JPH10204405A - はんだ付け環境に適した回路板接着剤 - Google Patents

はんだ付け環境に適した回路板接着剤

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JPH10204405A
JPH10204405A JP9310972A JP31097297A JPH10204405A JP H10204405 A JPH10204405 A JP H10204405A JP 9310972 A JP9310972 A JP 9310972A JP 31097297 A JP31097297 A JP 31097297A JP H10204405 A JPH10204405 A JP H10204405A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】はんだ付け環境に適した回路板接着剤を提供す
る。 【解決手段】集積回路チップをリードフレームに結合
し、その後リードをはんだ付けする際に、接着性ポリイ
ミド溶液を使用する。ポリイミドは、芳香族二無水物
と、芳香族ジアミン及び脂肪族ジアミンの混合物との反
応生成物である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードが順次はん
だ付けされる所で、集積回路チップをリードフレームに
結合するのに有用なポリイミド接着剤に関し、特に、二
無水物及び、芳香族ジアミンと脂肪族ジアミンの混合物
とから造られるポリイミド溶液に関する。
【0002】
【従来の技術】ミクロ電子工学構成成分を製造するに当
たっては、集積回路チップは、ポリイミド樹脂を使用し
てリードフレームに結合される。その後、チップのリー
ドが、リードフレームのリードにはんだ付けされる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この工業において度々
繰り返される問題は、「湿った」リードへのはんだ付け
の不足及び良好な電気接続の形成の不足であった。本発
明者は、「湿った」リードへのはんだ付けの不足は、シ
ロキサン基を含有するポリイミド接着剤樹脂の使用にあ
る事を発見した。本発明者は、これらの樹脂が加熱され
ると、樹脂は、リード上に凝縮するシリコン含有化合物
を発生し、リードの湿潤により、はんだ付けを妨げる事
を見付けた。
【0004】
【課題を解決するための手段】更に、本発明者は、二無
水物と芳香族及び脂肪族ジアミンの混合物とから造られ
たポリイミド接着剤は、この適用に対して優れた接着剤
であり、結合中に、殆ど揮発分を発生しないので、リー
ドの湿潤からはんだ付けを保護する事を見出した。驚く
べき事に、又本発明者は、本発明の接着剤の加圧処理後
の引き剥がし強度が、脂肪族ジアミンに代えてシロキサ
ン含有ジアミンで造った同様の接着剤よりも良好である
事を見出した。
【0005】
【発明の実施の態様】本発明の接着剤は、有機溶媒中
で、芳香族二無水物と、芳香族及び脂肪族ジアミンとを
反応させる事によって調製される。有機溶媒 有機溶媒は、接着剤が中温で乾燥できる様に、低沸点溶
媒でなければならないず、180℃未満の沸点が好まし
い。適当な有機溶媒としては、N−メチルピロリドン
(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAC)、2−
ビニルピロリドン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、“セロソルブ”(グリコールエチルエーテ
ル)、“セロソルブアセテート”(ヒドロキシエチルア
セテートグリコールモノアセテート)、ジエチルエーテ
ル、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミド(DM
F)、エチルアルコール、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド
(DMSO)、ヘキサメチルホスホルアミド(HMP
A)、テトラメチル尿素(TMU)、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(モ
ノグリム)、ジエチレングリコールジメチルエーテル
(ジグリム)、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)
エタン(トリグリム)、ビス[ 2−(2−メトキシエト
キシ)エチル)] エーテル(テトラグリム)、ビス(2
−メトキシエチル)エーテルテトラヒドロフラン、m−
ジオキサン及びp−ジオキサンが挙げられる。NMP及
びDMACは、これらがポリアミック酸の良溶媒である
ので好ましい。共溶媒として、例えば、トルエン又はキ
シレンの約5〜約50重量%(全溶媒重量を基準にし
て)が、水分除去の手助けに、NMP、DMAC、或い
はその他の溶媒と共に使用されても良い。
【0006】芳香族二無水物 ポリイミドの形成に当たっては、芳香族二無水物或いは
芳香族二無水物の組合せが、二無水物モノマーとして使
用出来る。適当な芳香族二無水物としては、1,2,
5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、2−(3′,4′−ジカルボキシフェニル)−5,
6−ジカルボキシベンゾイミダゾール二無水物、2−
(3′,4′−ジカルボキシフェニル)−5,6−ジカ
ルボキシベンゾオキサゾール二無水物、
【0007】2−(3′,4′−ジカルボキシフェニ
ル)−5,6−ジカルボキシベンゾチアゾール二無水
物、2,2′,3,3′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,3,4′−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、2,
2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物(BPDA)、ビシクロ−[ 2,2,
2] −オクテン−(7)−2,3,5,6−テトラカル
ボン酸−2,3,5,6−二無水物、チオ−ジフタル酸
二無水物、
【0008】ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ス
ルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)スルホキシド二無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニルオキサジアゾール−1,3,4)パラフェニ
レン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−2,5−オキサジアゾール−1,3,4−二無水物、
ビス2,5−(3′,4′−ジカルボキシジフェニルエ
ーテル)−1,3,4−オキサジアゾール二無水物、
【0009】ビス(3,4−ジカルボキシジフェニル)
エーテル二無水物、又は4,4′−オキシジフタル酸無
水物(ODPA)、ビス(3,4−ジカルボキシジフェ
ニル)チオエーテル二無水物、ビスフェノールA二無水
物、ビスフェノールS二無水物、2,2−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無
水物、又は5,5−[ 2,2,2−トリフルオロ−1−
(トリフルオロメチル)エチリデン] ビス−1,3−イ
ソベンゾフランジオン(6FDA)、ハイドロキノンビ
スエーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)メタン二無水物、シクロペンタジエニルテトラカ
ルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二
無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ピロ
メリット酸二無水物(PMDA)、テトラヒドロフラン
テトラカルボン酸二無水物、及びレゾルシノール二無水
物、が挙げられる。
【0010】好ましい二無水物は、BTDA、BPD
A、ODPA及び6FDAであって、これらは入手が容
易であり、優れた性質を与える事が分かった。二無水物
は、そのテトラ酸形態又はテトラ酸のモノ、ジ、トリ又
はテトラエステルで使用出来るが、二無水物が、反応性
に富むので好ましい。
【0011】芳香族ジアミン ポリイミドが柔軟になり過ぎるのを避ける為には、ポリ
イミドのジアミン含有量の約50〜約95モル%は、非
シロキサン含有芳香族ジアミンでなければならず、好ま
しくは、ジアミン含有量の約75〜約90モル%が非シ
ロキサン含有芳香族ジアミンでなければならない。適当
な芳香族ジアミンの例としては、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン(PDA)、2,5−ジメ
チル−1,4−ジアミノベンゼン、又は2,5−ジメチ
ル−1,4−フェニレンジアミン(DPX)、2,4−
ジアミノトルエン、2,5−及び2,6−ジアミノトル
エン、p−及びm−キシレンジアミン、4,4′−ジア
ミノビフェニル、4,4′−ジアミノビフェニルエーテ
ル又は4,4′−オキシジアニリン(ODA)、
【0012】4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,
3′,3,4′又は4,4′−ジアミノフェニルスルホ
ン又はm,m−、m,p−又はp,p−スルホンジアニ
リン、4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,
3′又は4,4′−ジアミノジフェニルメタン又はm,
m−又はp,p−メチレンジアニリン、3,3′−ジメ
チルベンジジン、α,α′−ビス(4−アミノフェニ
ル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン又は4,4′−
イソプロピリデンジアニリン又はビスアニリンp、α,
α′−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジイソプ
ロピルベンゼン又は3,3′−イソプロピリドンジアニ
リン又はビスアニリンm、1,4−ビス(p−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(p−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、
【0013】4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)
ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン(APB)、2,4−ジアミン−5−クロロトル
エン、2,4−ジアミン−6−クロロトルエン、2,2
−ビス(4[ 4−アミノフェノキシ] フェニル)プロパ
ン(BAPP)、トリフルオロメチル−2,4−ジアミ
ノベンゼン、トリフルオロメチル−3,5−ジアミノベ
ンゼン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)−ヘキ
サフルオロプロパン(6Fジアミン)、
【0014】2,2′−ビス(4−フェノキシアニリ
ン)イソプロピリデン、2,4,6−トリメチル−1,
3−ジアミノベンゼン、4,4′−ジアミノ−2,2′
−トリフルオロメチルジフェニルオキシド、3,3′−
ジアミノ−5,5′−トリフルオロメチルジフェニルオ
キシド、4,4′−トリフルオロメチル−2,2′−ジ
アミノビフェニル、2,4,6−トリメチル−1,3−
ジアミノベンゼン、ジアミノアントラキノン、4,4′
−オキシビス[ (2−トリフルオロメチル)ベンゼンア
ミン] (1,2,4−OBABTF)、4,4′−オキ
シビス[ (3−トリフルオロメチル)ベンゼンアミン]
、4,4′−チオビス[ (2−トリフルオロメチル)
ベンゼンアミン] 、4,4′−チオビス[ (3−トリフ
ルオロメチル)ベンゼンアミン] 、
【0015】4,4′−スルホキシルビス[ (2−トリ
フルオロメチル)ベンゼンアミン] 、4,4′−スルホ
キシルビス[ (3−トリフルオロメチル)ベンゼンアミ
ン] 、4,4′−ケトビス[ (2−トリフルオロメチ
ル)ベンゼンアミン] 、4,4′−[ (2,2,2−ト
リフルオロメチル−1−(トリフルオロメチル)−エチ
リジン)ビス(3−トリフルオロメチル)ベンゼンアミ
ン] 、が挙げられる。
【0016】好ましい芳香族ジアミンは、それらの優れ
た性質の故に、APB、BAPP、DPX及びビスアニ
リンp、又はそれらの組合せである。
【0017】脂肪族ジアミン ジアミンモノマーの約5〜約50モル%、好ましくは、
約10〜約25モル%は、シロキサン基を含まない脂肪
族ジアミンである。脂肪族ジアミンの使用が少ないと、
ポリイミドは溶解しにくくなり、接着性が低下し、加工
が一層困難になり、多めの脂肪族ジアミンはTgを低く
する。本発明において有用な脂肪族ジアミンは、好まし
くは、式、H2 N−R−NH2 (ここで、Rは、C2
20の炭化水素であり、好ましくは、Rは、入手のし易
いC6 〜C12の直鎖炭化水素である)を有する。又、脂
肪族ジアミンは、反応性に富むα,ω−ジアミンが好ま
しい。適当な脂肪族ジアミンの例としては、ヘキサメチ
レンジアミン又は1,6−ヘキサンジアミン(HD)、
ヘプタメチレンジアミン、モノメチレンジアミン、デカ
メチレンジアミン、1,12−ドデカメチレンジアミン
(DDD)、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン
(MDP)、1,4−シクロヘキサンジアミン、及びビ
ス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、が挙げられ
る。好ましい脂肪族ジアミンは、十分に作用する事が分
かったDDDである。
【0018】ポリイミドの調製 一般に、最も高い分子量のポリイミドを得る為には、ジ
アミンと二無水物モノマーとの化学量論量が使用される
が、二無水物対ジアミンの当量比は、1:2〜2:1の
範囲とする事が出来る。溶媒中のモノマー溶液は、約5
〜約20重量%の固形分が好ましく、ここで「固形分」
とは、溶媒以外の成分を意味する。モノマーを溶媒に添
加する事によって、重合が室温で起こり、ポリアミック
酸を形成する。次いで、ポリアミック酸はイミド化され
る。これは、例えば、無水酢酸の添加によって、又は加
熱、好ましくは約130〜約200℃の加熱によって、
化学的に行う事が出来る。ポリイミドは、完全にイミド
化される事が好ましい。
【0019】ポリイミドの溶液は、非接着性表面上、例
えば、剥離剤で被覆されたガラス上に拡げられ、溶媒を
飛ばす為に、250℃で加熱される。得られたフィルム
は、その表面から剥がして、結合されるべき表面間に置
かれる。又、結合は、溶液を表面に適用し、溶媒を蒸発
させる事によって乾燥し、ポリイミドを第2表面で被覆
する事によっても行う事も出来る。又、シリカの様なチ
キソトロープを、約1〜約10重量%含み、有機溶媒中
に30〜70重量%のポリイミドを含むペーストを、結
合されるべき製品の一方の上にスクリーン印刷する事も
出来る。結合は、1秒未満で、約250〜約450℃の
加熱で達成される。以下に、実施例を以て、更に本発明
を例示する。
【0020】
【実施例】
〔実施例1〕85重量%のNMPと15重量%のトルエ
ンとの混合溶媒中で、17重量%固形分のモノマーを溶
媒混合物に添加して、この溶液を室温で16時間放置し
て、種々のポリアミック酸を調製した。これを、引き続
いて、165〜175℃で、2〜4時間でイミド化し
た。組成物1〜4及び6〜9は、シロキサンジアミンを
含む比較例(C)である。シロキサンジアミンは、式、
【0021】
【化1】 を有し、「Gm 」で表す。以下の表は、調製した組成物
及び、動的機械的熱分析(DMTA)で決定したそれら
のTgを示す。
【0022】
【表1】 表1 組成物 芳香族二無水物(m) 芳香族ジアミン(m) 脂肪族ジアミン(m) BPDA (0.0215) BAPP (0.0205) 1C BTDA (0.0092) DPX (0.0063) BPDA (0.1031) BAPP (0.0949) DDD (0.0092) 2C BTDA (0.0427) DPX (0.0292) BPDA (0.1031) BAPP (0.0949) DDD (0.0161) 3C BTDA (0.0427) DPX (0.0292) BPDA (0.1031) BAPP (0.0949) 4C BTDA (0.0427) DPX (0.0292) BPDA (0.1031) BAPP (0.0949) DDD (0.0217) 5 BTDA (0.0427) DPX (0.0292) 6C ODPA (0.1758) APB (0.1023) DDD (0.0210) 7C ODPA (0.1365) APB (0.1122) 8C ODPA (0.1357) APB (0.1025) 9C ODPA (0.0333) APB (0.0250) 10 ODPA (0.1727) APB (0.1296) DDD (0.0431) 11 ODPA (0.1727) APB (0.1345) MPD (0.0447) 12 ODPA (0.1727) APB (0.1345) HD (0.0447)
【0023】 表1(続き) 組成物 シロキサンジアミン(m) Tg(℃) G9 (0.0031) 2391C G1 (0.0016) G1 (0.0072) 2472C G25 (0.0053) G25 (0.0055) 2473C G1 (0.00167) 2444C G25 (0.0050) 242 6C G25 (0.0118) 163 7C G25 (0.0143) 176 8C G1 (0.0217) 157 G25 (0.0115) 9C G9 (0.0083) 148 10 162 11 187 12 182
【0024】結合して、1日及び2日後に、121℃で
100%相対湿度(RH)で、組成物の引き剥がし強度
を試験した(圧力かまテスト)。結合は、アロイ42
(42重量%のニッケルと58重量%の鉄の合金)に対
して、3.4MPa(500psi)で60秒間であっ
た。組成物サンプルを、熱的脱着ガスクロマトグラフ(t
hermal desorber-gas chromatograph)に掛け、約5分
間、400℃に加熱し、放出されたシロキサン含有揮発
分の重量を決定した。以下の表に、その結果を示す。
【0025】
【表2】 表2 引き剥がし強度(kg/cm) 結合温度 初期 1日後 2日後 121℃/ 121℃/ シロキサン揮発分 組成物 (℃) 100%RH 100%RH 重量%(ppm) * 1C 275 1.20 1.47 0.99 2500 2C 275 0.93 0.77 0.71 2060 3C 275 0.94 0.78 0.72 1990 4C 275 1.06 0.81 0.67 2500 5 275 1.73 1.80 1.67 0 6C 250 1.49 0 0 4200 7C 250 0.64 0 0 4910 8C 250 1.39 0 0 4660 9C 250 1.84 0.16 0 5000 10 225 1.89 0.90 1.46 0 11 250 1.80 1.87 1.70 012 250 1.97 1.96 1.70 0 * ポリマーの重量を基準。 C=比較例。 上記表は、引き剥がし強度の最大保持力が、本発明の組
成物である、5、10、11及び12にあった事を示
す。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】集積回路チップをリードフレームに、前記
    チップのリードの前記フレームへのはんだ付けに悪影響
    を及ぼす事なく結合させる為の改良方法であって、 (A)前記集積回路チップと前記リードフレームとの間
    に、それらと接触して、 (1)芳香族二無水物、と (2)(a)約50〜約95モル%の芳香族ジアミン、
    及び(b)約5〜約50モル%の脂肪族ジアミン、の混
    合物であるジアミン、との反応生成物を含むポリイミド
    接着剤であって、ポリシロキサン結合のないポリイミド
    接着剤を設ける工程、及び、 (B)前記ポリイミドを加熱し、次いで冷却して、前記
    集積回路チップと前記リードフレームとの間に結合を形
    成する工程、を含む事を特徴とする方法。
  2. 【請求項2】前記ポリイミドが、完全にイミド化され
    る、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】前記芳香族二無水物が、3,3′,4,
    4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
    3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
    物、オキシジフタル酸二無水物及び5,5−[ 2,2,
    2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリ
    デン] ビス−1,3−イソベンゾフランジオンから成る
    群から選ばれる、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】前記芳香族ジアミンが、1,3−ビス(3
    −アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4[ 4
    −アミノフェノキシ] フェニル)プロパン、2,5−ジ
    メチル−1,4−ジアミノベンゼン及びビスアニリンP
    から成る群から選ばれる、請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】前記脂肪族ジアミンが、C2 〜C20であ
    る、請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】前記脂肪族ジアミンが、α,ω−ジアミン
    である、請求項1記載の方法。
  7. 【請求項7】フィルムが、前記ポリイミドの溶液から溶
    媒を蒸発させる事によって形成され、前記フィルムが、
    前記チップと前記リードフレームとの間に置かれる、請
    求項1記載の方法。
  8. 【請求項8】前記溶媒が、N−メチルピロリドン及びジ
    メチルアセトアミドから成る群から選ばれる、請求項7
    記載の方法。
  9. 【請求項9】前記ポリイミドを含有するペーストが、前
    記リードフレーム上にスクリーン印刷される、請求項1
    記載の方法。
  10. 【請求項10】前記芳香族二無水物が、3,3′,4,
    4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
    3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
    及びオキシジフタル酸二無水物から成る群から選ばれ、
    前記芳香族ジアミンが、1,3−ビス(3−アミノフェ
    ノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4[ 4−アミノフェ
    ノキシ] フェニル)プロパン、2,5−ジメチル−1,
    4−ジアミノベンゼン及びビスアニリンPから成る群か
    ら選ばれ、前記脂肪族ジアミンが1,12−ドデカジア
    ミンである、請求項1記載の方法。
  11. 【請求項11】請求項1記載の方法により造られた製
    品。
  12. 【請求項12】集積回路チップをリードフレームに取付
    ける為の改良方法であって、 (A)有機溶媒中に、約30〜約70重量%の、完全に
    イミド化されたポリイミド及び約1〜約10重量%のチ
    キソトロープを含むペーストを、リードフレーム上にス
    クリーン印刷する工程であって、前記ポリイミドが、 (1)芳香族二無水物、と (2)前記芳香族二無水物に対して、1:2〜2:1の
    モル比にあるジアミンであって、前記ジアミンが、
    (a)約75〜約85モル%の芳香族ジアミン、と
    (b)約15〜約25モル%の、C6 〜C12の脂肪族
    α,ω−ジアミンとの混合物から成るジアミン、との反
    応生成物を含み、前記ポリイミドが、ポリシロキサン結
    合のないポリイミドである工程、 (B)前記溶媒を蒸発させる工程、 (C)前記リードフレーム上の前記ペーストと接触して
    前記チップを設ける工程、 (D)前記ペーストを、加熱し、次いで冷却する工程、 (E)前記集積回路チップのリードを、前記リードフレ
    ームにはんだ付けする工程、を含む事を特徴とする方
    法。
  13. 【請求項13】前記脂肪族α,ω−ジアミンが、1,1
    2−ドデカジアミンである、請求項12記載の方法。
  14. 【請求項14】前記芳香族二無水物が、3,3′,4,
    4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
    3′,4,4′−ビフェニル二無水物及びオキシジフタ
    ル酸二無水物から成る群から選ばれる、請求項12記載
    の方法。
  15. 【請求項15】前記芳香族ジアミンが、1,3−ビス
    (3−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4
    [ 4−アミノフェノキシ] フェニル)プロパン、2,5
    −ジメチル−1,4−ジアミノベンゼン及びビスアニリ
    ンPから成る群から選ばれる、請求項12記載の方法。
  16. 【請求項16】前記芳香族二無水物が、3,3′,4,
    4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
    3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
    及びオキシジフタル酸二無水物から成る群から選ばれ、
    前記芳香族ジアミンが、1,3−ビス(3−アミノフェ
    ノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4[ 4−アミノフェ
    ノキシ] フェニル)プロパン、2,5−ジメチル−1,
    4−ジアミノベンゼン及びビスアニリンPから成る群か
    ら選ばれ、前記脂肪族ジアミンが1,12−ドデカジア
    ミンである、請求項12記載の方法。
  17. 【請求項17】前記溶媒が、N−メチルピロリドン及び
    ジメチルアセトアミドから成る群から選ばれる、請求項
    16記載の方法。
  18. 【請求項18】請求項12記載の方法により造られた部
    品。
  19. 【請求項19】集積回路チップをリードフレームに取付
    ける方法であって、 (A)前記集積回路チップと前記リードフレームとの間
    に、それらと接触して、 (1)芳香族二無水物、と (2)(a)約50〜約95モル%の芳香族ジアミン、
    及び(b)約5〜約50モル%の脂肪族ジアミン、の混
    合物であるジアミン、との反応生成物を含むポリイミド
    接着剤であって、ポリシロキサン結合のないポリイミド
    接着剤を設ける工程、及び、 (B)前記ポリイミドを加熱し、次いで冷却して、前記
    集積回路チップと前記リードフレームとの間に結合を形
    成させる工程、及び、 (C)前記集積回路チップのリードを、前記リードフレ
    ームにはんだ付けする工程、を含む事を特徴とする方
    法。
  20. 【請求項20】請求項19記載の方法により造られた製
    品。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003176354A (ja) * 2001-12-11 2003-06-24 Manac Inc 透明な耐熱性ポリイミドフイルム
JP2004176046A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 E I Du Pont De Nemours & Co 低温ポリイミド接着剤組成物およびそれに関連する方法
JP2004210804A (ja) * 2002-11-14 2004-07-29 Hitachi Chem Co Ltd 接着フィルム及びその用途
JP2012116911A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Dainippon Printing Co Ltd 粘着剤組成物および粘着テープ
JP2014526582A (ja) * 2011-09-20 2014-10-06 ロディア オペレーションズ 熱可塑性ポリイミド
JP2014526583A (ja) * 2011-09-20 2014-10-06 ロディア オペレーションズ 熱可塑性(コ)ポリイミド及び合成方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6700185B1 (en) * 1999-11-10 2004-03-02 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive film for semiconductor, lead frame and semiconductor device using the same, and method for manufacturing semiconductor device
US7084492B2 (en) * 2003-06-30 2006-08-01 Intel Corporation Underfill and mold compounds including siloxane-based aromatic diamines
US7285321B2 (en) * 2003-11-12 2007-10-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Multilayer substrates having at least two dissimilar polyimide layers, useful for electronics-type applications, and compositions relating thereto
US20070262426A1 (en) * 2004-01-27 2007-11-15 Joachim Mahler Semiconductor Housings Having Coupling Coatings
TWI564145B (zh) * 2015-06-17 2017-01-01 長興材料工業股份有限公司 金屬被覆積層板及其製造方法
WO2023144709A1 (en) * 2022-01-25 2023-08-03 Tata Steel Limited Preparation and application of polyimide intermediates for anti-corrosion coating on metal surfaces

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3242128A (en) * 1962-07-30 1966-03-22 Du Pont Coating compositions comprising aromatic polyamic acid and solvent therefor with viscosity stabilizing agent therefor
US3424718A (en) * 1964-09-23 1969-01-28 Du Pont Copolymers of aromatic tetracarboxylic acids with at least two organic diamines
US4315076A (en) * 1980-09-12 1982-02-09 International Harvester Company Polyimides
US4960846A (en) * 1990-03-09 1990-10-02 Amoco Corporation Polyimide copolymers containing 4,4'-bis(p-aminophenoxy)biphenyl and siloxane diamine moieties
DE69115171T2 (de) * 1990-08-27 1996-05-15 Du Pont Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung.
NL9101219A (nl) * 1991-07-11 1993-02-01 Dsm Nv Thermoplastisch polyimide.
DE69415707T2 (de) * 1993-03-29 1999-09-16 Hitachi Chemical Co Ltd Wärmebestandiger Klebstoff zum Herstellen einer Halbleiterpackung
US5635010A (en) * 1995-04-14 1997-06-03 Pepe; Angel A. Dry adhesive joining of layers of electronic devices
KR0148080B1 (ko) * 1995-07-31 1998-08-01 김광호 반도체 리드프레임 제조방법 및 그를 이용한 반도체 칩 패키지 제조방법

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003176354A (ja) * 2001-12-11 2003-06-24 Manac Inc 透明な耐熱性ポリイミドフイルム
JP2004210804A (ja) * 2002-11-14 2004-07-29 Hitachi Chem Co Ltd 接着フィルム及びその用途
JP4534418B2 (ja) * 2002-11-14 2010-09-01 日立化成工業株式会社 接着フィルム及びその用途
JP2004176046A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 E I Du Pont De Nemours & Co 低温ポリイミド接着剤組成物およびそれに関連する方法
JP4540964B2 (ja) * 2002-11-26 2010-09-08 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 低温ポリイミド接着剤組成物
JP2012116911A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Dainippon Printing Co Ltd 粘着剤組成物および粘着テープ
JP2014526582A (ja) * 2011-09-20 2014-10-06 ロディア オペレーションズ 熱可塑性ポリイミド
JP2014526583A (ja) * 2011-09-20 2014-10-06 ロディア オペレーションズ 熱可塑性(コ)ポリイミド及び合成方法

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