JPH0661329A - ウエハ処理装置のロードロック機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ウエハ処理装置において、ウエハカセットに対
するロードロック機構をシール性が良く、パーティクル
発生を防止し、確実に位置姿勢を保持出来るようにす
る。 【構成】ウエハ処理装置１のボート４１に対するウエハ
移載装置ロボット２１、回転テーブル装置２のチャンバ
５２内に回転テーブル５３を設けて所定数複数のステー
ション５６…を形成し、該各ステーション５６に於てカ
セット底面に対する突起５８，５８' を設けて搬送転移
されたウエハカセット９を上向上方傾斜姿勢にさせ、搬
送移載に際しては昇降装置５９によりウエハカセット９
の底面を水平姿勢にして転移，移載を確実にする。 【効果】ロードロック機構が回転テーブル式にされたこ
とにより、シール性が良く、真空状態に減圧する際、
又、窒素ガスを充填するに際し、気密性が確実になり、
又、直線的な摺動が伴わず、パーティクル発生が防止さ
れ、ウエハ処理が極めて正確、且つ、高能率に行える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】開示技術は、半導体ウエハのＣＶ
Ｄ，拡散，酸化処理等の熱処理を行うロードロック室の
機構の技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】周知の如く、近時情報処理は産業社会を
問わず、高度に発達してきており、当然のことながら、
これに使用される各種電子機能を装備した情報処理シス
テム装置も種々高機能化されており、各種の電子処理装
置に使用される半導体集積回路も高度に集積化され、し
かも、生産的には量産化がますます強く求めら、近時４
ＭＤＲＡＭから１６ＭＤＲＡＭの量産化が図られるよう
になり、シリコンウエハ等の半導体デバイス製造用のウ
エハについては単に量産性の向上ばかりでなく、当然の
ことながら、その精細度が厳しく要求されるようになっ
てきている。

【０００３】そして、上述ＣＶＤ，拡散，酸化処理等の
熱処理装置として、従来横型炉が用いられてきたが、石
英材製の反応管に於ける管内外の温度差に基づく空気滞
留等によるウエハの自然酸化膜が生ずることによる該ウ
エハの作成に影響が生ずる等のさまざまな点から反応管
を縦型にする縦型熱処理炉が横型炉に代り広く用いられ
るようになってきた。

【０００４】かかる縦型炉に有するウエハ処理装置は、
例えば、出願人の先願発明の特願平３−５５８４０号公
報記載発明等が案出実用化され、周知の如く、反応炉へ
ウエハを挿脱するボートに具備しウエハを１枚づつロー
ド，アンロードするウエハ移載装置やロボット等を装備
しゲートバルブを介しボートに対してはオリフラ合せ機
構を介し、又、ウエハを収納したカセット室にはバッフ
ァステーションを介して接続されていた。

【０００５】而して、ウエハ移載装置からボートへの各
ウエハの移載が位置合せ的に正確さを保障させるべくカ
セット室から当該ウエハカセットをワンクッションおい
て介装するべくウエハカセット装置が介設される技術が
開発されてきた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
ウエハカセット搬送装置にあっては最終段の反応炉が縦
型であることから、空間的にこれに整合させて当該ウエ
ハカセット搬送装置も縦型にされていたところからカセ
ット室は、例えば、上下複段にカセットを重層式にする
ようにされるため、順次カセットの昇降のために下側に
相当容積の空間のデッドスペースを設けねばならず、施
設全体として相当の空間を要し、パーティクル等の塵埃
の侵入防止が完全に図り難くなるという難点があった。

【０００７】又、近時当業者に周知の如く、かかるロー
ドロック機構においてはウエハも酸化膜発生を防止する
べく、各チャンバを真空等を所定の減圧処理するばかり
でなく、窒素ガス等の不活性ガスを常圧充填して移載や
ロード，アンロード等を行っていることから、各機構部
には真空等の減圧状態におけるリーク対策が不可欠にさ
れているが、従来の縦炉を有するウエハ処理装置のロー
ドロック機構においては上述の如く、ウエハカセット搬
送装置との間に真空状態におけるリーク防止を図るシー
ル機構がウエハカセットの昇降の直線運動に対して行わ
ねばならず、安全が期せないという欠点があった。

【０００８】そこで、ボートに対するウエハ移載装置と
ウエハカセット室からのウエハカセット搬送との間にロ
ータリー式の回転テーブル装置を配設する技術の開発が
臨まれるようになってきた。

【０００９】そして、かかる回転テーブル装置を配設す
ることにより、該回転テーブル装置の周囲に複数のウエ
ハカセット搬送装置を併設し、バッファ機能をもたせる
メリットを具備するように提案されてはきた。

【００１０】しかしながら、かかる回転テーブル装置を
介設することにより、直線機構に比しては弾圧状態に対
するシール機能は図り易いものの、ウエハカセット搬送
装置、或いは、ウエハ移載装置とのウエハカセット、或
いは、ウエハの受け渡しにおいて、特に、ウエハカセッ
トがキャリアーとしてしかるべき容積重量を有している
ことから、ウエハカセット移載装置と干渉したり、位置
合せが行え難かったり、又、回転テーブルの回転に伴っ
てウエハカセットに遠心力が働き、セット位置ずれが生
じ、受け渡し機構との取り合いにおいて精度不良を生じ
かねないというマイナス点が生じる虞がある。

【００１１】

【発明の目的】この出願の発明の目的は上述従来技術に
基づくボートに対するウエハ移載装置とカセット室から
当該ウエハ移載装置へのウエハカセットの搬送に伴うウ
エハカセットの転移の問題点を解決すべき技術的課題と
し、カセット室から移載装置までのウエハカセットの転
移が確実に行われ、しかも、減圧，シールが確実に行わ
れるロータリー式の回転テーブル装置のメリットをフル
に生かしながらも、ウエハカセットの転移に伴う位置出
しにずれがなく、しかも、回転に伴う遠心力の発生を前
提としながらも、これによる位置ずれを防止し、スムー
ス、且つ、確実なウエハカセットの受け渡しが出来るよ
うにして半導体製造産業におけるウエハ処理技術利用分
野に益する優れたウエハ処理装置のロードロック機構を
提供せんとするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段・作用】上述目的に沿い先
述特許請求の範囲を要旨とするこの出願の発明の構成
は、前述課題を解決するために、半導体ウエハをＣＶ
Ｄ，拡散，酸化等熱処理を行うに際し、所定数のキャリ
アーとしてのカセットにウエハを所定枚数収納し、カセ
ットチャンバをロータリー式の回転テーブル装置の周囲
に所定数複数配設し、ウエハカセット室に当該ウエハカ
セットを所定数セットし、そこで、多関節式等のウエハ
カセット搬送装置をして昇降装置、及び、旋回装置によ
り、該回転テーブル装置の周方向に設置した複段のステ
ーションにゲートバルブを介しウエハカセットを転移，
載置し、その際、該各ステーションに於ては傾斜装置に
より各カセットの底面をテーブルに対し外向上方に所定
角度傾斜し、該テーブルの回転に伴う遠心力によりるカ
セットの外方への位置ずれを防止するようにし、併せ
て、強制位置決め装置により設計位置に強制的に位置決
めし、次いで、そのチャンバを低圧に減圧すると共に窒
素ガス等の不活性ガスを常圧に充填し、テーブルを所定
ピッチづつ回転させ、次いで、近接するウエハ移載装置
の減圧されて不活性ガスが充填されたウエハ移載装置の
ロボット室に対し昇降装置を介しウエハカセットの底面
を水平状態にして位置合せを行い、該ウエハカセットか
らウエハを取り出して、更に、減圧不活性ガス充填され
たウエハ着脱室のボートに該ウエハ移載装置内に於ける
昇降装置により１カセット分の昇降を介しボートにウエ
ハを移載し、ボールスクリュウ等の昇降装置を介し該ボ
ートが上昇して縦型熱処理炉にバッヂ式にウエハを充填
加熱して所定の熱処理を行い、この間、熱処理炉の底部
はキャップフランジを介し密閉されてウエハ着脱室への
熱輻射を避け、熱処理後はボートを昇降装置により下降
させて上述プロセスを逆にたどらせることにより、ウエ
ハを次段処理に移送し、ウエハ処理装置においては上述
プロセスを所定にバッヂ式に反復するようにした技術的
手段を講じたものである。

【００１３】

【実施例】次に、この出願の発明の１実施例を図面に基
づいて説明すれば以下の通りである。

【００１４】１はウエハ処理装置であり、この出願の発
明においては図１，図２に示す様に、この出願の発明の
要旨の中心をなすロードロック機構をなすウエハ移載装
置２を略中心としてその周囲にツインタイプの縦型の熱
処理炉４，４、及び、回転テーブル装置５，５が各ツイ
ンタイプにして配設されている。

【００１５】尚、図１において１つのパスチャンバ１０
にはゲートバルブ３を介し図示しない次段処理装置が接
続されている。

【００１６】尚、パスチャンバ１０には在来態様同様に
ゲートバルブ３が配設されて所定の真空等の低圧状態や
窒素ガス充填の気密状態を保持することが出来るように
されている。

【００１７】又、当該図１には制御装置やコンピュータ
装置，操作パネル等は図示の都合上、省略されている
が、施設的に装備されていることは勿論のことである。

【００１８】次に、各装置について各論的に説明する
と、ウエハ移載装置２においては、図２に示す様に、複
関節式のロボット２１が装備されて回転テーブル装置５
に移載されたウエハカセット９から所定にウエハを熱処
理炉４のウエハ着脱室４' のボート４１に高さ方向所定
ピッチでの挿脱，取り出しを行うことが出来るようにさ
れており、そのハウジング２２の底部にはエアーバルブ
８１を介装する排気ダクト８２が設けられて真空ポンプ
８３に接続されている。

【００１９】又、不活性ガスの窒素ガス供給ダクト８４
も併設されてエアーバルブ８１' を介し窒素ガスボンベ
８５に接続されている。

【００２０】そして、各熱処理炉４の下部ウエハ着脱室
４' 、及び、各回転テーブル装置５のハウジング５１の
下部には上述同様にエアーバルブ８１を介装した排気ダ
クト８２が設けられて真空ポンプ８３に接続され、又、
窒素ガス供給ダクト８４もエアーバルブ８１' を介し窒
素ガスボンベ８５に接続されている。

【００２１】更に、熱処理炉４に於ては、着脱室４' に
ボート４１が保温筒４１' を介しアーム４２に立設され
ており、該アーム４２は図示しないモータにより回動さ
れるボールスクリュウ４３に螺合してガイドバー４４に
沿って所定に昇降自在にされ、上部の縦型熱処理炉４５
にて所定の加熱処理（プロセス処理）を経て、例えば、
ＣＶＤ，拡散，酸化処理等の加熱処理をウエハに与える
ようにされている。

【００２２】而して、この出願の発明の要旨の中心をな
すロードロック機構の要部をなす回転テーブル装置５に
あっては、そのハウジング５１によって形成されるチャ
ンバ５２内にはロータリー式の回転テーブル５３が該ハ
ウジング５１の底板に設けられた磁性流体式のシールベ
アリング５４を介して挿通された支軸５５の上端に固設
され、該支軸５５の下端はステップモータ５５' に連結
され、図示しない制御装置を介し該回転テーブル５３を
所定ピッチづつ回動することが出来るようにされてい
る。

【００２３】そして、回転テーブル５３にあっては図
１，図６に示す様に、所定数（当該実施例においては５
つ周方向等間隔でステーション５６，５６…が形成され
ており、当該図１に示す様に、ウエハ移載装置２に対し
ツインタイプに介設された熱処理装置４，４に対するバ
ッファ機能を有するようにされている。

【００２４】尚、一対の回転テーブル装置５，５は一対
の加熱処理装置４，４に対して整合的に配設されている
ものではない。

【００２５】そして、各回転テーブル装置５にあっては
平面視の図６に示す様に、各ステーション５６にて表側
から裏側に、即ち、裏側から表側に貫通して方形のノッ
チ５７が貫設されてその周囲には回転テーブル５３の周
縁寄りに傾斜装置を成す一対の突起５８，５８、及び、
中心寄りに一対の該突起５８，５８よりは高さの低い突
起５８' ，５８' が突設されてウエハカセット搬送装置
７から図５の状態より図３の状態に搬送されて転移され
た姿勢では、該ウエハカセット９が中心側から外側に向
けてθの外側上向傾斜角度でセットされて回転テーブル
５３による遠心力によりウエハカセット９が回転テーブ
ル５３上面に於てずれを生じ、ウエハ移載装置２に対す
る設計姿勢に変化が生じないようにされている。

【００２６】したがって、図３に示すウエハカセット搬
送装置７からの転移姿勢とウエハ移載装置２への移載姿
勢において共に回転テーブル５３に対しθの外方上向姿
勢を維持することが出来るようにされている。

【００２７】又、回転テーブル装置５にあっては、ハウ
ジング５１の底面に上述ウエハカセット９の転移，移載
に際し、その底面のＨ面が水平になるようにカセット昇
降装置５９が設けられ、ベアリング５４を介し昇降する
シャフト５９１がその上端に昇降装置本体５９２をその
上面が水平に形成されて回転テーブル５３のノッチ５７
を挿通してウエハカセット９の底面のＨ面に当接し、突
起５８，５８' より該ウエハカセット９を浮かせてその
底面のＨ面を水平姿勢にするようにされ、シャフト５９
１の下端は図２に示す様に、エアシリンダ５９３に連結
されている。

【００２８】尚、該エアシリンダ５９３とハウジング５
１との底面との間にはベローズ５９４が外設されて気密
シールを保持することが出来るようにされている。

【００２９】かかる構成は図４に示す様に、ウエハ移載
装置に対するゲートバルブ３に於ても同様にされて回転
テーブル装置５に対するウエハカセット搬送装置７との
間のウエハカセット９の受渡し、及び、回転テーブル装
置５とウエハ移載装置２との間のウエハの受け渡しにお
いて、ウエハカセットの底面のＨ面が常に水平姿勢で行
われるようにされている。

【００３０】次に、ウエハカセット搬送装置７にあって
は、昇降装置７１から７２に於て図示しないカム，モー
ターを介しスライドするボールスクリュウ７２に螺合し
て昇降するアーム７３に多関節式のリンク７４，７４'
が回転テーブル装置５に対しそのゲートバルブ３を介
し、常に、平行移動的に近接離反する突起７５，７５…
を有する載置プレート７６がその先端に設けられて図示
しないカセット搬送装置よりウエハカセット９を各回転
テーブル装置５にバトンタッチ的に受け渡しすることが
出来るようにされている。

【００３１】そして、かかるウエハカセット搬送装置７
はウエハ処理装置にあっては従来技術に属するものであ
る。

【００３２】而して、回転テーブル装置５にあってはウ
エハカセット搬送装置７への受け渡しのフロントドア６
に近接する部位にそのハウジング５１の底面よりベアリ
ングブラケット５９６が立設されて放射方向のロッド５
９７をスライド自在に挿通し、その内端には上記昇降装
置５９１の上端に設けられた昇降装置本体５９２をカム
としたカムフォロアーローラ５９８が回動自在に枢支さ
れ、該ロッド５９７は弾圧スプリング５９９により常に
内側に押圧付勢され、その外側には強制位置決め装置を
なすプレート５９８' が一体的に設けられ回転テーブル
５３のステーション５６部位に搬送，転移されたウエハ
カセット９の内端縁部分をストッパ５８''に軽く押圧付
勢して常にウエハカセット９を回転テーブル５３の該ス
テーション５６に常に設計通りの載置セット姿勢を維持
することが出来るようにされている。

【００３３】上述構成において、ウエハに対し縦型加熱
炉４５に於て所定のＣＶＤ，拡散，酸化処理を行うに際
し、図示しない制御装置を介しゲートバルブ３，３…の
操作により回転テーブル装置５を各々大気導入状態にし
て、又、ウエハ移載装置２、及び、各熱処理炉４，４を
設定状態にし、そこで、ウエハカセット搬送装置７の載
置プレート７６上に所定にウエハカセット９を載置（当
然のことながら内部にはウエハが収納セットされてい
る。）する。

【００３４】そして、ウエハカセット搬送装置７により
図６に示す様に、回転テーブル装置５の回転テーブル５
３のノッチ５７部分の突起５８，５８' …上にその底面
のＨ面を臨ませると、図示しない制御装置により回転テ
ーブル装置５の昇降装置５９のエアシリンダ５９３がそ
のシャフト５９１を伸長し、その上端の昇降装置本体５
９２を上昇させ、ノッチ５７内を上昇し、ウエハカセッ
ト搬送装置７の載置プレート７６と干渉しない姿勢で、
更に、上昇し、ウエハカセット９の底面のＨ面に水平状
態で当接してバトンタッチ的にウエハカセット搬送装置
７の載置プレート７６からウエハカセット９をバトンタ
ッチ的に受け取る。

【００３５】そこで、ウエハカセット搬送装置７のリン
ク７４，７４' は在来態様同様に旋回縮少し、又、ボー
ルスクリュウ７２の回転により下降し、次のウエハカセ
ット９の搬送に供せられるように待機する。

【００３６】この間、回転テーブル装置５にあっては、
その両端の昇降装置本体５９２が強制位置決め装置５９
５のカムフォロアーローラ５９８を介しロッド５９７を
弾圧スプリング５９９に抗して側方へ押し出し，位置決
めプレート５９８' を外方に後退させてウエハカセット
９と干渉しないようにされる。

【００３７】而して、ウエハカセット搬送装置７が旋回
後退すると、図示しない制御装置を介しエアシリンダ５
９３が縮少し、シャフト５９１を介し上端の昇降装置本
体５９２が下降してウエハカセット９を静かにその底面
のＨ面をして突起５８，５８' …に当接させて設計傾斜
角度θで外方上向に傾斜姿勢で載置され、そこで、カム
フォロアーローラ５９８が昇降装置本体５９２から離脱
することにより、弾圧スプリング５９９を介しロッド５
９７が前進し、位置決めプレート５９８' がウエハカセ
ット９の外面を軽く付勢し、その内壁面はストッパ５８
''に当接して強制的に位置決めされその姿勢を保持さ
れ、その後、位置決めプレート５９８' は開放される。

【００３８】次いで、ステップモーター５５' が図示し
ない制御装置を介して回転することにより、シャフト５
５を介し回転テーブル５３が所定角度回転し、次のステ
ーション５６をしてフロントドア６に臨ませて、次のウ
エハカセット９のウエハカセット搬送装置７を介しての
搬送，転移がなされ、上述同様にしてウエハカセット９
のバトンタッチ的に搬送，転移がなされる。

【００３９】このようにして、順次ウエハカセット９，
９…が回転テーブル装置５の回転テーブル５３の各ステ
ーション５６，５６…に搬送転移，載置される。

【００４０】この間、一旦ステーション５６に載置され
たウエハカセット９は突起５８，５８' に外側上向傾斜
角θで傾斜姿勢にされ、更に、ストッパ５８''、及び、
位置決めプレート５９８' により規制されて回転テーブ
ル５３が回転し、その遠心力により外方に位置ずれを起
そうとしても、上記搬送転移姿勢を維持されてずれを生
ぜず回転し、したがって、回転テーブル５３の回転によ
るウエハカセット９と回転テーブル５３との相対摺動に
よるパーティクル等の発生は全く生じない。

【００４１】そして、各回転テーブル装置５の回転テー
ブル５３の全てのステーション５６，５６…にウエハカ
セット９，９…が載置されると、図示しない制御装置を
介し真空ポンプ８３を介し排気ダクト８２から回転テー
ブル装置５のチャンバ５２内の空気は真空に排気され、
エアーバルブ８１が所定真空圧で排気ダクト８２を閉鎖
し、そこで、エアーバルブ８１' により窒素ガスボンベ
８５から窒素ガス供給ダクト８４を介し常圧状態になる
までチャンバ５２内に供給される。

【００４２】勿論、この間、全てのステーション５６に
ウエハカセット９，９…が移送，転移された時点で図示
しない制御装置により、フロントドア６、及び、チャン
バ５２に隣接するゲートバルブ３は閉鎖される。

【００４３】そして、回転テーブル装置５の回転、及
び、窒素ガス充填に際し、シャフト５５等の回転機構部
には磁性流体のシールベアリング５４が介設されている
ことから、直線移動に比してシール状態が確実になされ
て回転中でも窒素ガスリークが防止されてエアリーク等
が生せず、したがって、本来的に好ましくないウエハ処
理に際しての外気侵入による酸化膜形成等が阻止され
る。

【００４４】次に、ウエハカセットからウエハを熱処理
炉４のウエハ挿脱室４''にてボート４１へウエハ移載装
置２１により移載するに際してはゲートバルブ３が開か
れてこれに先立ちウエハ移載装置２のチャンバ２３が前
述同様に減圧状態、及び、これに次ぐ窒素ガス充填を介
し回転テーブル装置５のチャンバ５２と同一雰囲気圧力
状態にされていることから、ウエハ移載装置２のロボッ
ト２１が回転テーブル装置５の回転テーブル５３のステ
ーション５６上のウエハカセット９内からウエハを受け
取りボート４１に移載を行う。

【００４５】この際、当該順番のステーション５６に於
ては図４に示す様に、昇降装置５９のエアシリンダ５９
３が伸長してそのシャフト５９１上端昇降装置本体５９
２を当該ステーション５６のノッチ５７を挿通してウエ
ハカセット９の底面のＨ面を持ち上げ、突起５８，５８
' 、及び、ストッパ５８''から更に浮き上がらせて水平
姿勢にし、そのため、ウエハ処理装置２のロボット２１
は順次ウエハボート４１に移載し、該プロセスにおいて
ボート４１は在来態様同様にウエハ１枚のピッチごと上
昇し、熱処理炉４５に挿入してゆき、その上昇ストロー
クエンドに於てキャップフランジ１００が加熱処理炉４
５の底部をシールし所定の加熱処理がなされる。

【００４６】この間、一対の回転テーブル装置５，５は
熱処理炉４，４に対しバッファ機能を有し、又、一対の
熱処理炉４，４はバッジ処理しながら所定の作業を効率
良くフロー的に処理することが出来る。

【００４７】そして、各熱処理炉４に於て所定のウエハ
に対する加熱処理が終了すれば、上述プロセスにたどっ
て処理済みウエハを次段処理へと移送する。

【００４８】尚、この出願の発明の実施態様は上述実施
例に限るものでないことは勿論であり、例えば、処理対
象のウエハは半導体ウエハ以外の基板に対しても適用出
来る等種々の態様が採用可能である。

【００４９】又、設計変更的には回転テーブル装置の昇
降装置において昇降装置本体にテフロン（登録商標）を
用いたりする等種々の態様が可能であることは勿論のこ
とである。

【００５０】

【発明の効果】以上、この出願の発明によれば、基本的
に縦型加熱処理炉を有するウエハ処理装置のロードロッ
ク機構において、該縦型加熱炉へのボートに対してウエ
ハをカセットから受け取り，受け渡して処理する装置に
おいてロードロック室がウエハカセット搬送装置とウエ
ハ移載装置との間に回転テーブル装置を設けられ、該回
転テーブルに所定数のステーションを設け、併設される
ウエハカセット搬送装置、及び、ウエハ移載装置のロボ
ットに対し受け渡しを行う部位にカセット昇降装置を設
けたことにより、基本的にロードロック室に於けるウエ
ハカセットの直線移動が避けられ、したがって、真空状
態の減圧、及び、窒素ガス等の不活性ガスの供給におけ
るシールをより確実にすることが出来、パーティクル発
生やウエハに対する酸化防止を確実に防止することが出
来るという優れた効果が奏される。

【００５１】又、回転テーブルのカセットステーション
にはカセット底面に対する傾斜装置が配設されているこ
とから、該回転テーブルを回転させて各ステーションの
カセットを対応する位置を偏位するに際し、遠心力が生
じても位置ずれを起すことがなく、位置ずれによるパー
ティクル発生やウエハカセット搬送装置やウエハ移載装
置への位置姿勢に変化が生ぜず、確実に整合的に移送出
来るという効果がある。

【００５２】更に、回転テーブル装置のチャンバフレー
ムと回転テーブルのいづれか一方にカセットに対する強
制位置決め装置が設けられていることにより、該回転テ
ーブルのステーションに受け渡された姿勢のウエハカセ
ットの姿勢の変化がなく、この点からもパーティクルの
発生が阻止され、又、受け渡しがより確実になされてウ
エハカセットの変形等が生ぜず、各機構部の機能が維持
されるという優れた効果が奏される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この出願の発明の１実施例の全体概略模式平面
図である。

【図２】図１のII−II模式断面図である。

【図３】回転テーブルのウエハカセット搬送装置の受け
渡し部位に於ける拡大断面図である。

【図４】同、ウエハ移載装置への態様部分の拡大断面図
である。

【図５】ウエハ搬送装置の模式機構側面図である。

【図６】回転テーブルとウエハカセット搬送装置との取
り合い平面図である。

【符号の説明】

４５ 縦型熱処理炉 ３ ゲート ２１ ウエハ移載装置 ７ ウエハカセット搬送装置 ２ 回転テーブル装置 ５６ カセットステーション ５３ 回転テーブル ５２ チャンバ ５１ フレーム ５９ カセット昇降装置 ５８，５８' 傾斜装置（突起） ５９８' 強制位置決め装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】縦型熱処理炉にゲートバルブを介して接続
   されたウエハ移載装置とウエハカセット搬送装置との間
   に介装されている回転テーブルを装備したロードロック
   機構において、複数のカセットステーションを周設した
   回転テーブルを枢設したチャンバのフレームの上記カセ
   ット搬送装置の受け渡し部位にカセット昇降装置がカセ
   ットステーションに対応的に設置されていることを特徴
   とするウエハ処理装置のロードロック機構。
2. 【請求項２】上記回転テーブルのカセットステーション
   にカセット底面に対する傾斜装置が配設されていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のウエハ処理装
   置のロードロック機構。
3. 【請求項３】上記回転テーブルのカセットステーション
   とチャンバフレームの少くともいづれか一方にカセット
   に対する強制位置決め装置が配設されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載のウエハ処理装置のロ
   ードロック機構。