.Sci.Technol.Vol.
5,No.1,123(1992)に記載の合成法で得
られたN−(t−ブトキシカルボニルオキシフェニル)
マレイミド18.55g(0.07モル)、t−ブトキ
シカルボニルオキシフェニルメタアクリルアミド8.3
1g(0.03モル)及びα,α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル0.016gをアセトンとメタノール(1:
1)の混合溶媒200mlに溶解し、窒素ガス置換した
封管中65℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得
られた。この共重合体溶液を水5l中に注入し、生じた
沈澱物をろ過し、乾燥して白色の共重合体反応物を35
g得た。
【0093】比較合成例1 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド51.8g
(0.30モル)、アクリロニトリル15.9g(0.
30モル)、メチルメタクリレート40.0g(0.4
0モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニトリル
0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の混合溶
媒531mlに溶解し、窒素ガス置換した封管中65℃
で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。この
共重合体溶液を水5l中に注入し、生じた沈澱物をろ過
し、乾燥して白色の共重合樹脂を86.2g得た。
【0094】比較合成例2 p−ヒドロキシスチレン36.0g(0.30モル)、
アクリロニトリル15.9g(0.30モル)、メチル
メタクリレート40.0g(0.40モル)及びα,
α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gをアセト
ンとメタノール(1:1)の混合溶媒453mlに溶解
し、窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加熱する
と共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液を水5
l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色の共
重合樹脂を86.2g得た。
【0095】比較合成例3 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド86.4g
(0.5モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニト
リル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の混
合溶媒650mlに溶解し、窒素ガス置換した封管中6
5℃で30時間加熱すると重合体の溶液が得られた。こ
の重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過
し、乾燥して白色の樹脂を130.6g得た。
【0096】比較合成例4 p−ヒドロキシスチレン14.4g(0.12モル)及
びα,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gを
アセトンとメタノール(1:1)の混合溶媒650ml
に溶解し、窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加
熱すると共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液
を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白
色の共重合樹脂を130.6g得た。
【0097】比較合成例5 p−ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド21.1g
(0.12モル)、アクリロニトリル13.3g(0.
25モル)、エチルアクリリレート40.0g(0.4
0モル)、メタクリル酸4.3g(0.05モル)及び
α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gをア
セトンとメタノール(1:1)の混合溶媒500mlに
溶解し、窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加熱
すると共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液を
水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色
の共重合樹脂を97.7g得た。
【0098】比較合成例6 p−ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド21.1g
(0.12モル)、アクリロニトリル13.3g(0.
25モル)、エチルアクリリレート40.0g(0.4
0モル)、メタクリル酸4.3g(0.05モル)及び
α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gをア
セトンとメタノール(1:1)の混合溶媒500mlに
溶解し窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加熱す
ると共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液を水
5l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色の
共重合樹脂を97.7g得た。
【0099】比較合成例7 p−ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド52.8g
(0.3モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニト
リル0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の混
合溶媒750mlに溶解し、窒素ガス置換した封管中6
5℃で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。
この共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ
過し、乾燥して白色の共重合樹脂を156.7g得た。
【0100】比較合成例8 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド31.1g
(0.18モル)、アクリロニトリル13.3g(0.
25モル)、メチルメタアクリレート40.0g(0.
40モル)、メタクリル酸4.3g(0.05モル)及
びα,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gを
アセトンとメタノール(1:1)の混合溶媒500ml
に溶解し、窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加
熱すると共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液
を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白
色の共重合樹脂を97.2g得た。
【0101】比較合成例9 p−ヒドロキシフェニルアクリレート19.7g(0.
12モル)、アクリロニトリル13.3g(0.25モ
ル)、メチルメタアクリレート40.0g(0.40モ
ル)、メタクリル酸4.3g(0.05モル)及びα,
α′−アゾビスイソブチロニトリル0.16gをアセト
ンとメタノール(1:1)の混合溶媒500mlに溶解
し、窒素ガス置換した封管中65℃で30時間加熱する
と共重合体の溶液が得られた。この共重合体溶液を水5
l中に注入し生じた沈澱物をろ過し、乾燥して白色の共
重合樹脂を97.2g得た。
【0102】比較合成例10 p−ヒドロキシフェニルアクリレート98.5g(0.
6モル)及びα,α′−アゾビスイソブチロニトリル
0.16gをアセトンとメタノール(1:1)の混合溶
媒750mlに溶解し、窒素ガス置換した封管中65℃
で30時間加熱すると共重合体の溶液が得られた。この
共重合体溶液を水5l中に注入し生じた沈澱物をろ過
し、乾燥して白色の共重合樹脂を150.2g得た。
【0103】比較合成例11 クレゾール樹脂20gとo−キノンジアジド−4−スル
ホニルクロライド4.7gをγ−ブチロラクトン500
mlと水10mlの混合溶媒に溶解し、40℃で撹拌下
に5%炭酸ソーダ溶液150mlを滴下し、滴下終了後
30分間撹拌してからこの反応液を希塩酸2l中に注入
して沈澱を生成させ、この沈澱をろ過し、メタノール次
いでエチルアセテートでよく洗浄し乾燥して感光基を有
する重合体化合物を20.3g得た。
【0104】比較合成例12 比較合成例3で得られた共重合樹脂20gとo−キノン
ジアジド−4−スルホニルクロライド4.5gをγ−ブ
チロラクトン500mlと水10mlの混合溶媒に溶解
し、40℃で撹拌下に5%炭酸ソーダ溶液150mlを
滴下し、滴下終了後30分間撹拌してからこの反応液を
希塩酸2l中に注入して沈澱を生成させ、この沈澱をろ
過し、メタノール次いでエチルアセテートでよく洗浄し
乾燥して感光基を有する重合体化合物を得た。
【0105】比較合成例13 比較合成例4で得られた共重合樹脂20gとo−キノン
ジアジド−4−スルホニルクロライド4.5gをγ−ブ
チロラクトン500mlと水10mlの混合溶媒に溶解
し、40℃で撹拌下に5%炭酸ソーダ溶液150mlを
滴下し、滴下終了後30分間撹拌してからこの反応液を
希塩酸2l中に注入して沈澱を生成させ、この沈澱をろ
過し、メタノール次いでエチルアセテートでよく洗浄し
乾燥して感光基を有する重合体化合物を得た。
【0106】比較合成例14 比較合成例4で得られた共重合樹脂120gを10%苛
性ソーダ1Lに溶解し0℃に冷却し、0.2gのテトラ
メチルアンモニウムクロライドを添加した。別にベンゼ
ン200ccにケイ皮酸クロライド99.5gを溶解
し、前者の樹脂溶液に急激に加え、1時間撹拌後、徐々
に20℃まで加温し、反応を終了する。樹脂をよく水洗
し、イソプロパノールで白濁がなくなるまで洗浄後、真
空乾燥させ、感光基を有する重合体化合物を得た。
【0107】比較合成例15 比較合成例4で得られた樹脂120gを10%苛性ソー
ダ1lに溶解し−5℃に冷却した。別にメチルエチルケ
トン200mlに2−フリルアクリルクロライド88.
3gを溶解し、上記樹脂溶液に急激に加え、1時間撹拌
後反応を終了させた。得られた樹脂をよく水洗し、イソ
プロパノールで白濁がなくなるまで洗浄後、真空乾燥さ
せ、重合体を得た。
【0108】比較合成例16 比較合成例3で得られた樹脂60gとジ−t−ブチルカ
ーボネート90gをテトラヒドロフランに溶解し、加熱
撹拌下で1Nの炭酸カリウム水溶液450mlを反応液
がpH7〜8を維持するように徐々に滴下し、滴下終了
後さらに1時間同温度にて撹拌を続けた。この反応液を
希塩酸中に注入して沈澱を生成させ、その後ろ過、水
洗、乾燥して重合体を得た。
【0109】比較合成例17 比較合成例4で得られた樹脂60gとジ−t−ブチルカ
ーボネート90gをテトラヒドロフランに溶解し加熱撹
拌下で1Nの炭酸カリウム水溶液450mlを反応液が
pH7〜8を維持するように徐々に滴下し、滴下終了後
さらに1時間同温度にて撹拌を続けた。この反応液を希
塩酸中に注入して沈澱を生成させ、その後ろ過、水洗、
乾燥して重合体を得た。
【0110】
【実施例】
実施例1 厚さ75mμのポリエチレンテレフタレートフィルム
(ルミラー T−60:東レ(株)製)上に、厚さ30
mμとなるようにエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(E
VAFLEX P−1407、酢酸ビニル含有率14重
量%、MFR=15:三井デュポンポリケミカル製)を
押し出しラミネート法により形成し、離型層を有する支
持体を作製した。
【0111】次に、下記組成よりなる着色感光層分散液
を調製した。
【0112】 [着色感光層分散液] p−クレゾールノボラック樹脂とナフトキノン−1,2−ジアジド −4−スルホン酸クロライドとのエステル化物 0.6g 合成例1の樹脂 8.7g 下記顔料 <下記の量> メチルエチルケトン 35.2g <顔料> ブラック:カーボンブラック MA−100(三菱化成(株)製) 0.99g シアン :リオノールブルー FG−7330(東洋インキ(株)製) 0.55g マゼンタ:リオノールレッド 6BFG−4219X(東洋インキ(株)製) 0.68g イエロー:リオノールイエロー No.1206(東洋インキ(株)製) 0.68g 上記分散液を、乾燥後の膜厚が1.8mμとなるように
塗布・乾燥し、4色のポジティブワーキングタイプの感
光性着色画像形成材料を得た。
【0113】得られた4色の感光性着色画像形成材料の
ポリエチレンテレフタレートフィルム面に各色の色分解
網ポジフィルムを現像後の画像が感光層側からみて逆像
となるように密着し、4kWメタルハライドランプで5
0cmの距離から約60秒間画像露光を行い、更に下記
現像液に32℃で30秒間浸漬、スポンジで擦ることに
より現像を行い、露光部が除去された4色の着色画像を
得た。
【0114】 [現像液] コニカPS版現像液SDP−1(コニカ(株)製) 40ml ペレックスNB−L(界面活性剤:花王アトラス(株)製) 100ml 蒸留水 400ml 次に、イエロー色画像の画像面とアート紙(特菱アー
ト:三菱製紙(株)製)とを密着し、80℃に加熱され
た1対のニップロール間を5kgf/cm2の加圧条件
下にて0.5m/min.の速度で通過させた後、ただ
ちに支持体を剥離した。剥離は離型層と着色画像との界
面で容易に行われ、アート紙上にイエロー色画像が転写
された。引き続き、マゼンタ、シアン、ブラックの順に
着色画像の転写を行い、4kWメタルハライドランプで
50cmの距離から約120秒間全面露光を行ってアー
ト紙上に形成された4色からなるプルーフィング画像を
得た。
【0115】アート紙上には、着色画像部分のみが転写
した。即ち、非画像部の紙面は露出し、また非画像部分
の地汚れの発生は認められなかった。
【0116】この感光性着色画像形成材料の擦り傷耐
性、オーバー現像性を下記表1の付記のとうり評価した
ところ、表1に示す結果を得た。
【0117】実施例2 実施例1における合成例1の樹脂に代えて合成例2の樹
脂を用いた以外は実施例1と同様に行いプルーフィング
画像を得た。結果を表1に示す。
【0118】比較例1 実施例1における合成例1の樹脂に代えてクレゾールノ
ボラック樹脂を用いた以外は実施例1と同様に行いプル
ーフィング画像を得た。結果を表1に示す。
【0119】実施例3 厚さ0.30mmのアルミニウム板(材質1050、調
質H16)を5重量%苛性ソーダ水溶液中で65℃で1分
間脱脂処理を行った後、水洗いし、0.5モル塩酸水溶
液中で25℃、電流密度60A/dm2の条件下で30
秒間電解エッチング処理を行った。次いで5重量%苛性
ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
施した後、20重量%硫酸水溶液中で、温度20℃、電
流密度3A/dm2、の条件下で1分間陽極酸化処理を
行った。更に水洗し、続いて80℃の珪酸ソーダ2.5
%水溶液で20秒間封孔処理を行い水洗し、支持体を作
成した。
【0120】上記の通り作成した砂目支持体上に、下記
組成を有する感光液を、乾燥重量が1.6g/m2にな
るように塗布し、80℃の気流下で2分間乾燥し、感光
性平版印刷版試料を得た。
【0121】 [感光液組成] p−クレゾールノボラック樹脂とナフトキノン−1,2−ジアジド −4−スルホン酸クロライドとのエステル化物 0.6g 合成例3の樹脂 4.7g クレゾールノボラック樹脂 4.0g トリフェニルメタン系色素(商品名:ビクトリアピュアブルーBOH, 保土ヶ谷化学(株)製) 0.2g ポリアクリル酸40%水溶液(商品名:ジュリマーAC−10L, 日本純薬(株)製) 0.6g フッ素系界面活性剤(商品名:フロラードFC430,3M製) 0.1g 乳酸メチル 160g プロピレングリコールモノエチルエーテル 40g 得られた感光性平版印刷版試料に、イーストマンコダッ
ク社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15の物)とポジ像フィルム原稿を通し、PS版用
焼き付け機を用い、2kWメタルハライドランプを使用
して8mW/cm2で30秒間露光した。
【0122】露光後の試料は、25℃に温調した下記組
成の現像液に30秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、流水で洗浄することにより平版印刷版サンプル
を得た。
【0123】 [現像液組成] Aケイ酸カリ(日本化学製) 1000ml 苛性カリ 130ml 純水 5000ml この感光性平版印刷版試料の耐刷力、擦り傷耐性、オー
バー現像性、耐薬品性を表1の付記のとうり評価したと
ころ表1の結果を得た。
【0124】比較例2 実施例3における合成例3の樹脂に代えて比較合成例1
の樹脂を用いた以外は実施例3と同様に行い平版印刷版
サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0125】比較例3 実施例3における合成例3の樹脂に代えて比較合成例2
の樹脂を用いた以外は実施例3と同様に行い平版印刷版
サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0126】実施例4 実施例3で作成した砂目支持体上に、下記組成を有する
感光液を、乾燥重量が1.6g/m2になるように塗布
し、80℃の気流下で2分間乾燥し、感光性平版印刷版
試料を得た。
【0127】 [感光液組成] ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物のPF6塩 1.6g 合成例3の樹脂 4.7g クレゾールノボラック樹脂 4.0g トリフェニルメタン系色素(商品名:ビクトリアピュアブルーBOH, 保土ヶ谷化学(株)製) 0.2g ポリアクリル酸40%水溶液(商品名:ジュリマーAC−10L, 日本純薬(株)製) 0.6g フッ素系界面活性剤(商品名:フロラードFC430,3M製) 0.1g エチレングリコールモノメチルエーテル 200g 得られた感光性平版印刷版試料に、イーストマンコダッ
ク社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15の物)とネガ像フィルム原稿を通し、PS版用
焼き付け機を用い、2kWメタルハライドランプを使用
して8mW/cm2で30秒間露光した。
【0128】露光後の試料は、25℃に温調した下記組
成の現像液に30秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、流水で洗浄することにより平版印刷版サンプル
を得た。
【0129】 [現像液組成] Aケイ酸カリ(日本化学製) 1000ml 苛性カリ 130ml ベンジルアルコール 100ml ペレックスNB−L(界面活性剤:花王アトラス(株)製) 200ml 純水 5000ml この感光性平版印刷版試料の耐刷力、擦り傷耐性、オー
バー現像性、耐薬品性を表1の付記のとおり評価したと
ころ、表1の結果を得た。
【0130】比較例4 実施例4の合成例3の樹脂に代えて比較合成例1の樹脂
を用いた以外は実施例3と同様に行い平版印刷版サンプ
ルを得た。結果を表1に示す。
【0131】比較例5 実施例4の合成例3の樹脂に代えて比較合成例2の樹脂
を用いた以外は実施例3と同様に行い平版印刷版サンプ
ルを得た。結果を表1に示す。
【0132】実施例5 実施例3の合成例3の樹脂に代えて合成例4の樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂に代えて合成例1の樹脂を用い
た以外は実施例3と同様に行い平版印刷版サンプルを得
た。結果を表1に示す。
【0133】実施例6 実施例3の合成例3の樹脂に代えて合成例5の樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂に代えて合成例2の樹脂を用い
た以外は実施例3と同様に行い平版印刷版サンプルを得
た。結果を表1に示す。
【0134】実施例7 実施例3の合成例3の樹脂及びクレゾールノボラック樹
脂に代えて合成例5の樹脂を用いた以外は実施例3と同
様に行い平版印刷版サンプルを得た。結果を表1に示
す。
【0135】比較例6 実施例7の合成例5の樹脂に代えて比較合成例5の樹脂
を用いた以外は実施例7と同様に行い平版印刷版サンプ
ルを得た。結果を表1に示す。
【0136】実施例8 実施例4の合成例3の樹脂に代えて合成例7の樹脂を用
いた以外は実施例3と同様に行い平版印刷版サンプルを
得た。結果を表1に示す。
【0137】比較例7 実施例8の合成例7の樹脂に代えて比較合成例8の樹脂
を用いた以外は実施例8と同様に行い平版印刷版サンプ
ルを得た。結果を表1に示す。
【0138】実施例9 実施例3で作成した砂目支持体上に、下記組成を有する
感光液を、乾燥重量が1.6g/m2になるように塗布
し、80℃の気流下で2分間乾燥し、感光性平版印刷版
試料を得た。
【0139】 [感光液組成] 合成例9の樹脂 4.7g クレゾールノボラック樹脂 4.0g トリフェニルメタン系色素(商品名:ビクトリアピュアブルーBOH, 保土ヶ谷化学(株)製) 0.2g ポリアクリル酸40%水溶液(商品名:ジュリマーAC−10L, 日本純薬(株)製) 0.6g フッ素系界面活性剤(商品名:フロラードFC430,3M製) 0.1g 乳酸メチル 160g プロピレングリコールモノエチルエーテル 40g 得られた感光性平版印刷版試料に、イーストマンコダッ
ク社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15の物)とポジ像フィルム原稿を通し、PS版用
焼き付け機を用い、2kWメタルハライドランプを使用
して8mW/cm2で30秒間露光した。
【0140】露光後の試料は、25℃に温調した下記組
成の現像液に30秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、流水で洗浄することにより平版印刷版サンプル
を得た。
【0141】 [現像液組成] Aケイ酸カリ(日本化学製) 1000ml 苛性カリ 130ml 純水 5000ml この感光性着色画像形成材料の耐刷力、擦り傷耐性、オ
ーバー現像性、耐薬品性を表1の付記のとおり評価した
ところ表1の結果を得た。
【0142】実施例10 実施例9のクレゾールノボラック樹脂に代えて合成例1
の樹脂を用いた以外は実施例9と同様に行い平版印刷版
サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0143】実施例11 実施例9の合成例9の樹脂に代えて合成例10の樹脂を
用いた以外は実施例9と同様に行い平版印刷版サンプル
を得た。結果を表1に示す。
【0144】実施例12 下記組成よりなる着色感光層分散液を調製した。
【0145】 [着色感光層分散液] 合成例10の樹脂 4.6g クレゾールノボラック樹脂 4.7g 下記顔料 <下記の量> メチルエチルケトン 35.2g <顔料> ブラック:カーボンブラックMA−100(三菱化成(株)製) 0.99g シアン :リオノールブルーFG−7330(東洋インキ(株)製) 0.55g マゼンタ:リオノールレッド6BFG−4219X(東洋インキ(株)製) 0.68g イエロー:リオノールイエローNo.1206(東洋インキ(株)製) 0.68g 上記分散液を、乾燥後の膜厚が1.8mμとなるように
実施例1と同様の離型層を有する支持体に塗布・乾燥
し、4色のポジティブワーキングタイプの感光性着色画
像形成材料を得た。
【0146】得られた4色の感光性着色画像形成材料の
ポリエチレンテレフタレートフィルム面に各色の色分解
網ポジフィルムを現像後の画像が感光層側からみて逆像
となるように密着し、4kWメタルハライドランプで5
0cmの距離から約60秒間画像露光を行い、更に下記
現像液に32℃で30秒間浸漬、スポンジで擦ることに
より現像を行い、露光部が除去された4色の着色画像を
得た。
【0147】 [現像液] コニカPS版現像液SDP−1(コニカ(株)製) 40ml ペレックスNB−L(界面活性剤:花王アトラス(株)製) 100ml 蒸留水 400ml 次に、イエロー色画像の画像面とアート紙(特菱アー
ト:三菱製紙(株)製)とを密着し、80℃に加熱され
た1対のニップロール間を5kgf/cm2の加圧条件
下にて0.5m/min.の速度で通過させた後、ただ
ちに支持体を剥離した。剥離は離型層と着色画像との界
面で容易に行われ、アート紙上にイエロー色画像が転写
された。引き続き、マゼンタ、シアン、ブラックの順に
着色画像の転写を行い、4kWメタルハライドランプで
50cmの距離から約120秒間全面露光を行って、ア
ート紙上に形成された、4色からなるプルーフィング画
像を得た。
【0148】アート紙上には、着色画像部分のみが転写
した。即ち、非画像部の紙面は露出し、また非画像部分
の地汚れの発生は認められなかった。
【0149】この感光性着色画像形成材料の擦り傷耐
性、オーバー現像性を表1の付記のとおり評価したとこ
ろ表1のいお示す結果を得た。
【0150】比較例8 実施例12の合成例10の樹脂に代えて下記の樹脂を用
いた以外は実施例12と同様に行いプルーフィング画像
を得た。結果を表1に示す。
【0151】樹脂:p−クレゾールノボラック樹脂とナ
フトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロラ
イドとのエステル化物 実施例13 実施例9の合成例9およびクレゾールノボラック樹脂に
代えて合成例11の樹脂を用いた以外は実施例9と同様
に行い平版印刷版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0152】比較例9 実施例13の合成例11の樹脂に代えて比較合成例12
の樹脂を用いた以外は実施例13と同様に行い平版印刷
版サンプルを得た。結果は表1に示す。
【0153】比較例10 実施例13の合成例11の樹脂に代えて比較合成例13
の樹脂を用いた以外は実施例13と同様に行い平版印刷
版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0154】実施例14 実施例3で作成した砂目支持体上に、下記組成を有する
感光液を、乾燥重量が1.6g/m2になるように塗布
し、80℃の気流下で2分間乾燥し、感光性平版印刷版
試料を得た。
【0155】 [感光液組成] 合成例12の樹脂 8.7g 5−ニトロアセナフテン 0.8g トリフェニルメタン系色素(商品名:ビクトリアピュアブルーBOH, 保土ヶ谷化学(株)製) 0.2g ポリアクリル酸40%水溶液(商品名:ジュリマーAC−10L, 日本純薬(株)製) 0.6g フッ素系界面活性剤(商品名:フロラードFC430,3M製) 0.1g エチレングリコールモノメチルエーテル 160g ジメチルフォルムアミド 40g 得られた感光性平版印刷版試料に、イーストマンコダッ
ク社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15の物)とネガ像フィルム原稿を通し、PS版用
焼き付け機を用い、2kWメタルハライドランプを使用
して8mW/cm2で30秒間露光した。露光後の試料
は、25℃に温調した下記組成の現像液に30秒間浸漬
した後、スポンジで表面を軽く擦り、流水で洗浄するこ
とにより平版印刷版試料を得た。
【0156】 [現像液組成] Aケイ酸カリ(日本化学製) 1000ml 苛性カリ 130ml ベンジルアルコール 100ml ペレックスNB−L(界面活性剤:花王アトラス(株)製) 200ml 純水 5000ml この感光性平版印刷版試料の耐刷力、擦り傷耐性、オー
バー現像性及び耐薬品性を表1の付記のとおり評価した
ところ、表1に示す結果を得た。
【0157】比較例11 実施例14の合成例12の樹脂に代えて比較合成例14
の樹脂を用いた以外は実施例14と同様に行い平版印刷
版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0158】実施例15 実施例14の合成例12の樹脂に代えて合成例13の樹
脂を用いた以外は実施例14と同様に行い平版印刷版試
料を得た。結果を表1に示す。
【0159】比較例12 実施例15の合成例13の樹脂に代えて比較合成例15
の樹脂を用いた以外は実施例15と同様に行い平版印刷
版試料を得た。結果を表1に示す。
【0160】実施例16 実施例3で作成した砂目支持体上に、下記組成を有する
感光液を、乾燥重量が1.6g/m2になるように塗布
し、80℃の気流下で2分間乾燥し、感光性平版印刷版
試料を得た。
【0161】 [感光液組成] 合成例14の樹脂 8.7g ジフェニールヨードニュームのアントラキノンスルホン酸塩 0.8g トリフェニルメタン系色素(商品名:ビクトリアピュアブルーBOH, 保土ヶ谷化学株製) 0.2g ポリアクリル酸40%水溶液(商品名:ジュリマーAC−10L, 日本純薬株製) 0.6g フッ素系界面活性剤(商品名:フロラードFC430,3M製) 0.1g 乳酸メチル 160g プロピレングリコールモノエチルエーテル 40g 得られた感光性平版印刷版試料に、イーストマンコダッ
ク社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15の物)とポジ像フィルム原稿を通し、PS版用
焼き付け機を用い、2kwメタルハライドランプを使用
して8mW/cm2で30秒間露光した。
【0162】露光後の試料は、25℃に温調した下記組
成の現像液に30秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、流水で洗浄することにより平版印刷版サンプル
を得た。
【0163】 [現像液組成] Aケイ酸カリ(日本化学製) 1000ml 苛性カリ 130ml ベンジルアルコール 100ml ペレックスNB−L(界面活性剤:花王アトラス株製) 200ml 純水 5000ml この感光性平版印刷版試料の耐刷力、擦り傷耐性、オー
バー現像性、耐薬品性を表1の付記のとうり評価したと
ころ表1の結果を得た。
【0164】実施例17 実施例16の合成例14の樹脂に代えて合成例15の樹
脂を用い、ジフェニールヨードニュームのアントラキノ
ンスルホン酸塩に代えて、2[2′(5″−メチルフリ
ル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジンを用いた以外は実施例16と同様に行
い平版印刷版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0165】比較例13 実施例16の合成例14の樹脂に代えて比較合成例16
の樹脂を用いた以外は実施例16と同様に行い平版印刷
版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0166】比較例14 実施例17の合成例15の樹脂に代えて比較合成例17
の樹脂を用いた以外は実施例17と同様に行い平版印刷
版サンプルを得た。結果を表1に示す。
【0167】
【表1】
【0168】付記 耐刷力:ハイデルGTO印刷機(スピード:7000枚
/時間)に印刷版をセットし印刷を行った。感光層の表
面がすり減り、印刷物にその影響が現れ始める時の最大
刷り枚数で評価した。表1には、この最大刷り枚数をA
〜Eの5段階のランクで示した。
【0169】擦り傷耐性:平板上に感光材料感光層の表
面どうしを重ねて置き、さらにその上に一定加重(1k
g/dm2)をかけた後、一方の感光材料を平板と平行
に一定の力で引っ張り、他方の感材から引き離す。感光
材料感光層表面には感光層面どうしが擦り合わされた結
果擦り傷が発生する。その擦り傷の程度で評価した。表
1にはこの擦り傷の程度をA〜Eの5段階のランクで示
した。
【0170】オーバー現像性:感光材料の感光層が現像
できる最低の現像時間の4倍の長さの現像処理を行い、
本来現像により溶出されず残存する画像部の溶出度合い
で評価した。表1にはこの溶出度合いをA〜Eの5段階
で示した。この評価結果において画像部が溶出されると
オーバー現像性が悪いことになる。
【0171】耐薬品性:ウルトラプレートクリーナーに
感光層を室温で12時間浸漬した時の感光層表面のクリ
ナーによる侵され具合をA〜Eの5段階にランク付けし
て評価した。
【0172】上記ランクの意味を下記表2に示す。
【0173】
【表2】
【0174】
【発明の効果】本発明によれば、物理的強度及び化学的
強度と現像性とがバランス良く向上した感光性組成物が
提供される。
【0175】また、本発明によれば、感光性平版印刷版
の感光層に適用したとき、現像速度を劣化することな
く、耐刷力、擦り傷耐性、オーバー現像性及び耐薬品性
に優れた感光性組成物が提供される。
【0176】また、本発明によれば、カラープルーフ用
感光材料の感光層としたとき、擦り傷耐性、現像性(特
にオーバー現像性)及び画像形成性に優れた感光性組成
物が提供される。
【0177】感光性組成物の結合剤として知られている
従来のノボラック樹脂に代表される縮合型樹脂は分子量
が低いことも起因しているが、物理的強度及び化学的強
度が高くなる組成構造にすると現像速度が極めて遅くな
った。このような樹脂と比べて、フェノール性ヒドロキ
シル基を有する芳香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合
樹脂、及びフェノール誘導体と4,4′−ビスメトキシ
メチルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキシメ
チルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメチル
ジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチルジ
フェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物との縮合
樹脂はその化学構造と比較的高分子量のため、物理的強
度と化学的強度との両性能がバランス良く向上する。
【0178】また、フェノール性ヒドロキシル基を有す
る重合性モノマーが1種のみ導入された重合体では、他
の重合性モノマー(フェノール性ヒドロキシル基は含有
しない)との共重合で樹脂組成を調整しても物理的、化
学的強度と現像性をバランス良く向上させることは出来
なかったが、本発明のフェノール性ヒドロキシル基を有
する重合性モノマーを2種以上導入した重合体、即ちN
−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミドとその他のフ
ェノール性ヒドロキシル基含有重合性モノマーの共重合
樹脂では両性能をバランス良く向上させることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/022 G03F 7/022 7/039 7/039

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェノール性ヒドロキシル基を有する芳
    香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合樹脂を含有するこ
    とを特徴とする感光性組成物。
  2. 【請求項2】 フェノール誘導体と4,4′−ビスメト
    キシメチルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキ
    シメチルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメ
    チルジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチ
    ルジフェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物との
    縮合樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。
  3. 【請求項3】 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイ
    ミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性
    モノマーとの共重合樹脂を含有することを特徴とする感
    光性組成物。
  4. 【請求項4】 フェノール性ヒドロキシル基を有する芳
    香族ジアルデヒドとジアミンとの縮合樹脂に感光基を導
    入した化合物を含有することを特徴とする感光性組成
    物。
  5. 【請求項5】 フェノール誘導体と4,4′−ビスメト
    キシメチルジフェニルエーテル、4,4′−ビスメトキ
    シメチルジフェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメ
    チルジフェニルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチ
    ルジフェニルから選ばれる少なくとも1種の化合物との
    縮合樹脂に感光基を導入した化合物を含有することを特
    徴とする感光性組成物。
  6. 【請求項6】 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイ
    ミドとその他のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性
    モノマーとの共重合樹脂から選ばれる少なくとも1種の
    樹脂に感光基を導入した化合物を含有することを特徴と
    する感光性組成物。
  7. 【請求項7】 下記、及びから選ばれる少なくと
    も1種及び光酸発生剤を含有することを特徴とする感光
    性組成物。 フェノール性ヒドロキシル基を有する芳香族ジアルデ
    ヒドとジアミンとの縮合樹脂のヒドロキシル基が酸によ
    り離脱する保護基でブロックされた反応物。 フェノール誘導体と4,4′−ビスメトキシメチルジ
    フェニルエーテル、4,4′−ビスメトキシメチルジフ
    ェニル硫化物、4,4′−ビスメトキシメチルジフェニ
    ルメタン及び4,4′−ビスメトキシメチルジフェニル
    から選ばれる少なくとも1種の化合物との縮合樹脂のヒ
    ドロキシル基が酸により離脱する保護基でブロックされ
    た反応物。 N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミドとその他
    のフェノール性ヒドロキシル基含有重合性モノマーとの
    共重合樹脂のヒドロキシル基が酸により離脱する保護基
    でブロックされた反応物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000250204A (ja) * 1999-03-04 2000-09-14 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトレジスト材料およびパターン形成方法
JP2001281853A (ja) * 2000-04-03 2001-10-10 Fujifilm Arch Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物
EP1577330A1 (en) * 2003-08-22 2005-09-21 Okamoto Chemical Industry Co., Ltd Copolymer, image-froming composition and plate for lithography
JP2010155994A (ja) * 1998-06-03 2010-07-15 Kodak Polychrome Graphics Co Ltd リソグラフ印刷板前駆体
WO2021246445A1 (ja) * 2020-06-03 2021-12-09 昭和電工株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁

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