JPH10172432A - プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法Info
- Publication number
- JPH10172432A JPH10172432A JP33566596A JP33566596A JPH10172432A JP H10172432 A JPH10172432 A JP H10172432A JP 33566596 A JP33566596 A JP 33566596A JP 33566596 A JP33566596 A JP 33566596A JP H10172432 A JPH10172432 A JP H10172432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- length
- phosphor paste
- phosphor
- rib
- paste
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光体層が必要な領域に精度よく形成し、不
要な領域で蛍光体層が発光することを防止すること。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、基板表面に並列に設けられた複数のリブの間
に形成される溝に長手方向に蛍光体ペーストを塗布する
塗布工程と、塗布した蛍光体ペーストを乾燥する乾燥工
程と、乾燥した蛍光体ペーストを焼成する焼成工程から
なり、塗布工程で、各溝における蛍光体ペーストの塗布
長さがリブの長さよりも所定距離ずつ両端において短く
なるように蛍光体ペーストを塗布することを特徴とす
る。
要な領域で蛍光体層が発光することを防止すること。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、基板表面に並列に設けられた複数のリブの間
に形成される溝に長手方向に蛍光体ペーストを塗布する
塗布工程と、塗布した蛍光体ペーストを乾燥する乾燥工
程と、乾燥した蛍光体ペーストを焼成する焼成工程から
なり、塗布工程で、各溝における蛍光体ペーストの塗布
長さがリブの長さよりも所定距離ずつ両端において短く
なるように蛍光体ペーストを塗布することを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）の製造工程に用いられ、表面に
複数のリブ（隔壁）を有する基板の各リブ間に蛍光体層
を形成する方法に関する。
プレイパネル（ＰＤＰ）の製造工程に用いられ、表面に
複数のリブ（隔壁）を有する基板の各リブ間に蛍光体層
を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰは、放電空間を挟んで対向する一
対の基板（通常はガラス板）を基板とする構造の表示パ
ネルである。ＰＤＰでは、放電空間に紫外線励起型の蛍
光体層を設けることにより、蛍光体層が放電によって励
起され色の表示が可能となる。カラー表示用のＰＤＰ
は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の蛍光体層を
有している。
対の基板（通常はガラス板）を基板とする構造の表示パ
ネルである。ＰＤＰでは、放電空間に紫外線励起型の蛍
光体層を設けることにより、蛍光体層が放電によって励
起され色の表示が可能となる。カラー表示用のＰＤＰ
は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の蛍光体層を
有している。
【０００３】従来において、Ｒ，Ｇ，Ｂの各蛍光体層
は、粉末状の蛍光体粒子を主成分とする蛍光体ペースト
を各色毎に順にスクリーン印刷法によって基板上に塗布
し、乾燥後に焼成する手法を用いて形成されていた（例
えば、特開平５−２９９０１９号公報参照）。
は、粉末状の蛍光体粒子を主成分とする蛍光体ペースト
を各色毎に順にスクリーン印刷法によって基板上に塗布
し、乾燥後に焼成する手法を用いて形成されていた（例
えば、特開平５−２９９０１９号公報参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、スクリーン
印刷法では、複数の細長い開口部を有するスクリーン印
刷マスクを、その開口部が基板上のリブ間の溝に対応す
るように設置して、開口部を介して蛍光体ペーストを溝
に塗布するようにしているが、一般にマスクの開口部は
長手方向の寸法がリブの長さに一致するように形成され
ている。従って、蛍光体ペーストが溝の両端まで塗布さ
れるため、乾燥時の温度上昇により蛍光体ペーストの粘
度が低下したときに塗布領域が溝の長手方向に増大して
溝の端から流れ出たり、隣接する溝に回り込んで他の発
光色の蛍光体ペーストと混り合うという問題点があっ
た。
印刷法では、複数の細長い開口部を有するスクリーン印
刷マスクを、その開口部が基板上のリブ間の溝に対応す
るように設置して、開口部を介して蛍光体ペーストを溝
に塗布するようにしているが、一般にマスクの開口部は
長手方向の寸法がリブの長さに一致するように形成され
ている。従って、蛍光体ペーストが溝の両端まで塗布さ
れるため、乾燥時の温度上昇により蛍光体ペーストの粘
度が低下したときに塗布領域が溝の長手方向に増大して
溝の端から流れ出たり、隣接する溝に回り込んで他の発
光色の蛍光体ペーストと混り合うという問題点があっ
た。
【０００５】この発明は、このような事情を考慮してな
されたもので、乾燥時に生じる塗布領域の長手方向の増
大分だけ、予め短く塗布することにより、溝の長さに一
致した長さを有する蛍光体層を形成する方法を提供する
ものである。
されたもので、乾燥時に生じる塗布領域の長手方向の増
大分だけ、予め短く塗布することにより、溝の長さに一
致した長さを有する蛍光体層を形成する方法を提供する
ものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、プラズマデ
ィスプレイパネルの製造工程において、基板表面に並列
に設けられた複数のリブの間に形成される溝に長手方向
に蛍光体ペーストを塗布する塗布工程と、塗布した蛍光
体ペーストを乾燥する乾燥工程と、乾燥した蛍光体ペー
ストを焼成する焼成工程からなり、塗布工程で、各溝に
おける蛍光体ペーストの塗布長さがリブの長さよりも所
定距離ずつ両端において短くなるように蛍光体ペースト
を塗布することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの蛍光体層形成方法を提供するものである。
ィスプレイパネルの製造工程において、基板表面に並列
に設けられた複数のリブの間に形成される溝に長手方向
に蛍光体ペーストを塗布する塗布工程と、塗布した蛍光
体ペーストを乾燥する乾燥工程と、乾燥した蛍光体ペー
ストを焼成する焼成工程からなり、塗布工程で、各溝に
おける蛍光体ペーストの塗布長さがリブの長さよりも所
定距離ずつ両端において短くなるように蛍光体ペースト
を塗布することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの蛍光体層形成方法を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】この発明に用いる基板には、予め
複数のリブが並列に設けられる。各リブは直線状である
ことが好ましいが、曲線状であってもよい。基板は、例
えばガラス基板である。リブは、高さが１００〜１５０
μｍ，幅が底部で７０〜１００μｍ，間隔が１５０〜２
００μｍ程度であり、例えば低融点ガラスからなる。
複数のリブが並列に設けられる。各リブは直線状である
ことが好ましいが、曲線状であってもよい。基板は、例
えばガラス基板である。リブは、高さが１００〜１５０
μｍ，幅が底部で７０〜１００μｍ，間隔が１５０〜２
００μｍ程度であり、例えば低融点ガラスからなる。
【０００８】リブの形成方法としては、スクリーン印刷
や、ベタ膜状の低融点ガラス層の上にフォトリソグラフ
ィによってエッチングマスクを設け、サンドブラストで
パターニングする方法を用いることができる。
や、ベタ膜状の低融点ガラス層の上にフォトリソグラフ
ィによってエッチングマスクを設け、サンドブラストで
パターニングする方法を用いることができる。
【０００９】リブの間に形成される溝の長手方向に蛍光
体ペーストを塗布する方法としては、溝に対応する帯状
の開口部を所定ピッチで備えたスクリーン印刷マスクを
用いて、その開口部を介して溝に蛍光体ペーストを刷り
込む方法（スクリーン印刷法）を用いてもよいし、蛍光
体ペーストを吐出するディスペンサを溝に対して相対的
に移動させ溝内に蛍光体ペーストを塗布する方法（ディ
スペンサ法）を用いてもよい。
体ペーストを塗布する方法としては、溝に対応する帯状
の開口部を所定ピッチで備えたスクリーン印刷マスクを
用いて、その開口部を介して溝に蛍光体ペーストを刷り
込む方法（スクリーン印刷法）を用いてもよいし、蛍光
体ペーストを吐出するディスペンサを溝に対して相対的
に移動させ溝内に蛍光体ペーストを塗布する方法（ディ
スペンサ法）を用いてもよい。
【００１０】この発明の特徴は、蛍光体ペーストを溝に
塗布する工程において、各溝における蛍光体ペーストの
塗布長さがリブの長さよりも所定距離ｄずつ両端で短く
なるようにすることであり、これによって蛍光体ペース
トの乾燥工程において、蛍光体ペーストの温度上昇に伴
う低粘度化によってその塗布領域が増大しても、蛍光体
ペーストがリブの端部から流出したり隣接する溝へ回り
込むことが防止される。
塗布する工程において、各溝における蛍光体ペーストの
塗布長さがリブの長さよりも所定距離ｄずつ両端で短く
なるようにすることであり、これによって蛍光体ペース
トの乾燥工程において、蛍光体ペーストの温度上昇に伴
う低粘度化によってその塗布領域が増大しても、蛍光体
ペーストがリブの端部から流出したり隣接する溝へ回り
込むことが防止される。
【００１１】なお、所定距離ｄは乾燥工程における乾燥
条件、すなわち乾燥温度と乾燥時間により決定される。
乾燥温度が低く乾燥時間が長くなるほどｄをより大きく
することが必要となる。
条件、すなわち乾燥温度と乾燥時間により決定される。
乾燥温度が低く乾燥時間が長くなるほどｄをより大きく
することが必要となる。
【００１２】通常、所定距離ｄは０．５〜２．０mmであ
ることが好ましい。従って、塗布工程においてスクリー
ン印刷法を用いる場合には、スクリーン印刷マスクの帯
状の開口部は、リブの長さより２ｄ（１〜４mm）だけ短
く形成されることが好ましい。
ることが好ましい。従って、塗布工程においてスクリー
ン印刷法を用いる場合には、スクリーン印刷マスクの帯
状の開口部は、リブの長さより２ｄ（１〜４mm）だけ短
く形成されることが好ましい。
【００１３】また、使用する蛍光体ペーストとしては、
発光色の赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）に対応して、例
えば、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+，Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍ
ｎ，ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+をそれぞれ用いること
ができる。
発光色の赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）に対応して、例
えば、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+，Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍ
ｎ，ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+をそれぞれ用いること
ができる。
【００１４】また、乾燥工程は、基板を乾燥炉に搬入し
て、１００〜１５０℃で１〜２時間加熱する。この加熱
条件は、基板サイズや蛍光体ペーストの材料によ適宜設
定される。さらに焼成工程では、乾燥後の基板を焼成炉
にコンベアにて搬入し、搬送しながら所定の温度プロフ
ァイルによって連続的に加熱するようにしてもよい。
て、１００〜１５０℃で１〜２時間加熱する。この加熱
条件は、基板サイズや蛍光体ペーストの材料によ適宜設
定される。さらに焼成工程では、乾燥後の基板を焼成炉
にコンベアにて搬入し、搬送しながら所定の温度プロフ
ァイルによって連続的に加熱するようにしてもよい。
【００１５】実施例 図２はこの発明を用いて製造されるプラズマディスプレ
イパネル（ＰＤＰ）の１つの画素ＥＧに対応する部分の
断面構造の一例を示す分解斜視図である。図２に例示し
たＰＤＰは、３電極構造のＡＣ駆動形式のＰＤＰであ
り、表示面側のガラス基板１１、横方向に互いに平行に
隣接して延びた一対の表示電極Ｘ，Ｙ、ＡＣ駆動のため
の誘電体層１７とその保護膜１８、背面側のガラス基板
２１、表示電極Ｘ，Ｙと直交するアドレス電極２２、ア
ドレス電極２２と平行なリブ（隔壁）２９、及びカラー
表示のための蛍光体層２８などから構成されている。
イパネル（ＰＤＰ）の１つの画素ＥＧに対応する部分の
断面構造の一例を示す分解斜視図である。図２に例示し
たＰＤＰは、３電極構造のＡＣ駆動形式のＰＤＰであ
り、表示面側のガラス基板１１、横方向に互いに平行に
隣接して延びた一対の表示電極Ｘ，Ｙ、ＡＣ駆動のため
の誘電体層１７とその保護膜１８、背面側のガラス基板
２１、表示電極Ｘ，Ｙと直交するアドレス電極２２、ア
ドレス電極２２と平行なリブ（隔壁）２９、及びカラー
表示のための蛍光体層２８などから構成されている。
【００１６】内部の放電空間３０には、蛍光体層２８に
対する紫外線励起のための放電ガスが封入されている。
このような放電空間３０は、リブ２９によって表示電極
Ｘ，Ｙの延長方向に単位発光領域ＥＵ毎に区画され、且
つその間隙寸法が規定されている。リブ２９は、厚さ
（高さ）ｈが１００〜１３０μｍ程度の低融点ガラス層
からなる。
対する紫外線励起のための放電ガスが封入されている。
このような放電空間３０は、リブ２９によって表示電極
Ｘ，Ｙの延長方向に単位発光領域ＥＵ毎に区画され、且
つその間隙寸法が規定されている。リブ２９は、厚さ
（高さ）ｈが１００〜１３０μｍ程度の低融点ガラス層
からなる。
【００１７】ＰＤＰでは、図のように１つの画素ＥＧに
対応付けられた３つの各単位発光領域ＥＵ内において、
一方の表示電極Ｙとアドレス電極２２との交差部に表示
又は非表示を選択するための選択放電セルが画定され、
選択放電セルの近傍における各表示電極の間に主放電セ
ル（画放電セル）が形成される。
対応付けられた３つの各単位発光領域ＥＵ内において、
一方の表示電極Ｙとアドレス電極２２との交差部に表示
又は非表示を選択するための選択放電セルが画定され、
選択放電セルの近傍における各表示電極の間に主放電セ
ル（画放電セル）が形成される。
【００１８】蛍光体層２８は、面放電によるイオン衝撃
を避けるために、表示電極Ｘ，Ｙと反対側のガラス基板
２１上の各リブ２９の間に設けられ、主放電セルの面放
電で生じる紫外線によって励起されて発光する。蛍光体
層２８の表層面（放電空間と接する面）で発光した光
は、誘電体層１７及びガラス基板１１などを透過して表
示面から射出する。
を避けるために、表示電極Ｘ，Ｙと反対側のガラス基板
２１上の各リブ２９の間に設けられ、主放電セルの面放
電で生じる紫外線によって励起されて発光する。蛍光体
層２８の表層面（放電空間と接する面）で発光した光
は、誘電体層１７及びガラス基板１１などを透過して表
示面から射出する。
【００１９】なお、ＰＤＰでは、３つの各単位発光領域
ＥＵに対応する各蛍光体層２８の発光色は、順に赤色
（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）とされている（図中の
アルファベットＲ，Ｇ，Ｂは発光色を示す）。また、表
示電極Ｘ，Ｙは、このような蛍光体層２８に対して表示
面Ｈ側に配置されることから、表示の輝度を高めるため
にネサ膜などからなる透明導電膜４１とその導電性を補
うための金属膜４２とから構成されている。
ＥＵに対応する各蛍光体層２８の発光色は、順に赤色
（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）とされている（図中の
アルファベットＲ，Ｇ，Ｂは発光色を示す）。また、表
示電極Ｘ，Ｙは、このような蛍光体層２８に対して表示
面Ｈ側に配置されることから、表示の輝度を高めるため
にネサ膜などからなる透明導電膜４１とその導電性を補
うための金属膜４２とから構成されている。
【００２０】以上の構造を有したＰＤＰは、各ガラス基
板１１，２１について別個に所定の構成要素を設けた
後、ガラス基板１１，２１を対向配置して間隙の周囲を
封止し、内部の排気と放電ガスの充填を行う一連の工程
によって製造される。
板１１，２１について別個に所定の構成要素を設けた
後、ガラス基板１１，２１を対向配置して間隙の周囲を
封止し、内部の排気と放電ガスの充填を行う一連の工程
によって製造される。
【００２１】ところで、ガラス基板２１側の製造におい
ては、蛍光体層２８の形成には通常スクリーン印刷法が
利用される。蛍光体ペーストをスクリーン印刷マスク
（スクリーン型ともいう）を用いて所定のパターンで各
色毎に順に印刷し、その後に乾燥・焼成することによっ
て蛍光体層２８が形成される。
ては、蛍光体層２８の形成には通常スクリーン印刷法が
利用される。蛍光体ペーストをスクリーン印刷マスク
（スクリーン型ともいう）を用いて所定のパターンで各
色毎に順に印刷し、その後に乾燥・焼成することによっ
て蛍光体層２８が形成される。
【００２２】表示の輝度を高める上で蛍光体層２８はそ
の表面積ができるだけ大きいことが望ましい。すなわ
ち、蛍光体層２８の理想的な形状は、図３に示すよう
に、リブ２９の間のガラス基板２１の表面（アドレス電
極２２の表面を含む）とともにリブ２９の側面を薄く覆
うような形状である。
の表面積ができるだけ大きいことが望ましい。すなわ
ち、蛍光体層２８の理想的な形状は、図３に示すよう
に、リブ２９の間のガラス基板２１の表面（アドレス電
極２２の表面を含む）とともにリブ２９の側面を薄く覆
うような形状である。
【００２３】従って、蛍光体層２８はリブ２９を設けた
後に形成する必要がある。なお、通常、アドレス電極２
２は、リブ２９を設ける以前にガラス基板２１上に形成
される。
後に形成する必要がある。なお、通常、アドレス電極２
２は、リブ２９を設ける以前にガラス基板２１上に形成
される。
【００２４】そこで、基板の表面に複数の平行なリブを
形成し、そのリブ間に蛍光体層を形成する工程について
図１と図２により詳述する。まず、ガラス基板２１上
に、例えば銀からなる厚さが２０μｍ程度のアドレス電
極２２と、低融点ガラスからなる高さｈが１３０μｍ程
度のリブ２９とをそれぞれ印刷法によって設ける。
形成し、そのリブ間に蛍光体層を形成する工程について
図１と図２により詳述する。まず、ガラス基板２１上
に、例えば銀からなる厚さが２０μｍ程度のアドレス電
極２２と、低融点ガラスからなる高さｈが１３０μｍ程
度のリブ２９とをそれぞれ印刷法によって設ける。
【００２５】このとき、アドレス電極２２及びリブ２９
に対応する銀ペースト及びガラスペーストの印刷に、幅
が例えば６０μｍの細長い帯状の開口部を一定のピッチ
ｐ（例えば２２０μｍ）で配列したスクリーンマスク
（図示しない）を用いる。この場合には、アドレス電極
２２の幅は６０〜７０μｍとなり、リブ２９の底部及び
頂上近傍部の幅ｗ１，ｗ２はそれぞれ８０μｍ、４０μ
ｍ程度となる。
に対応する銀ペースト及びガラスペーストの印刷に、幅
が例えば６０μｍの細長い帯状の開口部を一定のピッチ
ｐ（例えば２２０μｍ）で配列したスクリーンマスク
（図示しない）を用いる。この場合には、アドレス電極
２２の幅は６０〜７０μｍとなり、リブ２９の底部及び
頂上近傍部の幅ｗ１，ｗ２はそれぞれ８０μｍ、４０μ
ｍ程度となる。
【００２６】次に、蛍光体層２８の形成工程に移り、以
下の塗布工程、乾燥工程および焼成工程により各発光色
毎に蛍光体ペースト２８ａを印刷する。
下の塗布工程、乾燥工程および焼成工程により各発光色
毎に蛍光体ペースト２８ａを印刷する。
【００２７】（１）塗布工程 図１（ａ）および図４に示すように、所定幅の開口部６
１がピッチｐの３倍のピッチで設けられたスクリーン印
刷マスク６０を、ガラス基板２１に対して適当に位置合
わせしてリブ２９と当接するように配置する。
１がピッチｐの３倍のピッチで設けられたスクリーン印
刷マスク６０を、ガラス基板２１に対して適当に位置合
わせしてリブ２９と当接するように配置する。
【００２８】そして、所定発光色（例えばＲ）の蛍光体
とビヒクルとを混合した蛍光体ペースト２８ａを、開口
部６１を介してリブ２９の間に落とし込む。このとき、
蛍光体ペースト２８ａとして、上述のように蛍光体層２
８の膜厚を５０μｍ以下とするために、蛍光体の含有量
を１０〜５０重量％としたものを用いる。なお、ビヒク
ルは、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアル
コール系又はエステル系などの有機溶剤からなる。
とビヒクルとを混合した蛍光体ペースト２８ａを、開口
部６１を介してリブ２９の間に落とし込む。このとき、
蛍光体ペースト２８ａとして、上述のように蛍光体層２
８の膜厚を５０μｍ以下とするために、蛍光体の含有量
を１０〜５０重量％としたものを用いる。なお、ビヒク
ルは、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアル
コール系又はエステル系などの有機溶剤からなる。
【００２９】加えて、ここでは、リブ２９の間の空隙を
ほぼ埋め尽くすように、蛍光体ペースト２８ａを開口部
６１からガラス基板２１側へ押し出す。そのために、角
スキージ７１を矢印Ｍ１の方向へ移動させる。
ほぼ埋め尽くすように、蛍光体ペースト２８ａを開口部
６１からガラス基板２１側へ押し出す。そのために、角
スキージ７１を矢印Ｍ１の方向へ移動させる。
【００３０】続いて、他の発光色（Ｇ及びＢ）について
も、図１（ｂ）および図５に示すように、順次、リブ２
９の間の空隙をほぼ埋め尽くすように、蛍光体の含有量
が１０〜５０重量％の蛍光体ペースト２８ａを印刷す
る。
も、図１（ｂ）および図５に示すように、順次、リブ２
９の間の空隙をほぼ埋め尽くすように、蛍光体の含有量
が１０〜５０重量％の蛍光体ペースト２８ａを印刷す
る。
【００３１】なお、発光色がＲの蛍光体ペーストとして
は（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+を用い、発光色がＧの蛍
光体ペーストとしてはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎを用い、発光
色がＢの蛍光体ペーストとしてはＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：
Ｅｕ2+を用いる。
は（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+を用い、発光色がＧの蛍
光体ペーストとしてはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎを用い、発光
色がＢの蛍光体ペーストとしてはＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：
Ｅｕ2+を用いる。
【００３２】（２）乾燥工程 その後、基板２１を乾燥炉に搬入し、蛍光体ペースト２
８ａを１００〜１５０℃の温度で乾燥させる。
８ａを１００〜１５０℃の温度で乾燥させる。
【００３３】（３）焼成工程 さらに、基板２１を焼成炉に移し、コンベアで搬送しな
がら、所定の温度プロファイルにより、最高５００〜６
００℃の温度で１〜２時間程度焼成する。以上の工程に
より、図（ｃ）および図６に示すような蛍光体層２８が
基板２１上に完成する。
がら、所定の温度プロファイルにより、最高５００〜６
００℃の温度で１〜２時間程度焼成する。以上の工程に
より、図（ｃ）および図６に示すような蛍光体層２８が
基板２１上に完成する。
【００３４】ところで、塗布工程において塗布した蛍光
体ペーストは、次の乾燥工程において粘度が低下しその
塗布領域が溝の両端で増大し、リブ間から滲み出たり、
隣接するリブ間へ回り込む危険性がある。これを防止す
るため、上記の塗布工程では、図４に示すようにリブ２
９の長手方向の長さより距離２ｄだけ短い開口部６１を
有するスクリーン印刷マスク６０を用意する。
体ペーストは、次の乾燥工程において粘度が低下しその
塗布領域が溝の両端で増大し、リブ間から滲み出たり、
隣接するリブ間へ回り込む危険性がある。これを防止す
るため、上記の塗布工程では、図４に示すようにリブ２
９の長手方向の長さより距離２ｄだけ短い開口部６１を
有するスクリーン印刷マスク６０を用意する。
【００３５】このようなスクリーン印刷マスク６０を用
いて各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の蛍光体ペースト２８ａを印刷
すると、印刷直後には、蛍光体ペースト２８ａは、図５
に示すようにその長さがリブ２９の長さよりも距離ｄず
つ両端において短くすることができる。
いて各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の蛍光体ペースト２８ａを印刷
すると、印刷直後には、蛍光体ペースト２８ａは、図５
に示すようにその長さがリブ２９の長さよりも距離ｄず
つ両端において短くすることができる。
【００３６】そして、乾燥および焼成処理されると、蛍
光体ペースト２８ａの塗布領域がリブ２８の長手方向に
増大し、図６に示すようにリブ２９の長さにほぼ等しい
長さの蛍光体層２８が形成される。
光体ペースト２８ａの塗布領域がリブ２８の長手方向に
増大し、図６に示すようにリブ２９の長さにほぼ等しい
長さの蛍光体層２８が形成される。
【００３７】ここで、距離ｄの最適値は、蛍光体ペース
トの温度上昇による低粘度化特性に依存するため、乾燥
工程における乾燥条件、つまり乾燥温度および時間によ
り主に決定され、例えば１２０℃×６０分の場合にはｄ
＝１mmに設定される。
トの温度上昇による低粘度化特性に依存するため、乾燥
工程における乾燥条件、つまり乾燥温度および時間によ
り主に決定され、例えば１２０℃×６０分の場合にはｄ
＝１mmに設定される。
【００３８】また、乾燥温度がさらに高く乾燥時間がそ
れに対応して短い場合には、ｄは１mmより小さくてもよ
く、例えば０．５mmに設定される。また、逆に乾燥温度
が低く乾燥時間が長い場合には、ｄは１mmより大きくす
ればよく、例えば、２．０mmに設定される。
れに対応して短い場合には、ｄは１mmより小さくてもよ
く、例えば０．５mmに設定される。また、逆に乾燥温度
が低く乾燥時間が長い場合には、ｄは１mmより大きくす
ればよく、例えば、２．０mmに設定される。
【００３９】
【発明の効果】この発明によれば、蛍光体層が必要な領
域に精度よく形成され、不要な領域で蛍光体層が発光す
ることを防止できる。
域に精度よく形成され、不要な領域で蛍光体層が発光す
ることを防止できる。
【図１】本発明に係るＰＤＰの製造方法を示す要部工程
図である。
図である。
【図２】この発明に係るＰＤＰの１つの画素に対応する
部分の断面構造の一例を示す分解斜視図である。
部分の断面構造の一例を示す分解斜視図である。
【図３】この発明に係る蛍光体層の形状を示す要部断面
図である。
図である。
【図４】図１の（ａ）に対応する上面図である。
【図５】図１の（ｂ）に対応する上面図である。
【図６】図１の（ｃ）に対応する上面図である。
２１ ガラス基板（基板） ２２ アドレス電極 ２９ リブ ２８ 蛍光体層 ２８ａ 蛍光体ペースト ７１ 角スキージ
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、基板表面に並列に設けられた複数のリブの間
に形成される溝に長手方向に蛍光体ペーストを塗布する
塗布工程と、塗布した蛍光体ペーストを乾燥する乾燥工
程と、乾燥した蛍光体ペーストを焼成する焼成工程から
なり、塗布工程で、各溝における蛍光体ペーストの塗布
長さがリブの長さよりも所定距離ずつ両端において短く
なるように蛍光体ペーストを塗布することを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法。 - 【請求項２】 所定距離が乾燥工程における乾燥条件に
より決定される請求項１記載のプラズマディスプレイパ
ネルの蛍光体層形成方法。 - 【請求項３】 塗布工程が、リブ間の溝に対応する帯状
の複数の開口部を所定ピッチで備えたスクリーン印刷マ
スクを用い、その開口部を介して溝に蛍光体ペーストを
刷り込むスクリーン印刷によって行われ、開口部の長手
方向の長さがリブの長さより所定長さだけ短く形成され
た請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体
層形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33566596A JP3599507B2 (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33566596A JP3599507B2 (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172432A true JPH10172432A (ja) | 1998-06-26 |
| JP3599507B2 JP3599507B2 (ja) | 2004-12-08 |
Family
ID=18291150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33566596A Expired - Lifetime JP3599507B2 (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3599507B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0951048A1 (en) * | 1998-04-13 | 1999-10-20 | Fujitsu Limited | Method for forming phosphor layers of plasma display panel and apparatus therefor |
-
1996
- 1996-12-16 JP JP33566596A patent/JP3599507B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0951048A1 (en) * | 1998-04-13 | 1999-10-20 | Fujitsu Limited | Method for forming phosphor layers of plasma display panel and apparatus therefor |
| US6156141A (en) * | 1998-04-13 | 2000-12-05 | Fujitsu Limited | Method for forming phosphor layers of plasma display panel |
| US6394163B1 (en) | 1998-04-13 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Apparatus for forming phosphor layers of plasma display panel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3599507B2 (ja) | 2004-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3525939B2 (ja) | 面放電型プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR19990082911A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널과 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 및 그 형광면 형성방법 | |
| KR100295112B1 (ko) | 플라즈마표시장치용하부기판 | |
| JP3007751B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2002150947A (ja) | プラズマディスプレイ及びその製造方法 | |
| JP3599507B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法 | |
| US7687993B2 (en) | Image display | |
| US6479933B1 (en) | Full-color plasma display panel that uses different discharge gases to emit different colored light | |
| JP3411628B2 (ja) | 面放電型プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JPH0817337A (ja) | ガス放電表示パネルの製造方法 | |
| JP3931929B2 (ja) | 蛍光体層形成方法 | |
| KR100292464B1 (ko) | 고휘도플라즈마디스플레이패널용격벽제조방법 | |
| KR100502908B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 | |
| KR100740848B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 | |
| KR100293511B1 (ko) | 플라즈마표시장치용격벽조성물및격벽제조방법 | |
| KR100524299B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
| KR100353954B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 | |
| JP2002063849A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| KR100692087B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 및그의 제조방법 | |
| WO2009122740A1 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| JP2001052603A (ja) | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
| JPH0696673A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR20000060891A (ko) | 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법 | |
| KR20010002192A (ko) | 격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형 | |
| KR20000014546A (ko) | 고휘도 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040907 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20040914 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S131 | Request for trust registration of transfer of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313131 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120924 Year of fee payment: 8 |