JPH10154658A

JPH10154658A - 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置

Info

Publication number: JPH10154658A
Application number: JP9213266A
Authority: JP
Inventors: Yoneta Tanaka; 米太田中; Hiromi Kai; 広海甲斐
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 1996-09-27
Filing date: 1997-08-07
Publication date: 1998-06-09
Anticipated expiration: 2017-08-07
Also published as: US6046793A; JP3334569B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ワークへの光の照射角度を変えることができ
るプロキシミティ露光装置を提供すること。【解決手段】出射部１０ｂは基台２１上に固定され、
光源部１０ａは軸受２６，２７により軸支されている。
ランプ１が放出する光は楕円集光鏡２で集光され、マス
クＭを介してワークＷに照射される。基台２１の両端部
は円弧状アーム２２，２３のガイドに係合しており、基
台２１を回動させることで出射部１０ｂが傾きワークＷ
に斜め方向から光を照射することができる。光源部１０
ａは軸受２６，２７により支持されており、基台２１を
傾けても光源部１０ａのランプを垂直状態に保持でき
る。また、ボールスプライン等で光源部１０ａの移動方
向を水平方向に規制し、図示しない駆動手段により光源
部１０ａを移動させることにより、光源部１０ａを垂直
に保持したまま出射部１０ｂを傾けることもできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスクを通した光
をワークに照射して露光するプロキシミティ露光装置に
関し、さらに詳細には、ワークに照射する光の角度を変
えることができるプロキシミティ露光装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子や液晶画面、あるいは、一枚
の基板の上に多種多数の電気素子を製作して一つのモジ
ュールにするマルチチップ・モジュール等、ミクロンサ
イズの加工が必要である様々の電気部品の製作工程に露
光工程が用いられている。上記露光工程における露光方
式の一つにマスクとワークの間にわずかな間隙を設けた
状態で平行光を照射するプロキシミティ露光方式があ
る。プロキシミティ露光方式は、密着露光方式に比べ、
マスクとワークが接触しないためにマスクに汚れが付き
にくく、マスクが長寿命であるという利点を持つ。

【０００３】図８はプロキシミティ露光装置の概略構成
を示す図である。同図において、１０は光照射装置であ
り、光照射装置１０は、紫外線を含む光を放射する超高
圧水銀ランプ等の放電ランプ１と、楕円集光鏡２と、第
１のミラー３と、インテグレータレンズ４とシャッタ５
と、第２のミラー６と、コリメータレンズ７から構成さ
れている。そして、放電ランプ１が放射する紫外光を含
む光は、楕円集光鏡２で集光され、第１のミラー３で反
射し、インテグレータレンズ４に入射する。インテグレ
ータレンズ４から出た光は、シャッタ５を介してさらに
第２のミラー６で反射し、コリメータレンズ７を介して
光照射装置１０から出射する。１１はマスクステージで
あり、マスクステージ１１にはマスクＭが載置・固定さ
れる。１２はワークステージ、１２ａはギャップ調整機
構、１３はＸＹＺθステージ、Ｗはワークであり、ワー
クＷはワークステージ１２上に載置固定される。

【０００４】ＡＭはアライメント顕微鏡であり、アライ
メント顕微鏡ＡＭによりマスクＭのマスクアライメント
マークＭＡＭと、ワークＷのワークアライメントマーク
ＷＡＭを観察し、マスクＭとワークＷのアライメントを
行ったのち、マスクＭを介して上記光照射装置から紫外
光を含む光を照射する。ＸＹＺθステージ１３は、図示
しないステージ駆動機構により駆動され、ワークステー
ジ１２をＸＹＺθ（Ｘは図８の左右方向、Ｙは同図の前
後方向、Ｚは同図の上下方向、θはワークステージ面に
垂直な軸を中心とした回転）に移動させる。また、ギャ
ップ調整機構１２ａはマスクＭとワークＷを所定の間隙
で平行状態にセットするために設けられたものであり、
本出願人が先に特開平７−７４０９６号公報に開示した
間隙設定機構等を使用して実現することができる。

【０００５】図８において、ワークＷへの露光は次のよ
うに行われる。まず、マスクＭをマスクステージ１１の
所定の位置にセットし固定する。次に、ＸＹＺθステー
ジ１３を駆動してワークステージ１２を下降させ、ワー
クＷをワークステージ１２に載置する。ついで、ＸＹＺ
θステージ１３を駆動してワークステージ１２を上昇さ
せ、ワークＷをマスクＭに接触させたのち、ワークＷを
さらに上昇させる。これにより、ギャップ調整機構１２
ａが変位して、マスクＭの全面がワークＷと接触し、マ
スクＭとワークＷの傾きは一致する。

【０００６】次に、ギャップ調整機構１２ａの変位状態
を保持させたままで、ＸＹＺθステージ１３を駆動して
ワークステージ１２を所定量下降させる。これにより、
マスクＭとワークＷは平行にかつその間隔が一定に設定
される。ワークＷとマスクＭの間隔が一定値に設定され
ると、アライメント顕微鏡ＡＭによりマスクＭ上に印さ
れたマスクアライメントマークＭＡＭとワークＷ上に印
されたアライメントマークＷＡＭを観察し、ＸＹＺθス
テージ１３を駆動してワークステージ１２をＸＹθ方向
に移動させ、マスクアライメントマークＭＡＭとワーク
アライメントマークＷＡＭの位置を一致させ、光照射部
１０より紫外光を含む光をマスクＭ上に照射しワークＷ
を露光する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、図９
に示すように、段差部分に配線パターンがあるワークに
紫外線を含む光を照射して露光したり、あるいは、立体
構造のワークに紫外線を含む光を照射して露光すること
が要求されるようになってきた。上記ワークに紫外線を
含む光を照射して露光する場合、マスクに対して垂直に
光を照射しても段差部分を充分に露光することができな
い。すなわち、図１０（ａ）（ｂ）に示すように段差部
分があるワークを露光する場合には、光を斜めから照射
しないと段差部分あるいは垂直面を充分に露光すること
はできない。

【０００８】前記した従来のプロキシミティ露光装置に
おいては、光照射装置１０がマスクステージ１１および
ＸＹＺθステージ１３の上方に固定的に設置されてお
り、紫外線を含む光をマスクＭおよびワークＷ面に斜め
から照射することはできず、上記した要求に応えること
ができなかった。本発明は上記した事情を考慮してなさ
れたものであり、本発明の第１の目的は、ワークへの光
の照射角度を変えることができるプロキシミティ露光装
置を提供することである。本発明の第２の目的は、放電
ランプを備えた光源部を垂直状態に保持したまま、ワー
クに対する照射角度を任意に設定・位置決めすることが
可能であり、外力が加わっても設定した照射角度からず
れることがないプロキシミティ露光装置を提供すること
である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を本発明におい
ては、次のように解決する。（１）紫外線を含む光を放出する光照射部と、マスク
と、該マスクを保持するマスクステージと、ワークと、
該ワークを保持するワークステージとを備えたプロキシ
ミティ露光装置において、上記光照射部からの光がワー
クに対して斜め方向から照射されるように光照射部を傾
ける機構を設ける。上記のように光照射部を傾ける機構
を設け、光をワークの斜め方向から照射できるようにす
ることにより、前記したワークの段差部分等に斜め方向
から光を照射することができ、段差のあるワークやその
他斜め方向から光を照射するワークに効果的に光を照射
することができる。（２）光照射部を固定する傾斜台と、傾斜台を回動案内
を介して回動可能に保持するベースと、上記傾斜台に回
転軸受けを介して回転可能に接続され、放電ランプから
放出される紫外光を含む光を上記光照射部に供給する光
源部と、上記光源部の駆動方向を水平方向に規制する水
平方向案内手段と、光源部を上記水平方向案内手段に沿
って水平方向に駆動する駆動手段と、上記水平方向案内
手段を保持する保持手段と、上記保持手段を、直動案内
手段を介して上下方向に移動可能に支持する支持手段と
を設ける。そして、上記駆動手段を駆動することによ
り、光源部を垂直に保持したまま、上記光照射部を傾
け、該光照射部からの光をワークに対して斜め方向から
照射する。上記構成とすることにより、放電ランプを備
えた光源部を垂直状態に保持したまま、ワークに対する
照射角度を任意に設定・位置決めすることができる。ま
た、光源部に外力が加わった場合でも、光源部を垂直に
維持することができ、ランプハウスに対して外力が加わ
った場合でも、設定した照射角度からずれることがな
い。

【００１０】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例のプ
ロキシミティ露光装置の全体構成を示す図である。同図
において、１０ａは光源部、１０ｂは出射部であり、光
源部１０ａ、出射部１０ｂで光照射装置１０を構成して
いる。光源部１０ａおよび出射部１０ｂには、前記図８
と同様、紫外線を含む光を放射する超高圧水銀ランプ等
の放電ランプ１と、楕円集光鏡２と、第１のミラー３
と、インテグレータレンズ４とシャッタ５と、第２のミ
ラー６と、コリメータレンズ７が設けられている。そし
て、放電ランプ１が放射する紫外光を含む光は、楕円集
光鏡２で集光され、第１のミラー３で反射し、インテグ
レータレンズ４に入射する。インテグレータレンズ４か
ら出た光は、シャッタ５を介してさらに第２のミラー６
で反射し、コリメータレンズ７を介して光照射装置１０
から出射する。

【００１１】１１はマスクステージ、１２はワークステ
ージ、１２ａはギャップ調整機構、１３はＸＹＺθステ
ージ、Ｍはマスク、Ｗはワークであり、マスクＭはマス
クステージ１１上に載置固定され、ワークＷはワークス
テージ１２上に載置固定される。ＡＭはアライメント顕
微鏡であり、アライメント顕微鏡ＡＭによりマスクＭの
マスクアライメントマークＭＡＭと、ワークＷのワーク
アライメントマークＷＡＭを観察し、マスクＭとワーク
Ｗのアライメントを行ったのち、マスクＭを介して上記
光照射装置１０から紫外光を含む光を照射する。ＸＹＺ
θステージ１３は、前記したように、図示しないステー
ジ駆動機構により駆動されワークステージ１２をＸＹＺ
θ方向に移動させる。また、ギャップ調整機構１２ａは
前記したようにマスクＭとワークＷを所定の間隙で平行
状態にセットするために使用される。

【００１２】出射部１０ｂは基台２１上に固定されてお
り、基台２１の左右両側の突起部２１ａは、図示しない
支持部材に固定された円弧状アーム２２，２３に設けら
れたガイドに係合しており、基台２１は円弧状アーム２
２，２３のガイドに沿って手前側に回動する。また、基
台２１には軸受支持体２４，２５が取り付けられてお
り、軸受支持体２４，２５には、第１、第２の軸受２
６，２７が取り付けられている。第１の軸受２６は、光
源部１０ａの第１の円筒状突起部２６ａを回転可能に支
持しており、また、第２の軸受２７は光源部１０ａの第
２の円筒状突起部２７ａを回転可能に支持している。こ
のため、光源部１０ａは上記第１、第２の円筒状突起部
２６ａ，２７ａの中心を結ぶ線を軸として回転できる。
第２の軸受け２７、第２の円筒状突起部２７ａは中空で
あり、内部を同図に示すようにインテグレータレンズ４
から出射した光が通過する。

【００１３】図２は上記光照射部の外観図、図３はその
分解図、図４は光照射部を図１のＡ方向から見た図であ
り、同図は円弧状アーム２２，２３に沿って基台２１が
略４５°回動した状態を示している。次に図２，図３，
図４により本実施例の光照射部の構成についてさらに詳
細に説明する。

【００１４】図２，図３に示すように、基台２１の４隅
には突起部２１ａが設けられており、前記したように、
突起部２１ａは円弧状アーム２２，２３に形成された円
弧状のガイド２２ａ，２３ａに係合している。このため
基台２１は上記円弧状のガイド２２ａ，２３ａに沿って
回動する。基台２１には、図３に示すように第１の開口
部２１ｂ，第２の開口部２１ｃが設けられている。出射
部１０ｂは基台２１に取り付けられ、出射部１０ｂの光
出射口部３０が上記第１の開口部２１ｂに嵌合する。ま
た、基台２１には軸受支持体２４，２５が取り付けられ
ており、光源部１０ａの前記した円筒状突起部２６ａ，
２７ａを軸支する第１、第２の軸受２６，２７が上記軸
受支持体２４，２５に取り付けられる。出射部１０ｂに
は穴３２が設けられており、穴３２に上記第２の軸受２
７が嵌合する。

【００１５】本実施例の光照射装置１０を組み立てるに
は、基台２１の突起部２１ａを円弧状アーム２２，２３
のガイド２２ａ，２３ａに係合させて、基台２１を円弧
状アーム２２，２３に取り付けるとともに、図３に示す
ように、基台２１の開口部２１ｂに出射部１０ｂの光出
射口３０を嵌合して、出射部１０ｂを基台２１に固定す
る。ついで、光源部１０ａに取り付けられた第２の軸受
２７を上記出射部１０ｂの穴３２に嵌合し、第１、第２
の軸受２６，２７を軸受支持体２４、２５に固定する。
これにより、図２に示す本実施例の光照射部が組み立て
られる。本実施例の光照射部は、上記のように光源部１
０ａが第１、第２の軸受２６，２７により基台２１に対
して回転可能に取り付けられているので、基台２１が円
弧状アーム２２，２３に沿って回動したとき、光源部１
０ａの放電ランプ１を垂直に保持することができる。

【００１６】図４は、基台２１を略４５°傾けたときの
状態を示す図であり、同図に示すように、基台２１を傾
けるとそれに応じて出射部１０ｂも、傾き被照射体に斜
めから光を照射することができる。このとき、光源部１
０ａは同図に示すように垂直に保持される。点灯時、放
電ランプが垂直状態に保持されていれば、アークは図５
（ａ）に示すように電極間で正常な形状に維持される
が、放電ランプが傾くと図５（ｂ）に示すようにアーク
の形状が変形する。このようにアークの形状が変形する
と、ランプの管壁の温度が上昇し、放電ランプが破裂す
る可能性がある。このため、点灯時、放電ランプを垂直
に維持する必要があるが、上記のような構造とすること
により、放電ランプを垂直に保持することができ、放電
ランプの破裂を避けることができる。なお、光源部１０
ａを常に垂直状態に保持するには、例えば、光源部１０
ａの下部に重り等を取り付ければよい。また、円弧状ア
ーム２２，２３の円弧の中心部Ｏは、光照射面の中心部
と略一致するように設定されている。よって、出射部１
０ｂから出射される光の光軸が、基台２１を回動させて
も常に光照射面の略中心部を通るので、以下に示す露光
が確実に行えることになる。

【００１７】次に本実施例のプロキシミティ露光装置に
よる露光処理について説明する。図１に戻り、まず、マ
スクＭをマスクステージ１１の所定の位置にセットし固
定する。次に、ＸＹＺθステージ１３を駆動してワーク
ステージ１２を下降させ、例えば、前記図１０（ａ）に
示すような段差部分のあるワークＷをワークステージ１
２に載置する。ついで、前記した手順で、マスクＭとワ
ークＷを平行にかつその間隔が一定になるようにセット
し、マスクＭ上に印されたマスクアライメントマークＭ
ＡＭとワークＷ上に印されたワークアライメントマーク
ＷＡＭの位置を一致させる。

【００１８】次に、基台２１を水平状態にセットし、マ
スクＭを介してワークＷに垂直方向から光を１ショット
照射する。ついで、基台２１を前記した円弧状アーム２
２，２３のガイドに沿って回動させて前記図４に示した
ように出射部１０ｂを傾け、ワークＷの段差部分に光が
当たるように、斜めから光を１ショット照射する。これ
によりワークＷの段差部分を露光することができる。な
お、上記説明では、段差のあるワークに対して斜めから
光を照射して露光する場合について説明したが、例え
ば、液晶基板に斜めから光を照射し、配向膜の光配向処
理等を行うこともできる。また、上記実施例では、マス
クを水平に保持して露光する場合について説明したが、
マスクステージを傾ける機構を設け、前記図１０（ａ）
（ｂ）に示す形状のワークを露光する際、ワークに対し
てマスクを傾けて露光してもよい。

【００１９】図６は本発明の第２の実施例のプロキシミ
ティ露光装置の構成を示す図であり、本実施例は、モー
タ等から構成される駆動機構を用い、光源部を垂直に保
持しながら出射部を傾ける機構を備えた実施例を示して
いる。図６において、４１はベースであり、ベース４１
のＡ部分は開口しており、ベース４１の両側にはＲガイ
ド支持部４１ａ，４１ｂが設けられている。また、Ｒガ
イド支持部４１ａ，４１ｂには、円弧状のＲガイド４２
が取り付けられており、Ｒガイド４２には、Ｒガイド４
２に沿って移動可能なＲガイドベアリングサポータ４３
ａ，４３ｂが取り付けられている（同図ではＲガイドが
一つしか示されていないが、Ｒガイド支持部４１ａ，４
１ｂのそれぞれにＲガイドが設けられている）。

【００２０】Ｒガイドベアリングサポータ４３ａ，４３
ｂには、傾斜台４０が取り付けられており、Ｒガイドベ
アリングサポータ４３ａ，４３ｂがＲガイド４２に沿っ
て移動すると傾斜台４０は傾斜する。また、Ｒガイドベ
アリングサポータ４３ｂには、傾斜角度指示指針４４が
取り付けられ、またＲガイド支持部４１ｂには角度表示
目盛り４５が記されている。傾斜台４０上には、出射部
１０ｂと、軸受け支持体２４，２５が取り付けられてお
り、軸受け支持体２４，２５には第１、第２の軸受２
６，２７が取り付けられ、第１、第２の軸受２６，２７
により光源部載置台４６が回転可能に支持されている。
すなわち、光源部載置台４６は第１、第２の軸受２６，
２７の中心を結ぶ軸を中心として回転する。

【００２１】光源部載置台４６には、一点鎖線で示した
光源部１０ａが載置され、傾斜台４０の光源部載置台４
６の下側は開口している。なお、光源部１０ａと出射部
１０ｂには、前記図１に示したように、紫外光を含む光
を放射する放電ランプと楕円集光鏡と、第１のミラー
と、インテグレータレンズとシャッタと、第２のミラー
と、コリメータレンズが設けられている。また、出射部
１０ｂの下側には、前記図１に示したように、マスクス
テージ１１とワークステージ１２が配置されており、出
射部１０ｂから放射される光がマスクステージ１１に載
置されたマスクＭを介してワークＷ上に照射される。ま
た、ベース４１には移動板支持体４７が取り付けられて
おり、移動板支持体４７には、直線ガイド４８を介して
移動板４９が取り付けられている。このため、移動板４
９は、上記直線カイド４８に沿って上下方向に移動可能
である。

【００２２】なお、図６には図示していないが、移動板
支持体４７の裏面側には重りが上下方向に移動可能に設
けられており、移動板４９と上記重りはワイヤ等で連結
され、ワイヤは移動板支持体４７の上に取り付けられた
滑車により支持されている（上記重り、滑車、ワイヤに
ついては、図７で後述する）。移動板４９には、ボール
ねじ５０とボールスプライン５１が取り付けられてお
り、ボールねじ５０は移動板４９とともに移動するモー
タ５２により回転駆動される。モータ５２はブレーキ付
きモータであり、カップリングを介してボールねじ５０
に連結されている。

【００２３】ボールねじ５０にはボールねじベアリング
部５３が係合しており、ボールねじベアリング部５３に
光源部載置台４６が取り付けられている。また、ボール
スプライン５１には、光源部載置台４６がボールスプラ
イン５１の軸方向に移動可能に取り付けられている。し
たがって、モータ５２を駆動すると、光源部載置台４６
は垂直状態を保持したままボールスプライン５１の軸方
向に移動し、また、傾斜台４０および出射部１０ｂはＲ
ガイド４２に沿って移動し傾斜する。

【００２４】図７は本実施例において、傾斜台４０、出
射部１０ｂを傾けたときの状態を説明する図である。同
図（ａ）は傾きが０°の状態、同図（ｂ）は傾きが４５
°の場合を示しており、図６に示したものと同一のもの
には同一の符号が付されており、同図では、モータ５２
は省略されている。同図に示すように、移動板支持体４
７の移動板４９の裏面側には重り５４が設けられてお
り、移動板支持体４７の上部には滑車５５が取り付けら
れている。そして、滑車５５にワイヤ５６が掛けられて
おり、ワイヤ５６の両端に移動板４９と重り５４が取り
付けられている。重り５４の重さは、〔移動板４９＋モ
ータ５２＋ボールねじ５０＋ボールスプライン５１〕と
略等しくされ、重り５４により、移動板４９等の重量を
相殺することができる。このため、傾斜台が傾いたとき
でも、ボールねじ５０とボールスプライン５１には移動
板４９とモータ５２の重さがかからず、ボールねじ５０
とボールスプライン５１にまげ力が働くことを防ぐこと
ができる。

【００２５】さて、図７（ａ）の状態からモータ５２を
駆動すると、ボールねじ５０が回転しボールねじベアリ
ング部５３が同図の右方向に移動し、これに固定された
光源部載置台４６も移動する。光源部載置台４６はボー
ルスプライン５１により姿勢が規制されているので、ボ
ールスプライン５１に平行に移動する。一方、傾斜台４
０は光源部載置台４６と２個の軸受２６，２７によって
連結されているので、光源部載置台４６が水平方向に移
動するに従って、傾斜台４０はＲガイド４２に沿って傾
斜する。また、上記のように傾斜台４０が傾斜すると、
光源部載置台４６を下方に移動させる力が働き、ボール
ねじ５０、ボールスプライン５１が取り付けられた移動
板４９が下降する。

【００２６】以上のように、モータ５２を駆動してボー
ルねじ５０を回転させることにより、図７（ｂ）に示す
ように傾斜台４０に固定された出射部１０ｂは、２個の
軸受２６，２７の中心軸を中心に回転移動し、光源部１
０ａは光源部載置台４６に固定されて垂直状態を維持し
たまま下方に移動する。傾斜台４０が傾くとそれととも
に傾斜角度指示針４４が移動し、Ｒガイド支持部４１ｂ
に記された角度表示目盛４５により傾斜角度が表示され
る。上記角度表示目盛４５により傾斜角度を確認し、設
定した傾斜角度まで出射部１０ｂが傾いたときモータ５
２を停止する。これによりモータ５２にブレーキがかか
り、出射部１０ｂは所定の角度で固定される。

【００２７】本実施例においては、上記のように、光源
部１０ａがボールスプライン５１により保持された光源
部載置台４６に載置されているので、光源部１０ａに外
力が加わった場合でも、光源部１０ａを垂直に維持する
ことができ光源部１０ａが傾くことがない。ボールねじ
５０をモータ５２により駆動・停止させることで、ワー
クに対する照射角度を任意に設定・位置決めすることが
でき、ランプハウスに対して外力が加わった場合でも、
設定した照射角度からずれることがない。

【００２８】また、傾斜台４０はＲガイド４２に沿って
移動するので、垂直照射時と斜め照射時のいずれにおい
ても、光源部１０ａからの照射中心は変化せず、ワーク
をワークステージの所定の位置で精度よく露光すること
ができる。本実施例のプロキシミティ露光装置による露
光処理は、前記第１の実施例で説明したのと同様であ
り、斜め方向から光を照射して露光する場合には、モー
タ５２を駆動して、出射部１０ｂをワークに対して所望
の角度に傾け、段差のあるワークの段差部分、あるい
は、液晶基板等を露光する。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
以下の効果を得ることができる。（１）光照射部を傾ける機構を設け、光をワークの斜め
方向から照射できるようにしたので、前記したワークの
段差部分等に効果的に光を照射することができる。ま
た、液晶基板の配向膜の光配向等に利用することもでき
る。（２）水平方向案内手段に沿って光源部を水平方向に駆
動する駆動手段を設けたので、該駆動手段を駆動・停止
させることで、ワークに対する照射角度を任意に設定・
位置決めすることができる。また、ランプハウスに対し
て外力が加わった場合でも、設定した照射角度からずれ
ることがない。

【００３０】（３）光源部を、水平移動案内により水平
方向に移動が規制された光源部載置台に載置しているの
で、光源部に外力が加わった場合でも、光源部を垂直に
維持することができる。（４）傾斜台を回動案内に沿って移動させることによ
り、垂直照射時と斜め照射時のいずれにおいても、光源
部からの照射中心は変化せず、ワークをワークステージ
の所定の位置で精度よく露光することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例のプロキシミティ露光装置の全
体構成を示す図である。

【図２】本発明の実施例の光照射部の外観図である。

【図３】本発明の実施例の光照射部の分解図である。

【図４】本発明の実施例の光照射部が傾いた状態を示す
図である。

【図５】ランプが傾いたときのアークの状態を示す図で
ある。

【図６】本発明の第２の実施例を示す図である。

【図７】第２の実施例の光照射部が傾いた状態を示す図
である。

【図８】従来のプロキシミティ露光装置の概略構成を示
す図である。

【図９】段差部分のあるワークの一例を示す図である。

【図１０】段差部分のあるワーク等を露光する場合の光
の照射方向を説明する図である。

【符号の説明】

１放電ランプ２楕円集光鏡３第１のミラー４インテグレータレンズ５シャッタ６第２のミラー７コリメータレンズ１０光照射装置１０ａ光源部１０ｂ出射部１１マスクステージ１２ワークステージ１２ａギャップ調整機構１３ＸＹＺθステージ２１基台２１ａ突起部２２，２３円弧状アーム２２ａ，２３ａガイド２４，２５軸受支持体２６，２７第１、第２の軸受２６ａ円筒状突起部２７ａ円筒状突起部４１ベース４１ａ，４１ｂＲガイド支持部４２Ｒガイド４３ａ，４３ｂＲガイドベアリングサポータ４０傾斜台４４傾斜角度指示指針４５角度表示目盛り４６光源部載置台４７移動板支持体４８直線ガイド４９移動板５０ボールねじ５２モータ５３ボールねじベアリング部５１ボールスプライン５４重り５５滑車５６ワイヤＭマスクＷワークＡＭアライメント顕微鏡ＭＡＭマスクアライメントマークＷＡＭワークアライメントマーク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】紫外線を含む光を放出する光照射部と、マスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークと、該ワークを保持するワークステージとを備え
たプロキシミティ露光装置において、上記光照射部からの光がワークに対して斜め方向から照
射されるように光照射部を傾ける機構を設けたことを特
徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】紫外線を含む光を放出する光照射部と、マスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークと、該ワークを保持するワークステージとを備え
たプロキシミティ露光装置において、上記光照射部を固定する傾斜台と、傾斜台を回動案内を介して回動可能に保持するベース
と、上記傾斜台に回転軸受けを介して回転可能に接続され、
放電ランプから放出される紫外光を含む光を上記光照射
部に供給する光源部と、上記光源部の駆動方向を水平方向に規制する水平方向案
内手段と、光源部を上記水平方向案内手段に沿って水平
方向に駆動する駆動手段と、上記水平方向案内手段を保持する保持手段と、上記保持手段を、直動案内手段を介して上下方向に移動
可能に支持する支持手段とを備え、上記駆動手段を駆動することにより、光源部を垂直に保
持したまま、上記光照射部を傾け、該光照射部からの光
がワークに対して斜め方向から照射されるようにしたこ
とを特徴とするプロキシミティ露光装置。