JPH10177984A - 洗浄機 - Google Patents

洗浄機

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JPH10177984A
JPH10177984A JP33973296A JP33973296A JPH10177984A JP H10177984 A JPH10177984 A JP H10177984A JP 33973296 A JP33973296 A JP 33973296A JP 33973296 A JP33973296 A JP 33973296A JP H10177984 A JPH10177984 A JP H10177984A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
cleaning
liquid
overflowing
cleaning liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP33973296A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Murao
博明 村尾
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Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄槽内のパーティクルを短時間に排出す
る。 【解決手段】 洗浄槽２の側面および底面に、液をオー
バーフロー槽１にオーバーフローする状態で排出できる
孔６が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ用のシリコン
ウェハーや液晶基板を洗浄するための洗浄機に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２はこの種の洗浄機の従来例の、一部
断面で示す構成図である。
【０００３】オーバーフロー槽１１に溜った液はポンプ
１４およびフィルター１５を通って給液パイプ１３から
給液され、洗浄槽１２に入り、オーバーフローして、ま
たオーバーフロー槽１１に戻る。このように液は循環し
ながらフィルター１５でパーティクルが除去され、洗浄
槽１２内は次第に清浄となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の洗浄機
は、オーバーフローした液のみがフィルター５を通過す
るだけで、このため洗浄槽内のパーティクルがなかなか
減少しないという欠点があった。
【０００５】本発明の目的は、洗浄槽内のパーティクル
が短時間に排出される洗浄機を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄機は、洗浄
機と、洗浄槽からオーバーフローした液が溜められるオ
ーバーフロー槽と、オーバーフロー槽の底部から洗浄槽
内に延びる給液パイプと、給液パイプの途中に設けら
れ、オーバーフロー槽に溜った液を給液パイプを通って
前記オーバーフロー槽内に給液するポンプと、給液パイ
プの、ポンプの直前または直後に設けられたフィルター
を有する洗浄機において、洗浄槽の側面および底面の少
なくとも側面に、液をオーバーフロー槽にオーバーフロ
ーする状態で排出できる孔が設けられている。
【０００７】オーバーフロー以外にも洗浄槽の側面さら
には底面より液が排出されることにより、洗浄槽内のパ
ーティクルが早く排出される。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
【０００９】図１は本発明の一実施形態の洗浄機の、一
部断面で示す構成図である。
【００１０】本実施形態の洗浄機は、洗浄槽２の側面お
よび底面に、液をオーバーフロー槽１にオーバーフロー
する状態で排出できる孔６が設けられている。
【００１１】洗浄槽２からオーバーフロー槽１にオーバ
ーフローした液および孔６からオーバーフロー槽１に流
れ出た液は従来と同様にポンプ４によって給液パイプ３
を通りフィルター５でパーティクルが除去されて洗浄槽
２内に戻る。
【００１２】このように、孔６からも液が排出されるの
で、洗浄槽２内のパーティクルが従来よりも短時間に排
出される。なお、孔６は側面だけでもよい。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、洗浄槽
の側面、さらには底面に孔を明け、オーバーフロー以外
にも側面、底面より液を排出することにより、槽内パー
ティクルを短時間に排出することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の洗浄機の、一部断面で示
す構成図である。
【図２】洗浄機の従来例の、一部断面で示す構成図であ
る。
【符号の説明】
１ オーバーフロー槽 ２ 洗浄槽 ３ 給液パイプ ４ ポンプ ５ フィルター ６ 孔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 洗浄槽と、該洗浄槽からオーバーフロー
    した液が溜められるオーバーフロー槽と、該オーバーフ
    ロー槽の底部から前記洗浄槽内に延びる給液パイプと、
    該給液パイプの途中に設けられ、前記オーバーフロー槽
    に溜った液を前記給液パイプを通って前記オーバーフロ
    ー槽内に給液するポンプと、前記給液パイプの、前記ポ
    ンプの直前または直後に設けられたフィルターを有する
    洗浄機において、 前記洗浄槽の側面および底面の少なくとも側面に、液を
    前記オーバーフロー槽にオーバーフローする状態で排出
    できる孔が設けられていることを特徴とする洗浄機。
JP33973296A 1996-12-19 1996-12-19 洗浄機 Pending JPH10177984A (ja)

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JP33973296A JPH10177984A (ja) 1996-12-19 1996-12-19 洗浄機

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JPH10177984A true JPH10177984A (ja) 1998-06-30

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ID=18330288

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030037899A (ko) * 2001-11-07 2003-05-16 삼성전자주식회사 반도체 제조용 공정조
CN102784765A (zh) * 2012-08-30 2012-11-21 常州捷佳创精密机械有限公司 一种硅料酸洗设备连体槽
KR20180077396A (ko) * 2016-12-28 2018-07-09 (주) 디바이스이엔지 세정조 내부 이물질 제거장치
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