JPH10167965A - メイラード反応阻害剤 - Google Patents

メイラード反応阻害剤

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JPH10167965A
JPH10167965A JP9340305A JP34030597A JPH10167965A JP H10167965 A JPH10167965 A JP H10167965A JP 9340305 A JP9340305 A JP 9340305A JP 34030597 A JP34030597 A JP 34030597A JP H10167965 A JPH10167965 A JP H10167965A
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JP
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phenyl
lower alkyl
alkyl group
compound
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Koichi Yasumura
貢一 安村
Keisuke Miyajima
啓介 宮嶋
Takao Nagahama
貴男 長濱
Shintaro Ishikawa
伸太郎 石川
Yuko Toyama
祐子 遠山
Kazuhisa Sugiyama
和久 杉山
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Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 新規なメイラード反応阻害剤を提供する。 【解決手段】 一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基など、Ｒ２はアミノ基、置換基を有しても
よいフェニルスルホニルアミノ基など、Ｒ３は水素原
子、低級アルキル基など、Ｘは−Ｓ−又は−Ｎ
（Ｒ１０）−、Ａはカルボニル基又はＣ−Ｒ１１を示
す〕で示される化合物又はその塩から選ばれる化合物の
少なくとも一つを有効成分とするメイラード反応阻害
剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なメイラード反
応阻害剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】生体内でのメイラード反応は、蛋白質中
に存在する遊離アミノ基によってグルコースなどの還元
糖のアルデヒド基が求核反応によって攻撃され、アルジ
ミンと呼ばれるシッフ塩基を形成することから始まる。
次に引き続いて転移を起こしてより安定なアマドリ化合
物を形成（非酵素的グリケーション）する。アマドリ化
合物は、更に他の蛋白質中のアミノ基と一連の反応をす
ることによって、褐色の蛍光性物質を形成して蛋白質間
の架橋を引き起こす。歴史的には、１９１２年、メイラ
ード（Maillard）が、アミノ酸と還元糖の混合液を加熱
すると褐色に着色することを報告し［Maillard,L,C.,Co
mpt.Rend.Soc.Biol.,72,599(1912)］、それ以降、この
反応は、メイラード反応と呼ばれている。この時彼は既
にこの反応が、生体中でも起こり得る事を示唆した。１
９６８年、ラーバー（Rabbar）らは、ヘモグロビンの微
小画分であるヘモグロビンＡ1Cが、糖尿病患者血中で増
加するのを見いだした［Rabbar,S.,Clin.Chim.Acta.,2
2,296(1968)］。更にこのヘモグロビンＡ1Cが、ヘモグ
ロビンβ鎖Ｎ末端バリンにグルコースがアマドリ転移し
た型で結合したものであること［Stevens,V.J., Vlassa
ra,H.,Abati,A.,& Cerami,A.,J.Biol.Chem.,252,2998(1
977)］等も判明し、生体内での非酵素的グリケーション
の存在が証明された。
【０００３】近年では、更に種々の生体蛋白質がメイラ
ード反応をうけることが確認されている。例えば、グリ
ケーションを受けたヘモグロビン量は、糖尿病患者にお
いて約３倍に増加していた［Abraham,E.C.et al.,J.La
b.Clin.Med.102,187(1983) ］。糖尿病患者血清アルブ
ミンでもグリケーション量の増加がみられている［R.Do
lhofer and O.H. Wieland,Diabetes,29,417(1980)］。
また、糖尿病患者から得られた皮膚コラーゲンにおい
て、蛍光の増大が認められている［Vincent M.Monnier,
et al.,Proc.Natl.Acad.Sci.USA,81,583(1984)］。非酵
素的グリケーションは、健常人においても見られる現象
である。この褐色の蛍光性物質の蓄積は代謝回転速度の
遅い蛋白質で、老化や血糖値の上昇する糖尿病状態にお
いて、顕著に観察される。これは、メイラード反応生成
物の蓄積量が、血糖値とその標的蛋白質の代謝回転速度
等によって決定されるためであるとパトリック（Patric
k ）らによって論じられている［Patrick,J.S., Thorp
e,S.R.,Baynes,J.W.Journal ofGerontology 45,1,B18-2
3 1990］。
【０００４】この様なメイラード反応生成物と糖尿病及
び老化に関わる種々の病因との関連が論じられている。
例えば、グリケーション化血清蛋白質をマウスに１２週
間に亘って静脈内投与すると、糖尿病で見られる様な典
型的な腎障害を引き起こすこと［B.A.McVerry et al.Th
e Lancet 5,738(1980)］が報告されている。糖尿病性神
経障害の成因の一つとして神経ミエリン蛋白質の非酵素
的グリケーションの関与も考えられている［Monnier,V.
M.etal.,Clin.Endocrinol.Metab.11.431(1982)］。
【０００５】眼球レンズクリスタリンは、生合成された
後は代謝回転の無い特殊な蛋白質である。セラミ（Cera
mi）らは、このクリスタリンがグリケーションを受ける
とジスルフィド結合を有する無色の架橋体と、有色で蛍
光を有する架橋体が形成されることを見いだした［Monn
ier,V.M.& Cerami,A.,Science, 211,491(1981) Monnie
r,V.M.& Cerami,A.,Biochim.Biophys.Acta,760,97(198
3) ］。クリスタリンがグリケーションを受けることに
よって生じる重合、不溶性化、蛍光の増大及び褐色化
は、加齢に伴うレンズの変化と酷似している［Chiou,S.
H.,et al.,J.Biol.Chem.256,5176(1981)］。
【０００６】結合組織を構成する蛋白質であるコラーゲ
ンやエラスチンは、代謝回転の非常に遅い蛋白質であ
る。腎糸球体基底膜、皮膚、腱などにおいて、該蛋白質
とグルコースとの結合物が見いだされている［Monnier,
V.M.,et al.,Maillard Reaction in Food,Prog.Food Nu
tr.Sci.5,315,Pergamon Press, London ］。ブラウンリ
ー（Brownlee）らは、糖尿病ラットにおいて、血管壁コ
ラーゲンの架橋が増加し蛍光性物質が蓄積すること、ま
たそれが非酵素的な機構によることを示し［Brownlee,
M.et al.,Science,232,1629(1986) ］、その動脈壁の硬
化との関連も考えられている［Rosenburg,H., et al.,B
iochem.Biophys.,Res.Commun,91,498 (1979)］。
【０００７】以上のように生体内メイラード反応は、糖
尿病並びに老化に関わる種々の疾患に関与しているもの
と考えられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は新規なメイラ
ード反応阻害剤を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式（１）
【００１０】
【化８】
【００１１】〔式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基とし
てハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる
基を１〜３個有することのあるフェニル低級アルキル基
又は置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低
級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ
基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル
基を示す。
【００１２】Ｒ2 はアミノ基、フェニル環上に置換基と
してハロゲン原子、水酸基、アミノ基及び低級アルカノ
イルアミノ基から選ばれる基を有することのあるフェニ
ルスルホニルアミノ基又は基−Ｎ＝Ｒ4 （Ｒ4 は低級ア
ルキリデン基、低級シクロアルキル基を１〜２個有する
低級アルキリデン基、低級シクロアルキリデン基、ジフ
ェニル低級アルキリデン基又はフェニル低級アルキリデ
ン基を示す）を示す。
【００１３】Ｒ3 は水素原子；低級アルキル基；低級ア
ルケニル基；フェニル低級アルコキシ低級アルキル基；
水酸基を有することのあるフェニル基；窒素原子及び硫
黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１〜２個有
する５員もしくは６員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基
（該ヘテロ環はベンゼン環と縮合してもよく、該ヘテロ
環上及び縮合したベンゼン環上に置換基として水酸基を
有していてもよい）；基−Ｗ−（ＮＨ）ｂ−ＣＯ−ＯＲ
5 （Ｗは低級アルキレン基を示し、Ｒ5 は水素原子、低
級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示し、ｂは
０又は１を示す。）；基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa ｛該基中Ｚは
低級アルキレン基を示し、Ｒa は基−Ｔｙｒ（ＯＲa1）
−ＯＲb1、基−Ｌｅｕ−ＯＲb2、基−Ｔｒｐ−ＯＲb3、
基−Ａｓｐ（ＯＲa2）−ＯＲb4、基−Ｇｌｙ（Ｐｈ）−
ＯＲb5（各基中Ｒa1及びＲa2はそれぞれ水素原子又はベ
ンジル基であり、Ｒb1、Ｒb2、Ｒb3、Ｒb4及びＲb5はそ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基である）又は基−Ｎ
（Ｒ6 ）−Ｒ7 （Ｒ6 は低級アルキル基、カルボキシ低
級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、フェニル低級アルキル基、低級シクロアルキル基、
置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低
級アルコキシ基、低級アルキレンジオキシ基、モルホリ
ノ基、ハロゲン化低級アルキル基、カルボキシ低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−ク
ロマニル−メチルオキシ基及び６−低級アルカノイルオ
キシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−クロマニル
−メチルオキシ基から選ばれる基を１〜３個有すること
のあるフェニル基、ナフチル基、２−オキソ−１，２，
３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル基、モルホリ
ノ基又は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群よ
り選ばれたヘテロ原子を１〜２個有する５員もしくは６
員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基を示し、Ｒ7 は水素
原子又は低級アルキル基を示す）を示す｝；又は基
【００１４】
【化９】
【００１５】｛Ｂは低級アルキレン基を示し、Ｒ8 は水
酸基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基、フェニル低級
アルキル基、低級アルキルチオ基、ハロゲン原子を有す
ることのあるフェニルチオ基、フェニル低級アルキルチ
オ基、ハロゲン原子を１〜３個有することのあるベンゾ
イルアミノ基又は基−Ｏ−Ｄ−Ｒ9 （Ｄは低級アルキレ
ン基を示し、Ｒ9 はフェニル環上に置換基としてハロゲ
ン原子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アル
コキシ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる基を１〜
３個有することのあるフェニル基（該フェニル環はベン
ゼン環又はシクロヘキサン環と縮合してもよい）、窒素
原子、硫黄原子及び酸素原子からなる群より選ばれたヘ
テロ原子を１個有する５員又は６員の飽和もしくは不飽
和ヘテロ環基（該ヘテロ環はベンゼン環と縮合してもよ
く、該ヘテロ環上及びベンゼン環と縮合したヘテロ環上
に置換基として水酸基及び低級アルキル基から選ばれる
基を１〜５個有していてもよい）又は低級シクロアルキ
ル基を示す）を示し、ｎは０又は１〜３の整数を示す｝
を示す。
【００１６】Ｘは−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ10）−（Ｒ10は水
素原子又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を
示す）を示す。
【００１７】
【化１０】
【００１８】は単結合又は二重結合を示す。但し
【００１９】
【化１１】
【００２０】が単結合を示す時はＡはカルボニル基を示
すものとし、
【００２１】
【化１２】
【００２２】が二重結合を示す時はＡはＣ−Ｒ11｛Ｒ11
はハロゲン原子を１〜３個有することのある低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、カル
ボキシ低級アルキル基、ピリジル基、チエニル基、チア
ゾリル基、フェニル環上に低級アルコキシ基を１〜２個
有することのあるフェニルカルバモイル低級アルキル基
又は基
【００２３】
【化１３】
【００２４】（Ｒ12はハロゲン原子、水酸基、ニトロ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
チオ基、カルボキシ基、フェニルチオ基又はフェニル環
上にハロゲン原子を１〜３個有することのあるフェニル
低級アルコキシ基を示し、ｍは０又は１〜３の整数を示
す）を示す｝を示すものとする。
【００２５】また、上記Ｒ4 とＲ10とは互いに結合して
−ＣＯＣＨ2−基を形成してもよい（但しこの環を形成
する場合には、Ａはカルボニル基を示す）。
【００２６】但し、Ｒ3 が水素原子を示し且つＡがカル
ボニル基を示す場合には、Ｒ1 は水素原子又は低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基を示してはならない。
【００２７】またＲ3 とＲ11とは互いに結合して−（Ｃ
Ｈ2）4−基を形成してもよい。〕で示される化合物及び
その塩から選ばれる化合物の少なくとも一つを有効成分
として含有することを特徴とするメイラード反応阻害剤
が提供される。
【００２８】また本発明によれば、上記メイラード反応
阻害剤の有効成分化合物として有用な新規な化合物が提
供される。
【００２９】本発明化合物及びその塩は、メイラード反
応を阻害することにより、種々の糖尿病合併症、例え
ば、冠動脈性疾患、末梢循環障害、脳血管障害、糖尿病
性神経症、腎症、動脈硬化症、関節硬化症、白内障及び
網膜症、また、老化によって引き起こされる疾患、例え
ば、アテローム性動脈硬化症、老人性白内障の治療及び
／又は予防に有用である。また本発明化合物及びその塩
は、血糖低下作用を有し、血糖低下剤として糖尿病の治
療に有用である。特に本発明化合物及びその塩は、作用
の持続時間が長く、体内吸収性が優れ、低毒性で安全性
が高く、該化合物自体安定性に優れ、製剤化が容易であ
る等の特長を有している。
【００３０】
【発明の実施の形態】本発明有効成分化合物を表わす前
記一般式（１）の定義中、Ｒ3 がとり得る−Ｚ−ＣＯ−
Ｒa におけるＲa 基中に存在するアミノ酸残基の略号に
よる表記は、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢの規定〔IUPAC-IUB Co
mmunication on Biological Nomenclature, Eur. J. Bi
ochem., 138, 9 (1984)〕及び当該分野における慣用記
号に従うものである。例えば「−Ｔｙｒ（ＯＲa1）−Ｏ
Ｒb1」は、チロシンの側鎖水酸基（フェニル環上）がＯ
Ｒa1で置換され、カルボキシ原子団のヒドロキシル基が
ＯＲb1で置換されたチロシル基を示す。他のアミノ酸残
基の表示も同様である。また、「−Ｇｌｙ（Ｐｈ）−Ｏ
Ｒb5」は、側鎖にフェニル基及びＣ末端にＯＲｂ５基を
有するグリシル基（ＯＲｂ５でカルボキシル基を保護さ
れたフェニルグリシル基）を示す。
【００３１】本明細書において示される各基は、より具
体的には夫々次の通りである。
【００３２】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル、３−メトキシカルボニルプロピル、４−エ
トキシカルボニルブチル、６−プロポキシカルボニルヘ
キシル、５−イソプロポキシカルボニルペンチル、１，
１−ジメチル−２−ブトキシカルボニルエチル、２−メ
チル−３−tert−ブトキシカルボニルプロピル、２−ペ
ンチルオキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル基等のアルコキシ部分の炭素数が１〜６及び
アルキル部分の炭素数が１〜６であるアルコキシカルボ
ニルアルキル基を例示できる。
【００３３】ハロゲン原子としては、それが独立に存在
する場合又は他の基中に存在する場合の如何を問わず、
弗素、塩素、臭素及び沃素原子を示す。
【００３４】低級アルキル基としては、それが独立に存
在する場合又は他の基中に存在する場合の如何を問わ
ず、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基を例示できる。
【００３５】低級アルコキシ基としては、それが独立に
存在する場合又は他の基中に存在する場合の如何を問わ
ず、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアル
コキシ基を例示できる。
【００３６】低級アルキルチオ基としては、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、イソプロ
ピルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキ
シルチオ基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝状のアルキル基であるアルキルチオ基を例示でき
る。
【００３７】フェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる基を１〜３個
有することのあるフェニル低級アルキル基としては、ベ
ンジル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３
−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、１，１−ジ
メチル−２−フェニルエチル、５−フェニルペンチル、
６−フェニルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロ
ピル、２−フェニルプロピル、２−フルオロベンジル、
３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、４−ク
ロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−ヨードベンジ
ル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、３−（３−
クロロフェニル）プロピル、４−（４−ブロモフェニ
ル）ブチル、５−（４−ヨードフェニル）ペンチル、６
−（３−フルオロフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−（２−クロロフェニル）エチル、２−メチル−
３−（４−クロロフェニル）プロピル、２−（４−フル
オロフェニル）プロピル、２，５−ジフルオロベンジ
ル、２，３−ジクロロベンジル、２−（２，４−ジブロ
モフェニル）エチル、２−（２，６−ジフルオロフェニ
ル）エチル、３−（３，４−ジクロロフェニル）プロピ
ル、４−（３，５−ジブロモフェニル）ブチル、５−
（３，４−ジフルオロフェニル）ペンチル、６−（３，
５−ジクロロフェニル）ヘキシル、２，４，５−トリフ
ルオロベンジル、２−（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）エチル、３−（３，４，５−トリフルオロフェニ
ル）プロポキシ、２−ヒドロキシベンジル、３−ヒドロ
キシベンジル、４−ヒドロキシベンジル、２−（２−ヒ
ドロキシフェニル）エチル、３−（３−ヒドロキシフェ
ニル）プロピル、４−（４−ヒドロキシフェニル）ブチ
ル、５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチル、６−
（３−ヒドロキシフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−（２−ヒドロキシフェニル）エチル、２−メチ
ル−３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル、２−
（４−ヒドロキシフェニル）プロピル、２，５−ジヒド
ロキシベンジル、２，３−ジヒドロキシベンジル、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）エチル、２−（２，
６−ジヒドロキシフェニル）エチル、３−（３，４−ジ
ヒドロキシフェニル）プロピル、４−（３，５−ジヒド
ロキシフェニル）ブチル、５−（３，４−ジヒドロキシ
フェニル）ペンチル、６−（３，５−ジヒドロキシフェ
ニル）ヘキシル、２，４，５−トリヒドロキシベンジ
ル、２−（２，４，６−トリヒドロキシフェニル）エチ
ル、３−（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）プロ
ポキシ、２−ニトロベンジル、３−ニトロベンジル、４
−ニトロベンジル、２−（２−ニトロフェニル）エチ
ル、３−（３−ニトロフェニル）プロピル、４−（４−
ニトロフェニル）ブチル、５−（４−ニトロフェニル）
ペンチル、６−（３−ニトロフェニル）ヘキシル、１，
１−ジメチル−２−（２−ニトロフェニル）エチル、２
−メチル−３−（４−ニトロフェニル）プロピル、２−
（４−ニトロフェニル）プロピル、２，５−ジニトロベ
ンジル、２，３−ジニトロベンジル、２−（２，４−ジ
ニトロフェニル）エチル、２−（２，６−ジニトロフェ
ニル）エチル、３−（３，４−ジニトロフェニル）プロ
ピル、４−（３，５−ジニトロフェニル）ブチル、５−
（３，４−ジニトロフェニル）ペンチル、６−（３，５
−ジニトロフェニル）ヘキシル、２，４，５−トリニト
ロベンジル、２−（２，４，６−トリニトロフェニル）
エチル、３−（３，４，５−トリニトロフェニル）プロ
ポキシ、２−メチルベンジル、３−エチルベンジル、４
−プロピルベンジル、４−ブトキシベンジル、４−ペン
チルベンジル、４−ヘキシルベンジル、４−イソプロピ
ルベンジル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２−（２
−メチルフェニル）エチル、１−（３−エチルフェニ
ル）エチル、３−（４−エチルフェニル）プロピル、４
−（４−プロピルフェニル）ブチル、５−（４−ブチル
フェニル）ペンチル、６−（４−ペンチルフェニル）ヘ
キシル、１，１−ジメチル−２−（２−メチルフェニ
ル）エチル、２−（３−エチルフェニル）プロピル、
２，３−ジメチルベンジル、２−（２，４−ジメチルフ
ェニル）エチル、３−（２，５−ジエチルフェニル）プ
ロピル、４−（２，６−ジエチルフェニル）ブチル、５
−（３，４−ジメチルフェニル）ペンチル、６−（３，
５−ジエチルフェニル）ヘキシル、３，４，５−トリメ
チルベンジル、２−（２，４，５−トリメチルフェニ
ル）エチル、３−（２，４，６−トリメチルフェニル）
プロピル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジ
ル、４−メトキシベンジル、４−エトキシベンジル、４
−プロポキシベンジル、４−イソプロポキシベンジル、
４−ブトキシベンジル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシベンジ
ル、４−ペンチルオキシベンジル、４−ヘキシルオキシ
ベンジル、２，３−ジメトキシベンジル、２，４−ジメ
トキシベンジル、２，５−ジエトキシベンジル、２，６
−ジエトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、
３，５−ジエトキシベンジル、２，３，４−トリメトキ
シベンジル、２，３，５−トリメトキシベンジル、２，
３，６−トリエトキシベンジル、３，４，５−トリエト
キシベンジル、２−（２−メトキシフェニル）エチル、
１−（３−エトキシフェニル）エチル、２−（４−メト
キシフェニル）エチル、３−（４−エトキシフェニル）
プロピル、３−（４−プロポキシフェニル）エチル、４
−（４−ブトキシフェニル）ブチル、１，１−ジメチル
−２−（４−メトキシフェニル）エチル、５−（４−ペ
ンチルオキシフェニル）ペンチル、６−（４−ヘキシル
オキシフェニル）ヘキシル、２−（４−メトキシフェニ
ル）プロピル、２−（２，４−ジメトキシフェニル）エ
チル、３−（３，４−ジエトキシフェニル）プロピル、
２−（２，４，５−トリメトキシフェニル）エチル、３
−（３，４，５−トリエトキシフェニル）プロピル、２
−メチルチオベンジル、３−（２−エチルチオ）ベンジ
ル、４−（３−プロピルチオ）ベンジル、２−（２−メ
チルチオフェニル）エチル、３−（３−メチルチオフェ
ニル）プロピル、４−（４−メチルチオフェニル）ブチ
ル、５−（４−メチルチオフェニル）ペンチル、６−
（３−メチルチオフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−（２−メチルチオフェニル）エチル、２−メチ
ル−３−（４−メチルチオフェニル）プロピル、２−
（４−メチルチオフェニル）プロピル、２，５−ジ（４
−ブチルチオ）ベンジル、２，３−ジメチルチオベンジ
ル、２−（２，４−ジメチルチオフェニル）エチル、２
−（２，６−ジメチルチオフェニル）エチル、４−
（３，５−ジメチルチオフェニル）ブチル、５−（３，
４−ジメチルチオフェニル）ペンチル、６−（３，５−
ジメチルチオフェニル）ヘキシル、２，４，５−トリ
（６−ヘキシルチオ）ベンジル、２−（２，４，６−ト
リメチルチオフェニル）エチル、３−（３，４，５−ト
リメチルチオフェニル）プロポキシ基等のフェニル環上
に置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素
数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基、炭素数１〜６
の直鎖又は分枝状のアルコキシ基及び炭素数１〜６の直
鎖又は分枝状のアルキルチオ基から選ばれた基を１〜３
個を有することのあるフェニル基を有し、アルキル部分
が炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基であるフ
ェニル低級アルキル基を例示できる。
【００３８】置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニト
ロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アル
キルチオ基から選ばれる基を１〜３個有することのある
フェニル基としては、フェニル、２−フルオロフェニ
ル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２
−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフ
ェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、
２，３−ジクロロフェニル、２，４−ジフルオロフェニ
ル、２，５−ジブロモフェニル、２，６−ジクロロフェ
ニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジクロロ
フェニル、２，３，５−トリフルオロフェニル、３，
４，５−トリクロロフェニル、２−ヒドロキシフェニ
ル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニ
ル、２，５−ジヒドロキシフェニル、２，３−ジヒドロ
キシフェニル、２，４，５−トリヒドロキシフェニル、
２−ニトロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロ
フェニル、２，３−ジニトロフェニル、２，４，５−ト
リニトロフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフ
ェニル、４−メチルフェニル、３−エチルフェニル、、
４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、４−ペン
チルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−ブチルフェ
ニル、４−イソプロピルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジエ
チルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジ
メチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−
ジエチルフェニル、２，３，５−トリメチルフェニル、
３，４，５−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニ
ル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、３
−エトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−プロ
ポキシフェニル、４−イソプロポキシフェニル、４−ブ
トキシフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル、４
−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニ
ル、２，３−ジメトキシフェニル、２，４−ジエトキシ
フェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメト
キシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−
ジエトキシフェニル、２，３，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２−メチルチ
オフェニル、３−エチルチオフェニル、４−プロピルチ
オフェニル、４−ブチルチオフェニル、４−ペンチルチ
オフェニル、４−ヘキシルチオフェニル、２，３−ジメ
チルチオフェニル、２，４−ジメチルチオフェニル、
３，４−ジメチルチオフェニル、３，４，５−トリメチ
ルチオフェニル基等の置換基としてハロゲン原子、水酸
基、ニトロ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキ
ル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルコキシ基及
び炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキルチオ基から
選ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル基を例
示できる。
【００３９】低級アルカノイルアミノ基としては、それ
が独立に存在する場合及び他の基中に存在する場合の如
何を問わず、例えばホルミルアミノ、アセチルアミノ、
プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルア
ミノ、ペンタノイルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニ
ルアミノ、ヘキサノイルアミノ基等の炭素数１〜６の直
鎖又は分枝状のアルカノイル基を有するアミノ基を例示
できる。
【００４０】フェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、水酸基、アミノ基及び低級アルカノイルアミノ基か
ら選ばれる基を有することのあるフェニルスルホニルア
ミノ基としては、フェニルスルホニルアミノ、２−フル
オロフェニルスルホニルアミノ、３−フルオロフェニル
スルホニルアミノ、４−フルオロフェニルスルホニルア
ミノ、２−クロロフェニルスルホニルアミノ、３−クロ
ロフェニルスルホニルアミノ、４−クロロフェニルスル
ホニルアミノ、４−ブロモフェニルスルホニルアミノ、
４−ヨードフェニルスルホニルアミノ、２−ヒドロキシ
フェニルスルホニルアミノ、３−ヒドロキシフェニルス
ルホニルアミノ、４−ヒドロキシフェニルスルホニルア
ミノ、２−アミノフェニルスルホニルアミノ、３−アミ
ノフェニルスルホニルアミノ、４−アミノフェニルスル
ホニルアミノ、２−アセチルアミノフェニルスルホニル
アミノ、３−アセチルアミノフェニルスルホニルアミ
ノ、４−アセチルアミノフェニルスルホニルアミノ、２
−ブチリルアミノフェニルスルホニルアミノ、３−ブチ
リルアミノフェニルスルホニルアミノ、４−ブチリルア
ミノフェニルスルホニルアミノ基等を例示できる。
【００４１】低級アルキリデン基としては、メチレン、
エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリ
デン、ｔｅｒｔ−ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリ
デン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキリデ
ン基を例示できる。
【００４２】低級シクロアルキル基を１〜２個有する低
級アルキリデン基としては、２−シクロプロピルエチリ
デン、１−シクロブチルエチリデン、３−シクロペンチ
ルプロピリデン、４−シクロヘキシルブチリデン、１，
１−ジメチル−２−シクロヘプチルエチリデン、５−シ
クロオクチルペンチリデン、６−シクロヘキシルヘキシ
リデン、２−メチル−３−シクロヘキシルプロピリデ
ン、ジシクロプロピルメチレン、２−ジシクロプロピル
エチリデン基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基を１
〜２個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝状アルキリデ
ン基を例示できる。
【００４３】低級シクロアルキリデン基としては、シク
ロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデ
ン、シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、シクロ
オクチリデン基等の炭素数３〜８のシクロアルキリデン
基を例示できる。
【００４４】ジフェニル低級アルキリデン基としては、
２，２−ジフェニルエチリデン、１，１−ジフェニルエ
チリデン、３，３−ジフェニルプロピリデン、４，４−
ジフェニルブチリデン、５，５−ジフェニルペンチリデ
ン、６，６−ジフェニルヘキシリデン基等のアルキリデ
ン部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝状のアルキリデ
ン基であるジフェニルアルキリデン基を例示できる。
【００４５】フェニル低級アルキリデン基としては、ベ
ンジリデン、２−フェニルエチリデン、１−フェニルエ
チリデン、３−フェニルプロピリデン、４−フェニルブ
チリデン、１，１−ジメチル−２−フェニルエチリデ
ン、５−フェニルペンチリデン、６−フェニルヘキシリ
デン、２−メチル−３−フェニルプロピリデン、２−フ
ェニルプロピリデン基等のアルキリデン部分の炭素数が
１〜６の直鎖又は分枝状のアルキリデン基であるフェニ
ルアルキリデン基を例示できる。
【００４６】低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、
２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の炭素数２〜６の
直鎖又は分枝状のアルケニル基を例示できる。
【００４７】フェニル低級アルコキシ低級アルキル基と
しては、ベンジルオキシメチル、２−フェニルエトキシ
メチル、１−フェニルエトキシメチル、３−フェニルプ
ロポキシメチル、４−フェニルブトキシメチル、１，１
−ジメチル−２−フェニルエトキシメチル、５−フェニ
ルペンチルオキシメチル、６−フェニルヘキシルオキシ
メチル、２−ベンジルオキシエチル、３−ベンジルオキ
シプロピル、４−ベンジルオキシブチル、１，１−ジメ
チル−２−ベンジルオキシエチル、５−ベンジルオキシ
ペンチル、６−ベンジルオキシヘキシル、２−メチル−
３−ベンジルオキシプロピル基等のアルコキシ部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルコキシ基であり且つ
アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキ
ルであるフェニルアルコキシアルキル基を例示できる。
【００４８】水酸基を有することのあるフェニル基とし
ては、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニ
ル、４−ヒドロキシフェニル基を例示できる。
【００４９】窒素原子及び硫黄原子からなる群より選ば
れたヘテロ原子を１〜２個有する５員もしくは６員の不
飽和ヘテロ環低級アルキル基（該ヘテロ環はベンゼン環
と縮合してもよく、該ヘテロ環上及び縮合したベンゼン
環上に置換基として水酸基を有していてもよい）として
は、２−ピリジニルメチル、３−ピリジニルメチル、４
−ピリジニルメチル、２−（３−ピリジニル）エチル、
３−（３−ピリジニル）プロピル、４−（３−ピリジニ
ル）ブチル、５−（３−ピリジニル）ペンチル、６−
（３−ピペリジニル）ヘキシル、１−メチル−２−（３
−ピリジニル）プロピル、２−ヒドロキシ−３−ピリジ
ニルメチル、４−ヒドロキシ−３−ピリジニルメチル、
６−ヒドロキシ−３−ピリジニルメチル、２−チエニル
メチル、３−チエニルメチル、２−（２−チエニル）エ
チル、３−（２−チエニル）プロピル、４−（２−チエ
ニル）ブチル、５−（２−チエニル）ペンチル、６−
（２−チエニル）ヘキシル、１−メチル−２−（２−チ
エニル）プロピル、３−ヒドロキシ−２−チエニルメチ
ル、５−ヒドロキシ−２−チエニルメチル、１−イミダ
ゾリルメチル、２−イミダゾリルメチル、４−イミダゾ
リルメチル、５−イミダゾリルメチル、２−（４−イミ
ダゾリル）エチル、３−（４−イミダゾリル）プロピ
ル、４−（４−イミダゾリル）ブチル、５−（４−イミ
ダゾリル）ペンチル、６−（４−イミダゾリル）ヘキシ
ル、１−メチル−２−（４−イミダゾリル）プロピル、
２−ヒドロキシ−４−イミダゾリルメチル、１−インド
リルメチル、３−インドリルメチル、２−（３−インド
リル）エチル、３−（３−インドリル）プロピル、４−
（３−インドリル）ブチル、５−（３−インドリル）ペ
ンチル、６−（３−インドリル）ヘキシル、４−ヒドロ
キシ−３−インドリルメチル、２−ヒドロキシ−３−イ
ンドリルメチル、６−ヒドロキシ−３−インドリルメチ
ル、２−ピロリルメチル、５−ピラゾリルメチル、２−
ピリミジニルメチル、２−ピラジニルメチル、２−チア
ゾリルメチル、２−キノリルメチル、２−ベンゾイミダ
ゾリルメチル、３−ベンゾチエニルメチル基等の窒素原
子及び硫黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１
〜２個有する５員又は６員の不飽和のヘテロ環を有する
アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキ
ル基を例示できる。
【００５０】低級アルキレン基としては、メチレン、エ
チレン、トリエチレン、２−メチルトリエチレン、２，
２−ジメチルトリメチレン、１−メチルトリメチレン、
メチルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直
鎖又は分枝状アルキレン基を例示できる。
【００５１】フェニル低級アルキル基としては、ベンジ
ル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フ
ェニルプロピル、４−フェニルブチル、１，１−ジメチ
ル−２−フェニルエチル、５−フェニルペンチル、６−
フェニルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロピ
ル、２−フェニルプロピル基等のアルキル部分が炭素数
１〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基であるフェニルア
ルキル基を例示できる。
【００５２】カルボキシ低級アルキル基としては、カル
ボキシメチル、２−カルボキシエチル、１−カルボキシ
エチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチ
ル、１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル、５−カ
ルボキシペンチル、６−カルボキシヘキシル、２−メチ
ル−３−カルボキシプロピル基等のアルキル部分が炭素
数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基であるカルボキ
シアルキル基を例示できる。
【００５３】低級シクロアルキル基としては、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜
８のシクロアルキル基を例示できる。
【００５４】低級アルコキシカルボニル基としては、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等のアルコキシ部
分が炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカ
ルボニル基を例示できる。
【００５５】フェニル低級アルコキシ基としては、ベン
ジルオキシ、２−フェニルエトキシ、３−フェニルプロ
ポキシ、１−フェニルイソプロポキシ、４−フェニルブ
トキシ、５−フェニルペンチルオキシ、６−フェニルヘ
キシルオキシ、２−メチル−３−フェニルプロポキシ基
等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖
状のフェニルアルコキシ基を例示できる。
【００５６】ハロゲン化低級アルキル基としては、クロ
ロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、フルオロメチ
ル、ジブロモメチル、ジフルオロメチル、トリクロロメ
チル、トリブロモメチル、トリフルオロメチル、２−ク
ロロエチル、２−ブロルエチル、２−フルオロエチル、
１，２−ジクロロエチル、２，２−ジフルオロエチル、
１−クロロ−２−フルオロエチル、３−フルオロプロピ
ル、４−クロロブチル、５−クロロペンチル、６−ブロ
モヘキシル、３−フルオロ−２−メチルプロピル基等の
１〜３個のハロゲン原子を有し且つアルキル部分か炭素
数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状のハロゲン化アルキル基
を例示できる。
【００５７】低級アルキレンジオキシ基としては、メチ
レンジオキシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキ
シ基等の炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基を例示で
きる。
【００５８】置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニト
ロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキ
ルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルキレンジオキ
シ基、モルホリノ基、ハロゲン化低級アルキル基、カル
ボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級
アルキル基、６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−２−クロマニル−メチルオキシ基及び６−低級
アルカノイルオキシ−２，５，７，８−テトラメチル−
２−クロマニル−メチルオキシ基から選ばれる基を１〜
３個有することのあるフェニル基としては、フェニル、
２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フ
ルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェ
ニル、４−クロロフェニル、４−ブロモフェニル、４−
ヨードフェニル、２，３−ジクロロフェニル、２，４−
ジフルオロフェニル、２，５−ジブロモフェニル、２，
６−ジクロロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、
３，５−ジクロロフェニル、２，３，５−トリフルオロ
フェニル、３，４，５−トリクロロフェニル、２−ヒド
ロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロ
キシフェニル、２−（２−ヒドロキシ）フェニル、３−
（３−ヒドロキシ）フェニル、４−（４−ヒドロキシ）
フェニル、５−（４−ヒドロキシ）フェニル、６−（３
−ヒドロキシ）フェニル、１，１−ジメチル−２−（２
−ヒドロキシ）フェニル、２−メチル−３−（４−ヒド
ロキシ）フェニル、２−（４−ヒドロキシ）フェニル、
２，５−ジヒドロキシフェニル、２，３−ジヒドロキシ
フェニル、２−（２，４−ジヒドロキシ）フェニル、２
−（２，６−ジヒドロキシ）フェニル、３−（３，４−
ジヒドロキシ）フェニル、４−（３，５−ジヒドロキ
シ）フェニル、５−（３，４−ジヒドロキシ）フェニ
ル、６−（３，５−ジヒドロキシ）フェニル、２，４，
５−トリヒドロキシフェニル、２−（２，４，６−トリ
ヒドロキシ）フェニル、３−（３，４，５−トリヒドロ
キシ）フェニル、２−ニトロフェニル、３−ニトロフェ
ニル、４−ニトロフェニル、２−（２−ニトロ）フェニ
ル、３−（３−ニトロ）フェニル、４−（４−ニトロ）
フェニル、５−（４−ニトロ）フェニル、６−（３−ニ
トロ）フェニル、１，１−ジメチル−２−（２−ニト
ロ）フェニル、２−メチル−３−（４−ニトロ）フェニ
ル、２−（４−ニトロ）フェニル、２，５−ジニトロフ
ェニル、２，３−ジニトロフェニル、２−（２，４−ジ
ニトロ）フェニル、２−（２，６−ジニトロ）フェニ
ル、３−（３，４−ジニトロ）フェニル、４−（３，５
−ジニトロ）フェニル、５−（３，４−ジニトロ）フェ
ニル、６−（３，５−ジニトロ）フェニル、２，４，５
−トリニトロフェニル、２−（２，４，６−トリニト
ロ）フェニル、３−（３，４，５−トリニトロ）フェニ
ル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メ
チルフェニル、３−エチルフェニル、、４−エチルフェ
ニル、４−プロピルフェニル、４−ペンチルフェニル、
４−ヘキシルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソ
プロピルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、
２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジエチルフェニ
ル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェ
ニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジエチルフ
ェニル、２，３，５−トリメチルフェニル、３，４，５
−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メ
トキシフェニル、４−メトキシフェニル、３−エトキシ
フェニル、４−エトキシフェニル、４−プロポキシフェ
ニル、４−イソプロポキシフェニル、４−ブトキシフェ
ニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル、４−ペンチル
フェニル、４−ヘキシルフェニル、２，３−ジメトキシ
フェニル、２，４−ジエトキシフェニル、２，５−ジメ
チルフェニル、２，６−ジメトキシフェニル、３，４−
ジメトキシフェニル、３，５−ジエトキシフェニル、
２，３，５−トリメトキシフェニル、３，４，５−トリ
メトキシフェニル、２−メチルチオフェニル、３−エチ
ルチオフェニル、４−プロピルチオフェニル、４−ブチ
ルチオフェニル、４−ペンチルチオフェニル、４−ヘキ
シルチオフェニル、２，３−ジメチルチオフェニル、
２，４−ジメチルチオフェニル、２，６−ジメチルチオ
フェニル、２，４，６−トリメチルチオフェニル、２−
カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−カ
ルボキシフェニル、２，３−ジカルボキシフェニル、
３，４−ジカルボキシフェニル、２，４−ジカルボキシ
フェニル、２−メトキシカルボニルフェニル、３−メト
キシカルボニルフェニル、４−メトキシカルボニルフェ
ニル、２−エトキシカルボニルフェニル、３−エトキシ
カルボニルフェニル、４−エトキシカルボニルフェニ
ル、４−イソプロポキシカルボニルフェニル、４−ペン
チルオキシカルボニルフェニル、４−プロポキシカルボ
ニルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェ
ニル、４−ヘキシルオキシカルボニルフェニル、３，４
−ジメトキシカルボニルフェニル、２，４−ジメトキシ
カルボニルフェニル、２，３−ジメトキシカルボニルフ
ェニル、３−メトキシカルボニル−４−エトキシカルボ
ニルフェニル、３，４−ジエトキシカルボニルフェニ
ル、２，４−ジエトキシカルボニルフェニル、２，３−
ジエトキシカルボニルフェニル、２−ベンジルオキシフ
ェニル、３−ベンジルオキシフェニル、４−ベンジルオ
キシフェニル、２，４−ジベンジルフェニル、４，６−
ジベンジルフェニル、４−（２−フェニルエトキシ）フ
ェニル、４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル、４
−（４−フェニルブトキシ）フェニル、４−（５−フェ
ニルペンチルオキシ）フェニル、４−（６−フェニルヘ
キシルオキシ）フェニル、２，３−メチレンジオキシフ
ェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、２，３−
エチレンジオキシフェニル、３，４−エチレンジオキシ
フェニル、２，３−プロピレンジオキシフェニル、３，
４−プロピレンジオキシフェニル、２−モルホリノフェ
ニル、３−モルホリノフェニル、４−モルホリノフェニ
ル、２−クロロメチルフェニル、３−ブロモメチルフェ
ニル、４−ヨードメチルフェニル、２−フルオロメチル
フェニル、２−ジクロロメチルフェニル、４−ジブロモ
メチルフェニル、３−ジフルオロメチルフェニル、３−
トリクロロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフ
ェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、４−（１，
２−ジクロロエチル）フェニル、２−（３−フルオロプ
ロピル）フェニル、３−（４−クロロブチル）フェニ
ル、４−（５−クロロペンチル）フェニル、４−（６−
ブロモヘキシル）フェニル、２−（２−クロロエチル）
−４−ジブロモメチルフェニル、２，３，４−トリ（ク
ロロメチル）フェニル、２−カルボキシメチルフェニ
ル、３−カルボキシメチルフェニル、４−カルボキシメ
チルフェニル、３，５−ジ（カルボキシメチル）フェニ
ル、４−（２−カルボキシエチル）フェニル、３−（４
−カルボキシブチル）フェニル、４−（６−カルボキシ
ヘキシル）フェニル、２−メトキシカルボニルメチルフ
ェニル、３−メトキシカルボニルメチルフェニル、４−
メトキシカルボニルメチルフェニル、２，６−ジ（メト
キシカルボニルメチル）フェニル、４−エトキシカルボ
ニルメチルフェニル、３−ブトキシカルボニルメチルフ
ェニル、４−（４−エトキシカルボニルブチル）フェニ
ル、３−（６−ヘキシルオキシカルボニルヘキシル）フ
ェニル、３−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イル）メトキシフェニル、４−
（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イル）メトキシフェニル、３−（６−プロピ
オニルオキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イル）メトキシフェニル、４−（６−ヘキサノイ
ルオキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イル）メトキシフェニル、４−（６−アセトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル）メ
トキシフェニル、２−カルボキシ−４−メチルフェニ
ル、３−カルボキシ−６−メチルフェニル、４−カルボ
キシ−６−メチルフェニル、２−カルボキシ−４−エチ
ルフェニル、２−カルボキシ−４−クロロフェニル、３
−カルボキシ−６−ブロモフェニル、４−カルボキシ−
６−クロロフェニル、２−カルボキシ−４−ブロモフェ
ニル、２−メトキシカルボニル−５−メチルフェニル、
３−メトキシカルボニル−６−メチルフェニル、２−メ
トキシカルボニル−４−エチルフェニル、４−エトキシ
カルボニル−６−メチルフェニル、２−メトキシカルボ
ニル−６−クロロフェニル、３−メチル−５−フルオロ
フェニル、２−カルボキシ−３−フルオロ−４−メチル
フェニル、２−カルボキシ−４−メチル−６−メトキシ
フェニル基等の置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルキル基、
炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルコキシ基、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝状のアルキルチオ基、カルボキシ
基、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の
アルコキシ基であるアルコキシカルボニル基、アルコキ
シ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルコキシ基
であるフェニルアルコキシ基、アルキレンジオキシ基、
モルホリノ基、１〜３個のハロゲン原子を有し且つアル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のハロゲン
化アルキル基、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状のカルボキシアルキル基、アルコキシ部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状で且つアルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状であるアルコキシカルボ
ニルアルキル基、６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テ
トラメチル−２−クロマニル−メチルオキシ基及びアル
カノイルオキシ部分が炭素数１〜６のアルカノイルオキ
シ基である６−アルカノイルオキシ−２，５，７，８−
テトラメチル−２−クロマニル−メチルオキシ基から選
ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル基を例示
できる。
【００５９】窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる
群より選ばれたヘテロ原子を１〜２個有する５員もしく
は６員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基としては、２−
ピリジニルメチル、３−ピリジニルメチル、４−ピリジ
ニルメチル、２−（３−ピリジニル）エチル、３−（３
−ピリジニル）プロピル、４−（３−ピリジニル）ブチ
ル、５−（３−ピリジニル）ペンチル、６−（３−ピリ
ジニル）ヘキシル、１−メチル−２−（３−ピリジニ
ル）プロピル、２−チエニルメチル、３−チエニルメチ
ル、４−チエニルメチル、２−（２−チエニル）エチ
ル、３−（２−チエニル）プロピル、４−（２−チエニ
ル）ブチル、５−（２−チエニル）ペンチル、６−（２
−チエニル）ヘキシル、１−メチル−２−（２−チエニ
ル）プロピル、１−イミダゾリルメチル、２−イミダゾ
リルメチル、４−イミダゾリルメチル、５−イミダゾリ
ルメチル、２−（１−イミダゾリル）エチル、３−（４
−イミダゾリル）プロピル、４−（４−イミダゾリル）
ブチル、５−（４−イミダゾリル）ペンチル、６−（４
−イミダゾリル）ヘキシル、１−メチル−２−（１−イ
ミダゾリル）プロピル、２−ピロリルメチル、２−ピリ
ミジニルメチル、２−ピラジニルメチル、２−チアゾリ
ルメチル、２−フリルメチル、３−フリルメチル、２−
（２−フリル）エチル、３−（３−フリル）プロピル、
４−（２−フリル）ブチル、５−（３−フリル）ペンチ
ル、６−（２−フリル）ヘキシル基等のアルキル部分が
炭素数１〜６の不飽和ヘテロ環アルキル基を例示でき
る。
【００６０】ハロゲン原子を有することのあるフェニル
チオ基としては、２−クロロフェニルチオ、３−クロロ
フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ、２−ブロモフ
ェニルチオ、ウ−ブロロフェニルチオ、３−フルオロフ
ェニルチオ、４−フルオロフェニルチオ、４−ヨードフ
ェニルチオ基等を例示できる。
【００６１】フェニルアルキルチオ基としては、ベンジ
ルチオ、２−フェニルエチルチオ、１−フェニルエチル
チオ、３−フェニルプロピルチオ、４−フェニルブチル
チオ、１，１−ジメチル−２−フェニルエチルチオ、５
−フェニルペンチルチオ、６−フェニルヘキシルチオ、
２−メチル−３−フェニルプロピルチオ、２−フェニル
プロピルチオ基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝状のアルキル基であるフェニルアルキルチオ基
を例示できる。
【００６２】ハロゲン原子を１〜３個有することのある
ベンゾイルアミノ基としては、ベンゾイルアミノ、２−
フルオロベンゾイルアミノ、３−フルオロベンゾイルア
ミノ、４−フルオロベンゾイルアミノ、２−クロロベン
ゾイルアミノ、３−クロロベンゾイルアミノ、４−クロ
ロベンゾイルアミノ、４−ブロモベンゾイルアミノ、４
−ヨードベンゾイルアミノ、２，３−ジクロロベンゾイ
ルアミノ、３，４−ジクロロベンゾイルアミノ、２，４
−ジクロロベンゾイルアミノ、３，４，５−トリクロロ
ベンゾイルアミノ基等のハロゲン原子を１〜３個有する
ことのあるベンゾイルアミノ基を例示することができ
る。
【００６３】フェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる基を１〜３個
有することのあるフェニル基（該フェニル環はベンゼン
環又はシクロヘキサン環と縮合してもよい）としては、
フェニル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニ
ル、４−フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−
クロロフェニル、４−クロロフェニル、４−ブロモフェ
ニル、４−ヨードフェニル、２，３−ジクロロフェニ
ル、２，４−ジフルオロフェニル、２，５−ジブロモフ
ェニル、２，６−ジクロロフェニル、３，４−ジフルオ
ロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、２，３，５−
トリフルオロフェニル、３，４，５−トリクロロフェニ
ル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニ
ル、４−ヒドロキシフェニル、２−（２−ヒドロキシ）
フェニル、３−（３−ヒドロキシ）フェニル、４−（４
−ヒドロキシ）フェニル、５−（４−ヒドロキシ）フェ
ニル、６−（３−ヒドロキシ）フェニル、１，１−ジメ
チル−２−（２−ヒドロキシ）フェニル、２−メチル−
３−（４−ヒドロキシ）フェニル、２−（４−ヒドロキ
シ）フェニル、２，５−ジヒドロキシフェニル、２，３
−ジヒドロキシフェニル、２−（２，４−ジヒドロキ
シ）フェニル、２−（２，６−ジヒドロキシ）フェニ
ル、３−（３，４−ジヒドロキシ）フェニル、４−
（３，５−ジヒドロキシ）フェニル、５−（３，４−ジ
ヒドロキシ）フェニル、６−（３，５−ジヒドロキシ）
フェニル、２，４，５−トリヒドロキシフェニル、２−
（２，４，６−トリヒドロキシ）フェニル、３−（３，
４，５−トリヒドロキシ）フェニル、２−ニトロフェニ
ル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル、２−
（２−ニトロ）フェニル、３−（３−ニトロ）フェニ
ル、４−（４−ニトロ）フェニル、５−（４−ニトロ）
フェニル、６−（３−ニトロ）フェニル、１，１−ジメ
チル−２−（２−ニトロ）フェニル、２−メチル−３−
（４−ニトロ）フェニル、２−（４−ニトロ）フェニ
ル、２，５−ジニトロフェニル、２，３−ジニトロフェ
ニル、２−（２，４−ジニトロ）フェニル、２−（２，
６−ジニトロ）フェニル、３−（３，４−ジニトロ）フ
ェニル、４−（３，５−ジニトロ）フェニル、５−
（３，４−ジニトロ）フェニル、６−（３，５−ジニト
ロ）フェニル、２，４，５−トリニトロフェニル、２−
（２，４，６−トリニトロ）フェニル、３−（３，４，
５−トリニトロ）フェニル、２−メチルフェニル、３−
メチルフェニル、４−メチルフェニル、３−エチルフェ
ニル、、４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、
４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−ブ
チルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，
４−ジエチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、
２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニ
ル、３，５−ジエチルフェニル、２，３，５−トリメチ
ルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、２−メ
トキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシ
フェニル、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェニ
ル、４−プロポキシフェニル、４−イソプロポキシフェ
ニル、４−ブトキシフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシ
フェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニ
ル、２，３−ジメトキシフェニル、２，４−ジエトキシ
フェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメト
キシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−
ジエトキシフェニル、２，３，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２−メチルチ
オフェニル、３−エチルチオフェニル、４−プロピルチ
オフェニル、４−ブチルチオフェニル、４−ペンチルチ
オフェニル、４−ヘキシルチオフェニル、２，３−ジメ
チルチオフェニル、２，４−ジメチルチオフェニル、
２，６−ジメチルチオフェニル、２，４，６−トリメチ
ルチオフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、５，
６，７，８−テトラヒドロ−１−ナフチル、５，６，
７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル基等を例示でき
る。
【００６４】窒素原子、硫黄原子及び酸素原子からなる
群より選ばれたヘテロ原子を１個有する５員又は６員の
飽和もしくは不飽和ヘテロ環基（該ヘテロ環はベンゼン
環と縮合してもよく、該ヘテロ環上及びベンゼン環と縮
合したヘテロ環上に置換基として水酸基及び低級アルキ
ル基から選ばれる基を１〜５個有していてもよい）とし
ては、２−ピロリル、３−ピロリル、２−チエニル、２
−フラニル、３−フラニル、２−ピリジニル、３−ピリ
ジニル、４−ピリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロ
リジニル、２−テトラヒドロチオニル、２−テトラヒド
ロフラニル、３−ピペリジニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロピラニル、３−インドリ
ル、２−ジヒドロベンゾピラニル、３−ジヒドロベンゾ
ピラニル、５−メチル−２−ピロリル、５−メチル−２
−チエニル、５−メチル−２−ピリジニル、３，５−ジ
メチル−２−ピリジニル、４，６−ジヒドロキシ−２−
ピリジニル、６，８−ジヒドロキシ−２−ジヒドロベン
ゾピラニル、６−ヒドロキシ−２，５，７−トリメチル
−２−ジヒドロベンゾピラニル基等を例示できる。
【００６５】フェニル環上に低級アルコキシ基を１〜２
個有することのあるフェニルカルバモイル低級アルキル
基としては、フェニルカルバモイルメチル、フェニルカ
ルバモイルエチル、フェニルカルバモイルプロピル、フ
ェニルカルバモイルブチル、フェニルカルバモイルペン
チル、フェニルカルバモイルヘキシル、２−メトキシフ
ェニルカルバモイルメチル、３−メトキシフェニルカル
バモイルメチル、４−メトキシフェニルカルバモイルメ
チル、４−エトキシフェニルカルバモイルメチル、４−
ブトキシフェニルカルバモイルメチル、４−プロポキシ
フェニルカルバモイルメチル、２−エトキシ−４−ブト
キシフェニルカルバモイルメチル、４−ペンチルオキシ
フェニルカルバモイルメチル、４−ヘキシルオキシフェ
ニルカルバモイルメチル、２，６−ジメトキシフェニル
カルバモイルメチル、２−（２，４−ジメトキシフェニ
ルカルバモイル）エチル基等のアルコキシ部分の炭素数
が１〜６及びアルキル部分の炭素数が１〜６であるフェ
ニル環上にアルコキシ基を１〜２個有することのあるフ
ェニルカルバモイルアルキル基を例示できる。
【００６６】一般式（１）で表わされる化合物中、Ｒ1
が水素原子を示し且つＡがカルボニル基を示す化合物
は、下記式（Ａ）〜（Ｅ）として示される異性体構造を
とり得る。
【００６７】
【化１４】
【００６８】一般式（１）で表わされる化合物にはこれ
らの異性体、その他の立体異性体、光学異性体、幾何異
性体等が全て包含される。
【００６９】一般式（１）で表わされる化合物の中に
は、一部公知化合物が含まれるが殆んどの化合物は新規
化合物である。
【００７０】従って、本発明は之等メイラード反応阻害
活性を有する新規な化合物及びその塩をも提供するもの
である。
【００７１】即ち、本発明によれば、前記一般式（１）
（但しＲ4 とＲ10とが互いに結合して−ＣＯＣＨ2−基
を形成する場合には、Ａはカルボニル基を示し、Ｒ3 は
水素原子を示してはならず、またＲ3 が水素原子を示し
且つＡがカルボニル基を示す場合には、Ｒ1 は水素原子
又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示して
はならず、更にＲ3 が低級アルキル基、低級アルケニル
基又は基−Ｗ−ＣＯ−ＯＲ5 を示す場合には、Ｘは−Ｓ
−を示してはならず、更にまたＲ11が前記〔化６〕で示
される基の場合には、Ｒ2 はアミノ基を示してはなら
ず、更にまたＲ11は低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基又はチエニル基を示してはならない）で表わされ
る化合物及びその塩が提供される。
【００７２】上記一般式（１）で表わされる化合物中の
新規化合物は、その有する置換基、代表的には置換基Ｘ
の種類に応じて、各種の構造を取ることができる。之等
各構造及びそれらに含まれる好ましい化合物は、例えば
下記一般式（１Ａ）〜（１Ｄ）で表わされる。
【００７３】一般式（１Ａ）：
【００７４】
【化１５】
【００７５】〔式中、Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2Aはアミノ
基又は基−Ｎ＝Ｒ4 （Ｒ4 は前記に同じ）を示す。Ｒ3A
は水素原子、フェニル低級アルコキシ低級アルキル基；
水酸基を有することのあるフェニル基、基−Ｗ−（Ｎ
Ｈ）ｂ−ＣＯ−ＯＲ5 （Ｗ及びＲ5 は前記に同じ。ｂは
１を示す。）、基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa （Ｚ及びＲa は前記
に同じ。）又は前記〔化２〕で示される基を示す。前記
〔化３〕は単結合又は二重結合を示し、これが単結合を
示す時、Ａはカルボニル基を示し、またこれが二重結合
を示す時、Ａは＝Ｃ（Ｒ11A ）−｛Ｒ11A はハロゲン原
子を１〜３個有することのある低級アルキル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基、フェニル環上に低級アルコキシ基
を１〜２個有することのあるフェニルカルバモイル低級
アルキル基又は前記〔化６〕で示される基を示す｝を示
すものとする。〕 上記一般式（１Ａ）に属する本発明化合物中では、上記
〔化３〕が単結合を示し、従ってＡがカルボニル基であ
り且つＲ1 が水素原子、低級アルコキシカルボニル低級
アルキル基又は置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルキルチオ基から選ばれる基を１〜３個有することのあ
るフェニル基を示す化合物群が好ましく、この群に属す
る化合物は、下記（１）〜（９）に細分類でき、之等は
いずれも本発明の好ましい化合物である。
【００７６】（１）Ｒ1 が水素原子であり且つＲ2Aが基
−Ｎ＝Ｒ4 であるもの、（２）上記（１）中、Ｒ4 が低
級アルキリデン基を示すもの、（３）上記（１）中、Ｒ
3Aが基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa であるもの、（４）上記（１）
中、Ｒ3Aが水素原子、フェニル低級アルコキシ低級アル
キル基、水酸基を有することのあるフェニル基、基−Ｗ
−（ＮＨ）ｂ−ＣＯ−ＯＲ5 又は前記〔化２〕で示され
る基を示すもの、（５）上記（３）中、Ｒa が基−Ｔｙ
ｒ（ＯＲa1）−ＯＲb1、基−Ｌｅｕ−ＯＲb2、基−Ｔｒ
ｐ−ＯＲb3、基−Ａｓｐ（ＯＲa2）−ＯＲb4又は基−Ｇ
ｌｙ（Ｐｈ）−ＯＲb5を示し且つＲ4 が低級アルキリデ
ン基を示すもの、（６）上記（３）中、Ｒa が基−Ｎ
（Ｒ6 ）−Ｒ7 を示し且つＲ4 が低級アルキリデン基を
示すもの、（７）上記（６）中、Ｒ6 が置換基としてハ
ロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低
級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ
基、低級アルキレンジオキシ基、モルホリノ基、ハロゲ
ン化低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基、６−ヒドロキシ
−２，５，７，８−テトラメチル−２−クロマニル−メ
チルオキシ基及び６−低級アルカノイルオキシ−２，
５，７，８−テトラメチル−２−クロマニル−メチルオ
キシ基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフェ
ニル基であり且つＲ7 が水素原子のもの、（８）上記
（６）中、Ｒ6 が低級アルキル基、カルボキシ低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、フ
ェニル低級アルキル基、低級シクロアルキル基、ナフチ
ル基、２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リン−３−イル基、モルホリノ基、窒素原子、酸素原子
及び硫黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１〜
２個有する５員もしくは６員の不飽和ヘテロ環低級アル
キル基を示すもの、及び（９）上記（７）中、Ｒ6 が置
換基としてハロゲン原子、低級アルキル基及びカルボキ
シ基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフェニ
ル基のもの。
【００７７】また、上記一般式（１Ａ）に属する本発明
化合物の他の好ましい１群としては、上記〔化３〕が二
重結合を示し、従ってＡが＝Ｃ（Ｒ11A ）−であり且つ
Ｒ1が水素原子、Ｒ2Aが基−Ｎ＝Ｒ4 、Ｒ3Aが水素原子
をそれぞれ示す化合物群を例示できる。この群に属する
化合物の内では特にＲ4 が低級アルキリデン基である化
合物が好ましい。
【００７８】一般式（１Ｂ）：
【００７９】
【化１６】
【００８０】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ10は前記
に同じ〕 上記一般式（１Ｂ）で表わされる本発明化合物は、下記
（１）及び（２）に分類でき、之等はいずれも本発明に
好ましい化合物である。
【００８１】（１）Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 が基−Ｎ＝Ｒ
4 、Ｒ3 が基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa 又は前記〔化２〕で示さ
れる基及びＲ10が水素原子のもの、及び（２）Ｒ1 が水
素原子、Ｒ2 が基−Ｎ＝Ｒ4 、Ｒ3 が水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、フェニル低級アルコキシ
低級アルキル基、水酸基を有することのあるフェニル
基、窒素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれたヘテ
ロ原子を１〜２個有する５員もしくは６員の不飽和ヘテ
ロ環低級アルキル基（該ヘテロ環はベンゼン環と縮合し
てもよく、該ヘテロ環上及び縮合したベンゼン環上に置
換基として水酸基を有していてもよい）又は基−Ｗ−
（ＮＨ）ｂ−ＣＯ−ＯＲ5 及びＲ10が水素原子のもの。
【００８２】一般式（１Ｃ）：
【００８３】
【化１７】
【００８４】〔式中、Ｘ、Ｒ3 及びＲ4 は前記に同じ〕 上記一般式（１Ｃ）で表わされる本発明化合物は、下記
（１）及び（２）に分類でき、之等はいずれも本発明に
好ましい。
【００８５】（１）Ｒ3 が基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa 又は前記
〔化２〕で示される基及びＲ4 が低級アルキリデン基の
もの、及び（２）Ｒ3 が水素原子、低級アルキル基、低
級アルケニル基、フェニル低級アルコキシ低級アルキル
基、水酸基を有することのあるフェニル基、窒素原子及
び硫黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１〜２
個有する５員もしくは６員の不飽和ヘテロ環低級アルキ
ル基（該ヘテロ環はベンゼン環と縮合してもよく、該ヘ
テロ環上及び縮合したベンゼン環上に置換基として水酸
基を有していてもよい）又は基−Ｗ−（ＮＨ）ｂ−ＣＯ
−ＯＲ5 及びＲ4 が低級アルキリデン基のもの。
【００８６】一般式（１Ｄ）：
【００８７】
【化１８】
【００８８】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ9 は前記に同
じ〕 本発明メイラード反応阻害剤の好ましい実施態様によれ
ば、該阻害剤は、前記一般式（１Ａ）〜（１Ｄ）で表わ
される各群に属する化合物及びその塩から選ばれる少な
くとも一つを有効成分として含有している。
【００８９】また、本発明メイラード反応阻害剤の他の
好ましい実施態様によれば、該阻害剤は、下記一般式
（１′）で表わされる化合物及びその塩から選ばれる少
なくとも一つを有効成分として含有している。
【００９０】
【化１９】
【００９１】〔式中、Ｒ1'は水素原子、低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基とし
てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基
から選ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル低
級アルキル基又は置換基としてハロゲン原子、低級アル
キル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基を１〜３個
有することのあるフェニル基を示す。Ｒ2'は基−Ｎ＝Ｒ
4'（Ｒ4'は低級アルキリデン基、ジフェニルメチレン基
又はフェニル低級アルキリデン基を示す）を示す。Ｒ3'
は水素原子、低級アルキル基、基−ＣＨ2 −ＣＯ−ＯＲ
5'（Ｒ5'は水素原子又は低級アルキル基を示す）、水酸
基を有することのあるフェニル基、窒素原子及び硫黄原
子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１個有する５員
もしくは６員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基、基−Ｃ
Ｈ2 −ＣＯ−ＮＨＲ6'（Ｒ6'は低級アルキル基、カルボ
キシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基、フェニル低級アルキル基、シクロ低級アルキ
ル基、置換基としてカルボキシ基及び低級アルコキシカ
ルボニル基から選ばれる基を１〜２個有することのある
フェニル基又は２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン−３−イル基を示す）、フェニル低級アル
コキシ低級アルキル基又は基
【００９２】
【化２０】
【００９３】｛Ｂは低級アルキレン基を示す。Ｒ8'は水
酸基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基、フェニル低級
アルキル基、低級アルキルチオ基、フェニルチオ基、フ
ェニル低級アルキルチオ基、ハロゲン原子を１〜３個有
することのあるベンゾイルアミノ基、フェニル環上に置
換基としてハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アル
コキシ基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフ
ェニル低級アルコキシ基（該基のフェニル環はベンゼン
環又はシクロヘキサン環と縮合してもよい）、窒素原
子、硫黄原子及び酸素原子からなる群より選ばれたヘテ
ロ原子を１個有する５員又は６員の飽和もしくは不飽和
ヘテロ環低級アルコキシ基（該ヘテロ環はベンゼン環と
縮合してもよく、該ヘテロ環上及びベンゼン環と縮合し
たヘテロ環上に置換基として水酸基及び低級アルキル基
から選ばれる基を１〜５個有していてもよい）又は基−
Ｏ−Ｄ−Ｒ9'（Ｄは低級アルキレン基を示し、Ｒ9'は低
級シクロアルキル基を示す）を示す。ｎは０又は１〜３
の整数を示す｝を示す。Ｘは−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ10' ）
−（Ｒ10' は水素原子又は低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基を示す）を示す。
【００９４】
【化２１】
【００９５】は単結合又は二重結合を示す。但し
【００９６】
【化２２】
【００９７】が単結合を示す時はＡはカルボニル基を示
すものとし、
【００９８】
【化２３】
【００９９】が二重結合を示す時はＡは＝Ｃ（Ｒ11' ）
−｛Ｒ11' は低級アルキル基又は基
【０１００】
【化２４】
【０１０１】（Ｒ12' はハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、水酸基、フェニルチオ基又はフ
ェニル環上にハロゲン原子を１〜３個有することのある
フェニル低級アルコキシ基を示す。ｍは０又は１〜３の
整数を示す）を示す｝を示すものとする。また、上記Ｒ
4'とＲ10' とは互いに結合して−ＣＯＣＨ2−基を形成
してもよく（但しこの基を形成する場合には、Ａはカル
ボニル基を示す）、またＲ3'とＲ11' とは互いに結合し
て−（ＣＨ2）4−基を形成してもよい。但し、Ｒ3'が水
素原子を示し且つＡがカルボニル基を示す場合には、Ｒ
1'は水素原子又は低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基を示してはならない。〕 以下、本発明メイラード反応阻害剤において有効成分と
して利用する、前記一般式（１）で表わされる化合物の
製法につき詳述すれば、之等の化合物は例えば下記反応
工程式に示される各方法により製造することができる。
【０１０２】反応工程式−１
【０１０３】
【化２５】
【０１０４】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ10は前記に
同じ、Ｒ13は通常のエステル残基を示す。〕 Ｒ13で示されるエステル残基としては、例えば炭素数１
〜６の低級アルキル基、フェニル低級アルキル基等が挙
げられる。
【０１０５】一般式（２）の化合物又はその酸付加塩と
一般式（３）の化合物又はその酸付加塩との反応は、適
当な溶媒中、脱酸剤の存在下又は非存在下、室温〜２０
０℃程度、好ましくは６０〜１００℃程度で行なわれ
る。酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩等が挙げ
られる。脱酸剤としては、例えばナトリウムメトキサイ
ド、ナトリウムエトキサイド等のアルカリ金属アルコレ
ート、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノ
ピリジン、酢酸ナトリウム等の塩基性化合物を挙げるこ
とができる。上記反応に用いられる溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコ
ール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の第
３級アミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の極性溶媒を挙げることができる。一般式（３）
の化合物又はその酸付加塩の使用量は一般式（２）の化
合物又はその酸付加塩に対し、通常等モル量以上、好ま
しくは１〜３倍モル量程度使用するのがよい。上記反応
は、通常１５〜２００℃程度、好ましくは６０〜１００
℃程度で好適に進行し、一般に１〜２４時間程度で反応
は終了する。
【０１０６】反応工程式−２
【０１０７】
【化２６】
【０１０８】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同じ。
Ｒ14は通常のエステル残基を示す。Ｙはハロゲン原子又
は低級アルカンスルホニルオキシ基を示す。〕 Ｒ14で示されるエステル残基としては、例えば炭素数１
〜６の低級アルキル基、フェニル低級アルキル基等が挙
げられる。
【０１０９】一般式（４）の化合物と一般式（５）化合
物との反応は、通常の溶媒を用い、脱酸剤の存在下で行
われる。脱酸剤としては、例えば上記反応工程式−１に
おける化合物（２）と化合物（３）との反応で用いられ
る脱酸剤をいずれも使用できる。また溶媒としては通常
のものを広く使用でき、上記反応工程式−１における化
合物（２）と化合物（３）との反応で用いられる溶媒を
いずれも使用できる。反応温度は、室温〜１５０℃程
度、好ましくは５０〜１００℃程度がよい。一般式
（５）の化合物の使用量は、一般式（４）の化合物に対
し等モル量以上、好ましくは１〜３倍モル量程度がよ
い。脱酸剤の使用量は、一般式（４）の化合物に対し１
〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量程度で
ある。反応時間は一般に１〜３６時間程度である。
【０１１０】反応工程式−３
【０１１１】
【化２７】
【０１１２】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲa は前記に同じ。
Ｒ15は基−Ｚ−ＣＯＯＨを示す。Ｒ16は基−Ｚ−ＣＯ−
Ｒa （Ｒa は前記に同じ）を示す。ここでＺは前記に同
じである。〕 反応工程式−３に示す方法は、一般式（６）のアミン化
合物と一般式（１ｃ）のカルボン酸とを、通常のアミド
結合生成反応にて反応させる方法である。該アミド結合
生成反応には公知のアミド結合生成反応の条件を容易に
適用できる。例えば（イ）混合酸無水物法、即ちカルボ
ン酸（１ｃ）にアルキルハロカルボン酸を反応させて混
合酸無水物とし、これにアミン（６）を反応させる方
法、（ロ）活性エステル法、即ちカルボン酸（１ｃ）を
ｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸
イミドエステル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエ
ステル等の活性エステルとし、これにアミン（６）を反
応させる方法、（ハ）カルボジイミド法、即ちカルボン
酸（１ｃ）にアミン（６）をジシクロヘキシルカルボジ
イミド、水溶性カルボジイミド、カルボニルジイミダゾ
ール等の活性化剤の存在下に縮合反応させる方法、
（ニ）その他の方法、例えばカルボン酸（１ｃ）を無水
酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これにア
ミン（６）を反応させる方法、カルボン酸（１ｃ）と低
級アルコールあるいはフェニル低級アルコールとのエス
テルにアミン（６）を高圧高温下に反応させる方法、カ
ルボン酸（１ｃ）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハ
ライドにアミン（６）を反応させる方法を挙げることが
できる。
【０１１３】上記混合酸無水物法（イ）において用いら
れる混合酸無水物は、通常のショッテン−バウマン反応
により得られ、これを通常単離することなくアミン
（６）と反応させることにより一般式（１ｄ）の化合物
が製造される。上記ショッテン−バウマン反応は塩基性
化合物の存在下に行なわれる。用いられる塩基性化合物
としては、ショッテン−バウマン反応に慣用の化合物例
えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジ
アザビシクロ〔４．３．０〕ノネン−５（ＤＢＮ）、
１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセン−７
（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オ
クタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム
等の無機塩基等が挙げられる。該反応は、通常−２０〜
１００℃程度、好ましくは０〜５０℃程度において行な
われ、反応時間は５分〜１０時間程度、好ましくは５分
〜２時間程度である。得られた混合酸無水物とアミン
（６）との反応は通常−２０〜１５０℃程度、好ましく
は１０〜５０℃程度において行なわれ、反応時間は５分
〜１０時間程度、好ましくは５分〜５時間程度である。
混合酸無水物法は一般に溶媒中で行なわれる。用いられ
る溶媒としては混合酸無水物に慣用の溶媒がいずれも使
用可能であり、具体的にはクロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサ
メチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等又
はこれらの混合溶媒等が挙げられる。混合酸無水物法に
おいて使用されるアルキルハロカルボン酸としては例え
ばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エ
チル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等が挙
げられる。該法におけるカルボン酸（１ｃ）とアルキル
ハロカルボン酸とアミン（６）の使用割合は、通常等モ
ルずつとするのがよいが、アミン（６）に対してアルキ
ルハロカルボン酸及びカルボン酸（１ｃ）はそれぞれ１
〜１．５倍モル量程度の範囲内で使用することができ
る。
【０１１４】また前記その他の方法（ニ）の内、カルボ
ン酸ハライドにアミン（６）を反応させる方法を採用す
る場合、該反応は塩基性化合物の存在下に、適当な溶媒
中で行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、公
知のものを広く使用でき、例えば上記ショッテン−バウ
マン反応に用いられる塩基性化合物の他に、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等を例示できる。また用いられる溶媒とし
ては、例えば上記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他
に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、３−メトキシ−１−ブタノール、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン、ア
セトン、水等を例示できる。アミン（６）とカルボン酸
ハライドとの使用割合としては、特に限定がなく広い範
囲内で適宜選択でき、通常前者に対して後者を少なくと
も等モル量程度、好ましくは等モル〜５倍モル量程度用
いるのがよい。該反応は通常−２０〜１８０℃程度、好
ましくは０〜１５０℃程度にて行なわれ、一般に５分〜
３０時間程度で反応は完結する。
【０１１５】更に上記反応工程式−３に示すアミド結合
生成反応は、カルボン酸（１ｃ）とアミン（６）とを、
トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィニルクロ
リド、フェニル−Ｎ−フェニルホスホラミドクロリデー
ト、ジエチルクロロホスフェート、シアノリン酸ジエチ
ル、ジフェニルリン酸アジド、ビス（２−オキソ−３−
オキサゾリジニル）ホスフィニッククロリド等のリン化
合物の縮合剤の存在下に反応させる方法によっても実施
できる。
【０１１６】該反応は、上記カルボン酸ハライドにアミ
ン（６）を反応させる方法で用いられる溶媒及び塩基性
化合物の存在下に、通常−２０〜１５０℃程度、好まし
くは０〜１００℃程度付近にて行なわれ、一般に５分〜
３０時間程度にて反応は終了する。縮合剤及びカルボン
酸（１ｃ）の使用量はアミン（６）に対して夫々少なく
とも等モル量程度、好ましくは等モル〜２倍モル量程度
使用するのがよい。
【０１１７】尚、上記反応のカルボン酸（１ｃ）及びア
ミン（６）において、反応するカルボキシル基以外のカ
ルボキシル基は保護されているのが好ましい。
【０１１８】反応工程式−４
【０１１９】
【化２８】
【０１２０】〔式中Ｒ2 、Ｒ15及びＹは前記に同じ。Ｒ
18は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はフェ
ニル環上に置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニトロ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキ
ルチオ基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフ
ェニル低級アルキル基を示す。〕 一般式（１ｅ）の化合物と一般式（７）の化合物との反
応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下で行なわれる。脱酸
剤としては、例えば上記反応工程式−１における化合物
（２）と化合物（３）との反応で用いられる脱酸剤をい
ずれも使用できる。また溶媒としては通常のものを広く
使用でき、上記反応工程式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応で用いられる溶媒をいずれも使用
できる。一般式（１ｅ）の化合物と一般式（７）の化合
物との使用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で
適宜選択され得るが、通常前者に対して後者を等モル量
以上、好ましくは１〜３倍モル程度使用するのがよい。
上記反応は、通常１５〜２００℃程度、好ましくは３０
〜８０℃程度で好適に進行し、一般に１〜２４時間程度
で該反応は完結する。
【０１２１】カルボキシル基を含む本発明化合物は、対
応するエステルを通常のエステル加水分解反応に供する
ことにより得られる。その例を例えば下記反応工程式−
５に示す。
【０１２２】反応工程式−５
【０１２３】
【化２９】
【０１２４】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＺは前記に同じ。
Ｒ19は前記Ｒa で示される基の内でエステル残基を有す
る基を示す。Ｒ20は前記Ｒa で示される基の内でカルボ
キシル基を有する基を示す。〕 一般式（１ｈ）の化合物は、適当な溶媒中で一般式（１
ｇ）の化合物をアルカリの存在下加水分解することによ
り製造される。ここでアルカリとしては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。溶媒とし
ては通常のものが広く使用でき、例えばメタノール、エ
タノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水等を挙
げることができる。アルカリの使用量としては、一般式
（１ｇ）の化合物１モルに対して１〜３モル程度がよ
い。この加水分解反応は、通常１５〜２００℃程度、好
ましくは３０〜６０℃程度で好適に進行し、一般に１〜
２４時間程度で該反応は完結する。
【０１２５】反応工程式−６
【０１２６】
【化３０】
【０１２７】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 及びＹは前記に同じ。
Ｒ21は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はフ
ェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アルキル
基及び低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフ
ェニル低級アルキル基を示す。〕 一般式（１ｉ）の化合物と一般式（８）の化合物との反
応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下で行なわれる。脱酸
剤としては、例えば上記反応工程式−１における化合物
（２）と化合物（３）との反応で用いられる脱酸剤をい
ずれも使用できる。また溶媒としては通常のものを広く
使用でき、上記反応工程式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応で用いられる溶媒をいずれも使用
できる。一般式（１ｉ）の化合物と一般式（８）の化合
物との使用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で
適宜選択され得るが、通常前者に対して後者を等モル以
上、好ましくは１〜３倍モル程度使用するのがよい。上
記反応は、通常１５〜２００℃程度、好ましくは６０〜
１００℃程度で好適に進行し、一般に１〜２４時間程度
で該反応は完結する。
【０１２８】反応工程式−７
【０１２９】
【化３１】
【０１３０】〔式中Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ11、Ｘ及びＹは前記
に同じ。＝Ｘ'は＝Ｓ又は＝ＮＨを示す。〕 一般式（９）の化合物と一般式（１０）の化合物との反
応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下で行なわれる。脱酸
剤としては、例えば上記反応工程式−１における化合物
（２）と化合物（３）との反応で用いられる脱酸剤をい
ずれも使用できる。また溶媒としては通常のものを広く
使用でき、上記反応工程式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応で用いられる溶媒をいずれも使用
できる。一般式（９）の化合物と一般式（１０）の化合
物との使用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で
適宜選択され得るが、通常前者に対して後者を等モル以
上、好ましくは１〜３倍モル程度使用するのがよい。上
記反応は、通常１５〜２００℃程度、好ましくは６０〜
１００℃程度で好適に進行し、一般に１〜２４時間程度
で該反応は完結する。
【０１３１】反応工程式−８
【０１３２】
【化３２】
【０１３３】〔式中Ｒ1 及びＹは前記に同じ。Ｒ3"は水
素原子以外のＲ3 を示す。Ｒ22は低級アルコキシカルボ
ニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基としてハロ
ゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選
ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル低級アル
キル基又は置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基
及び低級アルコキシ基から選ばれる基を１〜３個有する
ことのあるフェニル基を示す。ｐは１〜３の整数を示
す。〕 一般式（ｌ１）の化合物と一般式（１２）の化合物との
反応は、適当な溶媒中、強塩基化合物の存在下で行なわ
れる。強塩基化合物としては、例えばブチルリチウム、
ｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物等が挙
げられる。溶媒としては、通常のものが広く使用でき、
例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル等のエーテル類、ヘキサン等の炭化水素類、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド等が挙げられる。一般式
（１１）の化合物と一般式（１２）の化合物との使用割
合としては、通常前者に対して後者を等モル以上、好ま
しくは１〜３倍モル程度使用するのがよい。上記反応
は、通常−７０〜１５℃程度、好ましくは−７０〜−３
０℃程度で好適に進行し、一般に１〜２４時間程度で該
反応は完結する。
【０１３４】反応工程式−９
【０１３５】
【化３３】
【０１３６】〔式中Ｒ2 、Ｒ13、Ｒ22、Ｙ及びｐは前記
に同じ。Ｒ23は低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基を示す。〕 一般式（１３）の化合物と一般式（１４）の化合物との
反応は、前記上記反応工程式−１における化合物（２）
と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行なわれ
る。
【０１３７】一般式（１５）の化合物と一般式（１６）
の化合物との反応は、前記上記反応工程式−６における
化合物（１ｉ）と化合物（８）との反応と同様の反応条
件下に行なわれる。
【０１３８】一般式（１７）の化合物から一般式（１
１）の化合物を得る反応は、有機又は無機の酸性化合物
の存在下で行なわれる。上記において有機又は無機の酸
性化合物としては、例えば塩酸、硫酸、トリフルオロ酢
酸、酢酸、ギ酸等を使用することができ、このうち特に
塩酸、硫酸等の稀薄な強酸が好ましい。溶媒としては、
酸に安定な通常の溶媒が使用でき、例えばメタノール、
エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水等が
挙げられる。酸性化合物の使用量は、一般式（１７）の
化合物に対し１〜２０倍モル程度である。該反応は通常
３０〜１２０℃程度で、５〜６０分程度行なわれる。
【０１３９】上記反応工程式−２において、出発原料と
して用いられる一般式（５）の化合物の内、Ｒ3 が基Ｒ
6 ＮＨＣＯＺ−、Ｙが低級アルカンスルホニルオキシ基
を示す化合物は、例えば下記に示す方法により製造され
る。
【０１４０】反応工程式−１０
【０１４１】
【化３４】
【０１４２】〔式中Ｒ6 、Ｒ14及びＺは前記に同じ。Ｒ
24は低級アルキル基を示す。Ｘ1 はハロゲン原子を示
す。〕 一般式（１８）の化合物と一般式（６）の化合物との反
応は、適当な溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒とし
ては、水、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド等やこれらの混合溶媒を例
示できる。該反応は、通常−１０〜４０℃程度、好まし
くは室温付近にて行なわれ、通常５分〜１時間程度で反
応は完結する。
【０１４３】一般式（１９）の化合物と一般式（２０）
の化合物との反応は、脱酸剤の存在下、適当な溶媒中で
行なわれる。用いられる溶媒としては、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエー
テル類等やこれらの混合溶媒を例示できる。また脱酸剤
としては、上記反応工程式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応で用いられる脱酸剤をいずれも使
用することができる。該反応は、通常−２０〜３０℃程
度、好ましくは−５〜１０℃程度で行なわれ、通常１０
〜３０分程度で反応は完結する。尚、この反応で、出発
原料（１８）が光学活性体である場合には、対応する化
合物（５ａ）も光学活性体として得ることができる。
【０１４４】尚、Ｒ11がフェニル環上に低級アルコキシ
基を１〜２個有することのあるフェニルカルバモイル低
級アルキル基の場合は、対応するＲ11がカルボキシ低級
アルキル基をもつ化合物と、フェニル環上に低級アルキ
ル基を１〜２個有することのあるフェニルアミンとを、
反応工程式−３に示すアミド結合生成反応と同様にして
反応させて得ることができる。
【０１４５】一般式（１）の化合物は、医薬的に許容さ
れる酸又は塩基化合物の付加塩を包含する。上記塩は上
記酸又は塩基を作用させることにより容易に形成され
る。塩形成に使用される酸としては、例えば、塩酸、硫
酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸、また、場合によっ
ては、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒
石酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げることがで
きる。また上記塩形成に使用される塩基化合物として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙
げることができる。
【０１４６】上記各方法で製造される一般式（１）の化
合物及びその塩は、通常の分離手段、例えば蒸留法、再
結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラティブ薄
層クロマトグラフィー、溶媒抽出法等により容易に反応
系から単離精製できる。
【０１４７】本発明メイラード反応阻害剤は、通常一般
的な医薬製剤の形態で用いられる。製剤は通常使用され
る充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性
剤、滑沢剤等の希釈剤又は賦形剤を用いて調製される。
この医薬製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選
択でき、その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液
剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤
（液剤、懸濁剤等）、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形
態に成型するに際しては、担体として例えば乳糖、白
糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸
カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦
形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ブ
ドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチ
ルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カ
リウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプ
ン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン
末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナ
トリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳
糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素
添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウ
リル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デン
プン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナ
イト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステ
アリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑
沢剤等を使用できる。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮
を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸液被
錠、フィルムコーティング錠或いは二重錠、多層錠とす
ることができる。丸剤の形態に成型するに際しては、担
体として例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、
硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴ
ム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
坐剤の形態に成型するに際しては、担体として例えばポ
リエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高
級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセラ
イド等を使用できる。カプセル剤の調製は常法に従い、
通常上記で例示した各種の担体と本発明化合物を混合
し、硬質ゼラチンカプセル、硬質カプセル等に充填して
行なわれる。注射剤として調製される場合、液剤、乳剤
及び懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好ま
しい。これらの形態に成型するに際しては、希釈剤とし
て例えば水、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロピレ
ングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を使
用できる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するの
に充分な量の食塩、ブドウ糖或いはグリセリンを医薬製
剤中に含有させてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝
剤、無痛化剤等を添加してもよい。さらに必要に応じて
着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品
を医薬製剤中に含有させてもよい。ペースト、クリーム
及びゲルの形態に製剤するに際しては、希釈剤として例
えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロー
ス誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベント
ナイト等を使用できる。
【０１４８】本発明医薬製剤中に含有されるべき本発明
化合物の量は、特に限定されず広い範囲から適宜選択さ
れるが、通常医薬製剤中に１〜７０重量％とするのがよ
い。
【０１４９】本発明医薬製剤の投与方法は特に制限はな
く、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の状態等、ま
た各種製剤形態等に応じて各種決定されるが、通常全身
的或いは局所的に、経口又は非経口で投与される。例え
ば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセ
ル剤の形態で経口投与され、注射剤の形態で、必要に応
じ通常の補液と混合して静脈内、筋肉内、皮内、皮下又
は腹腔内投与される他、坐剤として直腸内投与され、又
は軟膏剤として塗布される。
【０１５０】本発明医薬製剤の人に対する投与量は、年
齢、体重、症状、治療効果、投与方法、処理時間等によ
り適宜選択されるが、通常１日当り体重１ｋｇ当り約
０．１〜１００ｍｇの範囲で投与され、該製剤は１日１
回から数回に分けて投与されてもよい。もちろん、前記
のように投与量は種々の条件で変動するので、上記投与
量範囲より少ない量で充分な場合もあるし、また範囲を
越えて必要な場合もある。
【０１５１】
【実施例】以下、原料化合物の製造例を参考例として挙
げ、本発明で使用する化合物の製造例を実施例として挙
げ、更に本発明で使用する化合物の薬理試験結果及び製
剤例を示す。
【０１５２】参考例１ ２−ベンジリデンヒドラゾノ−１−メトキシカルボニル
メチルイミダゾリジン−４−オンの製造 ２．３０ｇの金属ナトリウムを１５０ｍｌのメタノール
に溶解して調製したナトリウムメトキシドのメタノール
溶液に、ベンジリデンアミノグアニジン５．７０ｇを加
え、室温下に１時間撹拌した後、イミノジアセテックア
シッドジエチルエステル１１．３５ｇを加え、１７時間
加熱還流した。反応混合物を冷却後、水とクロロホルム
を加えて、分配し、水層を更に３回クロロホルムで抽出
した。有機層と抽出液を合せて、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにチャージし、クロロホルム−メタノール
＝１００：１（ｖ／ｖ）混合溶媒により溶出して、２−
ベンジリデンヒドラゾノ−１−メトキシカルボニルメチ
ルイミダゾリジン−４−オン２．６１ｇを得た。
【０１５３】ｍ．ｐ．１４９−１５３℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．７７（ｓ，３
Ｈ）、４．０１（ｓ，２Ｈ）、４．２３（ｓ，２Ｈ）、
７．３２−７．６８（ｍ，５Ｈ）、８．２６（ｓ，１
Ｈ）。
【０１５４】参考例２ ２−ベンジリデンヒドラゾノ−３−エトキシカルボニル
メチル−１−メトキシカルボニルメチルイミダゾリジン
−４−オンの製造 ６０％水素化ナトリウム９６ｍｇをジメチルホルムアミ
ド２０ｍｌに氷冷下に懸濁させ、これに参考例１で得ら
れた２−ベンジリデンヒドラゾノ−１−メトキシカルボ
ニルメチルイミダゾリジン−４−オン２５４ｍｇを徐々
に滴下し、８０℃で１時間撹拌した。反応混合物を冷却
後、水とクロロホルムを加えて分配し、水層を更にクロ
ロホルムで３回抽出した。有機層と抽出液を合せて、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をクロ
ロホルム−ｎ−ヘキサンより再結晶して、２−ベンジリ
デンヒドラゾノ−３−エトキシカルボニルメチル−１−
メトキシカルボニルメチルイミダゾリジン−４−オン３
２０ｍｇを得た。
【０１５５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．２９
（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）、３．７１（ｓ，３
Ｈ）、４．１７（ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）、４．１
４（ｓ，２Ｈ）、４．４１（ｓ，２Ｈ）、４．７１
（ｓ，２Ｈ）、７．２５−７．６０（ｍ，５Ｈ）、８．
１３（ｓ，１Ｈ）。
【０１５６】参考例３ ７−エトキシカルボニルメチル−１，４，５，７−テト
ラアザビシクロ〔４，３，０〕ノナン−５−エン−３，
８−ジオンの製造 参考例２で得られた２−ベンジリデンヒドラゾノ−３−
エトキシカルボニルメチル−１−メトキシカルボニルメ
チルイミダゾリジン−４−オン２３０ｍｇに、０．５Ｎ
塩酸１０ｍｌを加え、水蒸気蒸留を４０分間行なった。
反応混合物を冷却後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにチャージし、クロロホルム−
酢酸エチル＝１：２（ｖ／ｖ）混合溶媒により溶出し、
７−エトキシカルボニルメチル−１，４，５，７−テト
ラアザビシクロ〔４．３．０〕ノナン−５−エン−３，
８−ジオン６０ｍｇを得た。
【０１５７】ｍ．ｐ．１８８−１９３℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．２０（ｔ，Ｊ
＝６．８１Ｈｚ，３Ｈ）、３．９８（ｓ，２Ｈ）、４．
０４（ｑ，Ｊ＝６．９１Ｈｚ，２Ｈ）、４．２０（ｓ，
２Ｈ）、１０．２４（ｓ，１Ｈ）。
【０１５８】実施例１ ５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 メタノール６０ｍｌに金属ナトリウム１．６９ｇを溶か
して調製したナトリウムメトキシドのメタノール溶液
に、イソプロピリデンアミノグアニジン硫酸塩３．００
ｇを加え、室温下に１時間撹拌した後、Ｏ−ベンジル−
Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩１１．８３ｇを加え
て、６時間加熱還流した。室温に戻し、不溶物を濾去し
て、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出液；クロロホルム）で精製し、更
にエタノールから再結晶して、白色結晶の上記目的化合
物２．１５ｇを得た。
【０１５９】ｍ．ｐ．１７２−１７３℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．８２，１．９
２（ｓ，ｓ，６Ｈ）、２．８−３．０（ｍ，２Ｈ）、
４．１５−４．３０（ｍ，１Ｈ）、５．０４（ｓ，２
Ｈ）、６．９０（ｄ，２Ｈ）、７．１０（ｄ，２Ｈ）、
７．２５−７．５０（ｍ，５Ｈ）。
【０１６０】実施例２ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−メチルイミダゾ
リジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｌ−アラニンエチルエステル塩酸塩を用い、実施
例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１６１】ｍ．ｐ．１２６−１２８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．２２（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、１．８９、１．９４（ｓ，ｓ，
６Ｈ），３．９６（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、７．
５１（ｓ，１Ｈ）、１０．４２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１６２】実施例３ ５−ベンジル−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダ
ゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りにＬ−フェニルアラニンエチルエステル塩酸塩を用
い、実施例１と同様にして、上記目的化合物を得た。
【０１６３】ｍ．ｐ．１４８−１４９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．８４，１．９
３（ｓ，ｓ，６Ｈ）、２．８−３．１（ｍ，２Ｈ）、
４．１３−４．３８（ｍ，１Ｈ）、７．２６（ｓ，５
Ｈ）。
【０１６４】実施例４ ５−（４−ヒドロキシベンジル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｌ−チロシンエチルエステル塩酸塩を用い、実施
例１と同様にして、上記目的化合物を得た。
【０１６５】ｍ．ｐ．２１８−２１９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．８５，１．９
３（ｓ，ｓ，６Ｈ）、２．７−３．０（ｍ，２Ｈ）、
４．０８−４．３８（ｍ，１Ｈ）、６．６８（ｄ，２
Ｈ）、７．０１（ｄ，２Ｈ）、７．３１（ｓ，１Ｈ）、
９．３８（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１６６】実施例５ ５−〔４−（２，６−ジクロルベンジルオキシ）ベンジ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｏ−２，６−ジクロルベンジル−Ｌ−チロシンエ
チルエステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０１６７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９９
（ｓ，３Ｈ）、２．０５（ｓ，３Ｈ）、２．７５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５７，１４．１９Ｈｚ）、３．２７
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０，１３．８５Ｈｚ）、４．
１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３，９．５６Ｈｚ）、
５．２６（ｄ，２Ｈ）、６．９８−７．３８（ｍ，７
Ｈ）。
【０１６８】実施例６ ５−〔４−（４−クロルベンジルオキシ）ベンジル〕−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｏ−４−クロルベンジル−Ｌ−チロシンエチルエ
ステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０１６９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８２，１．９２（２ｓ，６Ｈ）、２．８５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１３．８６Ｈｚ，Ｊ＝４．６２Ｈｚ），
２．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ）、４．２０
（ｄｄ，１Ｈ）、５．０４（ｓ，２Ｈ）、６．８６−
７．１３（ｍ，４Ｈ）、７．３９−７．４９（ｍ，５
Ｈ）、１０．５０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１７０】実施例７ ５−（４−ヒドロキシフェニル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｄ−フェニルグリシンエチルエステル塩酸塩を用
い、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１７１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９２，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、４．８５（ｓ，１
Ｈ）、６．６９−７．１７（ｍ，４Ｈ）、７．９８
（ｓ，１Ｈ）、９．５７（ｂｓ，１Ｈ）。
【０１７２】実施例８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−フェニル
チオベンジル）イミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、４−フェニルチオフェニルアラニンエチルエステ
ル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０１７３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９９，２．１２（２ｓ，６Ｈ）、３．０９（ｍ，２
Ｈ）、４．６６（ｍ，１Ｈ）、７．２０−７．３７
（ｍ，９Ｈ）。
【０１７４】実施例９ ５−〔Ｎ−（４−エトキシカルボニルフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オンの製造 特公昭４６−１５９３６号公報に記載された方法に従い
合成した５−カルボキシメチル−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノチアゾリジン−４−オン０．３７ｇ及び４−
アミノ安息香酸エチルエステル０．２６ｇのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、１−ヒドロキシベ
ンズトリアゾール塩酸塩０．２７ｇ、次いで１−エチル
−３−（３′−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド塩酸塩０．３４ｇを加えて、室温下、１６時間撹拌し
た。反応液を２Ｎ塩酸１００ｍｌ−酢酸エチル１００ｍ
ｌの混液に投入した。分離する有機層を取り、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレン：メタノ
ール＝９：１）で精製して、上記目的化合物０．３７ｇ
を得た。
【０１７５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
３１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ）、１．９３（ｓ，
３Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、２．９３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝９．２３，１６．８２Ｈｚ）、３．２０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６，１６．５Ｈｚ）、４．２４−
４．３６（ｍ，３Ｈ）、７．６９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
９０Ｈｚ）、７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９１Ｈ
ｚ）、１０．４６（ｓ，１Ｈ）、１１．７１（ｂｒｓ，
１Ｈ）。
【０１７６】実施例１０ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−プロピル
カルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、プロピル
アミンを用い、実施例９と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０１７７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
８３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ）、１．３６−１．
４４（ｍ，２Ｈ）、１．９４（ｂｒｓ，６Ｈ）、２．５
６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２３，１６．１７Ｈｚ）、
２．８６−３．０５（ｍ，３Ｈ）、４．２１（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝３．６３，９．９Ｈｚ）、７．９９（ｔ，１
Ｈ，Ｊ＝５．６１Ｈｚ）、１１．５９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０１７８】実施例１１ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−オ
キソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イ
ル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オンの製
造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、３−アミ
ノ−３，４−ジヒドロキノリン−２（１Ｈ）−オンを用
い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１７９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９５（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、２．５１−
３．３２（ｍ，４Ｈ）、４．２３−４．２７（ｍ，１
Ｈ）、４．４１−４．５１（ｍ，１Ｈ）、６．８６−
７．２２（ｍ，４Ｈ）、８．４３（ｍ，１Ｈ）、１０．
３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３１Ｈｚ）、１１．６６（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０１８０】実施例１２ ５−（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルメチル）−２−
イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの
製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、シクロヘ
キシルアミンを用いて実施例９と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０１８１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
１０−１．７４（ｍ，１０Ｈ）、１．９４（ｓ，６
Ｈ）、２．５３（ｄｄ，１Ｈ）、２．８７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．１７Ｈｚ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、
３．４９（ｍ，１Ｈ）、４．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
０．０６Ｈｚ）、７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈ
ｚ）、１１．６２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１８２】実施例１３ ５−（Ｎ−エトキシカルボニルメチルカルバモイルメチ
ル）−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、グリシン
エチルエステルを用い、実施例９と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０１８３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
２０（ｔ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，６Ｈ）、２．６８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ、Ｊ＝６．２
６Ｈｚ）、２．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ）、３．８３（ｄｄ，２Ｈ）、４．０９（ｑ，２
Ｈ）、４．２１（ｄｄ，１Ｈ）、８．５０（ｔ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９４Ｈｚ）、１１．６６（ｓ，１Ｈ）。
【０１８４】実施例１４ ５−〔Ｎ−（４−カルボキシフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オンの製造 実施例９で製造した５−〔Ｎ−（４−エトキシカルボニ
ルフェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリ
デンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン２．７３ｇをジ
オキサン３０ｍｌに溶かし、２Ｎ水酸化ナトリウム６．
４６ｍｌを加えて、５０℃に加熱した。１時間後、溶媒
を留去した。残渣を水１００ｍｌに溶かし、２Ｎ塩酸で
ｐＨ２に調整した。生成した結晶を濾取して上記目的化
合物を２．０２ｇ得た。
【０１８５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、２．９２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２３，１６．８２Ｈｚ）、３．
１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６，１６．８３Ｈｚ）、
４．３４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．０４，９．２３Ｈ
ｚ）、７．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９０Ｈｚ）、７．
８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、１０．４３
（ｓ，１Ｈ）。
【０１８６】実施例１５ ５−カルボキシメチル−３−エトキシカルボニルメチル
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オンの製造 ５−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン１．１５ｇをジメチルホルム
アミド３０ｍｌに溶かし、氷冷下、６０％水素化ナトリ
ウム０．２４ｇを少量ずつ加えた。３０分後、クロル酢
酸エチル０．７４ｇを加えて室温下、１５時間撹拌し
た。反応液を氷水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル２０
０ｍｌで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
１）で精製して上記目的化合物を０．３６ｇ得た。
【０１８７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．２９
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９２Ｈｚ）、２．０２（ｓ，３
Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝９．９，１７．４８Ｈｚ）、３．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝３．６３，１７．８２Ｈｚ）、４．２３（ｑ，
２Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ），４．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝３．６３，９．９Ｈｚ）、４．６６（ｓ，２Ｈ）。
【０１８８】実施例１６ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−３−フェニルチアゾ
リジン−４−オンの製造 アセトン４−フェニル−３−チオセミカルバゾン０．１
９ｇをエタノール７ｍｌに溶かし、クロル酢酸エチル
０．１３ｇ、次いで酢酸ナトリウム０．０９ｇを加え
て、１５時間加熱還流した。放冷後析出した結晶を濾取
して、白色の上記目的化合物を０．１３ｇ得た。
【０１８９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
７４（ｓ，３Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、４．０３
（ｓ，２Ｈ）、７．３２−７．５３（ｍ，５Ｈ）。
【０１９０】実施例１７ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−メチルチアゾー
ルの製造 アセトンチオセミカルバゾン０．７９ｇをエタノール２
０ｍｌに溶かし、クロルアセトン０．６９ｇ及び酢酸ナ
トリウム０．５９ｇを加えて３時間加熱還流した。放冷
後、不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレ
ン：メタノール＝１０：１）で精製して上記目的化合物
を０．１８ｇ得た。
【０１９１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９１
（ｓ，３Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．２３（ｓ，
３Ｈ）、６．１３（ｓ，１Ｈ）。
【０１９２】実施例１８ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−フェニルチアゾ
ールの製造 クロルアセトンの代りに２−ブロムアセトフェノンを用
い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１９３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９６（ｓ，３Ｈ）、７．２１
（ｓ，１Ｈ）、７．２５−７．４２（ｍ，３Ｈ）、７．
８４−７．８７（ｍ，２Ｈ）、１０．９５（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０１９４】実施例１９ ４−（４−クロルフェニル）−２−イソプロピリデンヒ
ドラジノチアゾールの製造 クロルアセトンの代りに、２−ブロム−４′−クロルア
セトフェノンを用い、実施例１７と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０１９５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．７６
（ｓ，３Ｈ）、２．０１（ｓ，３Ｈ）、６．８１（ｓ，
１Ｈ）、７．３０−７．３６（ｍ，２Ｈ）、７．６６−
７．７３（ｍ，２Ｈ）、８．９９（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１９６】実施例２０ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（４−フェニル
チオフェニル）チアゾールの製造 クロルアセトンの代りに２−ブロム−４′−フェニルチ
オアセトフェノンを用い、実施例１７と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０１９７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．８３
（ｓ，３Ｈ）、２．０３（ｓ，３Ｈ）、６．８３（ｓ，
１Ｈ）、７．２２−７．３６（ｍ，７Ｈ）、７．６８−
７．７２（ｍ，２Ｈ）、８．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０１９８】実施例２１ ４−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−イソプロ
ピリデンヒドラジノチアゾールの製造 クロルアセトンの代りに２−クロル−３′，４′−ジヒ
ドロキシアセトフェノンを用い、実施例１７と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０１９９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９２（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、６．７３
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２５Ｈｚ）、６．８５（ｓ，１
Ｈ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８２Ｈｚ）、７．
２３（ｓ，１Ｈ）、１０．５２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２００】実施例２２ ４−〔４−（４−クロルベンジルオキシ）フェニル〕−
２−イソプロピリデンヒドラジノチアゾールの製造 クロルアセトンの代りに４−（４−クロルベンジルオキ
シ）フェナシルブロミドを用い、実施例１７と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０２０１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８９（ｓ，３Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、５．１２
（ｓ，２Ｈ）、６．９９−７．０５（ｍ，３Ｈ）、７．
４３−７．５８（ｍ，４Ｈ）、７．７５−７．８９
（ｍ，２Ｈ）、１０．５８（ｓ，１Ｈ）。
【０２０２】実施例２３ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４，５，６，７−テ
トラヒドロベンゾチアゾールの製造 クロルアセトンの代りに２−クロルシクロヘキサノンを
用い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２０３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．７３
−１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．８７（ｓ，３Ｈ）、２．
０２（ｓ，３Ｈ）、２．５３−２．６１（ｍ，４Ｈ）。
【０２０４】実施例２４ ３−ベンジル−５−（４−ヒドロキシベンジル）−２−
イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン
の製造 実施例４で製造した５−（４−ヒドロキシベンジル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン０．２６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ
に溶かし、ベンジルブロミド０．１８ｇ及び炭酸カリウ
ム０．０７ｇを加えて、８０℃油浴中で８時間加熱し
た。反応液を氷水５０ｍｌに投入し、酢酸エチル１００
ｍｌで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノール＝
１０：１）で精製して上記目的化合物を０．１１ｇ得
た。
【０２０５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９５
（ｓ，３Ｈ）、１．９６（ｓ，３Ｈ）、２．７７（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ，１３．８６Ｈｚ）、３．
１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，１４．１８Ｈ
ｚ）、４．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，７．
９２Ｈｚ）、４．７０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．６４Ｈ
ｚ）、６．６１−６．６４（ｍ，２Ｈ）、６．９６−
６．９９（ｍ，２Ｈ）、７．２２−７．２８（ｍ，５
Ｈ）。
【０２０６】実施例２５ ５−（４−ヒドロキシベンジル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノ−３−（４−メトキシベンジル）イミダゾ
リジン−４−オンの製造 ベンジルブロミドの代わりに、パラメトキシベンジルク
ロリドを用い、実施例２４と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０２０７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ；１．９６（ｓ，
３Ｈ）、１．９９（ｓ，３Ｈ）、２．７５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ，１３．８６Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ，１４．１８Ｈｚ）、
４．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，７．９２Ｈ
ｚ）、４．６１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．９７Ｈｚ）、６．
５９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、６．７９（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、６．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．２５Ｈｚ）、７．２３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５７Ｈ
ｚ）。
【０２０８】実施例２６ ５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの製造 ３−（４−ベンジルオキシフェニル）−２−クロルプロ
ピオン酸エチルエステル１．２８ｇをエタノール２０ｍ
ｌに溶かし、アセトンチオセミカルバゾン０．６３ｇ及
び酢酸ナトリウム０．４０ｇを加えて、２０時間加熱還
流した。反応液を減圧濃縮し、水５０ｍｌを加えて酢酸
エチル１００ｍｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸
エチル＝１：１）で精製して上記目的化合物を０．４ｇ
得た。
【０２０９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９９
（ｓ，３Ｈ）、２．０２（ｓ，３Ｈ）、２．９４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２３，１４．１９Ｈｚ）、３．４
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３，１４．１９Ｈｚ）、
４．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３，１０．２３Ｈ
ｚ）、５．０４（ｓ，２Ｈ）、６．９０−７．４１
（ｍ，９Ｈ）。
【０２１０】実施例２７ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−メチルチ
オベンジル）チアゾリジン−４−オンの製造 ３−（４−ベンジルオキシフェニル）−２−クロルプロ
ピオン酸エチルエステルの代りに、２−クロル−３−
（４−メチルチオフェニル）プロピオン酸エチルエステ
ルを用い、実施例２６と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２１１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９９
（ｓ，３Ｈ）、２．０２（ｓ，３Ｈ）、２．４７（ｓ，
３Ｈ）、２．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２３，１
４．１９Ｈｚ）、３．４９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９
６，１４．１９Ｈｚ）、４．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．６３，１０．２３Ｈｚ）、１０．０４（ｂｒｓ，１
Ｈ）、７．１５−７．２１（ｍ，４Ｈ）。
【０２１２】実施例２８ ９−ベンジルオキシメチル−１，４，５，７−テトラア
ザビシクロ−〔４，３，０〕ノナン−５−エン−３，８
−ジオンの製造 参考例３と同様にして得られた原料１，４，５，７−テ
トラアザビシクロ−〔４，３，０〕ノナン−５−エン−
３，８−ジオン０．２１ｇをテトラヒドロフラン４ｍｌ
−ヘキサメチルホスホリックトリアミド１ｍｌの混液に
懸濁し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却下、１．６
Ｍブチルリチウムのヘキサン溶液２．８６ｍｌを滴下し
て、同温度で２時間撹拌した。この反応液にベンジルク
ロルメチルエーテル０．２８ｍｌのヘキサメチルホスホ
リックトリアミド１ｍｌ溶液を滴下し、−３０〜−４０
℃に冷却下、１時間、さらに氷冷下、９０分間撹拌し
た。反応液に１Ｎ塩酸２０ｍｌを加え、酢酸エチル８０
ｍｌで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
後、減圧濃縮した。残渣を分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（展開液；クロロホルム：メタノール＝１
０：１）で精製して上記目的化合物を０．０５ｇ得た。
【０２１３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；３．
６５−３．８０（ｍ，４Ｈ）、４．０７−４．０８
（ｍ，１Ｈ）、４．５２（ｓ，２Ｈ）、７．２３−７．
３９（ｍ，５Ｈ）、１０．１５（ｄ，１Ｈ）、１１．１
３（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２１４】実施例２９ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−ニトロベ
ンジル）イミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、４−ニトロフェニルアラニンエチルエステル塩酸
塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２１５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８２，１．９２（ｓ，ｓ，６Ｈ）、３．０６（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１３．７０，Ｊ＝４．８３Ｈｚ）、３．
１５４（ｄｄ，１Ｈ）、４．３２（ｔ，１Ｈ）、７．４
８（ｄ，２Ｈ）、８．１４（ｄ，２Ｈ）、７．６３（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）、１０．６２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２１６】実施例３０ ５−〔４−（シクロヘキシルメチルオキシ）ベンジル〕
−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４
−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、Ｏ−シクロヘキシルメチル−Ｌ−チロシンエチル
エステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２１７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１４．０２Ｈｚ，Ｊ＝
４．７８Ｈｚ）、２．９３（ｄｄ，１Ｈ）、３．７１
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．９４Ｈｚ）、４．１８（ｔ，１
Ｈ）、６．７８（ｄ，２Ｈ）、７．０８（ｄ，２Ｈ）、
７．３９（ｂｒｓ，１Ｈ）、１０．５０（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２１８】実施例３１ ５−（４−ベンジルベンジル）−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
りに、４−ベンジルフェニルアラニンエチルエステル塩
酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２１９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９９，２．１３（２ｓ，６Ｈ）、３．０３（ｍ，２
Ｈ）、３．８３（ｄｄ，２Ｈ）、４．６５（ｔ，１
Ｈ）、６．９９−７．３０（ｍ，１０Ｈ）、１２．１５
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２２０】実施例３２ ５−〔４−（４−クロルベンゾイルアミノ）ベンジル〕
−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４
−オンの製造 実施例２９で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−（４−ニトロベンジル）イミダゾリジン−４−オ
ン２００ｍｇをエタノール４０ｍｌ中、１０％パラジウ
ム炭素２０ｍｇ存在下、パールの装置を用いて、室温、
３ｋｇ／ｃｍ2で接触還元した。３時間後、触媒を濾去
し、溶媒を減圧留去した。残渣をクロロホルム１０ｍｌ
に溶かし、トリエチルアミン０．１ｍｌを加え、氷冷
下、４−クロルベンゾイルクロリド０．１ｍｌを滴下し
た。室温で２時間撹拌した後、１％塩酸、ついで飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥して、溶
媒を減圧留去した。残渣を分取用薄層クロマトグラフィ
ー（展開液；クロロホルム：メタノール＝８：２）にて
精製して上記目的化合物を５０ｍｇ得た。
【０２２１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８２，１．９２（ｓ，ｓ，６Ｈ）、２．９３，２．９８
（ｄｄ，ｄｄ，２Ｈ）、４．２３（ｍ，１Ｈ）、７．１
５−７．９８（ｍ，４Ｈ）、７．５３−７．６４（ｍ，
４Ｈ）、１０．２４（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２２２】実施例３３ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェニル
カルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、アニリン
を用い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２２３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ；１．９３，
１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．８７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇ
ｅｍ＝１６．５Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、３．１６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ）、４．３３（ｄｄ，
１Ｈ）、７．０−７．６（ｍ，５Ｈ）、１０．１１（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）、１１．７０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２２４】実施例３４ ５−（Ｎ−イソプロピルカルバモイルメチル）−２−イ
ソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの製
造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、イソプ
ロピルアミンを用いて、実施例９と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２２５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
０３，１．０５（２ｓ，６Ｈ）、１．９４（ｓ，６
Ｈ）、２．８６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．２Ｈ
ｚ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ）、３．１５（ｄｄ，１Ｈ）、
３．８１（ｍ，１Ｈ）、４．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
９．９Ｈｚ）、７．９０（ｄ，１Ｈ）、１１．６４
（ｓ，１Ｈ）。
【０２２６】実施例３５ ５−（Ｎ−ベンジルカルバモイルメチル）−２−イソプ
ロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代りに、ベンジル
アミンを用い、実施例９と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２２７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．６７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．２Ｈｚ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）、２．
９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）、４．２５（ｍ，
３Ｈ）、７．２７（ｍ，５Ｈ）、８．５４（ｔ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ）、１１．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２２８】実施例３６ ５−〔４−（４−クロルフェニルチオ）ベンジル〕−２
−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン
の製造 ２−クロル−３−〔４−（４−クロルフェニルチオ）フ
ェニル〕プロピオン酸メチル０．６８ｇ、アセトンチオ
セミカルバゾン０．３２ｇ、酢酸ナトリウム０．２０ｇ
及びエタノール２０ｍｌの混合物を２４時間加熱還流し
た。放冷後、不溶物を濾去し溶媒を減圧留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキ
サン：酢酸エチル＝２：１）で精製して上記目的化合物
を０．２５ｇ得た。
【０２２９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９９
（ｓ，３Ｈ）、２．０７（ｓ，３Ｈ）、３．００（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２３，１４．１９Ｈｚ）、３．５
２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３，１４．１９Ｈｚ）、
４．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３，１０．２３Ｈ
ｚ）、７．１８−７．３５（ｍ，４Ｈ）。
【０２３０】実施例３７ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシカルボニル−４−メチルフェニル）カルバモイル
メチル〕チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−５−メチル安息香酸メチルエステルを用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．３１（ｓ，３
Ｈ）、２．９６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈ
ｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、３．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．６３Ｈｚ）、３．８３（ｓ，３Ｈ）、４．３１（ｄ
ｄ，１Ｈ）、７．３９−７．９６（ｍ，３Ｈ，フェニ
ル）、１０．４４（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７０（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）。
【０２３２】実施例３８ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−メチルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オンの製造 実施例３７で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−〔Ｎ−（２−メトキシカルボニル−４−メチルフ
ェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オン
を出発原料として用い、実施例１４と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０２３３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．３０（ｓ，３
Ｈ）、３．００（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈ
ｚ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ）、３．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．９６Ｈｚ）、４．３２（ｄｄ，１Ｈ）、７．３８
（ｄ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ）、８．２５（ｓ，
１Ｈ）、１１．０７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２３４】実施例３９ ５−（Ｎ−カルボキシメチルカルバモイルメチル）−２
−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン
の製造 実施例１３で得られた５−（Ｎ−エトキシカルボニルメ
チルカルバモイルメチル）−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オンを出発原料として用い、
実施例１４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，６Ｈ）、２．６１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊｇｅｍ＝
９．９０Ｈｚ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ）、４．０７（ｄｄ，
１Ｈ）、４．２０，４．２５（２ｄｄ，２Ｈ）、８．２
４（ｔ，１Ｈ）。
【０２３６】実施例４０ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−メ
チルフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４
−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、ｐ−ト
ルイジンを用い、実施例９と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０２３７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．２４（ｓ，３
Ｈ）、２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈ
ｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、３．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．６３Ｈｚ）、４．３２（ｄｄ，１Ｈ）、７．０９，
７．４４（２ｄ，４Ｈ）、１０．００（ｂｒｓ，１
Ｈ）、１１．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２３８】実施例４１ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（３−ピ
リジルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−４−オンの
製造 ３−（４−ベンジルオキシフェニル）−２−クロルプロ
ピオン酸エチルの代わりに、２−クロル−３−〔４−
（３−ピリジルメチルオキシ）フェニル〕プロピオン酸
メチルを用い、実施例２６と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０２３９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９１（ｓ，６Ｈ）、２．９１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１４．
１９Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、４．４６（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４．２９Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、５．１２
（ｓ，２Ｈ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈ
ｚ）、７．１８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、７．
４０−７．４５（ｍ，１Ｈ）、７．８４−７．８９
（ｍ，１Ｈ）、８．５３−８．５６（ｍ，１Ｈ）、８．
６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６５Ｈｚ）、１１．６８
（ｓ，１Ｈ）。
【０２４０】実施例４２ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（２−フ
ェニルエトキシ）ベンジル〕イミダゾリジン−４−オン
の製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｏ−２−フェネチル−チロシンメチルエステル
塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２４１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９３
（ｓ，３Ｈ）、２．０１（ｓ，３Ｈ）、２．７２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ，Ｊ＝１４．１９Ｈｚ）、
３．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、３．１６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝１４．１９Ｈ
ｚ）、４．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ，Ｊ＝
１１．２２Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９３
Ｈｚ）、６．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、
７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、７．１８−
７．３２（ｍ，５Ｈ）。
【０２４２】実施例４３ ５−（３−インドリルメチル）−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｌ−トリプトファンメチルエステル塩酸塩を用
い、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２４３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８０（ｓ，３Ｈ）、１．９０（ｓ，３Ｈ）、３．００−
３．１６（ｍ，２Ｈ）、４．２３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．
２９Ｈｚ）、６．９１−７．０６（ｍ，２Ｈ）、７．１
１（ｓ，１Ｈ）、７．３１（ｓ，１Ｈ）、７．２９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０１Ｈｚ）、７．５６（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ）、１０．４８（ｂｒｓ，１
Ｈ）、１０．８２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２４４】実施例４４ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（２−チ
エニルメトキシ）ベンジル〕イミダゾリジン−４−オン
の製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｏ−２−チエニルメチル−Ｌ−チロシンエチル
エステルを用い、実施例１と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０２４５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８２，１．９２（２ｓ，６Ｈ）、２．８５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１３．８６Ｈｚ，Ｊ＝４．６２Ｈｚ）、
２．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ）、４．１９
（ｔ，１Ｈ）、５．２２（ｓ，２Ｈ）、６．８７−７．
５５（ｍ，７Ｈ）、７．５４（ｄ，１Ｈ）、１０．５２
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２４６】実施例４５ ５−（５−ヒドロキシ−３−インドリルメチル）−２−
イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン
の製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、ＤＬ−５−ヒドロキシトリプトファンエチルエ
ステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２４７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８２（ｓ，３Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、２．９３
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ，１４．８４Ｈｚ）、
３．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．６２Ｈｚ，１４．８５
Ｈｚ）、４．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ）、
６．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３１Ｈｚ，８．５８Ｈ
ｚ）、６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９８Ｈｚ）、７．
０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３１Ｈｚ）、７．０９（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、７．２７（ｓ，１Ｈ）、
８．５８（ｂｒｓ，１Ｈ）、１０．５１（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２４８】実施例４６ ５−（３，４−ジヒドロキシベンジル）−２−イソプロ
ピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、ＤＬ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル）
アラニンエチルエステル塩酸塩を用い、実施例１と同様
にして上記目的化合物を得た。
【０２４９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８３（ｓ，３Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、２．７１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ，１３．８６Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ，１３．８５
Ｈｚ）、４．１２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．２９Ｈｚ）、
６．４４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９８Ｈｚ，７．９２Ｈ
ｚ）、６．５７−６．５９（ｍ，２Ｈ）、７．２４（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）、７．４７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２５０】実施例４７ ５−〔Ｎ−（３，４−ジフルオルフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３，４
−ジフルオルアニリンを用い、実施例９と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０２５１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．８９（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、
３．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．３３
（ｄｄ，１Ｈ）、７．２３−７．７９（ｍ，３Ｈ）、１
０．３７（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７２（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２５２】実施例４８ ５−〔Ｎ−（４−ベンジルオキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−ベ
ンジルオキシアニリンを用い、実施例９と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０２５３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
０８，２．０９（２ｓ，６Ｈ）、２．９７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、
３．２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．４６
（ｄｄ，１Ｈ）、５．２１（ｓ，２Ｈ）、７．０９−
７．６３（ｍ，９Ｈ）、１０．１２（ｂｒｓ，１Ｈ）、
１１．８２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２５４】実施例４９ ５−〔Ｎ−（４−クロルフェニル）カルバモイルメチ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−ク
ロルアニリンを用い、実施例９と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２５５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．８７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、
３．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ）、４．３２
（ｄｄ，１Ｈ）、７．３６，７．５８（２ｄ，４Ｈ）、
１０．２５（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．６９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２５６】実施例５０ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−メ
トキシフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−
４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、ｐ−ア
ニシジンを用い、実施例９と同様にして上記目的化合物
を得た。
【０２５７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．８２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．１６Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、
３．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、３．７２
（ｓ，３Ｈ）、４．３１（ｄｄ，１Ｈ）、６．８７，
７，８６（２ｄ，４Ｈ）、９．９７（ｂｒｓ，１Ｈ）、
１１．６９（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２５８】実施例５１ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−メ
チルチオフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−メ
チルチオアニリンを用い、実施例９と同様にして、上記
目的化合物を得た。
【０２５９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．４４（ｓ，３
Ｈ）、２．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈ
ｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、３．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．９５Ｈｚ）、４．３１（ｄｄ，１Ｈ）、７．２２
（ｄ，２Ｈ）、７．５２（ｄ，２Ｈ）、１０．１１（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）、１１．６８（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２６０】実施例５２ ５−〔Ｎ−（４−ブロムフェニル）カルバモイルメチ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−ブ
ロムアニリンを用い、実施例９と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２６１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．８７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、
３．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ）、４．３３
（ｍ，１Ｈ）、７．４６−７．５６（ｍ，４Ｈ）、１
０．２５（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．６９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２６２】実施例５３ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３，
４，５−トリクロルフェニル）カルバモイルメチル〕チ
アゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３，
４，５−トリクロルアニリンを用い、実施例９と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０２６３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．９４（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８３Ｈｚ，Ｊ＝８．９０Ｈｚ）、
３．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．３３
（ｄｄ，１Ｈ）、７．８２（ｓ，２Ｈ）、１０．５４
（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７１（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２６４】実施例５４ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３，４
−メチレンジオキシフェニル）カルバモイルメチル〕チ
アゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３，４
−メチレンジオキシアニリンを用い、実施例９と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０２６５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．８３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．３３Ｈｚ，Ｊ＝９．４０Ｈｚ）、
３．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８０Ｈｚ）、４．３１
（ｄｄ，１Ｈ）、５．９７（ｓ，２Ｈ）、６．８２−
６．９７（ｍ，３Ｈ）、７．２８（ｓ，１Ｈ）、１０．
１７（ｓ，１Ｈ）。
【０２６６】実施例５５ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１−ナ
フチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オン
の製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、１−ナ
フチルアミンを用い、実施例９と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２６７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９５（ｓ，６Ｈ）、３．０３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝
１６．１７Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、４．３９（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ）、７．４６−８．１２
（ｍ，７Ｈ）、１０．１０（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７
１（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２６８】実施例５６ ５−〔Ｎ−（３，５−ジクロルフェニル）カルバモイル
メチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジ
ン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３，５
−ジクロルアニリンを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０２６９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９５（２ｓ，６Ｈ）、２．９２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ）、
３．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．３３
（ｄｄ，１Ｈ）、７．２８（ｔ，１Ｈ）、７．６１
（ｓ，１Ｈ）、７．６２（ｓ，１Ｈ）、１０．４７
（ｓ，１Ｈ）、１１．７２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２７０】実施例５７ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−
オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、Ｎ−メ
チルアニリンを用い、実施例９と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２７１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９
８，２．０２（２ｓ，６Ｈ）、２．５５（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊｇｅｍ＝１７．１６Ｈｚ，Ｊ＝１０．５６Ｈｚ）、
２．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ）、３．２９
（ｓ，３Ｈ）、４．２９（ｄｄ，１Ｈ）、７．１６−
７．４５（ｍ，５Ｈ）。
【０２７２】実施例５８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３−ピ
リジルメチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４
−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−ア
ミノメチルピリジンを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０２７３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（２ｓ，６Ｈ）、２．６８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ
＝１６．１７Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、２．９８（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．２６（ｄｄ，１
Ｈ）、４．３１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．９４Ｈｚ）、７．
３２−８．４８（ｍ，４Ｈ）、８．６１（ｔ，１Ｈ）、
１１．６６（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２７４】実施例５９ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３−イ
ミダゾール−１−イル）プロピルカルバモイルメチル〕
チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、１−
（３−アミノプロピル）イミダゾールを用い、実施例９
と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２７５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
７６−１．９９（ｍ，８Ｈ）、２．６０（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝９．５７Ｈｚ，Ｊ＝１４．８４Ｈｚ）、２．９０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，Ｊ＝１５．８４Ｈ
ｚ）、３．００−３．４８（ｍ，２Ｈ）、３．９６
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、４．２４（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、６．８８
（ｓ，１Ｈ）、７．１６（ｓ，１Ｈ）、７．６１（ｓ，
１Ｈ）、８．１０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ）、１
１．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２７６】実施例６０ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−モルホリ
ノカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、Ｎ−ア
ミノモルホリンを用い、実施例９と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２７７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．７２（ｍ，４
Ｈ）、２．８２（ｍ，１Ｈ）、２．８５（ｍ，１Ｈ）、
３．６０（ｍ，４Ｈ）、４．１９（ｍ，１Ｈ）、８．７
７，９．１０（２ｓ，１Ｈ）、１１．６４（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２７８】実施例６１ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−チ
エニルメチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４
−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−チ
エニルメチルアミンを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０２７９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（２ｓ，６Ｈ）、２．６２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ
＝１６．１６Ｈｚ，Ｊ＝９．９０Ｈｚ）、２．９４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ）、４．２４（ｄｄ，１
Ｈ）、４．４３（ｍ，２Ｈ）、６．９３−７．４０
（ｍ，３Ｈ）、８．６４（ｔ，１Ｈ）、１１．６４（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０２８０】実施例６２ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−モ
ルホリノフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−モ
ルホリノアニリンを用い、実施例９と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０２８１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３，１．９４（２ｓ，６Ｈ）、２．８１（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．１６Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ）、
３．０３（ｍ，４Ｈ）、３．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．６３Ｈｚ）、３．７２（ｍ，４Ｈ）、４．３０（ｄ
ｄ，１Ｈ）、６．８８，７．４２（２ｄ，４Ｈ，フェニ
ル）、９．９０（ｓ，１Ｈ）、１１．６７（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２８２】実施例６３ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（３−ピリジ
ル）チアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに、３−ブロモアセチルピリジ
ンを用い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２８３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９６（２ｓ，６Ｈ）、７．４０−９．０３
（ｍ，４Ｈ，ピリジル）、１０．７４（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２８４】実施例６４ ４−（４−カルボキシフェニル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラジノチアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに、４−ブロモアセチル安息香
酸を用い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２８５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４，１．９６（２ｓ，６Ｈ）、７．４３（ｓ，１
Ｈ）、７．９６（ｄ，４Ｈ，フェニル）。
【０２８６】実施例６５ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１−フ
ェニルエチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４
−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、α−メ
チルベンジルアミンを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０２８７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
３２，１．３５（２ｓ，３Ｈ）、１．９３，１．９４
（２ｓ，６Ｈ）、２．５６−２．６８（ｍ，１Ｈ）、
２．９２−３．００（ｍ，１Ｈ）、４．１８−４．２２
（ｍ，１Ｈ）、４．８８−４．９３（ｍ，１Ｈ）、７．
２０−７．３１（ｍ，５Ｈ，フェニル）、８．４６−
８．４９（ｍ，１Ｈ）、１１．６２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２８８】実施例６６ ５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−ヒドラゾノ
イミダゾリジン−４−オン塩酸塩の製造 実施例１で製造した５−（４−ベンジルオキシベンジ
ル）−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オン５．３ｇに０．５Ｎ塩酸５４mlを加えて、水
蒸気蒸留を１５分間行なった。反応混合物を冷却し、析
出した白色結晶を濾取し、上記目的化合物４．６ｇを得
た。
【０２８９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
９２−３．０７（ｍ，２Ｈ）、４．５１−４．６０（ｂ
ｒｔ，１Ｈ）、５．０５（ｓ，２Ｈ）、６．９２（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、７．１０−７．１７（ｍ，
２Ｈ）、７．２９−７．４７（ｍ，５Ｈ）、９．６６
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２９０】実施例６７ ２−ヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェニルカルバモイルメチ
ル）チアゾリジン−４−オンの製造 実施例３３で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−（Ｎ−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジ
ン−４−オンを出発原料として用い、実施例６６と同様
にして上記目的化合物を得た。
【０２９１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
８４−２．９４（ｍ，１Ｈ）、３．１４−３．３０
（ｍ，１Ｈ）、４．３６−４．４２（ｍ，１Ｈ）、７．
０５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２５Ｈｚ）、７．３０（ｔ，
２Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ）、７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．２５Ｈｚ）、１０．１３（ｓ，１Ｈ）、１１．７７
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．８５Ｈｚ）。
【０２９２】実施例６８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
チル−５−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイル
メチル〕チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−ア
ミノ−４−メチル安息香酸メチルエステルを用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２９３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９５（ｓ，６Ｈ）、２．２８（ｓ，３Ｈ）、２．９２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ）、３．２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、４．３４（ｄｄ，１
Ｈ）、７．３５−８．０９（ｍ，３Ｈ，フェニル）、
９．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７０（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０２９４】実施例６９ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−トリフルオロメ
チルチアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに、１−ブロモ−３，３，３−
トリフルオロアセトンを用い、実施例１７と同様にして
上記目的化合物を得た。
【０２９５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．８７
（ｓ，３Ｈ）、２．０５（ｓ，３Ｈ）、７．０７（ｔ，
１Ｈ）、８．５４（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０２９６】実施例７０ ４−エトキシカルボニルメチル−２−イソプロピリデン
ヒドラジノチアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに、４−クロロアセト酢酸エチ
ルエステルを用い、実施例１７と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２９７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．２６
（ｔ，３Ｈ）、１．８６（ｓ，３Ｈ）、２．０４（ｓ，
３Ｈ）、３．５９（２ｓ，２Ｈ）、４．１８（ｑ，２
Ｈ）、６．４５（ｓ，１Ｈ）。
【０２９８】実施例７１ ４−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒドラジ
ノチアゾールの製造 実施例７０で製造した４−エトキシカルボニルメチル−
２−イソプロピリデンヒドラジノチアゾールを出発原料
として用い、実施例１４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２９９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８８（ｓ，３Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）、３．４６
（ｓ，２Ｈ）、６．４９（ｓ，１Ｈ）、１１．３４（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０３００】実施例７２ ２−シクロペンチリデンヒドラゾノ−５−（４−ベンジ
ルオキシベンジル）イミダゾリジン−４−オンの製造 実施例６６で製造した５−（４−ベンジルオキシベンジ
ル）−２−ヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン塩酸塩
１００mgをメタノール１０mlに溶かし、シクロペンタノ
ン８２mgを加えて、室温で１時間攪拌した。反応液を減
圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；クロロホルム：メタノール＝６０：１）で精
製して白色結晶の上記目的化合物８７mgを得た。
【０３０１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
６５−１．６８（ｍ，４Ｈ）、２．２６−２．３２
（ｍ，４Ｈ）、２．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．２９Ｈ
ｚ，Ｊ＝１３．８６Ｈｚ）、２．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝４．９４Ｈｚ，Ｊ＝１４．１８Ｈｚ）、４．１７（ｂ
ｒｔ，１Ｈ）、５．０３（ｓ，２Ｈ）、６．８８（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．２５Ｈｚ）、７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．５８Ｈｚ）、７．２９−７．４５（ｍ，５Ｈ）、
７．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）、１０．５５（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３０２】実施例７３ ２−ジシクロプロピルメチレンヒドラゾノ−５−（Ｎ−
フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン
の製造 実施例６７で製造した２−ヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェ
ニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン塩酸
塩及びジシクロプロピルケトンを出発原料として用い、
実施例７２と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３０３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
６１−１．０９（ｍ，１０Ｈ）、２．８６（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝９．９０Ｈｚ，Ｊ＝１６．８３Ｈｚ）、３．１
７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝１６．５０Ｈ
ｚ）、４．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝
９．５７Ｈｚ）、７．０５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈ
ｚ）、７．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、７．
５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、１０．１０
（ｓ，１Ｈ）、１１．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３０４】実施例７４ ２−シクロヘキシルメチレンヒドラゾノ−５−（Ｎ−フ
ェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの
製造 実施例６７で製造した２−ヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェ
ニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン塩酸
塩及びシクロヘキサンカルボキサアルデヒドを出発原料
として用い、実施例７２と同様にして、上記目的化合物
を得た。
【０３０５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
０７−１．７６（ｍ，１０Ｈ）、２．１８−２．２６
（ｍ，１Ｈ）、２．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．９０，
１６．８３Ｈｚ）、３．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３
０Ｈｚ，Ｊ＝１６．１７Ｈｚ）、４．３４（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ，Ｊ＝９．２３Ｈｚ）、７．００
−７．６１（ｍ，６Ｈ）、１０．１１（ｓ，１Ｈ）、１
１．７８（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３０６】実施例７５ ５−（４−ベンジルオキシカルボニルアミノブチル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン（化合物Ａ）及び２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−（４−メトキシカルボニルアミノブチル）イミダ
ゾリジン−４−オン（化合物Ｂ）の製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｎε−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−リジン
メチルエステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０３０７】化合物Ａ；Ｒｆ値：０．５４（ジクロロメ
タン：メタノール＝９：１） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．２５−１．７
１（ｍ，６Ｈ）、１．８８（ｓ，３Ｈ）、１．９３
（ｓ，３Ｈ）、２．９４−２．９９（ｍ，２Ｈ）、３．
８９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ）、５．００（ｓ，
２Ｈ）、７．２２（ｍ，６Ｈ）、７．４７（ｓ，１
Ｈ）、１０．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３０８】化合物Ｂ；Ｒｆ値：０．４８（ジクロロメ
タン：メタノール＝９：１） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．２５−１．７
０（ｍ，６Ｈ）、１．８７（ｓ，３Ｈ）、１．９３
（ｓ，３Ｈ）、２．９１−２．９５（ｍ，２Ｈ）、３．
５０（ｓ，１Ｈ）、３．８９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５
Ｈｚ）、７．０８（ｂｒｓ，１Ｈ）、７．４５（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、１０．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３０９】実施例７６ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（２−メチルプ
ロピル）イミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｌ−ロイシンメチルエステル塩酸塩を用い、実
施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３１０】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
８７（ｓ，３Ｈ）、０．８９（ｓ，３Ｈ）、１．８６−
１．９４（ｍ，１Ｈ）、１．８８（ｓ，３Ｈ）、１．９
３（ｓ，３Ｈ）、３．８８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．６１Ｈ
ｚ）、７．５２（ｓ，１Ｈ）、１０．６３（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３１１】実施例７７ ５−イソプロピル−２−イソプロピリデンヒドラゾノイ
ミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｌ−バリンメチルエステル塩酸塩を用い、実施
例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３１２】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
８３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ）、０．９３（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、１．８９−２．０６（ｍ，
１Ｈ）、１．８８（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３
Ｈ）、３．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９７Ｈｚ）、７．
４１（ｂｒｓ，１Ｈ）、１０．８０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３１３】実施例７８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔２−（Ｎ−フ
ェニルカルバモイル）エチル〕イミダゾリジン−４−オ
ンの製造 （工程Ｉ）Ｎα−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル−
Ｌ−グルタミン酸α−メチルエステル〔村木及び溝口
（Ｃｈｅｍ，Ｐｈａｒｍ，Ｂｕｌｌ．，１９，１７０８
（１９７１）〕１０ｇ、アニリン４．２８ｇ及びＮ−ヒ
ドロキシベンズトリアゾール６．２１ｇをジメチルホル
ムアミド５０ｍｌに溶かし、氷冷下、水溶性カルボジイ
ミドを加えて１８時間、室温で攪拌した。反応液を酢酸
エチル−水（各２５０ml）の混液に投入して分配した。
有機層を１％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次
いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
後、溶媒を減圧留去した。残留した固体を酢酸エチル−
ｎ−ヘキサンの混液から再結晶して、Ｎα−ｔｅｒｔ−
ブチルオキシカルボニル−Ｌ−（γ−フェニル）グルタ
ミンメチルエステル１１．４８ｇを得た。
【０３１４】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．４６
（ｓ，９Ｈ）、１．９４（ｍ，１Ｈ）、２．３２（ｍ，
１Ｈ）、２．４６（ｍ，２Ｈ）、３．７４（ｓ，３
Ｈ）、４．３８（ｍ，１Ｈ）、５．３６（ｂｒｓ，１
Ｈ）、７．０７−７．６０（ｍ，５Ｈ）、８．５２（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０３１５】（工程II）工程Ｉで製造した化合物１１．
４２ｇを４．５Ｎ塩化水素の酢酸エチル溶液３５mlに加
え、室温で２０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮して、
Ｌ−（γ−フェニル）グルタミンメチルエステル塩酸塩
８．９ｇを得た。
【０３１６】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
１３（ｍ，２Ｈ）、２．５９（ｍ，２Ｈ）、３．７４
（ｓ，３Ｈ）、４．０６（ｍ，１Ｈ）、７．００−７．
６２（ｍ，５Ｈ）、８．６３（ｂｒｓ，３Ｈ）。
【０３１７】（工程III ）工程IIで製造したＬ−（γ−
フェニル）グルタミンメチルエステル塩酸塩を出発原料
として、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３１８】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８８（ｓ，３Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８７−
２．０６（ｍ，２Ｈ）、２．２６−２．４８（ｍ，２
Ｈ）、４．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ，Ｊ＝
１０．５６Ｈｚ）、７．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２６
Ｈｚ）、７．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、
７．５９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、９．９２
（ｓ，１Ｈ）、１０．７７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３１９】実施例７９ ５−ベンジルオキシカルボニルメチル−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン（化合物
Ｃ）及び２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−メトキ
シカルボニルメチルイミダゾリジン−４−オン（化合物
Ｄ）の製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｌ−アスパラギン酸α−メチル，β−ベンジル
エステル塩酸塩を用い、実施例１と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０３２０】化合物Ｃ；Ｒｆ値：０．６０（ジクロロメ
タン：メタノール＝９：１） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．８８（ｓ，３
Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、２．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝５．６１Ｈｚ）、４．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８
Ｈｚ）、５．０９（ｓ，２Ｈ）、７．３１−７．４１
（ｍ，６Ｈ）、１０．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３２１】化合物Ｄ；Ｒｆ値：０．５１（ジクロロメ
タン：メタノール＝９：１） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．０２（ｓ，３
Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）、２．５４（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝１０．５６Ｈｚ，Ｊ＝１７．４９Ｈｚ）、３．０３
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９７Ｈｚ，Ｊ＝１７．４９Ｈ
ｚ）、３．７４（ｓ，３Ｈ）、４．２８（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．６４Ｈｚ，Ｊ＝１０．５６Ｈｚ）。
【０３２２】実施例８０ ５−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノイミダゾリジン−４−オンの製造 実施例７９で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−メトキシカルボニルメチルイミダゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０３２３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８８（ｓ，３Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）、２．６１
（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝０．９９Ｈｚ，Ｊ＝４．９５Ｈ
ｚ）、４．１３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ）、７．
２９（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．５５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３２４】実施例８１ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェニル
カルバモイルメチル）イミダゾリジン−４−オンの製造 実施例８０で製造した５−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン及び
アニリンを出発原料として用い、実施例９と同様にして
上記目的化合物を得た。
【０３２５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８８（ｓ，３Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、２．６３
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９２，１５．５０Ｈｚ）、２．
８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５，１５．８３Ｈｚ）、
４．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ）、７．０３
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ）、７．２９（ｔ，２
Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、７．５８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
７．５９Ｈｚ）、１０．０１（ｓ，１Ｈ）、１０．７４
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３２６】実施例８２ ５−（Ｎ−シクロプロピルカルバモイルメチル）−２−
イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン
の製造 実施例８０で製造した５−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン及び
シクロプロピルアミンを出発原料として用い、実施例９
と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３２７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；０．５０
−０．８２（ｍ，４Ｈ）、２．０１（ｓ，３Ｈ）、２．
０７（ｓ，３Ｈ）、２．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．
２３Ｈｚ，Ｊ＝１５．５１Ｈｚ）、２．５９−２．７３
（ｍ，１Ｈ）、２．９１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９７Ｈ
ｚ，Ｊ＝１５．８４Ｈｚ）、４．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．９７Ｈｚ，Ｊ＝９．９０Ｈｚ）。
【０３２８】実施例８３ ５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−（４−ブロ
モベンゼンスルホノヒドラゾノイミダゾリジン−４−オ
ンの製造 実施例６６で製造した５−（４−ベンジルオキシベンジ
ル）−２−ヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン塩酸塩
１７３mgをテトラヒドロフラン１０ml及び水５mlの混合
溶媒に、溶解させ、水冷下、炭酸水素ナトリウム４２m
g、次いで４−ブロモベンゼンスルホニルクロライド１
８０mgを加え、同温度で３０分、室温下で１時間攪拌し
た。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣に水とジクロロ
メタンを加えて分配し、有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、再び減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにチャージし、クロロホルム：メタ
ノール＝５０：１（Ｖ／Ｖ）混合溶媒により溶出し、上
記目的化合物８２mgを得た。
【０３２９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
８７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．６１Ｈｚ，Ｊ＝１４．１８
Ｈｚ）、２．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ，Ｊ
＝１４．１９Ｈｚ）、４．０６（ｂｒｔ，１Ｈ）、５．
０５（ｓ，２Ｈ）、５．９１（ｓ，１Ｈ）、６．８０
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．２５Ｈｚ）、７．３３−７．４９（ｍ，５
Ｈ）、７．７４−７．８５（ｍ，４Ｈ）、８．９３
（ｓ，１Ｈ）。
【０３３０】実施例８４ ２−（４−アセトアミドベンゼンスルホノヒドラゾノ）
−５−（４−ベンジルオキシベンジル）イミダゾリジン
−４−オンの製造 ４−ブロモベンゼンスルホニルクロライドの代わりに、
４−アセトアミドベンゼンスルホニルクロライドを用
い、実施例８３と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３３１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；２．
０５（ｓ，３Ｈ）、２．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９
４Ｈｚ，Ｊ＝１４．１８Ｈｚ）、２．９３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４．９４Ｈｚ，Ｊ＝１４．１８Ｈｚ）、４．０
５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９５Ｈｚ）、５．０２（ｓ，２
Ｈ）、５．７６（ｓ，１Ｈ）、６．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．５８Ｈｚ）、７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８
Ｈｚ）、７．３１−７．４５（ｍ，５Ｈ）、７．７３
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、７．８６（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ）、８．７８（ｓ，１Ｈ）、１
０．３９（ｓ，１Ｈ）。
【０３３２】実施例８５ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１−フ
ェニルエチル）カルバモイルメチル〕イミダゾリジン−
４−オンの製造 実施例８０で製造した５−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン及び
α−メチルベンジルアミンを出発原料として用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３３３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
３４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、１．８８（ｓ，
３Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、２．３６−２．４９
（ｍ，１Ｈ）、２．５１−２．６８（ｍ，１Ｈ）、４．
１５（ｂｒｔ，１Ｈ）、４．８８−４．９１（ｍ，１
Ｈ）、７．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２７．７１Ｈｚ）、
７．１８−７．３１（ｍ，５Ｈ）、８．３８（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ）、１０．７３（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３３４】実施例８６ ５−（４−イミダゾリルメチル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オンの製造 Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩の代
わりに、Ｌ−ヒスチジンメチルエステル２塩酸塩を用
い、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３３５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８７（ｓ，３Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）、２．７５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ，Ｊ＝１４．８５Ｈ
ｚ）、２．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．２９Ｈｚ，Ｊ＝
１４．８４Ｈｚ）、４．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．６
２Ｈｚ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、６．８０（ｓ，１Ｈ）、
７．２６（ｓ，１Ｈ）、７．５４（ｓ，１Ｈ）、１０．
７０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３３６】実施例８７ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル〕チア
ゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ安息香酸メチルエステルを用い、実施例９と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０３３７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、２．９９
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ）、３．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６２Ｈ
ｚ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、４．３２（ｄｄ，１
Ｈ）、７．１９−８．０９（ｍ，４Ｈ，フェニル）、１
０．５６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７１（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３３８】実施例８８ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オンの製造 実施例８７で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−〔Ｎ−（２−メトキシカルボニルフェニル）カル
バモイルメチル〕チアゾリジン−４−オンを出発原料と
して用い、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３３９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、３．０４
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．６７Ｈｚ，Ｊ＝８．９
１Ｈｚ）、３．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ）、４．３４（ｄｄ，１Ｈ）、７．１４−８．３９
（ｍ，４Ｈ，フェニル）、１１．１４（ｂｒｓ，１
Ｈ）、１１．９０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３４０】実施例８９ ５−〔Ｎ−（５−カルボキシ−２−メチルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オンの製造 実施例６８で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾノ
−５−〔Ｎ−（５−メトキシカルボニル−２−メチルフ
ェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オン
を出発原料として用い、実施例１４と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０３４１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９５（ｓ，６Ｈ）、２．２７（ｓ，３Ｈ）、２．９１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．５
７Ｈｚ）、３．２４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ）、４．３４（ｄｄ，１Ｈ）、７．３２−８．０９
（ｍ，３Ｈ）、９．５９（ｂｒｓ，１Ｈ）、１２．００
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３４２】実施例９０ ５−〔Ｎ−（３，４−ジメトキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに３，４−
ジメトキシアニリンを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０３４３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、２．８３
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝９．５
７Ｈｚ）、３．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ）、３．７１（ｓ，３Ｈ）、３．７２（ｓ，３Ｈ）、
４．３１（ｄｄ，１Ｈ）、６．８６−７．２９（ｍ，３
Ｈ）、９．９８（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．６９（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）。
【０３４４】実施例９１ ３−エトキシカルボニルメチル−５−（Ｎ−フェニルカ
ルバモイルメチル）−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オンの製造 実施例１５で得られた化合物及びアニリンを用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３４５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
２０（ｔ，３Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）、１．９５
（ｓ，３Ｈ）、２．８７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．９０Ｈ
ｚ）、４．１５（ｑ，２Ｈ）、４．４６（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝２．９７Ｈｚ）、４．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６
３Ｈｚ）、７．０３−７．５７（ｍ，５Ｈ，フェニ
ル）、１０．１６（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３４６】実施例９２ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（３−チエニ
ル）チアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに３−ブロモアセチルチオフェ
ンを用い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３４７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．８５
（ｓ，３Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、６．７２（ｓ，
１Ｈ）、７．００−７．３３（ｍ，３Ｈ，チエニル）、
８．６６（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３４８】実施例９３ ４−〔Ｎ−（３，４−ジメトキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラジノチアゾー
ルの製造 実施例７１で製造した４−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラジノチアゾール及び３，４−ジメト
キシアニリンを出発原料として用い、実施例９と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０３４９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
８８（ｓ，３Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）、３．５２
（ｂｒｓ，２Ｈ）、３．７１（ｓ，６Ｈ）、６．５１
（ｂｒｓ，１Ｈ）、６．８６−７．３３（ｍ，３Ｈ）、
９．９２（ｂｒｓ，１Ｈ）、１０．４６（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３５０】実施例９４ ２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（２−チアゾリ
ル）チアゾールの製造 クロルアセトンの代わりに３−ブロモアセチルチアゾー
ルを用い、実施例１７と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３５１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９６（ｓ，３Ｈ）、７．３９
（ｓ，１Ｈ）、７．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．１３Ｈ
ｚ）、７．８５（ｄ，１Ｈ）、１０．８８（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３５２】実施例９５ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシカルボニル−４−メチルフェニル）カルバモイル
メチル〕イミダゾリジン−４−オンの製造 実施例８０で製造した５−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン及び
２−アミノ−５−メチル安息香酸メチルエステルを原料
として用い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３５３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．０２
（ｓ，３Ｈ）、２．０８（ｓ，３Ｈ）、２．３４（ｓ，
３Ｈ）、２．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．８９Ｈｚ，
Ｊ＝１６．４９Ｈｚ）、３．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．３１Ｈｚ，Ｊ＝１６．５０Ｈｚ）、３．９２（ｓ，
３Ｈ）、４．４４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３１Ｈｚ，Ｊ
＝１０．８９Ｈｚ）、６．８７（ｓ，１Ｈ）、７．２６
（ｓ，１Ｈ）、７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９７Ｈ
ｚ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、７．８４（ｂｒｓ，１Ｈ）、
８．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ）、１１．０７
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３５４】実施例９６ ５−〔Ｎ−（１−エトキシカルボニル−３−メチルブチ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりにＬ−ロイ
シンエチルエステルを用い、実施例９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０３５５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
８２−０．９１（ｍ，６Ｈ）、１．１５−１．２２
（ｍ，３Ｈ）、１．４４−１．９１（ｍ，３Ｈ）、１．
９４（ｂｒｓ，６Ｈ）、２．６３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．３１Ｈｚ，Ｊ＝１０．２２Ｈｚ，Ｊ＝１６．１６Ｈ
ｚ）、２．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ，Ｊ＝
１６．１６Ｈｚ）、４．０３−４．１２（ｍ，２Ｈ）、
４．１３−４．２４（ｍ，２Ｈ）、８．４３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ，Ｊ＝７．５８Ｈｚ）、１１．６
５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３５６】実施例９７ ５−〔Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに３−アミ
ノ安息香酸エチルエステルを用い、実施例９と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０３５７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
３２（ｔ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．９５
（ｓ，３Ｈ）、２．９０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１．
６５Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ）、３．１７（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ）、４．２５−４．３７（ｍ，３
Ｈ）、７．１５−８．２５（ｍ，４Ｈ，フェニル）、１
０．３６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．７０（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３５８】実施例９８ ５−｛Ｎ−〔１−エトキシカルボニル−２−（４−ベン
ジルオキシフェニル）エチル〕カルバモイルメチル｝−
２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オ
ンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりにＯ−ベン
ジル−Ｌ−チロシンエチルエステルを用い、実施例９と
同様にして上記目的化合物を得た。
【０３５９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
１１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ）、１．９３（ｂｒ
ｓ，６Ｈ）、２．５１−２．６２（ｍ，１Ｈ）、２．６
５−２．９８（ｍ，３Ｈ）、４．０３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
７．２６Ｈｚ）、４．１４（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝３．
６３Ｈｚ，Ｊ＝９．８９Ｈｚ）、４．１８（ｄｄ，０．
５Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝９．８９Ｈｚ）、４．３
１−４．４０（ｍ，１Ｈ）、５．０６（ｓ，２Ｈ）、
６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、７．１３
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ）、７．１４−７．４４
（ｍ，５Ｈ）、８．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈ
ｚ）、１１．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３６０】実施例９９ ５−｛Ｎ−〔１−カルボキシ−２−（４−ベンジルオキ
シフェニル）エチル〕カルバモイルメチル｝−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの製造 実施例９８で製造した５−｛Ｎ−〔１−エトキシカルボ
ニル−２−（４−ベンジルオキシフェニル）エチル〕カ
ルバモイルメチル｝−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オンを出発原料として用い、実施例
１４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３６１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９３（ｂｒｓ，６Ｈ）、２．５３−２．６５（ｍ，１
Ｈ）、２．７５−３．０１（ｍ，３Ｈ）、４．１５（ｄ
ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９６Ｈｚ，Ｊ＝１０．２２Ｈｚ，
Ｊ＝２２．４３Ｈｚ）、４．３０−４．３４（ｍ，１
Ｈ）、５．０５（ｓ，２Ｈ）、６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．５８Ｈｚ）、７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８
Ｈｚ）、７．２９−７．４４（ｍ，５Ｈ）、８．２７
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ）。
【０３６２】実施例１００ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−｛Ｎ−〔１−メ
トキシカルボニル−２−（３−インドリル）エチル〕カ
ルバモイルメチル｝チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりにＬ−トリ
プトファンメチルエステルを用い、実施例９と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０３６３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．９３
（ｓ，１Ｈ）、１．９８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ）、２．５１−２．６０（ｍ，１Ｈ）、２．８９−
２．９７（ｍ，１Ｈ）、３．２１−３．２４（ｍ，２
Ｈ）、４．１３−４．１７（ｍ，１Ｈ）、４．８４−
４．９０（ｍ，１Ｈ）、６．７９−７．１０（ｍ，２
Ｈ）、７．２３−７．３５（ｍ，２Ｈ）、７．６７−
７．７３（ｍ，１Ｈ）、８．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
２．２０Ｈｚ）。
【０３６４】実施例１０１ ５−〔Ｎ−（１−カルボキシ−３−メチルブチル）カル
バモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチ
アゾリジン−４−オンの製造 実施例９６で製造した５−〔Ｎ−（１−エトキシカルボ
ニル−３−メチルブチル）カルバモイルメチル〕−２−
イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンを
出発原料として用い、実施例１４と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０３６５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；０．
８１−０．８９（ｍ，６Ｈ）、１．４６−１．５１
（ｍ，２Ｈ）、１．５７−１．６８（ｍ，１Ｈ）、１．
９４（ｂｒｓ，６Ｈ）、２．４９−２．６６（ｍ，１
Ｈ）、２．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ，Ｊ＝
１６．４９Ｈｚ）、４．１７−４．２３（ｍ，２Ｈ）、
８．２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ，Ｊ＝７．９
１Ｈｚ）。
【０３６６】実施例１０２ ５−｛Ｎ−〔１−カルボキシ−２−（３−インドリル）
エチル〕カルバモイルメチル｝−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノチアゾリジン−４−オンの製造 実施例１００で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノ−５−｛Ｎ−〔１−メトキシカルボニル−２−（３−
インドリル）エチル〕カルバモイルメチル｝チアゾリジ
ン−４−オンを出発原料として用い、実施例１４と同様
にして上記目的化合物を得た。
【０３６７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｂｒｓ，６Ｈ）、２．５３−２．６７（ｍ，１
Ｈ）、２．８９−３．２４（ｍ，３Ｈ）、４．１８（ｄ
ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ，Ｊ＝１０．２２Ｈｚ，
Ｊ＝２２．４３Ｈｚ）、４．４４−４．５１（ｍ，１
Ｈ）、６．９５−７．１５（ｍ，３Ｈ）、７．３３
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ）、７．５３（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝７．５８Ｈｚ）、８．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
７．５９Ｈｚ）、１０．８５（ｓ，１Ｈ）、１１．７６
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３６８】実施例１０３ ５−〔Ｎ−（３−カルボキシフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オンの製造 実施例９７で製造した５−〔Ｎ−（３−エトキシカルボ
ニルフェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オンを出発原料と
して用い、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３６９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，３Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、２．９０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ）、３．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ）、４．３４（ｄｄ，１Ｈ）、７．４０−８．２２
（ｍ，４Ｈ，フェニル）、１０．３２（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３７０】実施例１０４ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシカルボニルメチルフェニル）カルバモイルメチ
ル〕チアゾリジン−４−オンの製造 ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに２−アミ
ノフェニル酢酸メチルエステルを用い、実施例９と同様
にして上記目的化合物を得た。
【０３７１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（２ｓ，６Ｈ）、２．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ
＝１６．１７Ｈｚ，Ｊ＝９．９０Ｈｚ）、３．１６（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ）、３．６０（ｓ，３
Ｈ）、３．６８（ｓ，２Ｈ）、４．２９（ｄｄ，１
Ｈ）、７．１６−７．３７（ｍ，４Ｈ，フェニル）、
９．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）、１１．６９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３７２】実施例１０５ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシメチルフェニル）カルバモ
イルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾ
リジン−４−オンの製造 実施例１０４で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノ−５−〔Ｎ−（２−メトキシカルボニルメチルフェニ
ル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オンを出
発原料として用い、実施例１４と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０３７３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；１．
９４（ｓ，６Ｈ）、２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝
１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．８９Ｈｚ）、３．１７（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ）、３．５４（ｓ，２
Ｈ）、４．３１（ｄｄ，１Ｈ）、７．０７−８．２０
（ｍ，６Ｈ）、１０．３３（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３７４】実施例１０６ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５（Ｒ）−（Ｎ−フ
ェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの
製造 （工程１）ジャーナル・オブ・ジ・オーガニック・ケミ
ストリィー，第４７巻第４９２８頁（１９８２年）に記
載された方法により製造したメチル ２（Ｓ）−ヒドロ
キシスクシナメート１ｇ及びアニリン０．６９ｇをテト
ラヒドロフラン−水（各１０ｍｌ）の混液に溶解し、水
溶性カルボジイミド塩酸塩２．５９ｇを加えた。１０％
塩酸を加え、ｐＨを４〜５に保ち、室温で１０分間反応
した。反応液を酢酸エチル３０ｍｌで抽出し、有機層を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄して、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。無色の油状
物質としてメチル ２（Ｓ）−ヒドロキシ−Ｎ−フェニ
ルスクシナメートを１．５ｇ得た。
【０３７５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．８−
２．９（ｍ，２Ｈ）、３．８３（ｓ，３Ｈ）、４．５８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ）、７．０８−７．５１（ｍ，５Ｈ，フェニル）、
７．８７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３７６】（工程２）工程１で製造した化合物を塩化
メチレン３０ｍｌに溶解し、氷冷下、トリエチルアミン
１．４１ｍｌ、次いでメタンスルホニルクロリド０．７
８ｍｌを加え、氷冷下に１０分間撹拌した。反応液を
０．１Ｎ塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥して、溶媒を減圧留去した。無色の油状物質
として、メチル ２（Ｓ）−メタンスルホニルオキシ−
Ｎ−フェニルスクシナメートを１．８２ｇ得た。
【０３７７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．０３
−３．０６（ｍ，２Ｈ）、３．１７（ｓ，３Ｈ）、３．
８５（ｓ，３Ｈ）、５．４６−５．５１（ｍ，１Ｈ）、
７．１３−７．５２（ｍ，５Ｈ，フェニル）、７．５８
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３７８】（工程３）工程２で製造した化合物をエタ
ノール２０ｍｌに溶解し、アセトンチオセミカルバゾン
１．０６ｇ及び無水酢酸ナトリウム０．６６ｇを加え、
３時間加熱還流した。反応液を放冷し、生成した固体を
濾取し、水で洗浄後、メタノールから再結晶し、白色結
晶として上記目的化合物を０．５６ｇ得た。
【０３７９】〔α〕D 25＝＋２．６１°（Ｃ＝１．５
３，テトラヒドロフラン） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）測定値は、実施例３３で製造
した化合物のそれと同じであった。
【０３８０】実施例１０７ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５（Ｓ）−（Ｎ−フ
ェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オンの
製造 メチル ２（Ｓ）−ヒドロキシスクシナメートの代わり
にメチル ２（Ｒ）−ヒドロキシスクシナメートを用
い、実施例１０６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３８１】〔α〕D 25＝−２．５８°（Ｃ＝１．５
０，テトラヒドロフラン） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）測定値は、実施例３３で製造
した化合物のそれと同じであった。
【０３８２】実施例１０８ ５−〔Ｎ−（４−クロル−２−メトキシカルボニルフェ
ニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒ
ドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−５−クロル安息香酸メチルエステルを用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３８３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．９８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝８．９
０Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．３１（ｄｄ，１
Ｈ），７．６５−８．０６（ｍ，３Ｈ，フェニル），１
０．５０（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７１（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３８４】実施例１０９ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−クロルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オン 実施例１０８で製造した５−〔Ｎ−（４−クロル−２−
メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル〕−
２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オ
ンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、上
記目的化合物を得た。
【０３８５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．０
８Ｈｚ），３．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），４．３２（ｄｄ，１Ｈ），７．４９−８．４０
（ｍ，３Ｈ，フェニル），１２．４９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３８６】実施例１１０ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２，３
−ジメチルフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジ
ン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２，３
−ジメチルアニリンを用い、実施例９と同様にして、上
記目的化合物を得た。
【０３８７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，６Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．２４
（ｓ，３Ｈ），２．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．９０Ｈ
ｚ，Ｊ＝１６．１７Ｈｚ），３．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝１６．１７Ｈｚ），４．３２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ，Ｊ＝９．５６Ｈｚ），
６．９９−７．１４（ｍ，３Ｈ），９．５３（ｓ，１
Ｈ），１１．６７（ｓ，１Ｈ）。
【０３８８】実施例１１１ ５−〔Ｎ−（２−フラニルメチル）カルバモイルメチ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−フ
ラニルメチルアミンを用い、実施例９と同様にして、上
記目的化合物を得た。
【０３８９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（２ｓ，６Ｈ），２．６２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ
＝１６．１７Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ），２．９４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ），４．２１−４．３４
（ｍ，３Ｈ），６．２５−７．５８（ｍ，３Ｈ），８．
５０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ），１１．７１（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０３９０】実施例１１２ ５−〔Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）カルバモイル
メチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジ
ン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２，６
−ジメチルアニリンを用い、実施例９と同様にして、上
記目的化合物を得た。
【０３９１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９５（ｓ，６Ｈ），２．１３（ｓ，６Ｈ），２．８５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ，Ｊ＝１６．１７Ｈ
ｚ），３．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，Ｊ＝
１６．１７Ｈｚ），４．３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６
３Ｈｚ，Ｊ＝９．５６Ｈｚ），７．０６（ｓ，３Ｈ），
９．４４（ｓ，１Ｈ，），１１．６８（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０３９２】実施例１１３ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイ
ルメチル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−ア
ミノ−４−メトキシ安息香酸メチルエステルを用い、実
施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３９３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝８．９
１Ｈｚ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，３
Ｈ），４．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９５Ｈｚ），
７．１５−８．６２（ｍ，３Ｈ，フェニル），９．５３
（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６９（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３９４】実施例１１４ ５−〔Ｎ−（５−カルボキシ−２−メトキシフェニル）
カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン 実施例１１３で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノー５−〔Ｎ−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニ
ルフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、
上記目的化合物を得た。
【０３９５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ），４．３１（ｄｄ，１Ｈ），７．１１−８．５７
（ｍ，３Ｈ，フェニル），９．５０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３９６】実施例１１５ ５−〔Ｎ−（４，５−ジメトキシ−２−エトキシカルボ
ニルフェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−４，５−ジメトキシ安息香酸エチルエステルを用
い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３９７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
３３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ），１．９３（ｓ，
３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ，Ｊ＝１６．８３Ｈｚ），３．２
０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，Ｊ＝１６．８３Ｈ
ｚ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），
４．２７−４．３５（ｍ，３Ｈ），７．３９（ｓ，１
Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），１０．７３（ｓ，１
Ｈ），１１．７１（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０３９８】実施例１１６ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４，５−ジメトキシフェ
ニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒ
ドラゾノチアゾリジン−４−オン 実施例１１５で製造した５−〔Ｎ−（４，５−ジメトキ
シ−２−エトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オンを出発原料として用い、実施例１４と同様に
して、上記目的化合物を得た。
【０３９９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），３．０２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ，Ｊ＝１６．５０Ｈ
ｚ），３．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，１
６．８３Ｈｚ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．８１
（ｓ，３Ｈ），４．３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ，８．９０Ｈｚ），７．４４（ｓ，１Ｈ），８．１８
（ｓ，１Ｈ），１１．５４（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４００】実施例１１７ ５−〔Ｎ−（２−ベンジルオキシカルボニル−１（Ｓ）
−メトキシカルボニルエチル）カルバモイルメチル〕−
２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オ
ン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、Ｌ−ア
スパラギン酸α−メチル，β−ベンジルエステルを用
い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４０１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９２（ｓ，３Ｈ），１．９３（ｓ，３Ｈ），２．５７−
２．９９（ｍ，２Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），４．１
８−４．３５（ｍ，１Ｈ），４．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝６．９３Ｈｚ，Ｊ＝１３．５３Ｈｚ），５．１１
（ｓ，２Ｈ），７．３６（ｂｒｓ，５Ｈ），８．６５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ，Ｊ＝７．５９Ｈ
ｚ），１１．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４０２】実施例１１８ ５−〔Ｎ−（α−エトキシカルボニルベンジル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、ＤＬ−
フェニルグリシンエチルエステルを用い、実施例９と同
様にして上記目的化合物を得た。
【０４０３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
１０−１．１４（ｍ，３Ｈ），１．９３（ｓ，３Ｈ），
１．９４（ｓ，３Ｈ），２．６６−２．７６（ｍ，１
Ｈ），２．９９−３．０９（ｍ，１Ｈ），４．０４−
４．１３（ｍ，２Ｈ），４．１５−４．２５（ｍ，１
Ｈ），５．３８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ），７．
３８（ｓ，５Ｈ），８．９１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．２７
Ｈｚ），１１．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４０４】実施例１１９ ５−〔Ｎ−（α−カルボキシベンジル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オン 実施例１１８で製造した５−〔Ｎ−（α−エトキシカル
ボニルベンジル）カルバモイルメチル−２−イソプロピ
リデンヒドラジノチアゾリジン−４−オンを出発原料と
して用い、実施例１４と同様にして、上記目的化合物を
得た。
【０４０５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．６９
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２３Ｈｚ，Ｊ＝１６．５０Ｈ
ｚ），３．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝
１６．８３Ｈｚ），４．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６
３Ｈｚ，Ｊ＝１０．２２Ｈｚ），５．３４（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝７．５９Ｈｚ），７．３２−７．３９（ｍ，５
Ｈ），８．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ）。
【０４０６】実施例１２０ ５−〔Ｎ−（２−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル
フェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−ア
ミノ−４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステルを用い、
実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４０７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９７
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．８０（ｓ，３Ｈ），４．３２（ｄｄ，１
Ｈ），６．９４−８．５４（ｍ，３Ｈ，フェニル），
９．４７（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．８３（ｂｒｓ，１
Ｈ），１１．６９（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４０８】実施例１２１ ５−〔Ｎ−（５−カルボキシ−２−ヒドロキシフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 実施例１２０で製造した５−〔Ｎ−（２−ヒドロキシ−
５−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４０９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝８．９１Ｈ
ｚ），３．２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ
＝３．９６Ｈｚ），４．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９
１Ｈｚ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ），６．９９−８．７４
（ｍ，３Ｈ），９．４８（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．８６
（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．５２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４１０】実施例１２２ ５−〔Ｎ−（４−フルオロフェニル）カルバモイルメチ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−フ
ルオロアニリンを用い、実施例９と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０４１１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．８５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．１４（ｄｄ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ），４．
３２（ｄｄ，１Ｈ），７．１１−７．６０（ｍ，４Ｈ，
フェニル），１０．１７（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６９
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４１２】実施例１２３ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−メチルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オン 実施例８０で製造した５−カルボキシメチル−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン及び
２−アミノ−５−メチル安息香酸メチルエステルを出発
原料として用い、実施例９と同様にして、２−イソプロ
ピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メトキシカルボ
ニル−４−メチルフェニル）カルバモイルメチルイミダ
ゾリジン−４−オンを製造した。これを実施例１４と同
様に操作して、上記目的化合物を得た。
【０４１３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
８９（ｓ，３Ｈ），１．９１（ｓ，３Ｈ），２．２９
（ｓ，３Ｈ），２．７７−２．８１（ｍ，２Ｈ），４．
２５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．６１Ｈｚ），７．３８（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９８Ｈｚ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ），
７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９８Ｈｚ），８．３１
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２５Ｈｚ），１１．１３（ｓ，１
Ｈ）。
【０４１４】実施例１２４ ５−〔Ｎ−（４−ヒドロキシ−２−メトキシカルボニル
フェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデ
ンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−５−ヒドロキシ安息香酸メチルエステルを用い、
実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４１５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．８８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．２８（ｄｄ，１
Ｈ），６．９６−７．７４（ｍ，３Ｈ，フェニル），
９．６９（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．１５（ｂｒｓ，１
Ｈ），１１．６８（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４１６】実施例１２５ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 実施例１２４で製造した５−〔Ｎ−（４−ヒドロキシ−
２−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、
上記目的化合物を得た。
【０４１７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，６Ｈ），２．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝
１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２３Ｈｚ），３．１４（ｍ，
１Ｈ），４．２９−４．３１（ｍ，１Ｈ），６．９７−
８．０９（ｍ，３Ｈ，フェニル），９．６０（ｂｒｓ，
１Ｈ），１０．６７（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６８（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０４１８】実施例１２６ ５−〔Ｎ−〔４−〔（６−アセトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イル）メトキシ〕フェニ
ル〕カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、Ｔ．Ｙ
ｏｓｈｉｏｋａ，Ｔ．Ｆｕｊｉｔａ，Ｔ．Ｋａｎａｉ，
Ｙ．Ａｉｚａｗａ，Ｔ．Ｋｕｒｕｍａｄａ，Ｋ．Ｈａｓ
ｅｇａｗａ，Ｈ．Ｈｏｒｉｋｏｓｈｉ，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃ
ｈｅｍ．，３２，４２１（１９８９）に従って製造した
６−アセトキシ−２−〔（４−アミノフェノキシ）メチ
ル〕−２，５，７，８−テトラメチルクロマンを用い、
実施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４１９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
３３（ｓ，３Ｈ），１．８−２．１（ｍ，１７Ｈ），
２．３０（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．
６０Ｈｚ），２．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５７Ｈ
ｚ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ），３．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝３．９６Ｈｚ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ），３．９７
（ｑ，２Ｈ），４．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ），６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．９０Ｈｚ），７．４５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈ
ｚ），９．９７（ｓ，１Ｈ），１１．６９（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０４２０】実施例１２７ ５−〔Ｎ−〔４−〔（６−ヒドロキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イル）メトキシ〕フェニ
ル〕カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 実施例１２６で製造した５−〔Ｎ−〔４−〔（６−アセ
トキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イル）メトキシ〕フェニル〕カルバモイルメチル〕−２
−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン
０．６ｇをメタノール１０ｍｌに溶かし、１Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液を加えて、室温で２時間撹拌した。反応
液を酢酸エチル−０．１Ｎ塩酸の混合液で抽出した。有
機層をとり、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥後、溶媒を減圧下留去した。淡黄色の無定形粉
末として、上記目的化合物を０．４９ｇ得た。
【０４２１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
２９（ｓ，３Ｈ），１．８−２．１（ｍ，１７Ｈ），
２．５６（ｔ，２Ｈ），２．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
９．５７Ｈｚ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ），３．１２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ，Ｊ＝１６．４９Ｈｚ），
３．９２（ｑ，２Ｈ），４．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．６３Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ），６．９１（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ），７．４５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．９１Ｈｚ），９．９６（ｓ，１Ｈ），１１．７０
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４２２】実施例１２８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−〔３−
（トリフルオロメチル）フェニル〕カルバモイルメチ
ル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−
（トリフルオロメチル）アニリンを用い、実施例９と同
様にして上記目的化合物を得た。
【０４２３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４，１．９５（ｓ，ｓ，６Ｈ），２．９２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝９．２３Ｈｚ，１６．８３Ｈｚ），３．１８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，１６．８３Ｈｚ），
４．３４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ，９．２３Ｈ
ｚ），７．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５９Ｈｚ），７．
５６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ），７．７２（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．２５Ｈｚ），８．０７（ｓ，１Ｈ），１
０．４７（ｓ，１Ｈ），１１．７２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４２４】実施例１２９ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−メ
トキシ−２−メチルフェニル）カルバモイルメチル〕チ
アゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−メ
トキシ−２−メチルアニリンを用い、実施例９と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０４２５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，６Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．８１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．１６Ｈｚ，Ｊ＝９．５
７Ｈｚ），３．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．３０（ｄｄ，１
Ｈ），６．７０−７．２０（ｍ，３Ｈ，フェニル），
９．３８（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６８（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０４２６】実施例１３０ ５−〔Ｎ−（４−フルオロ−２−メトキシカルボニルフ
ェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−５−フルオロ安息香酸メチルエステルを用い、実
施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４２７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．９５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．３１（ｄｄ，１
Ｈ），７．４５−７．９８（ｍ，３Ｈ，フェニル），１
０．３９（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７０（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０４２８】実施例１３１ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−フルオロフェニル）
カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン 実施例１３０で製造した５−〔Ｎ−（４−フルオロ−２
−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル〕
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、
上記目的化合物を得た。
【０４２９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），３．０１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８３Ｈｚ，Ｊ＝８．９
０Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），４．３２（ｄｄ，１Ｈ），７．４４−８．３４
（ｍ，３Ｈ，フェニル），１０．９１（ｂｒｓ，１
Ｈ），１１．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４３０】実施例１３２ ５−〔Ｎ−（３−フルオロ−２−メトキシカルボニルフ
ェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノチアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−６−フルオロ安息香酸メチルエステルを用い、実
施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４３１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．８６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．２８（ｄｄ，１
Ｈ），７．０８−７．５７（ｍ，３Ｈ，フェニル），１
０．２１（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６８（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０４３２】実施例１３３ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−３−フルオロフェニル）
カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン 実施例１３２で製造した５−〔Ｎ−（３−フルオロ−２
−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル〕
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、
上記目的化合物を得た。
【０４３３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（２ｓ，６Ｈ），２．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ
＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．５７Ｈｚ），３．１７（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ），４．２９（ｄｄ，１
Ｈ），７．０４−７．５９（ｍ，３Ｈ，フェニル），１
０．２６（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７５（ｂｒｓ，１
Ｈ）。
【０４３４】実施例１３４ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２−メ
トキシカルボニル−５−メチルフェニル）カルバモイル
メチル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−４−メチル安息香酸メチルエステルを用い、実施
例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４３５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．３５
（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１
６．５０Ｈｚ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），
４．３１（ｄｄ，１Ｈ），７．０２−８．０４（ｍ，３
Ｈ，フェニル）。
【０４３６】実施例１３５ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−５−メチルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オン 実施例１３４で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノ−５−〔Ｎ−（２−メトキシカルボニル−５−メチル
フェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オ
ンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、上
記目的化合物を得た。
【０４３７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．３５
（ｓ，３Ｈ），３．０５（ｄｄ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０
Ｈｚ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），３．２０（ｍ，１Ｈ），
４．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈｚ），６．９７
−８．２８（ｍ，３Ｈ，フェニル），１１．１８（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），１１．７３（ｂｒｓ，１Ｈ），１３．４２
（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４３８】実施例１３６ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−〔３−メ
トキシカルボニル−５−（トリフルオロメチル）フェニ
ル〕カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、３−ア
ミノ−５−（トリフルオロメチル）安息香酸メチルエス
テルを用い、実施例９と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４３９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．８２Ｈｚ，Ｊ＝８．９
１Ｈｚ），３．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），３．９１（ｓ，３Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ），７．８７（ｂｒｓ，１Ｈ），８．２６（ｂｒｓ，
１Ｈ），８．４２（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．７１（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），１１．７２（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４４０】実施例１３７ ５−〔Ｎ−（３−カルボキシ−５−（トリフルオロメチ
ル）フェニル〕カルバモイルメチル〕−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 実施例１３６で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノ−５−〔Ｎ−〔３−メトキシカルボニル−５−トリフ
ルオロメチル）フェニル）カルバモイルメチル〕チアゾ
リジン−４−オンを出発原料として用い、実施例１４と
同様にして、上記目的化合物を得た。
【０４４１】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９４（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．４９Ｈｚ，Ｊ＝８．９
１Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），４．３５（ｄｄ，１Ｈ），７．８５（ｂｒｓ，１
Ｈ），８．２６（ｂｒｓ，１Ｈ），８．３７（ｂｒｓ，
１Ｈ），１０．６８（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７６（ｂ
ｒｓ，１Ｈ）。
【０４４２】実施例１３８ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−〔４−
（トリフルオロメチル）フェニル〕カルバモイルメチ
ル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、４−
（トリフルオロメチル）アニリンを用い、実施例９と同
様にして上記目的化合物を得た。
【０４４３】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），２．９３
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊｇｅｍ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２
４Ｈｚ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９６Ｈ
ｚ），４．３５（ｄｄ，１Ｈ），７．６６−７．７９
（ｍ，４Ｈ，フェニル），１０．４９（ｂｒｓ，１
Ｈ），１１．７１（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４４４】実施例１３９ ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４−メ
トキシ−２−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイ
ルメチル〕チアゾリジン−４−オン ４−アミノ安息香酸エチルエステルの代わりに、２−ア
ミノ−５−メトキシ安息香酸メチルエステルを用い、実
施例９と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４４５】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．９１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈ
ｚ），３．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ
＝３．６３Ｈｚ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．８３
（ｓ，３Ｈ），４．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈ
ｚ，Ｊ＝３．６３Ｈｚ），７．１７−７．８４（ｍ，３
Ｈ，フェニル），１０．２４（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．
７０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４４６】実施例１４０ ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−メトキシフェニル）
カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン 実施例１３９で製造した２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノ−５−〔Ｎ−（４−メトキシ−２−メトキシカルボニ
ルフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−
オンを出発原料として用い、実施例１４と同様にして、
上記目的化合物を得た。
【０４４７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ：１．
９３（ｓ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ），２．９６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ＝９．２４Ｈ
ｚ），３．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５０Ｈｚ，Ｊ
＝３．６３Ｈｚ），３．７７（ｓ，３Ｈ），４．３１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ，Ｊ＝３．６３Ｈ
ｚ），７．１７−８．２１（ｍ，３Ｈ，フェニル），１
０．７６（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７２（ｂｒｓ，１
Ｈ），１３．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
【０４４８】薬理試験 一般式（１）の化合物のメイラード反応阻害作用は以下
に述べるスクリーニング系により確認された。
【０４４９】リゾチームとフルクトースを０．２Ｍリン
酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．４）にそれぞれ１０ｍｇ
／ｍｌ，１００ｍＭの濃度となるように溶解し、３７℃
で３日間インキュベーションした後、一定量を取りだし
ＳＤＳ−ＰＡＧＥを用い、電気泳動を行なった。電気泳
動後、０．２％クマーシー ブリリアント ブルーＲ−
２５０で染色後、デンシトメーターにより二量体の生成
量を定量した。
【０４５０】供試化合物はインキュベーション前に添加
し、さまざまな濃度における二量体生成に対する抑制効
果を調べて、ＩＣ50値を求めた。そして、グリケーショ
ン阻害剤として既知化合物であるアミノグアニジンを陽
性対照とし、ＩＣ50値を用いた対アミノグアニジン比
（アミノグアニジンのＩＣ50値／供試化合物のＩＣ
50値）を求めた。
【０４５１】供試化合物は以下の通りである。
【０４５２】１．５−（４−ベンジルオキシベンジル）
−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４
−オン ２．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−メチルイミ
ダゾリジン−４−オン ３．５−ベンジル−２−イソプロピリデンヒドラゾノイ
ミダゾリジン−４−オン ４．５−（４−ヒドロキシベンジル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン ５．５−〔４−（２，６−ジクロルベンジルオキシ）ベ
ンジル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリ
ジン−４−オン ６．５−〔４−（４−クロルベンジルオキシ）ベンジ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オン ７．５−（４−ヒドロキシフェニル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン ８．５−（４−ヒドロキシベンジル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノ−３−（４−メトキシベンジル）イミ
ダゾリジン−４−オン ９．３−ベンジル−５−（４−ヒドロキシベンジル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン 10．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−フェ
ニルチオベンジル）イミダゾリジン−４−オン 11．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−メチ
ルチオベンジル）チアゾリジン−４−オン 12．５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−イソプ
ロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 13．５−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 14．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−プロ
ピルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン 15．５−〔Ｎ−（４−エトキシカルボニルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オン 16．５−〔Ｎ−（４−カルボキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オン 17．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３
−イル）カルバモイルメチル〕チアゾリン−４−オン 18．５−（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルメチル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オ
ン 19．５−（Ｎ−エトキシカルボニルメチルカルバモイル
メチル）−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジ
ン−４−オン 20．５−カルボキシメチル−３−エトキシカルボニルメ
チル−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オン 21．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−３−フェニルチ
アゾリジン−４−オン 22．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−フェニルチ
アゾール 23．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−メチルチア
ゾール 24．４−（４−クロルフェニル）−２−イソプロピリデ
ンヒドラジノチアゾール 25．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（４−フェ
ニルチオフェニル）チアゾール 26．４−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−イソ
プロピリデンヒドラジノチアゾール 27．４−〔４−（４−クロルベンジルオキシ）フェニ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラジノチアゾール 28．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４，５，６，７
−テトラヒドロベンゾチアゾール 29．９−ベンジルオキシメチル−１，４，５，７−テト
ラアザビシクロ〔４．３．０〕ノナン−５−エン−３，
８−ジオン 30．５−（Ｎ−ベンジルカルバモイルメチル）−２−イ
ソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 31．５−（Ｎ−イソプロピルカルバモイルメチル）−２
−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 32．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェ
ニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン 33．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−ニト
ロベンジル）イミダゾリジン−４−オン 34．５−〔４−（４−クロルフェニルチオ）ベンジル〕
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オン 35．５−〔４−（シクロヘキシルメチルオキシ）ベンジ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オン 36．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（２
−チエニルメトキシ）ベンジル〕イミダゾリジン−４−
オン 37．５−（４−ベンジルベンジル）−２−イソプロピリ
デンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン 38．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（２
−フェニルエトキシ）ベンジル〕イミダゾリジン−４−
オン 39．５−〔４−（４−クロルベンゾイルアミノ）ベンジ
ル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オン 40．５−（３−インドリルメチル）−２−イソプロピリ
デンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン 41．５−（５−ヒドロキシ−３−インドリルメチル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン 42．５−（３，４−ジヒドロキシベンジル）−２−イソ
プロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン 43．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−メトキシカ
ルボニルメチルイミダゾリジン−４−オン 44．５−ベンジルオキシカルボニルメチル−２−イソプ
ロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン 45．５−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノイミダゾリジン−４−オン 46．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェ
ニルカルバモイルメチル）イミダゾリジン−４−オン 47．５−（Ｎ−カルボキシメチルカルバモイルメチル）
−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−
オン 48．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔４−（３
−ピリジルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−４−オ
ン 49．５−〔Ｎ−（３，４−ジフルオロフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オン 50．５−〔Ｎ−（４−ベンジルオキシフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オン 51．５−〔Ｎ−（４−クロルフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オン 52．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４
−メトキシフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジ
ン−４−オン 53．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４
−メチルフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オン 54．５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−メチルフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 55．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４
−メチルチオフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリ
ジン−４−オン 56．５−〔Ｎ−（４−ブロムフェニル）カルバモイルメ
チル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン
−４−オン 57．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−
（３，４，５−トリクロルフェニル）カルバモイルメチ
ル〕チアゾリジン−４−オン 58．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−
（３，４−メチレンジオキシフェニル）カルバモイルメ
チル〕チアゾリジン−４−オン 59．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１
−ナフチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン−４−
オン 60．５−〔Ｎ−（３，５−ジクロルフェニル）カルバモ
イルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾ
リジン−４−オン 61．３−エトキシカルボニルメチル−５−（Ｎ−フェニ
ルカルバモイルメチル）−２−イソプロピリデンヒドラ
ゾノチアゾリジン−４−オン 62．５−（４−ベンジルオキシカルボニルアミノブチ
ル）−２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン
−４−オン 63．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（４−メト
キシカルボニルアミノブチル）イミダゾリジン−４−オ
ン 64．５−（Ｎ−シクロプロピルカルバモイルメチル）−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン 65．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−
４−オン 66．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３
−ピリジルメチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オン 67．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（２−メチ
ルプロピル）イミダゾリジン−４−オン 68．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（３
−イミダゾール−１−イル）プロピルカルバモイルメチ
ル〕チアゾリジン−４−オン 69．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−（Ｎ−モル
ホリノカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オン 70．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−チエニルメチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オン 71．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（４
−モルホリノフェニル）カルバモイルメチル〕チアゾリ
ジン−４−オン 72．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１
−フェニルエチル）カルバモイルメチル〕チアゾリジン
−４−オン 73．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（１
−フェニルエチル）カルバモイルメチル〕イミダゾリジ
ン−４−オン 74．５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−ヒドラ
ゾノイミダゾリジン−４−オン塩酸塩 75．５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−（４−
ブロモベンゼンスルホノヒドラゾノイミダゾリジン−４
−オン 76．２−（４−アセトアミドベンゼンスルホノヒドラゾ
ノ）−５−（４−ベンジルオキシベンジル）イミダゾリ
ジン−４−オン 77．２−シクロペンチリデンヒドラゾノ−５−（４−ベ
ンジルオキシベンジル）イミダゾリジン−４−オン 78．５−（４−イミダゾリルメチル）−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オン 79．５−イソプロピル−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノイミダゾリジン−４−オン 80．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔２−（Ｎ
−フェニルカルバモイル）エチル〕イミダゾリジン−４
−オン 81．２−ヒドラゾノ−５−（Ｎ−フェニルカルバモイル
メチル）チアゾリジン−４−オン 82．２−ジシクロプロピルメチレンヒドラゾノ−５−
（Ｎ−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４
−オン 83．２−シクロヘキシルメチレンヒドラゾノ−５−（Ｎ
−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オ
ン 84．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−メチル−５−メトキシカルボニルフェニル）カルバモ
イルメチル〕チアゾリジン−４−オン 85．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−メトキシカルボニル−４−メチルフェニル）カルバモ
イルメチル〕チアゾリジン−４−オン 86．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−トリフルオ
ロメチルチアゾール 87．４−エトキシカルボニルメチル−２−イソプロピリ
デンヒドラジノチアゾール 88．４−カルボキシメチル−２−イソプロピリデンヒド
ラジノチアゾール 89．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（３−ピリ
ジル）チアゾール 90．５−〔Ｎ−（３，４−ジメトキシフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オン 91．５−〔Ｎ−（５−カルボキシ−２−メチルフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 92．５−〔Ｎ−（２−カルボキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オン 93．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−メトキシカルボニルフェニル）カルバモイルメチル〕
チアゾリジン−４−オン 94．４−〔Ｎ−（３，４−ジメトキシフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラジノチア
ゾール 95．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（２−チア
ゾリル）チアゾール 96．２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−メトキシカルボニル−４−メチルフェニル）カルバモ
イルメチル〕イミダゾリジン−４−オン 97．５−〔Ｎ−（１−エトキシカルボニル−３−メチル
ブチル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 98．４−（４−カルボキシフェニル）−２−イソプロピ
リデンヒドラジノチアゾール 99．２−イソプロピリデンヒドラジノ−４−（３−チエ
ニル）チアゾール 100.５−｛Ｎ−〔１−エトキシカルボニル−２−（４−
ベンジルオキシフェニル）エチル〕カルバモイルメチ
ル｝−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−
４−オン 101.５−｛Ｎ−〔１−カルボキシ−２−（４−ベンジル
オキシフェニル）エチル〕カルバモイルメチル｝−２−
イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 102.２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−｛Ｎ−〔１
−メトキシカルボニル−２−（３−インドリル）エチ
ル〕カルバモイルメチル｝チアゾリジン−４−オン 103.５−〔Ｎ−（１−カルボキシ−３−メチルブチル）
カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾ
ノチアゾリジン−４−オン 104.５−｛Ｎ−〔１−カルボキシ−２−（３−インドリ
ル）エチル〕カルバモイルメチル｝−２−イソプロピリ
デンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 105.５−〔Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）カ
ルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノ
チアゾリジン−４−オン 106.５−〔Ｎ−（３−カルボキシフェニル）カルバモイ
ルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチアゾリ
ジン−４−オン 107.２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−（２
−メトキシカルボニルメチルフェニル）カルバモイルメ
チル〕チアゾリジン−４−オン 108.５−〔Ｎ−（２−カルボキシメチルフェニル）カル
バモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチ
アゾリジン−４−オン 109.２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５（Ｒ）−（Ｎ
−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オ
ン 110.２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５（Ｓ）−（Ｎ
−フェニルカルバモイルメチル）チアゾリジン−４−オ
ン 111. ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−クロルフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 112. ５−〔Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）カルバ
モイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒドラゾノチア
ゾリジン−４−オン 113. ５−〔Ｎ−（５−カルボキシ−２−メトキシフェ
ニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒ
ドラゾノチアゾリジン−４−オン 114. ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４，５−ジメトキ
シフェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリ
デンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 115. ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−
〔３−（トリフルオロメチル）フェニル〕カルバモイル
メチル〕チアゾリジン−４−オン 116. ２−イソプロピリデンヒドラゾノ−５−〔Ｎ−
（４−メトキシ−２−メチルフェニル）カルバモイルメ
チル〕チアゾリジン−４−オン 117. ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−４−フルオロフェ
ニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒ
ドラゾノチアゾリジン−４−オン 118. ５−〔Ｎ−（３−フルオロ−２−メトキシカルボ
ニルフェニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピ
リデンヒドラゾノチアゾリジン−４−オン 119. ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−３−フルオロフェ
ニル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒ
ドラゾノチアゾリジン−４−オン 120. ５−〔Ｎ−（２−カルボキシ−５−メチルフェニ
ル）カルバモイルメチル〕−２−イソプロピリデンヒド
ラゾノチアゾリジン−４−オン 結果を表１〜表３に示す。
【０４５３】
【表１】
【０４５４】
【表２】
【０４５５】
【表３】
【０４５６】製剤例１ 以下の各成分を常法により混合した後打錠して一錠中に
５０ｍｇの活性成分を有する錠剤１００錠を得た。
【０４５７】５−（４−ベンジルオキシベンジル）−２
−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−オ
ン ５ｇ ラウリル硫酸ナトリウム ０．２ｇ ステアリン酸マグネシウム ０．２ｇ 結晶セルロース ４．６ｇ 薬剤例２ ５−〔４−（４−クロルベンジルオキシ）ベンジル〕−
２−イソプロピリデンヒドラゾノイミダゾリジン−４−
オン ５ｇ ポリエチレングリコール（分子量：4000） ０．３ｇ 塩化ナトリウム ０．９ｇ ポリオキシエチレン−ソルビタンモノオレエート０．４
ｇ メタ重亜硫酸ナトリウム ０．１ｇ メチル−バラベン ０．１８ｇ プロピル−バラベン ０．０２ｇ 注射用蒸留水 １０．０ｍｌ 上記バラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを撹拌しながら８０℃で上記の約半量の蒸留水に
溶解させる。得られた溶液を４０℃まで冷却し、本発明
の有効成分化合物、次いでポリエチレングリコール及び
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートを、上記
溶液中に溶解させる。次にその溶液に注射用蒸留水を加
えて最終の容量に調製し、適当なフィルターペーパーを
用いて滅菌瀘過することにより滅菌して、注射剤を調製
する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 417/04 ３３３ Ｃ０７Ｄ 417/04 ３３３ 417/06 ２０７ 417/06 ２０７ ２１３ ２１３ 417/12 ２０９ 417/12 ２０９ ２１３ ２１３ ２３３ ２３３ ３０７ ３０７ ３１１ ３１１ ３１７ ３１７ ３３３ ３３３ 487/04 １４４ 487/04 １４４ 487/08 487/08 (72)発明者 遠山 祐子 滋賀県滋賀郡志賀町高城192−163 (72)発明者 杉山 和久 滋賀県大津市平津１丁目17番28号 セジュ ール平津Ｂ−202

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルコキシカルボニル低
    級アルキル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原
    子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキ
    シ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる基を１〜３個
    有することのあるフェニル低級アルキル基又は置換基と
    してハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級アルキル
    基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から選ば
    れる基を１〜３個有することのあるフェニル基を示す。
    Ｒ2 はアミノ基、フェニル環上に置換基としてハロゲン
    原子、水酸基、アミノ基及び低級アルカノイルアミノ基
    から選ばれる基を有することのあるフェニルスルホニル
    アミノ基又は基−Ｎ＝Ｒ4 （Ｒ4 は低級アルキリデン
    基、低級シクロアルキル基を１〜２個有する低級アルキ
    リデン基、低級シクロアルキリデン基、ジフェニル低級
    アルキリデン基又はフェニル低級アルキリデン基を示
    す）を示す。Ｒ3 は水素原子；低級アルキル基；低級ア
    ルケニル基；フェニル低級アルコキシ低級アルキル基；
    水酸基を有することのあるフェニル基；窒素原子及び硫
    黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１〜２個有
    する５員もしくは６員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基
    （該ヘテロ環はベンゼン環と縮合してもよく、該ヘテロ
    環上及び縮合したベンゼン環上に置換基として水酸基を
    有していてもよい）；基−Ｗ−（ＮＨ）ｂ−ＣＯ−ＯＲ
    5 （Ｗは低級アルキレン基を示し、Ｒ5 は水素原子、低
    級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示し、ｂは
    ０又は１を示す。）；基−Ｚ−ＣＯ−Ｒa ｛該基中Ｚは
    低級アルキレン基を示し、Ｒa は基−Ｔｙｒ（ＯＲa1）
    −ＯＲb1、基−Ｌｅｕ−ＯＲb2、基−Ｔｒｐ−ＯＲb3、
    基−Ａｓｐ（ＯＲa2）−ＯＲb4、基−Ｇｌｙ（Ｐｈ）−
    ＯＲb5（各基中Ｒa1及びＲa2はそれぞれ水素原子又はベ
    ンジル基であり、Ｒb1、Ｒb2、Ｒb3、Ｒb4及びＲb5はそ
    れぞれ水素原子又は低級アルキル基である）又は基−Ｎ
    （Ｒ6 ）−Ｒ7 （Ｒ6 は低級アルキル基、カルボキシ低
    級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
    基、フェニル低級アルキル基、低級シクロアルキル基、
    置換基としてハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級ア
    ルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カ
    ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低
    級アルコキシ基、低級アルキレンジオキシ基、モルホリ
    ノ基、ハロゲン化低級アルキル基、カルボキシ低級アル
    キル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、６
    −ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−ク
    ロマニル−メチルオキシ基及び６−低級アルカノイルオ
    キシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−クロマニル
    −メチルオキシ基から選ばれる基を１〜３個有すること
    のあるフェニル基、ナフチル基、２−オキソ−１，２，
    ３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル基、モルホリ
    ノ基又は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群よ
    り選ばれたヘテロ原子を１〜２個有する５員もしくは６
    員の不飽和ヘテロ環低級アルキル基を示し、Ｒ7 は水素
    原子又は低級アルキル基を示す）を示す｝；又は基 【化２】 ｛Ｂは低級アルキレン基を示し、Ｒ8 は水酸基、ニトロ
    基、アミノ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基、フェノキシ基、フェニル低級アルキル基、
    低級アルキルチオ基、ハロゲン原子を有することのある
    フェニルチオ基、フェニル低級アルキルチオ基、ハロゲ
    ン原子を１〜３個有することのあるベンゾイルアミノ基
    又は基−Ｏ−Ｄ−Ｒ9 （Ｄは低級アルキレン基を示し、
    Ｒ9 はフェニル環上に置換基としてハロゲン原子、水酸
    基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び
    低級アルキルチオ基から選ばれる基を１〜３個有するこ
    とのあるフェニル基（該フェニル環はベンゼン環又はシ
    クロヘキサン環と縮合してもよい）、窒素原子、硫黄原
    子及び酸素原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を１
    個有する５員又は６員の飽和もしくは不飽和ヘテロ環基
    （該ヘテロ環はベンゼン環と縮合してもよく、該ヘテロ
    環上及び該ヘテロ環と縮合したベンゼン環上に置換基と
    して水酸基及び低級アルキル基から選ばれる基を１〜５
    個有していてもよい）又は低級シクロアルキル基を示
    す）を示し、ｎは０又は１〜３の整数を示す｝を示す。
    Ｘは−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ10）−（Ｒ10は水素原子又は低
    級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す）を示
    す。 【化３】 は単結合又は二重結合を示す。但し 【化４】 が単結合を示す時はＡはカルボニル基を示すものとし、 【化５】 が二重結合を示す時はＡはＣ−Ｒ11｛Ｒ11はハロゲン原
    子を１〜３個有することのある低級アルキル基、低級ア
    ルコキシカルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級ア
    ルキル基、ピリジル基、チエニル基、チアゾリル基、フ
    ェニル環上に低級アルコキシ基を１〜２個有することの
    あるフェニルカルバモイル低級アルキル基又は基 【化６】 （Ｒ12はハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、カルボ
    キシ基、フェニルチオ基又はフェニル環上にハロゲン原
    子を１〜３個有することのあるフェニル低級アルコキシ
    基を示し、ｍは０又は１〜３の整数を示す）を示す｝を
    示すものとする。また、上記Ｒ4 とＲ10とは互いに結合
    して−ＣＯＣＨ2−基を形成してもよい（但しこの基を
    形成する場合には、Ａはカルボニル基を示す）。但し、
    Ｒ3 が水素原子を示し且つＡがカルボニル基を示す場合
    には、Ｒ1 は水素原子又は低級アルコキシカルボニル低
    級アルキル基を示してはならない。またＲ3 とＲ11とは
    互いに結合して−（ＣＨ2）4−基を形成してもよい。〕
    で示される化合物及びその塩から選ばれる化合物の少な
    くとも一つを有効成分として含有することを特徴とする
    メイラード反応阻害剤。
  2. 【請求項２】 有効成分が、Ｘが−Ｓ−であり、Ｒ1が
    水素原子であり、Ｒ2が基−Ｎ＝Ｒ4であり、Ｒ3が基−
    Ｚ−ＣＯ−Ｒaであり、 【化７】 が単結合であり、Ａがカルボニル基である請求項１に記
    載の化合物及びその塩から選ばれるものである請求項１
    に記載のメイラード反応阻害剤。
  3. 【請求項３】 有効成分が、２−イソプロピリデンヒド
    ラジノ−５−（Ｎ−フェニルカルバモイルメチル）チア
    ゾリジン−４−オン及びその塩から選ばれるものである
    請求項１に記載のメイラード反応阻害剤。
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