JPH10195084A - 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 - Google Patents
重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法Info
- Publication number
- JPH10195084A JPH10195084A JP9004465A JP446597A JPH10195084A JP H10195084 A JPH10195084 A JP H10195084A JP 9004465 A JP9004465 A JP 9004465A JP 446597 A JP446597 A JP 446597A JP H10195084 A JPH10195084 A JP H10195084A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- group
- polymerizable
- triorganosilyl
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 title claims description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- -1 copper carboxylate Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 46
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 5
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 claims description 4
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 claims description 4
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PWGQHOJABIQOOS-UHFFFAOYSA-N copper;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Cu+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O PWGQHOJABIQOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IQKQUSLYXMWMQZ-UHFFFAOYSA-N copper;oxido-(oxido(dioxo)chromio)oxy-dioxochromium Chemical compound [Cu+2].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O IQKQUSLYXMWMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 abstract description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract 3
- LBJNMUFDOHXDFG-UHFFFAOYSA-N copper;hydrate Chemical compound O.[Cu].[Cu] LBJNMUFDOHXDFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 12
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- ISEIIPDWJVGTQS-UHFFFAOYSA-N tributylsilicon Chemical compound CCCC[Si](CCCC)CCCC ISEIIPDWJVGTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDDJDSXXKFMDPY-UHFFFAOYSA-N butyl-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CCCC[SiH](C(C)C)C(C)C LDDJDSXXKFMDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- MNSBLWANOCYPMT-UHFFFAOYSA-N butyl(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH](CCCC)C1=CC=CC=C1 MNSBLWANOCYPMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L copper benzoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silicon Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)C(C)C ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEAZWKYSTGLBSQ-UHFFFAOYSA-N tributylsilyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)OC(=O)C(C)=C WEAZWKYSTGLBSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- STGNLGBPLOVYMA-MAZDBSFSSA-N (E)-but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O.OC(=O)\C=C\C(O)=O STGNLGBPLOVYMA-MAZDBSFSSA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- IIPCXIGUIPAGQB-OUKQBFOZSA-N (e)-4-dodecoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O IIPCXIGUIPAGQB-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 1
- ZMQWRASVUXJXGM-SREVYHEPSA-N (z)-4-cyclohexyloxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OC1CCCCC1 ZMQWRASVUXJXGM-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- GPTNZCCQHNGXMS-SREVYHEPSA-N (z)-4-oxo-4-phenoxybut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OC1=CC=CC=C1 GPTNZCCQHNGXMS-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- SHVRRGGZMBWAJT-ODZAUARKSA-N (z)-but-2-enedioic acid;copper Chemical compound [Cu].OC(=O)\C=C/C(O)=O SHVRRGGZMBWAJT-ODZAUARKSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVDTRNPSDMWTB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylsilane Chemical compound CC(C)C[SiH3] ZWVDTRNPSDMWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1 MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLMRXAMYSCPREL-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.[Cu] Chemical compound C(C)(=O)OC=C.[Cu] DLMRXAMYSCPREL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDHFWIOTFNLCZ-UHFFFAOYSA-L C(C)(C)CC(C(=O)[O-])=O.[Cu+2].C(C)(C)CC(C(=O)[O-])=O Chemical compound C(C)(C)CC(C(=O)[O-])=O.[Cu+2].C(C)(C)CC(C(=O)[O-])=O YYDHFWIOTFNLCZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGZQLTAGNPWGHK-UHFFFAOYSA-L C(C)OC1=CC=C(C=C1)CC(=O)[O-].[Cu+2].C(C)OC1=CC=C(C=C1)CC(=O)[O-] Chemical compound C(C)OC1=CC=C(C=C1)CC(=O)[O-].[Cu+2].C(C)OC1=CC=C(C=C1)CC(=O)[O-] WGZQLTAGNPWGHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NJKWRQMLEQRQJQ-UHFFFAOYSA-L C(C=CCC)(=O)[O-].[Cu+2].C(C=CCC)(=O)[O-] Chemical compound C(C=CCC)(=O)[O-].[Cu+2].C(C=CCC)(=O)[O-] NJKWRQMLEQRQJQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DOTBPGAZIISDEU-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCCCCCCCCCCCC[SiH3])C Chemical compound CC(CCCCCCCCCCCCCCCCC[SiH3])C DOTBPGAZIISDEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000723347 Cinnamomum Species 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQCJCZRDQRYUHI-UHFFFAOYSA-L O(C1=CC=CC=C1)C(C(=O)[O-])C1=CC=CC=C1.[Cu+2].O(C1=CC=CC=C1)C(C(=O)[O-])C1=CC=CC=C1 Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)C(C(=O)[O-])C1=CC=CC=C1.[Cu+2].O(C1=CC=CC=C1)C(C(=O)[O-])C1=CC=CC=C1 XQCJCZRDQRYUHI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKAWONCUQNANP-UHFFFAOYSA-L O=C(C(=O)[O-])CCC.[Cu+2].O=C(C(=O)[O-])CCC Chemical compound O=C(C(=O)[O-])CCC.[Cu+2].O=C(C(=O)[O-])CCC XWKAWONCUQNANP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QZPWRTIENSNLHZ-UHFFFAOYSA-L O=C(C(C(=O)[O-])=O)CCCCCCCCCCCCCCC.[Cu+2].O=C(C(C(=O)[O-])=O)CCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound O=C(C(C(=O)[O-])=O)CCCCCCCCCCCCCCC.[Cu+2].O=C(C(C(=O)[O-])=O)CCCCCCCCCCCCCCC QZPWRTIENSNLHZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GZGABCAYDSRLNJ-UHFFFAOYSA-J [Cu+2].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].[Cu+2].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-] Chemical class [Cu+2].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].[Cu+2].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-].C(C1=CN=CC=C1)(=O)[O-] GZGABCAYDSRLNJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OLBVUFHMDRJKTK-UHFFFAOYSA-N [N].[O] Chemical compound [N].[O] OLBVUFHMDRJKTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- KCLGATRJYMEERW-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarboxylic acid;copper Chemical compound [Cu].OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 KCLGATRJYMEERW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- MGIWDIMSTXWOCO-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;copper Chemical compound [Cu].OC(=O)CCC(O)=O MGIWDIMSTXWOCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- VLPYSORLKFXNGD-UHFFFAOYSA-N butylsilyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)O[SiH2]CCCC VLPYSORLKFXNGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N chloro(phenyl)methanol Chemical compound OC(Cl)C1=CC=CC=C1 HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017803 cinnamon Nutrition 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- GXROCGVLAIXUAF-UHFFFAOYSA-N copper octan-1-ol Chemical compound [Cu].CCCCCCCCO GXROCGVLAIXUAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHCWRBUIIPCEBC-UHFFFAOYSA-N copper phenyl acetate Chemical compound [Cu+2].CC(=O)OC1=CC=CC=C1 AHCWRBUIIPCEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CXGHLNDIGXESIH-GRVYQHKQSA-L copper;(9z,12z)-octadeca-9,12-dienoate Chemical compound [Cu+2].CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O CXGHLNDIGXESIH-GRVYQHKQSA-L 0.000 description 1
- FXGNPUJCPZJYKO-TYYBGVCCSA-L copper;(e)-but-2-enedioate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O FXGNPUJCPZJYKO-TYYBGVCCSA-L 0.000 description 1
- SVOAENZIOKPANY-CVBJKYQLSA-L copper;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O SVOAENZIOKPANY-CVBJKYQLSA-L 0.000 description 1
- RSJOBNMOMQFPKQ-UHFFFAOYSA-L copper;2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O RSJOBNMOMQFPKQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CMRVDFLZXRTMTH-UHFFFAOYSA-L copper;2-carboxyphenolate Chemical compound [Cu+2].OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.OC1=CC=CC=C1C([O-])=O CMRVDFLZXRTMTH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HXXRDHUDBAILGK-UHFFFAOYSA-L copper;2-hydroxyacetate Chemical compound [Cu+2].OCC([O-])=O.OCC([O-])=O HXXRDHUDBAILGK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DYROSKSLMAPFBZ-UHFFFAOYSA-L copper;2-hydroxypropanoate Chemical compound [Cu+2].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O DYROSKSLMAPFBZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VZWHXRLOECMQDD-UHFFFAOYSA-L copper;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Cu+2].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O VZWHXRLOECMQDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FSQAIQPPCOCRAX-UHFFFAOYSA-L copper;2-oxopropanoate Chemical compound [Cu+2].CC(=O)C([O-])=O.CC(=O)C([O-])=O FSQAIQPPCOCRAX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HCRZXNOSPPHATK-UHFFFAOYSA-L copper;3-oxobutanoate Chemical compound [Cu+2].CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O HCRZXNOSPPHATK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDSWXRRKYLVCFV-UHFFFAOYSA-L copper;cyclohexanecarboxylate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1CCCCC1.[O-]C(=O)C1CCCCC1 YDSWXRRKYLVCFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZZBHLLYRFXFBLC-UHFFFAOYSA-N copper;decanedioic acid Chemical compound [Cu].OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O ZZBHLLYRFXFBLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JDPSPYBMORZJOD-UHFFFAOYSA-L copper;dodecanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O JDPSPYBMORZJOD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QYBZRRUECLSRCO-UHFFFAOYSA-N copper;ethane-1,2-diamine Chemical compound [Cu].NCCN.NCCN QYBZRRUECLSRCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBSQZDSQVQLRQZ-UHFFFAOYSA-L copper;furan-2-carboxylate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CO1.[O-]C(=O)C1=CC=CO1 OBSQZDSQVQLRQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZCXLQZOQWCXFNN-UHFFFAOYSA-N copper;hexanedioic acid Chemical compound [Cu].OC(=O)CCCCC(O)=O ZCXLQZOQWCXFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L copper;oxalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YXKOWHMCBBEJPS-UHFFFAOYSA-L copper;oxaldehydate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C=O.[O-]C(=O)C=O YXKOWHMCBBEJPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GSCLWPQCXDSGBU-UHFFFAOYSA-L copper;phthalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O GSCLWPQCXDSGBU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XPLSDXJBKRIVFZ-UHFFFAOYSA-L copper;prop-2-enoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XPLSDXJBKRIVFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PJBGIAVUDLSOKX-UHFFFAOYSA-N copper;propanedioic acid Chemical compound [Cu].OC(=O)CC(O)=O PJBGIAVUDLSOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZJJVTQGPPWQFS-UHFFFAOYSA-L copper;propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O LZJJVTQGPPWQFS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGNBQCJYSSNAKM-UHFFFAOYSA-N copper;pyridine Chemical compound [Cu].C1=CC=NC=C1.C1=CC=NC=C1.C1=CC=NC=C1.C1=CC=NC=C1 LGNBQCJYSSNAKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJKSAEHNIHMQKQ-UHFFFAOYSA-N copper;quinoline Chemical compound [Cu].N1=CC=CC2=CC=CC=C21 JJKSAEHNIHMQKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZISLUDLMVNEAHK-UHFFFAOYSA-L copper;terephthalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 ZISLUDLMVNEAHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FDIRIOAEXPIEBL-UHFFFAOYSA-L copper;thiophene-2-carboxylate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CS1.[O-]C(=O)C1=CC=CS1 FDIRIOAEXPIEBL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- SGKGLPDXRGGPCS-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)C1CCCCC1 SGKGLPDXRGGPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- PRSVGMOCAKOHIK-UHFFFAOYSA-N dibutyl(ethyl)silane Chemical compound CCCC[SiH](CC)CCCC PRSVGMOCAKOHIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K dicopper;2-oxidopropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]C(=O)CC([O-])(C([O-])=O)CC([O-])=O FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QWVFZGVJZUJZGG-UHFFFAOYSA-N diethyl(phenyl)silicon Chemical compound CC[Si](CC)C1=CC=CC=C1 QWVFZGVJZUJZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWLINUUZNGNWIH-UHFFFAOYSA-N dimethyl(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[SiH](C)C GWLINUUZNGNWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- MGOBEGBHSBJTJR-UHFFFAOYSA-N ethyl(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](CC)C1=CC=CC=C1 MGOBEGBHSBJTJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-M linolenate Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-M 0.000 description 1
- 229940040452 linolenate Drugs 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N monomethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229940005650 monomethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKFBFQHBUCDOHL-UHFFFAOYSA-N phenoxy(phenyl)methanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)OC1=CC=CC=C1 CKFBFQHBUCDOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ACECBHHKGNTVPB-UHFFFAOYSA-N silylformic acid Chemical compound OC([SiH3])=O ACECBHHKGNTVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KTQKOGBTMNDCFG-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 KTQKOGBTMNDCFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZIBBIQQCAYDT-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yl)silane Chemical compound CCC(C)[SiH](C(C)CC)C(C)CC XGZIBBIQQCAYDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNNOZYMZRGTZQM-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)OC(=O)C(C)=C KNNOZYMZRGTZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N triphenylsilane Chemical compound C1=CC=CC=C1[SiH](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMYRBBZVCDXGHG-UHFFFAOYSA-N tripropylsilicon Chemical compound CCC[Si](CCC)CCC MMYRBBZVCDXGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応工程が簡素で、飽和化合物が少なく高純
度の重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレート
を高収率でうる製造方法の提供。 【解決手段】 不飽和カルボン酸とトリオルガノシラン
とを銅または銅化合物を触媒として用いて反応させるこ
とを特徴とする、一般式（III）で示す重合性トリオル
ガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法。 【化７】 ［式中、Ｒ11およびＲ12は、同一または異なって、水素
原子、メチル基または−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基またはトリオルガノシリル基を表す）を表し、Ｒ13
は水素原子、メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基（こ
こで、Ｒ14は前記と同じである）を表し、Ｒ11およびＲ
12の少なくとも一方は水素原子であり（ただし、Ｒ13が
メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基のときは、Ｒ11お
よびＲ12は両方とも水素原子である）、Ｒ5、Ｒ6および
Ｒ7は前記と同じである］。
度の重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレート
を高収率でうる製造方法の提供。 【解決手段】 不飽和カルボン酸とトリオルガノシラン
とを銅または銅化合物を触媒として用いて反応させるこ
とを特徴とする、一般式（III）で示す重合性トリオル
ガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法。 【化７】 ［式中、Ｒ11およびＲ12は、同一または異なって、水素
原子、メチル基または−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基またはトリオルガノシリル基を表す）を表し、Ｒ13
は水素原子、メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基（こ
こで、Ｒ14は前記と同じである）を表し、Ｒ11およびＲ
12の少なくとも一方は水素原子であり（ただし、Ｒ13が
メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基のときは、Ｒ11お
よびＲ12は両方とも水素原子である）、Ｒ5、Ｒ6および
Ｒ7は前記と同じである］。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、重合性トリオルガ
ノシリル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。さ
らに詳しくは、重合性不飽和カルボン酸とトリオルガノ
シランとを反応させ、重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートを製造する方法に関する。
ノシリル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。さ
らに詳しくは、重合性不飽和カルボン酸とトリオルガノ
シランとを反応させ、重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】重合性トリオルガノ不飽和カルボキシレ
ートの製造は、従来一般的に、不飽和カルボン酸とトリ
オルガノモノクロロシランとを、トリエチルアミンのよ
うな塩基の存在下で脱塩化水素する方法で行われてい
る。しかし、この方法では、副生する塩化水素を除去す
る工程が必要となり、工程が繁雑になり、収率および純
度を低下させる欠点があった。
ートの製造は、従来一般的に、不飽和カルボン酸とトリ
オルガノモノクロロシランとを、トリエチルアミンのよ
うな塩基の存在下で脱塩化水素する方法で行われてい
る。しかし、この方法では、副生する塩化水素を除去す
る工程が必要となり、工程が繁雑になり、収率および純
度を低下させる欠点があった。
【０００３】他方、カルボン酸とハイドロシランをパラ
ジウム、ニッケル、ロジウムなどの金属または金属化合
物を含んだ触媒の存在下で反応させてシリルカルボキシ
レートを製造する方法が知られている（L. H. Sommer,
J. E. Lyons, J. Am. Chem.Soc., 91, 7061(1969)）。
ジウム、ニッケル、ロジウムなどの金属または金属化合
物を含んだ触媒の存在下で反応させてシリルカルボキシ
レートを製造する方法が知られている（L. H. Sommer,
J. E. Lyons, J. Am. Chem.Soc., 91, 7061(1969)）。
【０００４】しかし、この反応を、重合性不飽和カルボ
ン酸とトリオルガノシランを用いて行うと反応中に発生
した水素により、重合性不飽和カルボン酸の二重結合が
還元（水添）され多量のトリオルガノシリル飽和カルボ
キシレートが同時に生成する。重合性トリオルガノシリ
ル不飽和カルボキシレートを精製するためには、蒸留が
必要であるが、これらトリオルガノシリル飽和カルボキ
シレートは沸点が目的物の重合性トリオルガノシリル不
飽和カルボキシレートに非常に近いので蒸留による精製
が難しく、高純度の重合性トリオルガノシリル不飽和カ
ルボキシレートをうるのは困難である。
ン酸とトリオルガノシランを用いて行うと反応中に発生
した水素により、重合性不飽和カルボン酸の二重結合が
還元（水添）され多量のトリオルガノシリル飽和カルボ
キシレートが同時に生成する。重合性トリオルガノシリ
ル不飽和カルボキシレートを精製するためには、蒸留が
必要であるが、これらトリオルガノシリル飽和カルボキ
シレートは沸点が目的物の重合性トリオルガノシリル不
飽和カルボキシレートに非常に近いので蒸留による精製
が難しく、高純度の重合性トリオルガノシリル不飽和カ
ルボキシレートをうるのは困難である。
【０００５】また、不飽和カルボン酸とトリオルガノシ
ランとを反応させてトリオルガノシリル不飽和カルボキ
シレートをうる方法として特開平４−１５４７８９号公
報ではパラジウム触媒と配位子の存在下で行う方法が、
特開平４−１５４７９０号公報ではパラジウム触媒と非
プロトン溶媒の存在下で行う方法が、それぞれ提案され
ているが、これらの方法では、未だ、トリオルガノシリ
ル飽和カルボキシレートの生成が多く、満足できる品質
かつ収率で、目的物である重合性トリオルガノシリル不
飽和カルボキシレートをうることができない。
ランとを反応させてトリオルガノシリル不飽和カルボキ
シレートをうる方法として特開平４−１５４７８９号公
報ではパラジウム触媒と配位子の存在下で行う方法が、
特開平４−１５４７９０号公報ではパラジウム触媒と非
プロトン溶媒の存在下で行う方法が、それぞれ提案され
ているが、これらの方法では、未だ、トリオルガノシリ
ル飽和カルボキシレートの生成が多く、満足できる品質
かつ収率で、目的物である重合性トリオルガノシリル不
飽和カルボキシレートをうることができない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の技術の欠点に鑑み、好ましくない副生成物である
トリオルガノシリル飽和カルボキシレートを生成するこ
となく、目的物である重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートを、高純度かつ高収率で製造する方法
を目的とする。
従来の技術の欠点に鑑み、好ましくない副生成物である
トリオルガノシリル飽和カルボキシレートを生成するこ
となく、目的物である重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートを、高純度かつ高収率で製造する方法
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる目
的を達成するために鋭意検討した結果、不飽和カルボン
酸とトリオルガノシランとを銅および銅化合物の１種ま
たは２種以上を触媒として用いて反応させると、重合性
不飽和カルボン酸の二重結合の還元を伴うことなく、重
合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを高純
度かつ高収率で製造できることを見出し、本発明に至っ
た。
的を達成するために鋭意検討した結果、不飽和カルボン
酸とトリオルガノシランとを銅および銅化合物の１種ま
たは２種以上を触媒として用いて反応させると、重合性
不飽和カルボン酸の二重結合の還元を伴うことなく、重
合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを高純
度かつ高収率で製造できることを見出し、本発明に至っ
た。
【０００８】すなわち本発明は、（１）一般式（Ｉ）：
【０００９】
【化４】
【００１０】［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異な
って、水素原子、メチル基または−ＣＯＯＲ4基（ここ
で、Ｒ4は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表す）を表し、Ｒ3は
水素原子、メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ4基（ここ
で、Ｒ4は前記と同じである）を表し、Ｒ1およびＲ2の
少なくとも一方は水素原子である（ただし、Ｒ3がメチ
ル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ4基のときは、Ｒ1およびＲ2
は両方とも水素原子である）］で示される不飽和カルボ
ン酸と、一般式（II）：
って、水素原子、メチル基または−ＣＯＯＲ4基（ここ
で、Ｒ4は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表す）を表し、Ｒ3は
水素原子、メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ4基（ここ
で、Ｒ4は前記と同じである）を表し、Ｒ1およびＲ2の
少なくとも一方は水素原子である（ただし、Ｒ3がメチ
ル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ4基のときは、Ｒ1およびＲ2
は両方とも水素原子である）］で示される不飽和カルボ
ン酸と、一般式（II）：
【００１１】
【化５】
【００１２】（式中、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は、同一また
は異なって、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基またはアラルキル基を表す）で示されるトリオルガノ
シランとを反応させて、一般式（III）：
は異なって、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基またはアラルキル基を表す）で示されるトリオルガノ
シランとを反応させて、一般式（III）：
【００１３】
【化６】
【００１４】［式中、Ｒ11およびＲ12は、同一または異
なって、水素原子、メチル基または−ＣＯＯＲ14基（こ
こで、Ｒ14はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基または前記一般式（II）で示されるト
リオルガノシランから誘導されるトリオルガノシリル基
を表す）を表し、Ｒ13は水素原子、メチル基または−Ｃ
Ｈ2ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は前記と同じである）
を表し、Ｒ11およびＲ12の少なくとも一方は水素原子で
あり（ただし、Ｒ13がメチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ
14基のときは、Ｒ11およびＲ12は両方とも水素原子であ
る）、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は前記と同じである］で示さ
れる重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレート
を製造する際に、銅および銅化合物の１種または２種以
上を触媒として用いることを特徴とする重合性トリオル
ガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
なって、水素原子、メチル基または−ＣＯＯＲ14基（こ
こで、Ｒ14はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基または前記一般式（II）で示されるト
リオルガノシランから誘導されるトリオルガノシリル基
を表す）を表し、Ｒ13は水素原子、メチル基または−Ｃ
Ｈ2ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は前記と同じである）
を表し、Ｒ11およびＲ12の少なくとも一方は水素原子で
あり（ただし、Ｒ13がメチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ
14基のときは、Ｒ11およびＲ12は両方とも水素原子であ
る）、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は前記と同じである］で示さ
れる重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレート
を製造する際に、銅および銅化合物の１種または２種以
上を触媒として用いることを特徴とする重合性トリオル
ガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
【００１５】さらに本発明は、（２）前記銅化合物が、
酸化銅、亜酸化銅、水酸化銅、炭酸銅、クロム酸銅、重
クロム酸銅、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸銅またはシア
ン化銅である前記（１）項記載の重合性トリオルガノシ
リル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
酸化銅、亜酸化銅、水酸化銅、炭酸銅、クロム酸銅、重
クロム酸銅、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸銅またはシア
ン化銅である前記（１）項記載の重合性トリオルガノシ
リル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
【００１６】さらに本発明は、（３）前記銅化合物が、
銅カルボキシレート、銅アルコキシドまたは銅錯体であ
る前記（１）項記載の重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートの製造法に関する。
銅カルボキシレート、銅アルコキシドまたは銅錯体であ
る前記（１）項記載の重合性トリオルガノシリル不飽和
カルボキシレートの製造法に関する。
【００１７】さらに本発明は、（４）前記不飽和カルボ
ン酸が、アクリル酸またはメタクリル酸である前記
（１）、（２）または（３）項記載の重合性トリオルガ
ノシラル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
ン酸が、アクリル酸またはメタクリル酸である前記
（１）、（２）または（３）項記載の重合性トリオルガ
ノシラル不飽和カルボキシレートの製造法に関する。
【００１８】
【発明の実施の形態】一般式（Ｉ）において、Ｒ1また
はＲ2で示される−ＣＯＯＲ4基中のＲ4で示されるアル
キル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ラウリル、ヘ
キサデシル、ステアリルなどの炭素数１〜１８の直鎖
状、分岐鎖状の未置換または置換アルキル基があげられ
る。またＲ4で示されるシクロアルキル基としては、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘ
キシル、メトキシシクロヘキシル、クロロシクロヘキシ
ル、シクロペンチル、シクロドデシルなどの炭素数６〜
１２の未置換または置換シクロアルキル基があげられ
る。またＲ4で示されるアリール基としてはフェニル、
トリル、キシリル、メシチル、エチルフェニル、プロピ
ルフェニル、イソプロピルフェニル、メトキシフェニ
ル、フェノキシフェニル、クロロフェニル、ナフチルな
どの炭素数６〜１２の未置換または置換アリール基があ
げられる。さらにＲ4で示されるアラルキル基として
は、ベンジル、メチルベンジル、メトキシベンジル、エ
トキシベンジル、フェノキシベンジル、フェニルエチ
ル、フェニルブチル、クロロベンジルなどの炭素数７〜
１４の未置換または置換アラルキル基があげられる。
はＲ2で示される−ＣＯＯＲ4基中のＲ4で示されるアル
キル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ラウリル、ヘ
キサデシル、ステアリルなどの炭素数１〜１８の直鎖
状、分岐鎖状の未置換または置換アルキル基があげられ
る。またＲ4で示されるシクロアルキル基としては、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘ
キシル、メトキシシクロヘキシル、クロロシクロヘキシ
ル、シクロペンチル、シクロドデシルなどの炭素数６〜
１２の未置換または置換シクロアルキル基があげられ
る。またＲ4で示されるアリール基としてはフェニル、
トリル、キシリル、メシチル、エチルフェニル、プロピ
ルフェニル、イソプロピルフェニル、メトキシフェニ
ル、フェノキシフェニル、クロロフェニル、ナフチルな
どの炭素数６〜１２の未置換または置換アリール基があ
げられる。さらにＲ4で示されるアラルキル基として
は、ベンジル、メチルベンジル、メトキシベンジル、エ
トキシベンジル、フェノキシベンジル、フェニルエチ
ル、フェニルブチル、クロロベンジルなどの炭素数７〜
１４の未置換または置換アラルキル基があげられる。
【００１９】本発明で使用される一般式（Ｉ）で示され
る不飽和カルボン酸は、分子内にカルボキシル基と重合
性不飽和二重結合とを有する化合物であり、たとえばア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸モノ
メチル、マレイン酸モノｎ−ブチル、マレイン酸モノラ
ウリル、マレイン酸モノシクロヘキシル、マレイン酸モ
ノフェニルなどのマレイン酸モノエステル、フマール
酸、フマール酸モノメチル、フマール酸モノｎ−ブチ
ル、フマール酸モノベンジルなどのフマール酸モノエス
テル、イタコン酸、クロトン酸などがあげられる。とく
にアクリル酸とメタクリル酸が有用である。
る不飽和カルボン酸は、分子内にカルボキシル基と重合
性不飽和二重結合とを有する化合物であり、たとえばア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸モノ
メチル、マレイン酸モノｎ−ブチル、マレイン酸モノラ
ウリル、マレイン酸モノシクロヘキシル、マレイン酸モ
ノフェニルなどのマレイン酸モノエステル、フマール
酸、フマール酸モノメチル、フマール酸モノｎ−ブチ
ル、フマール酸モノベンジルなどのフマール酸モノエス
テル、イタコン酸、クロトン酸などがあげられる。とく
にアクリル酸とメタクリル酸が有用である。
【００２０】一般式（II）において、Ｒ5、Ｒ6またはＲ
7で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オ
クチル、デシル、ラウリル、ステアリルなどの炭素数１
〜１８の直鎖状、分岐鎖状の未置換または置換アルキル
基があげられる。またＲ5、Ｒ6またはＲ7で示されるシ
クロアルキル基としては、シクロヘキシル、メチルシク
ロヘキシル、エチルシクロヘキシル、メトキシシクロヘ
キシル、クロロシクロヘキシル、シクロペンチル、シク
ロドデシルなどの炭素数６〜１２の未置換または置換シ
クロアルキル基があげられる。またＲ5、Ｒ6またはＲ7
で示されるアリール基としてはフェニル、トリル、キシ
リル、メシチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、
イソプロピルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ
フェニル、クロロフェニル、ナフチルなどの炭素数６〜
１２の未置換または置換アリール基があげられる。さら
にＲ5、Ｒ6またはＲ7で示されるアラルキル基として
は、ベンジル、メチルベンジル、メトキシベンジル、エ
トキシベンジル、フェノキシベンジル、フェニルエチ
ル、フェニルブチル、クロロベンジルなどの炭素数７〜
１４の未置換または置換アラルキル基があげられる。
7で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オ
クチル、デシル、ラウリル、ステアリルなどの炭素数１
〜１８の直鎖状、分岐鎖状の未置換または置換アルキル
基があげられる。またＲ5、Ｒ6またはＲ7で示されるシ
クロアルキル基としては、シクロヘキシル、メチルシク
ロヘキシル、エチルシクロヘキシル、メトキシシクロヘ
キシル、クロロシクロヘキシル、シクロペンチル、シク
ロドデシルなどの炭素数６〜１２の未置換または置換シ
クロアルキル基があげられる。またＲ5、Ｒ6またはＲ7
で示されるアリール基としてはフェニル、トリル、キシ
リル、メシチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、
イソプロピルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ
フェニル、クロロフェニル、ナフチルなどの炭素数６〜
１２の未置換または置換アリール基があげられる。さら
にＲ5、Ｒ6またはＲ7で示されるアラルキル基として
は、ベンジル、メチルベンジル、メトキシベンジル、エ
トキシベンジル、フェノキシベンジル、フェニルエチ
ル、フェニルブチル、クロロベンジルなどの炭素数７〜
１４の未置換または置換アラルキル基があげられる。
【００２１】本発明で使用される一般式（II）で表され
るトリオルガノシランの具体例としては、たとえばトリ
メチルシラン、トリエチルシラン、トリｎ−プロピルシ
ラン、トリイソプロピルシラン、トリｎ−ブチルシラ
ン、トリイソブチルシラン、トリｓｅｃ−ブチルシラ
ン、トリｎ−ヘキシルシラン、トリフェニルシラン、ジ
メチルｔ−ブチルシラン、ジメチルｎ−オクチルシラ
ン、ジメチルラウリルシラン、ジメチルステアリルシラ
ン、ジメチルシクロヘキシルシラン、エチルジｎ−ブチ
ルシラン、エチルジフェニルシラン、ブチルジフェニル
シラン、ジエチルフェニルシラン、ジイソプロピルｎ−
ブチルシラン、ｎ−ブチルジフェニルシラン、ｔ−ブチ
ルジフェニルシランなどがあげられる。
るトリオルガノシランの具体例としては、たとえばトリ
メチルシラン、トリエチルシラン、トリｎ−プロピルシ
ラン、トリイソプロピルシラン、トリｎ−ブチルシラ
ン、トリイソブチルシラン、トリｓｅｃ−ブチルシラ
ン、トリｎ−ヘキシルシラン、トリフェニルシラン、ジ
メチルｔ−ブチルシラン、ジメチルｎ−オクチルシラ
ン、ジメチルラウリルシラン、ジメチルステアリルシラ
ン、ジメチルシクロヘキシルシラン、エチルジｎ−ブチ
ルシラン、エチルジフェニルシラン、ブチルジフェニル
シラン、ジエチルフェニルシラン、ジイソプロピルｎ−
ブチルシラン、ｎ−ブチルジフェニルシラン、ｔ−ブチ
ルジフェニルシランなどがあげられる。
【００２２】一般式（III）において、Ｒ11もしくはＲ
12で示される−ＣＯＯＲ14基中のＲ14またはＲ3で示さ
れる−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基中のＲ14で示されるアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基
は、それぞれＲ4で示されるアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基と同一である。
12で示される−ＣＯＯＲ14基中のＲ14またはＲ3で示さ
れる−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基中のＲ14で示されるアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基
は、それぞれＲ4で示されるアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基と同一である。
【００２３】本発明では触媒として銅および銅化合物が
使用される。
使用される。
【００２４】銅は銅金属単体でも銅合金でもよく、これ
らは粉末、小片、小粒などの形態で、またラネー銅のよ
うな多孔質の形態で使用できる。
らは粉末、小片、小粒などの形態で、またラネー銅のよ
うな多孔質の形態で使用できる。
【００２５】前記銅化合物としては、分子内に１個以上
の銅原子（原子価は１価、２価、３価のいずれであって
もよい）が含まれていれば、特に限定されるものではな
いが、特に、酸化銅、亜酸化銅、水酸化銅、炭酸銅、ク
ロム酸銅、重クロム酸銅、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸
銅、シアン化銅、銅カルボキシレート、銅アルコキシド
および銅錯体が好ましい。
の銅原子（原子価は１価、２価、３価のいずれであって
もよい）が含まれていれば、特に限定されるものではな
いが、特に、酸化銅、亜酸化銅、水酸化銅、炭酸銅、ク
ロム酸銅、重クロム酸銅、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸
銅、シアン化銅、銅カルボキシレート、銅アルコキシド
および銅錯体が好ましい。
【００２６】銅カルボキシレートとしては、分子内に１
個以上のカルボキシル基を有する化合物の銅塩であれば
特に限定されるものではないが、たとえばギ酸銅、酢酸
銅、プロピオン酸銅、オクチル酸銅、ラウリン酸銅、ス
テアリン酸銅、メタクリル酸銅、アクリル酸銅、クロト
ン酸銅、ビニル酢酸銅、ペンテン酸銅、オレイン酸銅、
テトロール酸銅、ステアロール酸銅、リノール酸銅、リ
ノレン酸銅などの炭素数１〜１８の飽和または不飽和脂
肪族モノカルボン酸の銅塩、シュウ酸銅、マロン酸銅、
コハク酸銅、アジピン酸銅、セバシン酸銅、タプシン酸
銅、アイコサン二酸銅、マレイン酸銅、フマル酸銅、フ
タル酸銅、イソフタル酸銅、テレフタル酸銅など炭素数
２〜１８の飽和または不飽和ジカルボン酸の銅塩、もし
くはこれら飽和または不飽和ジカルボン酸の炭素数１〜
１８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基のモ
ノエステルの銅塩、安息香酸銅、ナフチル酸銅、フェニ
ル酢酸銅、ｐ−エトキシフェニル酢酸銅、フェノキシフ
ェニル酢酸銅、２−フェニルプロピオン酸銅、ケイ皮酸
銅、アビエチン酸銅、シクロヘキサンカルボン酸銅など
炭素数７〜１４の炭素環カルボン酸の銅塩、フランカル
ボン酸銅、チオフェンカルボン酸銅、ニコチン酸銅など
炭素数５〜１２の複素環カルボン酸の銅塩、グリコール
酸銅、乳酸銅、クエン酸銅、酒石酸銅、サリチル酸銅、
トリオキシステアリン酸銅など炭素数２〜１８のヒドロ
キシ酸の銅塩、グリオキシル酸銅、ピルビン酸銅、２−
オキソ吉草酸銅、イソプロピルピルビン酸銅、アセト酢
酸銅、ジケトステアリン酸銅など炭素数２〜１８のオキ
ソ酸の銅塩などがあげられる。これらの銅カルボキシレ
ートはハロゲン、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、ニト
ロ基、シアノ基などで置換されていてもよい。
個以上のカルボキシル基を有する化合物の銅塩であれば
特に限定されるものではないが、たとえばギ酸銅、酢酸
銅、プロピオン酸銅、オクチル酸銅、ラウリン酸銅、ス
テアリン酸銅、メタクリル酸銅、アクリル酸銅、クロト
ン酸銅、ビニル酢酸銅、ペンテン酸銅、オレイン酸銅、
テトロール酸銅、ステアロール酸銅、リノール酸銅、リ
ノレン酸銅などの炭素数１〜１８の飽和または不飽和脂
肪族モノカルボン酸の銅塩、シュウ酸銅、マロン酸銅、
コハク酸銅、アジピン酸銅、セバシン酸銅、タプシン酸
銅、アイコサン二酸銅、マレイン酸銅、フマル酸銅、フ
タル酸銅、イソフタル酸銅、テレフタル酸銅など炭素数
２〜１８の飽和または不飽和ジカルボン酸の銅塩、もし
くはこれら飽和または不飽和ジカルボン酸の炭素数１〜
１８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基のモ
ノエステルの銅塩、安息香酸銅、ナフチル酸銅、フェニ
ル酢酸銅、ｐ−エトキシフェニル酢酸銅、フェノキシフ
ェニル酢酸銅、２−フェニルプロピオン酸銅、ケイ皮酸
銅、アビエチン酸銅、シクロヘキサンカルボン酸銅など
炭素数７〜１４の炭素環カルボン酸の銅塩、フランカル
ボン酸銅、チオフェンカルボン酸銅、ニコチン酸銅など
炭素数５〜１２の複素環カルボン酸の銅塩、グリコール
酸銅、乳酸銅、クエン酸銅、酒石酸銅、サリチル酸銅、
トリオキシステアリン酸銅など炭素数２〜１８のヒドロ
キシ酸の銅塩、グリオキシル酸銅、ピルビン酸銅、２−
オキソ吉草酸銅、イソプロピルピルビン酸銅、アセト酢
酸銅、ジケトステアリン酸銅など炭素数２〜１８のオキ
ソ酸の銅塩などがあげられる。これらの銅カルボキシレ
ートはハロゲン、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、ニト
ロ基、シアノ基などで置換されていてもよい。
【００２７】銅アルコキシドとしては、分子内に１個以
上のヒドロキシル基を有する化合物の銅塩であれば特に
限定されないが、たとえばメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ラウリルアルコール、ステアリルアル
コールなど炭素数１〜１８の脂肪族１価アルコールの銅
塩、フェノール、ｐ−クロロフェノール、クレゾール、
キシレノール、ナフトールなど炭素数６〜１２の１価の
フェノール類の銅塩、ベンジルアルコール、メチルベン
ジルアルコール、メトキシベンジルアルコール、フェノ
キシベンジルアルコール、クロロベンジルアルコール、
２−フェニルエタノールなど炭素数６〜１２の１価の芳
香族アルコールの銅塩、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン、カテコール、レゾルシン、
ヒドロキノン、ピロガロール、ビフェニル−４，４′−
ジオールなど炭素数２〜１２の脂肪族多価アルコールま
たは多価フェノール類の銅塩、ビニルアルコール、アリ
ルアルコール、オレイルアルコールなど炭素数２〜１８
の不飽和脂肪族アルコールの銅塩などがあげられる。こ
れらの銅アルコキシドはハロゲン、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシル基、アミノ基、ヒド
ロキシル基、ニトロ基、シアノ基などで置換されていて
もよい。
上のヒドロキシル基を有する化合物の銅塩であれば特に
限定されないが、たとえばメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ラウリルアルコール、ステアリルアル
コールなど炭素数１〜１８の脂肪族１価アルコールの銅
塩、フェノール、ｐ−クロロフェノール、クレゾール、
キシレノール、ナフトールなど炭素数６〜１２の１価の
フェノール類の銅塩、ベンジルアルコール、メチルベン
ジルアルコール、メトキシベンジルアルコール、フェノ
キシベンジルアルコール、クロロベンジルアルコール、
２−フェニルエタノールなど炭素数６〜１２の１価の芳
香族アルコールの銅塩、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン、カテコール、レゾルシン、
ヒドロキノン、ピロガロール、ビフェニル−４，４′−
ジオールなど炭素数２〜１２の脂肪族多価アルコールま
たは多価フェノール類の銅塩、ビニルアルコール、アリ
ルアルコール、オレイルアルコールなど炭素数２〜１８
の不飽和脂肪族アルコールの銅塩などがあげられる。こ
れらの銅アルコキシドはハロゲン、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシル基、アミノ基、ヒド
ロキシル基、ニトロ基、シアノ基などで置換されていて
もよい。
【００２８】また、銅錯体としては、銅と配位結合を有
する化合物であれば限定されないが、たとえば銅アセチ
ルアセトネート、キノリン銅、テトラキス（ピリジン）
銅・過塩素酸塩、ビス（エチレンジアミン）銅などがあ
げられる。
する化合物であれば限定されないが、たとえば銅アセチ
ルアセトネート、キノリン銅、テトラキス（ピリジン）
銅・過塩素酸塩、ビス（エチレンジアミン）銅などがあ
げられる。
【００２９】前記銅または銅化合物は、それぞれの１種
を単独で使用してもよく、あるいはそれぞれの２種以上
を併用してもよく、さらに銅の１種以上と銅化合物の１
種以上を併用してもよい。また、たとえば、酸化銅、水
酸化銅、炭酸銅などと、フェノール、酢酸、アクリル
酸、メタクリル酸などとを反応初期もしくは反応中に反
応系に添加して、その場で銅アルコキシド、銅カルボキ
シレートを形成するようにしてもよい。また、前記銅ま
たは銅化合物は、炭素、アルミナ、シリカなどに担持さ
せたものを用いることもできる。
を単独で使用してもよく、あるいはそれぞれの２種以上
を併用してもよく、さらに銅の１種以上と銅化合物の１
種以上を併用してもよい。また、たとえば、酸化銅、水
酸化銅、炭酸銅などと、フェノール、酢酸、アクリル
酸、メタクリル酸などとを反応初期もしくは反応中に反
応系に添加して、その場で銅アルコキシド、銅カルボキ
シレートを形成するようにしてもよい。また、前記銅ま
たは銅化合物は、炭素、アルミナ、シリカなどに担持さ
せたものを用いることもできる。
【００３０】銅または銅化合物の使用量としては、トリ
オルガノシラン１モルに対し、銅元素として０．００５
モル以上、なかんづく０．０２モル以上の範囲が好まし
い。銅または銅化合物の使用量が前記範囲より少ないば
あい、触媒作用が充分に奏されがたい。銅または銅化合
物の使用量の上限値はとくに制限されないが、多すぎる
と、銅または銅化合物からの不純物が混入して目的物の
純度が低下する傾向にあるから、トリオルガノシラン１
モルに対して銅元素として０．５モル以下、なかんづく
０．３モル以下の範囲が好ましい。反応には、反応速度
をコントロールするために、トリブチルフォスフィン、
トリフェニルフォスフィンのような配位子を併用しても
よい。
オルガノシラン１モルに対し、銅元素として０．００５
モル以上、なかんづく０．０２モル以上の範囲が好まし
い。銅または銅化合物の使用量が前記範囲より少ないば
あい、触媒作用が充分に奏されがたい。銅または銅化合
物の使用量の上限値はとくに制限されないが、多すぎる
と、銅または銅化合物からの不純物が混入して目的物の
純度が低下する傾向にあるから、トリオルガノシラン１
モルに対して銅元素として０．５モル以下、なかんづく
０．３モル以下の範囲が好ましい。反応には、反応速度
をコントロールするために、トリブチルフォスフィン、
トリフェニルフォスフィンのような配位子を併用しても
よい。
【００３１】本発明においては、前記不飽和カルボン酸
とトリオルガノシランを、銅または銅化合物の存在下
で、通常−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１８０℃の
温度範囲で脱水素反応によるシリルエステル化反応を行
わせる。この反応は通常溶媒を加えた溶液の状態で行わ
れるが、無溶媒でもとくに支障はなく、また反応物の一
部を滴下することによる反応の制御も可能である。
とトリオルガノシランを、銅または銅化合物の存在下
で、通常−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１８０℃の
温度範囲で脱水素反応によるシリルエステル化反応を行
わせる。この反応は通常溶媒を加えた溶液の状態で行わ
れるが、無溶媒でもとくに支障はなく、また反応物の一
部を滴下することによる反応の制御も可能である。
【００３２】トリオルガノシランと不飽和カルボン酸の
割合は、トリオルガノシラン１モルに対し、不飽和カル
ボン酸のカルボキシル基０．５〜３モル当量とするのが
よい。
割合は、トリオルガノシラン１モルに対し、不飽和カル
ボン酸のカルボキシル基０．５〜３モル当量とするのが
よい。
【００３３】前記反応に用いる溶媒としては、たとえば
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンな
どの脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキサイド、アセトニトリル、ヘキサメチ
ルホスホアミド、Ｎ−メチルピロリドン、トリエチルア
ミンなど非プロトン系極性溶媒、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノールなどアルコー
ル系溶媒、エチレンジクロライド、クロロホルム、四塩
化炭素など塩素化炭化水素系溶媒などがあげられる。ま
た、これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは２
種以上を混合して使用してもよい。
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンな
どの脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキサイド、アセトニトリル、ヘキサメチ
ルホスホアミド、Ｎ−メチルピロリドン、トリエチルア
ミンなど非プロトン系極性溶媒、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノールなどアルコー
ル系溶媒、エチレンジクロライド、クロロホルム、四塩
化炭素など塩素化炭化水素系溶媒などがあげられる。ま
た、これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは２
種以上を混合して使用してもよい。
【００３４】また前記反応においては、重合を防止する
ために、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンゼンなどの重合
禁止剤を添加してもよく、反応中に生成する水素は、窒
素ガス、酸素−窒素混合ガス（空気も含む）を反応液に
吹き込んで系外に逃がしてもよい。
ために、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンゼンなどの重合
禁止剤を添加してもよく、反応中に生成する水素は、窒
素ガス、酸素−窒素混合ガス（空気も含む）を反応液に
吹き込んで系外に逃がしてもよい。
【００３５】反応終了後反応混合物を常法により処理し
て本発明の目的化合物をうる。たとえば、触媒を濾別
し、濾液を濃縮後蒸留する。このようにして重合性トリ
オルガノシリル不飽和カルボキシレートが高収率かつ高
純度でえられ、従来例のようなトリオルガノシリル飽和
カルボキシレートは、ほとんど含まれない。
て本発明の目的化合物をうる。たとえば、触媒を濾別
し、濾液を濃縮後蒸留する。このようにして重合性トリ
オルガノシリル不飽和カルボキシレートが高収率かつ高
純度でえられ、従来例のようなトリオルガノシリル飽和
カルボキシレートは、ほとんど含まれない。
【００３６】
【実施例】以下に実施例および比較例により、本発明を
具体的に説明する。純度および不飽和／飽和比（重量
比）については、ガスクロマトグラフィにより測定し
た。不飽和／飽和比は、本発明の目的化合物であるトリ
オルガノシリル不飽和カルボキシレートとその二重結合
が還元されたトリオルガノシリル飽和カルボキシレート
との重量比である。収率は使用したトリオルガノシラン
に基づく収率である。
具体的に説明する。純度および不飽和／飽和比（重量
比）については、ガスクロマトグラフィにより測定し
た。不飽和／飽和比は、本発明の目的化合物であるトリ
オルガノシリル不飽和カルボキシレートとその二重結合
が還元されたトリオルガノシリル飽和カルボキシレート
との重量比である。収率は使用したトリオルガノシラン
に基づく収率である。
【００３７】実施例１ 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えたフラスコに、トリ
ｎ−ブチルシラン１００．２ｇ（０．５モル）、メタク
リル酸４７．３ｇ（０．５５モル、シランの１．１倍モ
ル）、ハイドロキノン０．２ｇ、ジメチルホルムアミド
４０ｇ、亜酸化銅６．０ｇを加え、１０５℃で８時間加
熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ト
リｎ−ブチルシリルメタクリレート１２５．１ｇ（ｂ．
ｐ．１１４〜１１６℃／３ｍｍＨｇ、収率８８．１％）
をえた。このものの純度は９９．０％で、不飽和／飽和
比＝１００／０であった。
ｎ−ブチルシラン１００．２ｇ（０．５モル）、メタク
リル酸４７．３ｇ（０．５５モル、シランの１．１倍モ
ル）、ハイドロキノン０．２ｇ、ジメチルホルムアミド
４０ｇ、亜酸化銅６．０ｇを加え、１０５℃で８時間加
熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ト
リｎ−ブチルシリルメタクリレート１２５．１ｇ（ｂ．
ｐ．１１４〜１１６℃／３ｍｍＨｇ、収率８８．１％）
をえた。このものの純度は９９．０％で、不飽和／飽和
比＝１００／０であった。
【００３８】実施例２ 実施例１と同じ装置に、トリイソプロピルシラン７９．
２ｇ（０．５モル）、メタクリル酸４７．３ｇ（０．５
５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキシフェノ
ール０．２ｇ、アセトニトリル４０ｇ、酸化銅４．０ｇ
を加え、８０℃で８時間加熱した。その後触媒を濾別
し、濾液を濃縮後蒸留し、トリイソプロピルシリルメタ
クリレート１１１．６ｇ（ｂ．ｐ．１１０〜１１２℃／
１０ｍｍＨｇ、収率９２．０％）をえた。このものの純
度は９９．２％で、不飽和／飽和比＝１００／０であっ
た。
２ｇ（０．５モル）、メタクリル酸４７．３ｇ（０．５
５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキシフェノ
ール０．２ｇ、アセトニトリル４０ｇ、酸化銅４．０ｇ
を加え、８０℃で８時間加熱した。その後触媒を濾別
し、濾液を濃縮後蒸留し、トリイソプロピルシリルメタ
クリレート１１１．６ｇ（ｂ．ｐ．１１０〜１１２℃／
１０ｍｍＨｇ、収率９２．０％）をえた。このものの純
度は９９．２％で、不飽和／飽和比＝１００／０であっ
た。
【００３９】実施例３ 実施例１と同じ装置に、ジイソプロピルｎ−ブチルシラ
ン８６．１ｇ（０．５モル）、アクリル酸３９．６ｇ
（０．５５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキ
シフェノール０．２ｇ、アセトニトリル４０ｇ、銅粉末
３．０ｇを加え、８０℃で１２時間加熱した。その後触
媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ジイソプロピルｎ−
ブチルシリルアクリレート１０６．０ｇ（ｂ．ｐ．７４
〜７７℃／０．６ｍｍＨｇ、収率８７．５％）をえた。
このものの純度は９９．５％で、不飽和／飽和比＝１０
０／０であった。
ン８６．１ｇ（０．５モル）、アクリル酸３９．６ｇ
（０．５５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキ
シフェノール０．２ｇ、アセトニトリル４０ｇ、銅粉末
３．０ｇを加え、８０℃で１２時間加熱した。その後触
媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ジイソプロピルｎ−
ブチルシリルアクリレート１０６．０ｇ（ｂ．ｐ．７４
〜７７℃／０．６ｍｍＨｇ、収率８７．５％）をえた。
このものの純度は９９．５％で、不飽和／飽和比＝１０
０／０であった。
【００４０】実施例４〜７ 実施例１と同じ装置に、表１の配合割合にしたがって、
トリオルガノシラン、不飽和カルボン酸、脱水素触媒と
しての銅化合物、重合禁止剤および溶媒を仕込み、表１
記載の条件で反応させ、重合性トリオルガノシリル不飽
和カルボキシレートをえた。結果を表１に示す。
トリオルガノシラン、不飽和カルボン酸、脱水素触媒と
しての銅化合物、重合禁止剤および溶媒を仕込み、表１
記載の条件で反応させ、重合性トリオルガノシリル不飽
和カルボキシレートをえた。結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】比較例１ 実施例１と同じ装置に、トリｎ−ブチルシラン１００．
２ｇ（０．５モル）、メタクリル酸４７．３ｇ（０．５
５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキシフェノ
ール０．２ｇ、ジメチルホルムアミド６０ｇと、１％パ
ラジュウム−炭素１．０ｇを加え、１００℃で５時間加
熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ト
リｎ−ブチルシリルメタクリレート１２３．５ｇ［ｂ．
ｐ．１１２〜１１６℃／３ｍｍＨｇ、収率８７．０％
（飽和化合物を含む）］をえた。このものの純度は７
０．２％で、不飽和／飽和比＝７０．７／２９．３で、
実収率（飽和化合物を除いた収率）は６１．５％であっ
た。
２ｇ（０．５モル）、メタクリル酸４７．３ｇ（０．５
５モル、シランの１．１倍モル）、ｐ−メトキシフェノ
ール０．２ｇ、ジメチルホルムアミド６０ｇと、１％パ
ラジュウム−炭素１．０ｇを加え、１００℃で５時間加
熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃縮後蒸留し、ト
リｎ−ブチルシリルメタクリレート１２３．５ｇ［ｂ．
ｐ．１１２〜１１６℃／３ｍｍＨｇ、収率８７．０％
（飽和化合物を含む）］をえた。このものの純度は７
０．２％で、不飽和／飽和比＝７０．７／２９．３で、
実収率（飽和化合物を除いた収率）は６１．５％であっ
た。
【００４３】比較例２ 実施例１と同じ装置に、ジイソプロピルｎ−ブチルシラ
ン８６．２ｇ（０．５モル）、アクリル酸４３．２ｇ
（０．６モル、シランの１．２倍モル）、ハイドロキノ
ン０．２ｇ、トルエン１００ｇと、トリス（トリフェニ
ルフォスフィン）クロロロジウム０．５ｇを加え、１０
０℃で５時間加熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃
縮後蒸留し、ジイソプロピルｎ−ブチルシリルアクリレ
ート１０７．４ｇ［ｂ．ｐ．１０２〜１０４℃／３ｍｍ
Ｈｇ、収率８５．０％（飽和化合物を含む）］をえた。
このものの純度は５５．６％で、不飽和／飽和比＝５
６．７／４３．３で、実収率（飽和化合物を除いた収
率）は４８．２％であった。
ン８６．２ｇ（０．５モル）、アクリル酸４３．２ｇ
（０．６モル、シランの１．２倍モル）、ハイドロキノ
ン０．２ｇ、トルエン１００ｇと、トリス（トリフェニ
ルフォスフィン）クロロロジウム０．５ｇを加え、１０
０℃で５時間加熱した。その後触媒を濾別し、濾液を濃
縮後蒸留し、ジイソプロピルｎ−ブチルシリルアクリレ
ート１０７．４ｇ［ｂ．ｐ．１０２〜１０４℃／３ｍｍ
Ｈｇ、収率８５．０％（飽和化合物を含む）］をえた。
このものの純度は５５．６％で、不飽和／飽和比＝５
６．７／４３．３で、実収率（飽和化合物を除いた収
率）は４８．２％であった。
【００４４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、トリオルガノシ
リル飽和カルボキシレートを副生することなく、重合性
トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを、高収率
かつ高純度で製造することができる。
リル飽和カルボキシレートを副生することなく、重合性
トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを、高収率
かつ高純度で製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 27/232 Ｂ０１Ｊ 27/232 Ｘ 27/25 27/25 Ｘ 27/26 27/26 Ｘ 31/02 １０１ 31/02 １０１Ｘ 31/04 31/04 Ｘ 31/22 31/22 Ｘ Ｃ０８Ｆ 30/08 Ｃ０８Ｆ 30/08 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 毛利 喜代美 兵庫県神戸市北区鹿の子台北町５丁目23− 12 (72)発明者 舛岡 茂 兵庫県神戸市西区狩場台３−７−25−303 (72)発明者 伊藤 雅康 兵庫県伊丹市千僧２−86
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
子、メチル基または−ＣＯＯＲ4基（ここで、Ｒ4は水素
原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基また
はアラルキル基を表す）を表し、Ｒ3は水素原子、メチ
ル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ4基（ここで、Ｒ4は前記と
同じである）を表し、Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方は
水素原子である（ただし、Ｒ3がメチル基または−ＣＨ2
ＣＯＯＲ4基のときは、Ｒ1およびＲ2は両方とも水素原
子である）］で示される不飽和カルボン酸と、一般式
（II）： 【化２】 （式中、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は、同一または異なって、
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表す）で示されるトリオルガノシランとを反
応させて、一般式（III）： 【化３】 ［式中、Ｒ11およびＲ12は、同一または異なって、水素
原子、メチル基または−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基または前記一般式（II）で示されるトリオルガノシ
ランから誘導されるトリオルガノシリル基を表す）を表
し、Ｒ13は水素原子、メチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ
14基（ここで、Ｒ14は前記と同じである）を表し、Ｒ11
およびＲ12の少なくとも一方は水素原子であり（ただ
し、Ｒ13がメチル基または−ＣＨ2ＣＯＯＲ14基のとき
は、Ｒ11およびＲ12は両方とも水素原子である）、
Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は前記と同じである］で示される重
合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを製造
する際に、銅および銅化合物の１種または２種以上を触
媒として用いることを特徴とする重合性トリオルガノシ
リル不飽和カルボキシレートの製造法。 - 【請求項２】 前記銅化合物が、酸化銅、亜酸化銅、水
酸化銅、炭酸銅、クロム酸銅、重クロム酸銅、ハロゲン
化銅、硫酸銅、硝酸銅またはシアン化銅である請求項１
記載の重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレー
トの製造法。 - 【請求項３】 前記銅化合物が、銅カルボキシレート、
銅アルコキシドまたは銅錯体である請求項１記載の重合
性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造
法。 - 【請求項４】 前記不飽和カルボン酸が、アクリル酸ま
たはメタクリル酸である請求項１、２または３記載の重
合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00446597A JP3819503B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00446597A JP3819503B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10195084A true JPH10195084A (ja) | 1998-07-28 |
| JP3819503B2 JP3819503B2 (ja) | 2006-09-13 |
Family
ID=11584890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00446597A Expired - Lifetime JP3819503B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3819503B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1295888A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-26 | Sigma Coatings B.V. | Process for the preparation of trialkylsilylated carboxylate monomers, the obtained trialkylsilylated carboxylate monomers and their use in antifouling coatings |
| WO2003027124A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Sigma Coatings B.V. | Process for the preparation of organosilylated carboxylate monomers, and their use in antifouling coatings |
| KR100517039B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2005-09-26 | 아르끄마 | 실란화된 (메트)아크릴레이트의 제조 방법 |
-
1997
- 1997-01-14 JP JP00446597A patent/JP3819503B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100517039B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2005-09-26 | 아르끄마 | 실란화된 (메트)아크릴레이트의 제조 방법 |
| EP1295888A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-26 | Sigma Coatings B.V. | Process for the preparation of trialkylsilylated carboxylate monomers, the obtained trialkylsilylated carboxylate monomers and their use in antifouling coatings |
| WO2003027124A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Sigma Coatings B.V. | Process for the preparation of organosilylated carboxylate monomers, and their use in antifouling coatings |
| JP2005503439A (ja) * | 2001-09-21 | 2005-02-03 | シグマ・コーテイングス・ベー・ブイ | オルガノシリル化カルボキシレートモノマーの製法および防汚塗膜中へのそれらの使用 |
| US7122692B2 (en) | 2001-09-21 | 2006-10-17 | Sigma Coatings B.V. | Process for the preparation of organosilylated carboxylate monomers, and their use in antifouling coatings |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3819503B2 (ja) | 2006-09-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3866324B2 (ja) | 有機錫を触媒とするエステル交換方法 | |
| EP0497340B1 (en) | Transvinylation process by reactive distillation | |
| JPH10120626A (ja) | モノマーの製造方法 | |
| JPH09501691A (ja) | アルキルペンタノエートの混合物の製法 | |
| EP0447141B1 (en) | Hafnium-catalyzed transesterification | |
| JP3659938B2 (ja) | シラン化（メタ）アクリレートの製造方法 | |
| JP3819503B2 (ja) | 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 | |
| JPH0747563B2 (ja) | ビニルエステルの合成 | |
| JPS60149544A (ja) | Ｃｏと有機ヒドロキシル化合物とによるアルコキシカルボニル化またはカルボニル化 | |
| JP2002179619A (ja) | メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートの製造方法 | |
| JP3841907B2 (ja) | 重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 | |
| JP4656351B2 (ja) | エステル交換反応によるエステルの製造方法 | |
| JP4009335B2 (ja) | アクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP3064530B2 (ja) | 重合性モノマ―の製造法 | |
| JP6981949B2 (ja) | ケイ素化合物の製造方法 | |
| JPH07188108A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステルの製造方法 | |
| JP3261730B2 (ja) | アリルエステル類の製法 | |
| JPH061796A (ja) | 有機けい素基含有イソシアヌレートの製造方法 | |
| JP2002020348A (ja) | ジオール誘導体の製造法 | |
| CN1572782A (zh) | 制备氟苯基亚烷基酸衍生物的方法 | |
| JP2001122883A (ja) | オルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造方法 | |
| JPH0747568B2 (ja) | アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
| JPH04210693A (ja) | アミノプロピルアルコキシシランの製造法 | |
| JPH06298716A (ja) | ウレタノエステルの製造法 | |
| JPH04234831A (ja) | ヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050315 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060606 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060615 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 4 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |