JPH10135231A - 縦型熱処理装置およびそのボートと保温筒のメンテナンス方法 - Google Patents

縦型熱処理装置およびそのボートと保温筒のメンテナンス方法

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JPH10135231A
JPH10135231A JP8305654A JP30565496A JPH10135231A JP H10135231 A JPH10135231 A JP H10135231A JP 8305654 A JP8305654 A JP 8305654A JP 30565496 A JP30565496 A JP 30565496A JP H10135231 A JPH10135231 A JP H10135231A
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heat treatment
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空予備室内を大気開放せずにボートと保温
筒のメンテナンスが可能な縦型熱処理装置およびそのボ
ートと保温筒のメンテナンス方法を提供する。 【解決手段】 複数の被処理基板Wが保持可能なボート
16を収容して大気側との間で被処理基板Wの移載を行
なうための第1の真空予備室10と、第1の真空予備室
10に遮断弁22を介して連結された第2の真空予備室
23と、第2の真空予備室23に連結され、炉口18a
を開閉する昇降可能な蓋体25の上部に保温筒19を介
して上記ボート16を載置し、ボート16と保温筒19
を装入して被処理基板Wを熱処理する熱処理炉18と、
第1の真空予備室10と保温筒19との間でボート16
の搬送を行なう搬送機構37とを備え、第2の真空予備
室23を真空に保持した状態で、ボート16と保温筒1
9を第1の真空予備室10から大気側に取り出し可能と
した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、縦型熱処理装置お
よびそのボートと保温筒のメンテナンス方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理基
板である半導体ウエハに酸化、拡散、CVD等の各種の
処理を施すために、種々の熱処理装置が用いられてい
る。このような熱処理装置として、枚葉式などでは、ウ
エハを装入して所定の真空度、温度および処理ガス雰囲
気で熱処理する熱処理炉を備えると共に、この熱処理炉
の炉口に真空予備室(ロードロック室ともいう)を連設
してなるものが知られている。この熱処理装置によれ
ば、上記真空予備室内を予め熱処理炉内とほぼ同じ圧力
にしておくことにより、熱処理炉内の圧力を大気圧に戻
すことなく炉口を開放してウエハの搬入搬出を行なうこ
とができるため、時間の短縮やスループットの向上等が
図れる。
【0003】一方、熱処理装置の一つとして知られるバ
ッチ式の縦型熱処理装置は、熱処理炉の下部に形成され
た炉口を開閉する昇降可能な蓋体を有し、複数枚のウエ
ハが保持可能な基板保持具である石英製のボートを上記
蓋体の上部に石英製の保温筒を介して載置し、これらボ
ートおよび保温筒を炉内に装入してウエハに成膜等の熱
処理を施すようになっている。このような縦型熱処理装
置においては、ボートおよび保温筒にも成膜されること
から、これらを定期的に、あるいは必要に応じて洗浄、
交換等するメンテナンスが要求される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記縦
型熱処理装置においては、ボートおよび保温筒をメンテ
ナンスするために、真空予備室を大気開放してボートお
よび保温筒を外部に取り出さなければならない。そのた
め、真空予備室内には大気開放によって湿気やごみ等が
侵入しやすく、真空予備室内を再び所定の真空度に戻す
再立ち上げに多くの時間がかかる問題がある。
【0005】そこで、本発明の目的は、真空予備室内を
大気開放することなくボートと保温筒のメンテナンスを
可能にした縦型熱処理装置およびそのボートと保温筒の
メンテナンス方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のうち請求項1記載の縦型熱処理装置は、複数
の被処理基板が保持可能なボートを収容して大気側との
間で被処理基板の移載を行なうための第1の真空予備室
と、この第1の真空予備室に遮断弁を介して連結された
第2の真空予備室と、この第2の真空予備室に連結さ
れ、炉口を開閉する昇降可能な蓋体の上部に保温筒を介
して上記ボートを載置し、ボートおよび保温筒を装入し
て被処理基板を熱処理する熱処理炉と、上記第1の真空
予備室と保温筒との間でボートの搬送を行なう搬送機構
とを備え、上記第2の真空予備室を真空に保持した状態
で、ボートと保温筒を第1の真空予備室から大気側に取
り出し可能に構成したことを特徴とする。
【0007】請求項2記載の縦型熱処理装置のボートと
保温筒のメンテナンス方法は、複数の被処理基板が保持
可能なボートを収容して大気側との間で被処理基板の移
載を行なうための第1の真空予備室と、この第1の真空
予備室に遮断弁を介して連結された第2の真空予備室
と、この第2の真空予備室に連結され、炉口を開閉する
昇降可能な蓋体の上部に保温筒を介して上記ボートを載
置し、ボートおよび保温筒を炉内に装入して被処理基板
を熱処理する熱処理炉と、上記第1の真空予備室と保温
筒との間でボートの搬送を行なう搬送機構とを備え、上
記第2の真空予備室を真空に保持した状態で、搬送機構
によりボートと保温筒を第1の真空予備室に搬送し、こ
の第1の真空予備室からボートと保温筒を大気側に取り
出してメンテナンスすることを特徴とする。
【0008】
【実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添付図面
に基づいて詳述する。
【0009】図2〜図4において、1は熱処理装置とし
て例示したバッチ式の縦型熱処理装置の筐体、2は被処
理基板である半導体ウエハWを複数枚例えば25枚程度
垂直に立てた状態で所定のピッチで収納する上部に収納
口2aを有する運搬用の容器であるカセットである。上
記筐体1の一端には、上記カセット2を搬入搬出するた
めの開閉ゲートを有する搬出入口3が設けられている。
上記筐体1内における搬出入口3近傍には、上記カセッ
ト2を収納口2aが上部にある垂直状態で載置するため
の載置台4が設けられている。
【0010】上記載置台4には、カセット2を前後から
押える押え部5,6、カセット2内のウエハWのオリフ
ラ合せを行うオリフラ整合機等(図示省略)が設けられ
ている。また、載置台4は、垂直に回動可能に設けられ
ており、上記カセット2内のウエハWを垂直状態から水
平状態にすべくカセット2をほぼ90度回動できるよう
になっている。上記筐体1内には、昇降および回転可能
な基台7を有する移載機構8が設けられ、その基台7の
周囲に上記載置台4と、上記カセット2を設置する設置
台9と、後述する第1の真空予備室(ロードロック室)
10とが配置されている。
【0011】上記移載機構8は、ボールネジ等を用いた
昇降機構により昇降可能に設けられた昇降アーム11を
有し、この昇降アーム11上に上記基台7が水平に回転
可能に取付けられている。上記昇降アーム11内には、
上記基台7を位置決め可能に回転駆動するための回転駆
動部が設けられている(図示省略)。
【0012】上記基台7上には、ウエハWを支持する水
平に延出した短冊状のウエハ支持部(フォークともい
う)12を複数段例えば5段有するウエハ移載機13
と、上記カセット2を載置して支持する水平に延出した
カセット支持部14を有するカセット移載機15とが対
向して往復移動可能に設けられ、そのカセット移載機1
5によりカセットWを載置台4から設置台9にまたはそ
の逆に、上記ウエハ移載機13によりウエハWを設置台
9のカセット2内から第1の真空予備室10内の後述す
るボート16にまたはその逆にそれぞれ移載可能に構成
されている。
【0013】上記ウエハ移載機13およびカセット移載
機15が基台7上の待機位置にある状態において、上記
カセット支持部14が上記ウエハ移載機13の直上に配
置され、これによりカセット2を基台7から外側にはみ
出さない状態で旋回させることができ、旋回半径Rの縮
小化が図られている。上記設置台9は、高さ方向にカセ
ット2を複数個設置可能に棚部17を複数段例えば4段
有している。
【0014】上記第1の真空予備室10は、後述する熱
処理炉18内に複数枚例えば30枚のウエハWを装入す
るために用いられる基板保持具である石英製のボート1
6を収容して大気側との間でウエハWの移載を行なうと
共に予備真空を行うための部屋で、上記基台7を挟んで
上記載置台4と対向する位置に配置されている。第1の
真空予備室10の上記基台7側へ臨む前面部には、ボー
ト16や保温筒19が出し入れ可能な開口部20が形成
され、この開口部20には、これを開閉可能に密閉する
上下スライド式の遮断扉であるロードロックドア21が
設けられている。
【0015】上記第1の真空予備室10の後部には、遮
断弁であるゲートバルブ22を介して第2の真空予備室
23が連結され、この第2の真空予備室23の後部側上
方には、下部に炉口18aを有する縦型の熱処理炉18
が連結されている。この熱処理炉18は、筐体1内の後
端側上方にベース部24を介して設置されている。熱処
理炉18は、その炉口18aを開閉する昇降可能な蓋体
25を有し、この蓋体25の上部に炉口部分を保温する
例えば石英製の保温筒19を介して上記ボート16が載
置され、これらボート16および保温筒19を炉内に装
入してウエハWの熱処理を行なうようになっている。
【0016】上記蓋体25と保温筒19の間および保温
筒19とボート16の間には、蓋体25上に載置される
保温筒19および保温筒19上に載置されるボート16
の位置ずれを防止するために互に係合する凹凸等の位置
決め手段が設けられていることが好ましい。なお、蓋体
25には、保温筒19を載置して回転する回転テーブル
が設けられていてもよい。
【0017】上記蓋体25は、昇降機構26の昇降アー
ム27上に設けられている。この昇降機構26は、図5
に示すように、上記昇降アーム27と、この昇降アーム
27を垂直の昇降ロッド28を介して昇降駆動する駆動
部29とからなり、その駆動部29が上記ベース部24
上に熱処理炉18と共に設置されている。第2の真空処
理室23の上部およびベース部24には、熱処理炉18
の炉口18aと対応した開口部30a,30bと、昇降
機構26の昇降ロッド28を貫通させる開口部30c,
30dとが設けられている。
【0018】上記熱処理炉18は、上記ベース部24の
炉口用開口部30bの上端に設置される例えばステンレ
ス鋼製の円筒状のマニホールド31を有し、このマニホ
ールド31の上端に例えば石英製の反応管32が取付け
られている。また、上記マニホールド31の上端には、
ヒータベース33が取付けられ、このヒータベース33
上には、上記反応管32を覆う円筒状の断熱材34の内
周に図示しないヒーター線を配線してなる加熱ヒータ3
5が取付けられている。これにより、ホットウォール型
の熱処理炉18が構成されている。
【0019】上記マニホールド31が熱処理炉18の炉
口18aを形成しており、その開口端が上記蓋体25に
よって第2の真空予備室23内側から閉じられて熱処理
炉18内と第2の真空予備室内23が遮断されるように
なっている。また、第2の真空予備室23の炉口用開口
部30aとマニホールド31との間には、真空シール用
のベローズ36aが気密に取付けられ、上記昇降ロッド
用開口部30cと昇降ロッド28の上端部との間にも同
様のベローズ36bが気密に取付けられている。
【0020】上記マニホールド31は、上部マニホール
ド31aと下部マニホールド31bとに上下に二分割可
能に形成されている。これにより、上記熱処理炉18の
炉口18aを蓋体25で閉じた状態で上部マニホールド
31aを下部マニホールド31bから分離することによ
り、第2の真空予備室23を大気開放することなく熱処
理炉18を筐体1外に取り出してメンテナンスすること
が可能になっている。下部マニホールド31bには、熱
処理炉18内に処理ガスや不活性ガス等を導入するガス
導入配管が設けられている(図示省略)。なお、熱処理
炉18内を真空排気する排気口は、反応管32の上端部
か、或いは上部フランジ部31aに設けられている(図
示省略)。
【0021】上記第2の真空予備室23は、熱処理炉1
8の熱処理時の真空度とほぼ同じ真空度例えば1Tor
rに制御されるようになっている。また、上記第1の真
空予備室10は、ゲートバルブ22を開けて第2の真空
予備室23と連通するに際して第2の真空予備室23と
同じ圧力に制御され、第1の真空予備室10と第2の真
空予備室23との間のゲートバルブ22を閉じた状態で
第1の真空予備室10のロードロックドア21を開けて
筐体1内と連通するに際して筐体1内と同じ圧力(大気
圧)に制御されるようになっている。
【0022】上記第2の真空予備室23は、上記熱処理
炉18の下方において炉内へのボート16の搬入搬出を
行なうためのローディング室23aと、上記ボート16
を2個使用する場合にボート16同士が干渉しないよう
熱処理炉18から搬出されたボート16を仮置きするバ
ッファー室23bと、ボート16の搬送を行なう後述の
搬送機構37が配置されたトランスファー室23cとか
ら主に構成され、これら三室23a,23b,23cは
連通されている。
【0023】上記トランスファー室23a内には、上記
ボート16を第1の真空予備室10から上記保温筒19
上に、または保温筒19上から上記バッファー室23b
を介して第1の真空予備室10に水平に搬送するための
多関節アーム構造の搬送アーム38を有する搬送機構3
7が設けられている。この搬送機構37は、ボート16
を昇降させる機能を有していないため、第1の真空予備
室10およびバッファー室23bには、搬送アーム38
との間でボート16の受取り受渡しを可能とすべくボー
ト16を上下動可能に設置する基板保持具設置台である
ボートスタンド39が配置されている。なお、上記搬送
機構37としては、搬送アーム38を介してボート16
を昇降させる機能を有していてもよく、その場合、ボー
トスタンド39は上下動可能に構成されていなくてもよ
い。
【0024】そして、上記縦型熱処理装置は、第2の真
空予備室23を真空に保持した状態でボート16と保温
筒19を第1の真空予備室10を介して大気側に取り出
し可能に構成されている。ボート16を取り出す場合に
は、ロードロックドア21を閉じ、ゲートバルブ22を
開いた状態で搬送機構37により保温筒19上もしくは
バッファー室23bのボートスタンド39上からボート
16を第1の真空予備室10のボートスタンド39上に
搬送し、ゲートバルブ22を閉じ、第1の真空予備室1
0内を大気圧に戻してロードロックドア21を開けるこ
とにより、作業者が第1の真空予備室10の開口部20
からボート16を取り出せばよい(図1参照)。筐体1
には、ボート16等のメンテナンスのために作業者が出
入りできるドア付の出入口が設けられている(図示省
略)。
【0025】保温筒19を取り出す場合にも、上記と同
様に、搬送機構37により保温筒19を蓋体22上から
第1の真空予備室10に搬送し、この第1の真空予備室
10の開口部20から取り出せばよい。これにより、第
2の真空予備室23を真空ないし減圧状態に保持しつつ
ボート16と保温筒19を第1の真空予備室10から大
気側に取り出すことができ、これらボート16および保
温筒19の洗浄、交換等のメンテナンスを容易に行なう
ことができるようになっている。
【0026】次に上記実施の形態による作用を述べる。
ウエハWを垂直に立てて収納したカセット2を搬出入口
3から熱処理装置の筐体1内に搬入して載置台4上に載
置すると、カセット2が押え部5,6により前後から押
えられ、オリフラ合せ後、カセット2がウエハWを水平
にすべく載置台4と共にほぼ90度回動される。これに
よりカセット2は、上部に収納口2aがある垂直状態か
ら収納口2aが水平に向いた水平状態になる。
【0027】移載機構8における昇降アーム11の昇
降、基台7の旋回およびカセット移載機15の移動によ
り、上記カセット2が載置台4から設置台9の棚部17
に移載される。所定個数のカセット2が設置台9の各棚
部17に移載されたなら、移載機構8における昇降アー
ム11の昇降、基台7の旋回およびウエハ移載機13の
移動により、上記設置台9上のカセット2内からウエハ
Wが予め第1の真空予備室10内のボートスタンド28
に設置されているボート16に移載される。
【0028】上記ウエハWの移載に際して、第1の真空
予備室10と第2の真空予備室23との間のゲートバル
ブ22は閉じられ、第1の真空予備室10のロードロッ
クドア21は開放されている。所定枚数のウエハWがボ
ート16に移載されたなら、ロードロックドア21が閉
じられ、第1の真空予備室10内が所定の真空度に真空
引きされる。
【0029】一方、同時進行で行なわれている熱処理炉
18における熱処理が終了すると、昇降機構26の昇降
アーム27による蓋体25の下降により熱処理炉18の
炉口18aが開放されると共にボート16および保温筒
19が熱処理炉18内から第2の真空予備室23のロー
ディング室23a内に降下され、搬送機構37の搬送ア
ーム38により上記ボート16が保温筒19上からバッ
ファー室23b内のボートスタンド39上に搬送されて
仮置きされる。次いで、第1の真空予備室10と第2の
真空予備室23との間のゲートバルブ22が開放され、
上記搬送アーム38により第1の真空予備室10内のボ
ート16が上記ローディング室23a内の昇降アーム2
7の保温筒19上に搬送され、バッファー室23b内の
ボート16が第1の真空予備室10内に搬送される。
【0030】上記ボート16の搬送後に、上記ゲートバ
ルブ22が閉じられ、昇降機構26の昇降アーム27に
よる蓋体25の上昇により上記ボート16および保温筒
19が熱処理炉18内に装入されると共に、炉口18a
が蓋体25で閉じられ、所定の熱処理が開始される。一
方、第1の真空予備室10内に移されたボート16から
設置台9上の空のカセット2内に処理済みのウエハWが
移載され、そのカセット2が設置台9から載置台4に移
載されて搬出入口3から搬出されることになる。
【0031】ところで、上記縦型熱処理装置において
は、ウエハWへの成膜等の熱処理時にボート16および
保温筒19にも成膜されるため、これらボート16およ
び保温筒19を定期的に、あるいは成膜の膜厚が所定厚
さに達する毎に洗浄、交換等するメンテナンスが要求さ
れる。そこで、ボート16のメンテナンスを行なう場
合、ボート16が保温筒19上もしくはバッファー室2
3bのボートスタンド39上にある場合には、ロードロ
ックドア21を閉じ、第1の真空予備室10を第2の真
空予備室23と同じ真空度にした状態でゲートバルブ2
2を開け、搬送機構37により上記ボート16を第1の
真空予備室10のボートスタンド39上に搬送する。
【0032】次に、ゲートバルブ22を閉じ、第1の真
空予備室内10を大気圧に戻してロードロックドア21
を開け、第1の真空予備室10の開口部20から筐体1
内にボート16を取り出し、更に筐体1外に搬出してメ
ンテナンスすればよい。このようにして、第2の真空予
備室23内を大気開放することなく、真空状態に維持し
たままでボート16のメンテナンスを容易に行なうこと
ができる。第1の真空予備室10に搬送されたボート1
6にウエハWが保持されている場合、ウエハWをカセッ
ト2に移替え、ボート16を空にしてから第1の真空予
備室10から取り出すことは勿論である。
【0033】ボート16を二つ使用している場合、一方
のボートが熱処理炉18内に装入され、ウエハWの熱処
理中であったとしても、他方のボートのメンテナンスが
可能である。保温筒19のメンテナンスを行なう場合に
は、先ず、保温筒19上からボート16を取り去った状
態にし、上記ボート16のメンテナンスと同様に、搬送
機構37により蓋体25上から保温筒19を第1の真空
予備室10に搬送し、この第1の真空予備室10の開口
部20から保温筒19を取り出してメンテナンスすれば
よい。メンテナンス後は、上記とは逆の手順により、第
2の真空予備室23内を真空に保ったままボート16と
保温筒19を元の位置に戻すことができる。
【0034】このように、上記縦型熱処理装置またはそ
のボートと保温筒のメンテナンス方法によれば、第2の
真空予備室23内を大気開放することなくボート16と
保温筒19を取り出してメンテナンスすることが可能と
なる。また、第2の真空予備室23内を大気開放しない
ので、湿気やごみ等が侵入することがなく、第2の真空
予備室23内を再び所定の真空度に戻す再立ち上げも不
要であり、縦型熱処理装置の運転効率の向上が図れる。
【0035】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。
【0036】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。
【0037】(1)請求項2記載の縦型熱処理装置によ
れば、複数の被処理基板が保持可能なボートを収容して
大気側との間で被処理基板の移載を行なうための第1の
真空予備室と、この第1の真空予備室に遮断弁を介して
連結された第2の真空予備室と、この第2の真空予備室
に連結され、炉口を開閉する昇降可能な蓋体の上部に保
温筒を介して上記ボートを載置し、ボートと保温筒を装
入して被処理基板を熱処理する熱処理炉と、上記第1の
真空予備室と保温筒との間でボートの搬送を行なう搬送
機構とを備え、上記第2の真空予備室を真空に保持した
状態で、ボートと保温筒を第1の真空予備室から大気側
に取り出し可能に構成してあるため、第2の真空予備室
内を大気開放することなくボートと保温筒のメンテナン
スが可能となる。
【0038】(2)請求項2記載の縦型熱処理装置のボ
ートと保温筒のメンテナンス方法によれば、複数の被処
理基板が保持可能なボートを収容して大気側との間で被
処理基板の移載を行なうための第1の真空予備室と、こ
の第1の真空予備室に遮断弁を介して連結された第2の
真空予備室と、この第2の真空予備室に連結され、炉口
を開閉する昇降可能な蓋体の上部に保温筒を介してボー
トを載置し、ボートと保温筒を炉内に装入して被処理基
板を熱処理する熱処理炉と、上記第1の真空予備室と保
温筒との間でボートの搬送を行なう搬送機構とを備え、
上記第2の真空予備室を真空に保持した状態で、搬送機
構によりボートと保温筒を第1の真空予備室に搬送し、
この第1の真空予備室からボートと保温筒を大気側に取
り出してメンテナンスするため、第2の真空予備室内を
大気開放することなくボートと保温筒を容易にメンテナ
ンスすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す図で、第2の真空予
備室から第1の真空予備室を介してボートを大気側に取
り出す方法を説明する説明図である。
【図2】縦型熱処理装置の全体を示す断面側面図であ
る。
【図3】同縦型熱処理装置の断面平面である。
【図4】図3のA−A線断面図である。
【図5】熱処理炉部分の拡大断面図である。
【符号の説明】 W 半導体ウエハ(被処理基板) 10 第1の真空予備室 16 ボート 18 熱処理炉 18a 炉口 19 保温筒 22 ゲートバルブ(遮断弁) 23 第2の真空予備室 25 蓋体 37 搬送機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷藤 保 神奈川県津久井郡城山町町屋1丁目2番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の被処理基板が保持可能なボートを
    収容して大気側との間で被処理基板の移載を行なうため
    の第1の真空予備室と、この第1の真空予備室に遮断弁
    を介して連結された第2の真空予備室と、この第2の真
    空予備室に連結され、炉口を開閉する昇降可能な蓋体の
    上部に保温筒を介して上記ボートを載置し、ボートおよ
    び保温筒を装入して被処理基板を熱処理する熱処理炉
    と、上記第1の真空予備室と保温筒との間でボートの搬
    送を行なう搬送機構とを備え、上記第2の真空予備室を
    真空に保持した状態で、ボートと保温筒を第1の真空予
    備室から大気側に取り出し可能に構成したことを特徴と
    する縦型熱処理装置。
  2. 【請求項2】 複数の被処理基板が保持可能なボートを
    収容して大気側との間で被処理基板の移載を行なうため
    の第1の真空予備室と、この第1の真空予備室に遮断弁
    を介して連結された第2の真空予備室と、この第2の真
    空予備室に連結され、炉口を開閉する昇降可能な蓋体の
    上部に保温筒を介して上記ボートを載置し、ボートおよ
    び保温筒を炉内に装入して被処理基板を熱処理する熱処
    理炉と、上記第1の真空予備室と保温筒との間でボート
    の搬送を行なう搬送機構とを備え、上記第2の真空予備
    室を真空に保持した状態で、搬送機構によりボートと保
    温筒を第1の真空予備室に搬送し、この第1の真空予備
    室からボートと保温筒を大気側に取り出してメンテナン
    スすることを特徴とする縦型熱処理装置のボートと保温
    筒のメンテナンス方法。
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