JPH10167704A - オゾン発生装置 - Google Patents

オゾン発生装置

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JPH10167704A
JPH10167704A JP32236496A JP32236496A JPH10167704A JP H10167704 A JPH10167704 A JP H10167704A JP 32236496 A JP32236496 A JP 32236496A JP 32236496 A JP32236496 A JP 32236496A JP H10167704 A JPH10167704 A JP H10167704A
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JP
Japan
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dielectric
increased
electrode
high voltage
ozone
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Pending
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JP32236496A
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English (en)
Inventor
Kaoru Kitakizaki
薫 北寄崎
Masahiko Ieda
正彦 家田
Michio Nishino
民智夫 西野
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Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 空隙部および誘電体4を介して互いに対向配
設された高電圧電極1および接地電極2を有し、高電圧
電極1と接地電極2間に高電圧を印加して前記空隙部内
に流通させた原料ガス中にオゾンを発生させる無声放電
式のオゾン発生装置において、投入電力量に対するオゾ
ン発生量を増加させるとともに、冷却方法を容易ならし
める。 【解決手段】 前記誘電体4としてダイアモンド薄膜を
用いる。例えば、高電圧電極1(金属)に、基板温度8
00℃、膜厚1μmで、自形を持つダイアモンド、すな
わち結晶性の良いファセットの明確な多結晶ダイアモン
ド膜を成膜する。これによって誘電体4の表面積が増え
るため、電極と誘電体の間に発生するストリーマ状放電
柱の数を増やすことができ、その結果電子とO2分子と
の衝突確率が向上し、投入電力量に対するオゾン発生量
を増加させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、水処理や屎尿処理
等に利用される無声放電式のオゾン発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】オゾンは極めて強い酸化力を有し、水の
殺菌、脱臭、脱色等の上下水処理や屎尿処理及び食品関
連における殺菌などの多くの用途に使われている。オゾ
ンの生成法には、紫外線照射法、放射線照射法、プラズ
マ放電法、無声放電法及び水の電気分解法等があるが、
工業的には無声放電法が主体である。
【0003】図2に無声放電法によるオゾン発生装置の
原理を示す。図2において高電圧電極1と接地電極2
は、両者間に空隙部3が形成されるように誘電体4を介
在させて並設されている。両電極1,2間に例えばAC
電圧を印加して空隙部3で無声放電を発生させ、原料と
なるガス(乾燥空気もしくは酸素)をこの空隙部3に通
すことによりオゾンを発生させている。
【0004】オゾンO3の理論収率は、 O2→O+O−118Kcal(吸熱反応) O+O2→O3+25Kcal(発熱反応) より、 3O2→2O3−68Kcal となり、O3を1mol生成するために34Kcal必
要となる。従って理論上の収率は1.2kgO3/KW
hとなる。しかし、消費電力に対するオゾンの生成効率
は理論収率に比べて極めて低く数%に過ぎず、残りの9
0%の電力は熱となりオゾン生成には寄与していないと
いうのがオゾン発生装置の現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】オゾンの生成量に影響
を及ぼす主な因子としては、電極の形状、電極間ギャッ
プの大きさ、誘電体の形状及び材質、電極の冷却方法、
原料ガスの除湿や冷却方法、印加電圧の波形等が挙げら
れる。
【0006】現在のオゾン発生装置は図2で示したよう
に、電極間に空隙が形成されるように誘電体を介在させ
てその空隙部分で放電を起こさせる無声放電を応用する
構造などが主となっている。図2において無声放電が起
こると電極と誘電体間の空隙部3に微小なストリーマ状
放電柱が多数発生し、その放電柱の中を大量の電子が流
れる。その際空隙部分を流れている原料ガス中の酸素分
子O2と電子とが衝突し、衝突電離によって酸素原子O
や励起酸素分子O2*が生成し、酸素分子O2と反応して
オゾンO3が生成される(放電の化学作用)。
【0007】ここでオゾン生成の原理を図3とともに詳
細に説明する。図3において、交流電圧を印加して無声
放電を起こさせる場合、誘電体側の電極1が正で接地側
の電極2が負となるAC電圧の正の半波の電圧上昇時
に、発生した微小なストリーマ状放電柱の中を電子が接
地電極2側から高電位となる誘電体4側に移動し、その
電子はある面積で誘電体4の表面に広がって堆積する。
そして次に発生するストリーマ状放電柱はすでに堆積し
ている多数の電子を避けて、まだ電子が堆積していない
誘電体4の表面の別の箇所に到達して同様に多数の電子
を表面に堆積させる。この繰り返しにより電子が堆積す
る箇所が誘電体4の表面に分散して存在するようにな
る。
【0008】電圧の極性が反転して誘電体4側の電極1
が負で接地側の電極2が正になって無声放電が起こる
と、誘電体表面に堆積していた電子は前記ストリーマ状
放電柱の中を、今度は電位が高くなる接地電極2側へ移
動する。このように電子が電極と誘電体の間を移動する
時に前述のような原料ガス中の酸素分子O2と衝突して
オゾンO3が生成されるわけである。しかし実際には原
料ガス中の酸素分子O2と電子とが衝突する確率は低
く、従って投入している電力量の割には生成されるオゾ
ンO3の量が少ないという問題点がある。
【0009】また安定な無声放電を発生させるために
は、電極間ギャップ長を1〜2mm程度以下にするとと
もに、ギャップ長を均一にして放電をギャップ部分で一
様に発生させる必要がある。しかし微小なギャップ部分
を均一に保つことが難しく、従って安定な無声放電が得
られにくい。オゾン発生装置が大形になればなる程この
問題が生じてくる。
【0010】また高電圧印加中に上昇する電極および誘
電体の温度が、電極間が狭いためにギャップ部分に伝わ
り易く、そのため生成されたオゾンO3が分解して酸素
2に戻ってしまうなどの問題があって、オゾンの生成
効率を向上させることが難しい。
【0011】現在の大型オゾン発生装置の高圧電極部
は、一般には誘電体管としてガラス管に金属コーティン
グを施したものが用いられている。放電時の誘電体自身
の温度上昇によるオゾン発生濃度の低下も問題となって
いる。しかも構造上ガラス管の冷却水による直接冷却も
困難である。
【0012】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
その目的は、投入電力量に対するオゾン発生量を増加さ
せるとともに、冷却を容易としたオゾン発生装置を提供
することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、空隙部および
誘電体を介して互いに対向配設された高圧電極および接
地電極を有し、前記高圧電極と接地電極間に高電圧を印
加して前記空隙部内に流通させた原料ガス中にオゾンを
発生させる無声放電式のオゾン発生装置において、
(1)前記誘電体としてダイアモンド薄膜を用いたこと
を特徴とし、(2)前記ダイアモンド薄膜は自形面を有
する結晶性の良いダイアモンド膜であることを特徴とし
ている。
【0014】
【発明の実施の形態】オゾンを少ない消費電力でより多
く発生させてオゾン生成効率を向上させるには電子とO
2分子とが衝突する確率を上げる必要がある。そのため
には発生するストリーマ状放電柱の数を増やすことが重
要になる。ストリーマ状放電柱を増やすには、誘電体の
表面積を増大させることによって印加電圧が正の時に生
じる放電により、電子が誘電体表面に分散して堆積する
個所が多くなるようにすれば良い。
【0015】機器のスペースの関係上誘電体を大きくす
ることはできない。したがって誘電体の大きさを変えず
に表面積を増やすために、誘電体表面にサンドブラスト
加工をする試みがすでになされている。
【0016】本発明では、誘電体としてダイアモンド薄
膜を用いることを試みた。ダイアモンド膜は成膜方法及
び成膜条件によって下地の金属に、自形を持たない膜が
形成されたり、明確な自形を有する多結晶膜が形成され
たりする。自形を持つダイアモンドすなわち結晶性の良
いファセットの明確な多結晶ダイアモンド膜は一般に1
μmあるいはそれ以下の大きさの結晶粒となる。このよ
うなファセットの明確な粒径1μm程度のダイアモンド
膜は従来のサンドブラスト加工(#500,#100
0,#1500)を施した表面の凹凸状態よりも凹凸が
増加し表面積が増加した。
【0017】またこのダイアモンド膜はファセットを形
成しているため、従来のサンドブラスト加工(#50
0,#1000,#1500)を施した表面よりもミク
ロンオーダーの凹凸が増加し、ダイアモンド膜先端の電
界が集中することにより電子の誘電体表面に分散して堆
積する個所が多くなった。
【0018】
【実施例】
実施例1.基板に銅の多結晶(純度99.9%、サイズ
100×100×1mm3)を用い、前処理として2〜
4μmのダイアモンド粉を用いてエタノール中で銅表面
に傷を付けた。原料ガスとしてCH4(2%)+O2(1
%)/H2とし、50Torrの真空中でマイクロ波C
VD装置を用い成膜した。マイクロ波出力電力は500
W、基板温度800℃とし、膜厚は約1μmとした。
【0019】実施例2.基板温度500℃、マイクロ波
出力電力は1.3kWとした以外は実施例1と同一の条
件で成膜を行った。膜厚は約1μmとし、実施例1と膜
厚を同一にした。
【0020】実施例3.原料ガスとしてCH3OH(1
5%)/H2として、0.1Torrの真空中でマイク
ロ波出力電力1.2kWで成膜した。基板温度は100
℃以下であった。膜厚は約1μmとし、実施例1と同一
にした。
【0021】実施例1,2,3の条件で成膜されたダイ
アモンド薄膜の表面形状を、それぞれ走査型電子顕微鏡
で観察した。その結果、実施例1のダイアモンド薄膜
は、自形を持つダイアモンド、すなわち結晶性の良いフ
ァセットの明確な多結晶ダイアモンド膜となった。
【0022】実施例2のダイアモンド薄膜は平坦ではな
いがカリフラワー様の表面形状をしていた。ファセット
は見られず結晶性に関しては、実施例1よりも悪い膜と
思われる。
【0023】実施例3のダイアモンド薄膜は実施例2よ
りもさらに平坦度が増し、ミクロンオーダーの凹凸はほ
とんどみられなかった。
【0024】
【発明の効果】誘電体としてダイアモンド薄膜を用いた
平板型オゾン発生電極を用いた場合の単位面積当たりの
放電電力に対するオゾン発生量の関係は図1のとおりで
ある。この図から、カリフラワー様の表面形状をしてい
た実施例2のダイアモンド薄膜は、ミクロンオーダーの
凹凸がほとんど見られない実施例3の試料よりもオゾン
発生量が増加したことが判る。
【0025】また実施例1で示された、基板温度800
℃で成膜した自形を持つダイアモンド、すなわち結晶性
の良いファセットの明確な多結晶ダイアモンド膜を用い
ると、オゾン発生量が実施例2、3の試料よりも増加す
るのが判る。
【0026】以上のことから、結晶性の良いダイアモン
ド薄膜を誘電体として用いることによって、誘電体表面
積が増えるために、電極と誘電体の間に発生するストリ
ーマ状放電柱の数を増やすことができ、その結果電子と
2分子との衝突確率が向上したため、投入電力量に対
するオゾン発生量を増加させることができることが判
る。
【0027】また、従来の高圧電極部は一般には誘電体
管としてガラス管に金属コーティングを施したものが用
いられており、放電時の誘電体自身の温度上昇によるオ
ゾン発生濃度の低下も問題となっている。しかも構造
上、ガラス管の冷却水による直接冷却も困難であった。
しかし本発明によれば、高圧電極部は金属であり、誘電
体自身は厚み1μm程度であることから、冷却方式は従
来と比較して格段に容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の装置と従来装置の、放電電力に対する
オゾン発生量の関係を表す特性図。
【図2】無声放電法によるオゾン生成の概要を示す説明
図。
【図3】無声放電法によるオゾン生成の原理を示す説明
図。
【符号の説明】
1…高電圧電極 2…接地電極 3…空隙部 4…誘電体

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空隙部および誘電体を介して互いに対向
    配設された高圧電極および接地電極を有し、前記高圧電
    極と接地電極間に高電圧を印加して前記空隙部内に流通
    させた原料ガス中にオゾンを発生させる無声放電式のオ
    ゾン発生装置において、前記誘電体としてダイアモンド
    薄膜を用いたことを特徴とするオゾン発生装置。
  2. 【請求項2】 前記ダイアモンド薄膜は自形面を有する
    結晶性の良いダイアモンド膜であることを特徴とする請
    求項1に記載のオゾン発生装置。
JP32236496A 1996-12-03 1996-12-03 オゾン発生装置 Pending JPH10167704A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151295A (ja) * 2000-11-13 2002-05-24 Yaskawa Electric Corp 放電発生装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151295A (ja) * 2000-11-13 2002-05-24 Yaskawa Electric Corp 放電発生装置

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