JPH101336A - 無水石膏微粉末の製造方法 - Google Patents
無水石膏微粉末の製造方法Info
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- JPH101336A JPH101336A JP17305296A JP17305296A JPH101336A JP H101336 A JPH101336 A JP H101336A JP 17305296 A JP17305296 A JP 17305296A JP 17305296 A JP17305296 A JP 17305296A JP H101336 A JPH101336 A JP H101336A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】原料の二水石膏の脱水反応と同時に粉砕と同様
な処理を行うことが出来る工業的に有利な無水石膏微粉
末の製造方法を提供する。 【解決手段】含水二水石膏に亀裂を与え得る急速加熱処
理を施す。 【効果】粉砕などの後処理を必要とせず、原料二水石膏
から平均粒径が１０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に
得ることが出来る。
な処理を行うことが出来る工業的に有利な無水石膏微粉
末の製造方法を提供する。 【解決手段】含水二水石膏に亀裂を与え得る急速加熱処
理を施す。 【効果】粉砕などの後処理を必要とせず、原料二水石膏
から平均粒径が１０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に
得ることが出来る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無水石膏微粉末の
製造方法に関するものであり、詳しくは、副生二水石膏
などを原料とし、土壌改良材として好適に使用される無
水石膏微粉末の工業的に有利な製造方法に関するもので
ある。
製造方法に関するものであり、詳しくは、副生二水石膏
などを原料とし、土壌改良材として好適に使用される無
水石膏微粉末の工業的に有利な製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】無水石膏（硬石膏）のII型は、天然に産
出する他、二水石膏の脱水反応によって製造される。と
ころで、土壌改良材として好適に使用される平均粒径約
１０μｍ以下の無水石膏微粉末は、天然または合成品の
粉砕処理によって得られが、例えば、天然無水石膏の塊
状物を上記の平均粒径にまで粉砕することは多大の粉砕
エネルギーを必要としコスト高となる。
出する他、二水石膏の脱水反応によって製造される。と
ころで、土壌改良材として好適に使用される平均粒径約
１０μｍ以下の無水石膏微粉末は、天然または合成品の
粉砕処理によって得られが、例えば、天然無水石膏の塊
状物を上記の平均粒径にまで粉砕することは多大の粉砕
エネルギーを必要としコスト高となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、原料の二水石膏
の脱水反応と同時に粉砕と同様な処理を行うことが出来
る工業的に有利な無水石膏微粉末の製造方法を提供する
ことにある。
鑑みなされたものであり、その目的は、原料の二水石膏
の脱水反応と同時に粉砕と同様な処理を行うことが出来
る工業的に有利な無水石膏微粉末の製造方法を提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく種々検討を重ねた結果、二水石膏に特定
の熱処理を施すことにより、上記の目的を容易に達成し
得るとの知見を得た。
的を達成すべく種々検討を重ねた結果、二水石膏に特定
の熱処理を施すことにより、上記の目的を容易に達成し
得るとの知見を得た。
【０００５】本発明は、上記の知見に基づき完成された
ものであり、その要旨は、二水石膏に亀裂を与え得る急
速加熱処理を施すことを特徴とする無水石膏微粉末の製
造方法に存する。
ものであり、その要旨は、二水石膏に亀裂を与え得る急
速加熱処理を施すことを特徴とする無水石膏微粉末の製
造方法に存する。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図１は、本発明の製造方法において好
適に使用される熱処理装置の一部破断の説明図、図２
は、図１に示す熱処理装置の停止時における原料石膏の
状態を示す概念的説明図、図３は、図１に示す熱処理装
置の駆動時における原料石膏の状態を示す概念的説明図
である。
詳細に説明する。図１は、本発明の製造方法において好
適に使用される熱処理装置の一部破断の説明図、図２
は、図１に示す熱処理装置の停止時における原料石膏の
状態を示す概念的説明図、図３は、図１に示す熱処理装
置の駆動時における原料石膏の状態を示す概念的説明図
である。
【０００７】本発明においては、原料石膏として二水石
膏を使用する。二水石膏は、例えば、各種の工業プロセ
スから副生物として得られる。斯かるプロセスとして
は、例えば、燐鉱石の硫酸分解による湿式燐酸製造プロ
セス、硫酸アンモニウムを含有する燃焼灰の硫酸アンモ
ニウムの複分解を伴う湿式プロセス等が挙げられる。こ
れらのプロセスから副生される二水石膏は自由水を含む
含水物であるが、本発明においては、斯かる含水二水石
膏をそのまま原料石膏として使用することが出来る。
膏を使用する。二水石膏は、例えば、各種の工業プロセ
スから副生物として得られる。斯かるプロセスとして
は、例えば、燐鉱石の硫酸分解による湿式燐酸製造プロ
セス、硫酸アンモニウムを含有する燃焼灰の硫酸アンモ
ニウムの複分解を伴う湿式プロセス等が挙げられる。こ
れらのプロセスから副生される二水石膏は自由水を含む
含水物であるが、本発明においては、斯かる含水二水石
膏をそのまま原料石膏として使用することが出来る。
【０００８】本発明においては、後述する好ましい平均
粒径などの観点から、石油系燃焼灰の湿式処理プロセス
から排出される含水二水石膏、すなわち、石油系燃料を
使用するボイラー等の排ガス煙道中に設けられた電気集
塵機により捕集され且つ少なくとも硫酸アンモニウムを
含有する燃焼灰の湿式処理プロセスにおいて、上記の硫
酸アンモニウムの複分解によって製造され且つカーボン
及び燃焼灰中の他の固形分を分離して得られた含水二水
石膏を使用するのが好ましい。
粒径などの観点から、石油系燃焼灰の湿式処理プロセス
から排出される含水二水石膏、すなわち、石油系燃料を
使用するボイラー等の排ガス煙道中に設けられた電気集
塵機により捕集され且つ少なくとも硫酸アンモニウムを
含有する燃焼灰の湿式処理プロセスにおいて、上記の硫
酸アンモニウムの複分解によって製造され且つカーボン
及び燃焼灰中の他の固形分を分離して得られた含水二水
石膏を使用するのが好ましい。
【０００９】上記の含水二水石膏は、燃焼灰の湿式処理
プロセスにおいて、燃焼灰スラリーから、カーボン、鉄
スラッジ、メタバナジン酸アンモニウムを順次に回収
し、水酸化カルシウム又は酸化カルシウムにより硫酸ア
ンモニウムの複分解を行い、得られたスラリーから水酸
化ニッケル及び水酸化マグネシウムを分離して回収され
る。そして、上記の回収には、遠心沈降型固液分離機
（デカンター）が使用され、回収された石膏の平均粒径
は約５０〜１００μであり、含水率は約５〜１５重量％
である。
プロセスにおいて、燃焼灰スラリーから、カーボン、鉄
スラッジ、メタバナジン酸アンモニウムを順次に回収
し、水酸化カルシウム又は酸化カルシウムにより硫酸ア
ンモニウムの複分解を行い、得られたスラリーから水酸
化ニッケル及び水酸化マグネシウムを分離して回収され
る。そして、上記の回収には、遠心沈降型固液分離機
（デカンター）が使用され、回収された石膏の平均粒径
は約５０〜１００μであり、含水率は約５〜１５重量％
である。
【００１０】なお、上記の燃焼灰に含有される硫酸アン
モニウムは、硫酸ガス（ＳＯ3 ）による腐食防止のた
め、例えば、高硫黄分重油焚ボイラーの燃焼ガス中に添
加されるアンモニアに基づくものであり、石膏の回収を
伴う燃焼灰の湿式処理プロセスとしては、例えば、本出
願人によって既に提案された特開昭６０−１９０８６
号、同６０−４６９３０号、特公平４−６１７０９号、
特公平５−１３７１８号の各公報の記載の湿式プロセス
が挙げられる。
モニウムは、硫酸ガス（ＳＯ3 ）による腐食防止のた
め、例えば、高硫黄分重油焚ボイラーの燃焼ガス中に添
加されるアンモニアに基づくものであり、石膏の回収を
伴う燃焼灰の湿式処理プロセスとしては、例えば、本出
願人によって既に提案された特開昭６０−１９０８６
号、同６０−４６９３０号、特公平４−６１７０９号、
特公平５−１３７１８号の各公報の記載の湿式プロセス
が挙げられる。
【００１１】本発明においては、原料の二水石膏に亀裂
を与え得る急速加熱処理を施す。すなわち、本発明にお
いては、二水石膏に熱衝撃（サーマルショック）を与
え、その際の急な温度勾配の影響によって亀裂を生じせ
しめる。同時に、二水石膏中の結晶水（含水二水石膏の
場合は更に自由水）を爆発的に一挙に除去することによ
り上記の亀裂の形成を促進する。その結果、本発明にお
いては、粉砕などの後処理を必要とせず、平均粒径が１
０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に得ることが出来
る。
を与え得る急速加熱処理を施す。すなわち、本発明にお
いては、二水石膏に熱衝撃（サーマルショック）を与
え、その際の急な温度勾配の影響によって亀裂を生じせ
しめる。同時に、二水石膏中の結晶水（含水二水石膏の
場合は更に自由水）を爆発的に一挙に除去することによ
り上記の亀裂の形成を促進する。その結果、本発明にお
いては、粉砕などの後処理を必要とせず、平均粒径が１
０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に得ることが出来
る。
【００１２】ところで、サーマルショックによって得ら
れる無水石膏の平均粒径は、二水石膏に与える温度勾配
に依存するが、二水石膏の平均粒径にも影響する。そこ
で、本発明において、平均粒径が１０μｍ以下の無水石
膏微粉末を目的とする場合、二水石膏の平均粒径は、約
５０〜５００μｍの範囲が好ましく、約５０〜３００μ
ｍの範囲が更に好ましい。
れる無水石膏の平均粒径は、二水石膏に与える温度勾配
に依存するが、二水石膏の平均粒径にも影響する。そこ
で、本発明において、平均粒径が１０μｍ以下の無水石
膏微粉末を目的とする場合、二水石膏の平均粒径は、約
５０〜５００μｍの範囲が好ましく、約５０〜３００μ
ｍの範囲が更に好ましい。
【００１３】また、含水二水石膏中の含水率（自由水の
割合）が余りに高い場合は、サーマルショックが起こり
難くなるため、その上限は約２０重量％とするのがよ
い。含水二水石膏における含水率は、通常１〜２０重量
％、好ましくは５〜１０重量％の範囲である。燃焼灰の
湿式処理プロセスから回収される副生石膏は、平均粒径
および含水率の観点から、本発明で使用する二水石膏と
して好適である。
割合）が余りに高い場合は、サーマルショックが起こり
難くなるため、その上限は約２０重量％とするのがよ
い。含水二水石膏における含水率は、通常１〜２０重量
％、好ましくは５〜１０重量％の範囲である。燃焼灰の
湿式処理プロセスから回収される副生石膏は、平均粒径
および含水率の観点から、本発明で使用する二水石膏と
して好適である。
【００１４】本発明において、急速加熱処理は、例え
ば、図１に示す熱処理装置によって行うことが出来る。
この熱処理装置は、加熱ジャケット（１）を備えた密閉
型の槽（２）と、槽内に配置された回転軸（３）と、当
該回転軸に設置され帯状で且つその側面部が槽内壁に沿
った螺旋形状の攪拌羽根（４）とから主として構成され
る。そして、槽（２）は、底部に等間隔で配置された３
個の脚（５）と減速機付モータ（６）とを備え、天井部
に水蒸気排出管（７）と二水石膏投入口（８）とを有
し、側面部の下部に無水石膏排出機構（９）を備えてい
る。
ば、図１に示す熱処理装置によって行うことが出来る。
この熱処理装置は、加熱ジャケット（１）を備えた密閉
型の槽（２）と、槽内に配置された回転軸（３）と、当
該回転軸に設置され帯状で且つその側面部が槽内壁に沿
った螺旋形状の攪拌羽根（４）とから主として構成され
る。そして、槽（２）は、底部に等間隔で配置された３
個の脚（５）と減速機付モータ（６）とを備え、天井部
に水蒸気排出管（７）と二水石膏投入口（８）とを有
し、側面部の下部に無水石膏排出機構（９）を備えてい
る。
【００１５】加熱源としては燃焼排ガスが使用され、当
該燃焼排ガスは、図示を省略した循環機構により、加熱
ジャケット（１）に循環供給される。なお、二水石膏投
入口（８）には、図示を省略したがロータリーフィーダ
ー等が接続されており、また、無水石膏排出機構（９）
としてはコンベヤ装置などが使用される。
該燃焼排ガスは、図示を省略した循環機構により、加熱
ジャケット（１）に循環供給される。なお、二水石膏投
入口（８）には、図示を省略したがロータリーフィーダ
ー等が接続されており、また、無水石膏排出機構（９）
としてはコンベヤ装置などが使用される。
【００１６】上記の熱処理装置を使用する無水石膏の製
造方法においては、加熱ジャケット（１）により、槽
（２）内壁面の加熱面を通常３００℃以上、好ましくは
４００〜６００℃に保持した後、回転軸（３）を駆動さ
せて攪拌条件下に二水石膏を二水石膏投入口（８）から
供給して加熱面に沿って薄膜状に流動させる。
造方法においては、加熱ジャケット（１）により、槽
（２）内壁面の加熱面を通常３００℃以上、好ましくは
４００〜６００℃に保持した後、回転軸（３）を駆動さ
せて攪拌条件下に二水石膏を二水石膏投入口（８）から
供給して加熱面に沿って薄膜状に流動させる。
【００１７】原料の二水石膏は、前述の通り、約５０〜
５００μｍの範囲の粉粒体である。従って、熱処理装置
の停止時における二水石膏の状態は図２に示す様なバル
ク状態であるが、熱処理装置の駆動時における二水石膏
の状態は、槽内壁に沿った螺旋形状の攪拌羽根（４）に
よって掻き上げられた後、図３に示す様な加熱面に沿っ
た薄膜状態となる。
５００μｍの範囲の粉粒体である。従って、熱処理装置
の停止時における二水石膏の状態は図２に示す様なバル
ク状態であるが、熱処理装置の駆動時における二水石膏
の状態は、槽内壁に沿った螺旋形状の攪拌羽根（４）に
よって掻き上げられた後、図３に示す様な加熱面に沿っ
た薄膜状態となる。
【００１８】攪拌羽根（４）の回転数は、通常５０〜３
００ｐｍ、好ましくは１００〜２００ｒｐｍの範囲から
適宜選択される。二水石膏の供給量は、攪拌羽根（４）
の回転数にも依存するが、過剰供給量の場合は、攪拌羽
根（４）の回転数が適切であっても上記の薄膜状態の形
成維持が困難となるため、槽（２）の容積に対し、通常
３０％以下、好ましくは５〜１０％の範囲から選択され
る。
００ｐｍ、好ましくは１００〜２００ｒｐｍの範囲から
適宜選択される。二水石膏の供給量は、攪拌羽根（４）
の回転数にも依存するが、過剰供給量の場合は、攪拌羽
根（４）の回転数が適切であっても上記の薄膜状態の形
成維持が困難となるため、槽（２）の容積に対し、通常
３０％以下、好ましくは５〜１０％の範囲から選択され
る。
【００１９】上記の様に、加熱面を３００℃以上に保持
した後、攪拌条件下に二水石膏を供給して加熱面に沿っ
て薄膜状に流動させることにより、二水石膏は熱衝撃
（サーマルショック）受ける。その結果、脱水反応と同
時に亀裂により粉砕と同様の処理が行われ、粉砕などの
後処理を必要とせずに平均粒径が１０μｍ以下の無水石
膏微粉末を得ることが出来る。槽（１）内の二水石膏の
滞留時間は、熱衝撃の観点からすれば、長くする必要性
は全くなく、むしろ、短いほど好ましいが、脱水反応に
必要な時間を考慮し、通常１〜６０分、好ましくは５〜
３０分の範囲から選択される。
した後、攪拌条件下に二水石膏を供給して加熱面に沿っ
て薄膜状に流動させることにより、二水石膏は熱衝撃
（サーマルショック）受ける。その結果、脱水反応と同
時に亀裂により粉砕と同様の処理が行われ、粉砕などの
後処理を必要とせずに平均粒径が１０μｍ以下の無水石
膏微粉末を得ることが出来る。槽（１）内の二水石膏の
滞留時間は、熱衝撃の観点からすれば、長くする必要性
は全くなく、むしろ、短いほど好ましいが、脱水反応に
必要な時間を考慮し、通常１〜６０分、好ましくは５〜
３０分の範囲から選択される。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【００２１】実施例１ 原料の石膏として、石油系燃料を使用するボイラー等の
排ガス煙道中に設けられた集塵機により捕集され且つ硫
酸アンモニウムを含有する燃焼灰の湿式処理プロセスに
おいて、上記の硫酸アンモニウムの複分解によって製造
され且つカーボン及び燃焼灰中の他の固形分を分離して
得られた含水二水石膏（含水率１０重量％、平均粒径７
５μｍ）を使用した。なお、石膏の平均粒径は、光透過
法によって測定した（以下、同じ）。
排ガス煙道中に設けられた集塵機により捕集され且つ硫
酸アンモニウムを含有する燃焼灰の湿式処理プロセスに
おいて、上記の硫酸アンモニウムの複分解によって製造
され且つカーボン及び燃焼灰中の他の固形分を分離して
得られた含水二水石膏（含水率１０重量％、平均粒径７
５μｍ）を使用した。なお、石膏の平均粒径は、光透過
法によって測定した（以下、同じ）。
【００２２】図１に示す熱処理装置において、加熱ジャ
ケット（１）に燃焼排ガスを循環供給し、槽（２）内壁
面の加熱面を約５００℃に加熱した後、回転軸（３）を
駆動させて１６０ｒｒｐｍの攪拌条件下、二水石膏投入
口（８）から槽（２）の容積に対して８％相当量である
２ｋｇの含水二水石膏を供給して加熱面に沿って薄膜状
に３０分流動させた。発生した水蒸気は水蒸気排出管
（７）から除去した。得られた無水石膏の平均粒径は約
１０μｍであった。
ケット（１）に燃焼排ガスを循環供給し、槽（２）内壁
面の加熱面を約５００℃に加熱した後、回転軸（３）を
駆動させて１６０ｒｒｐｍの攪拌条件下、二水石膏投入
口（８）から槽（２）の容積に対して８％相当量である
２ｋｇの含水二水石膏を供給して加熱面に沿って薄膜状
に３０分流動させた。発生した水蒸気は水蒸気排出管
（７）から除去した。得られた無水石膏の平均粒径は約
１０μｍであった。
【００２３】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、粉砕など
の後処理を必要とせず、原料二水石膏から平均粒径が１
０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に得ることが出来
る。
の後処理を必要とせず、原料二水石膏から平均粒径が１
０μｍ以下の無水石膏微粉末を容易に得ることが出来
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法において好適に使用される熱
処理装置の一部破断の説明図
処理装置の一部破断の説明図
【図２】図１に示す熱処理装置の停止時における原料石
膏の状態を示す概念的説明図
膏の状態を示す概念的説明図
【図３】図１に示す熱処理装置の駆動時における原料石
膏の状態を示す概念的説明図
膏の状態を示す概念的説明図
１：加熱ジャケット ２：槽 ３：回転軸 ４：攪拌羽根 ５：脚 ６：減速機付モータ ７：水蒸気排出管 ８：二水石膏投入口 ９：無水石膏排出機構
Claims (6)
- 【請求項１】 二水石膏に亀裂を与え得る急速加熱処理
を施すことを特徴とする無水石膏微粉末の製造方法。 - 【請求項２】 急速加熱処理装置として、加熱ジャケッ
トを備えた密閉型の槽と、槽内に配置された回転軸と、
当該回転軸に設置され帯状で且つその側面部が槽内壁に
沿った螺旋形状の攪拌羽根とから主として構成される装
置を使用し、加熱面を３００℃以上に保持した後、攪拌
条件下に二水石膏を供給して加熱面に沿って薄膜状に流
動させる請求項１に記載の無水石膏微粉末の製造方法。 - 【請求項３】 二水石膏の平均粒径が５０〜５００μｍ
である請求項１又は２に記載の製造方法。 - 【請求項４】 二水石膏が含水率が５〜２０重量％の含
水二水石膏である請求項１〜３に記載の製造方法。 - 【請求項５】 無水石膏微粉末の平均粒径が１０μｍ以
下である請求項１〜４の何れかに記載の製造方法。 - 【請求項６】 原料の二水石膏として、石油系燃料を使
用するボイラー等の排ガス煙道中に設けられた集塵機に
より捕集され且つ少なくとも硫酸アンモニウムを含有す
る燃焼灰の湿式処理プロセスにおいて、上記の硫酸アン
モニウムの複分解によって製造され且つカーボン及び燃
焼灰中の他の固形分を分離して得られた含水二水石膏を
使用する請求項１〜５の何れかに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17305296A JPH101336A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 無水石膏微粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17305296A JPH101336A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 無水石膏微粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH101336A true JPH101336A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15953332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17305296A Pending JPH101336A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 無水石膏微粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH101336A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4719327A (en) * | 1984-06-22 | 1988-01-12 | Fanuc Ltd. | Electrical discharge machining power supply |
| JP2005528310A (ja) * | 2002-03-08 | 2005-09-22 | ラファルジュ プラトル | 石膏の乾燥とか焼またはそのいずれかを行うための装置 |
| JP2005281052A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Ado Ceramics Kenkyusho:Kk | 石膏の製造方法と製造装置 |
| JP2006321663A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Tadano Ltd | 半水石膏の製造装置及び半水石膏の連続的製造方法 |
| JP2007169114A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無水石膏の製造方法 |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP17305296A patent/JPH101336A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4719327A (en) * | 1984-06-22 | 1988-01-12 | Fanuc Ltd. | Electrical discharge machining power supply |
| JP2005528310A (ja) * | 2002-03-08 | 2005-09-22 | ラファルジュ プラトル | 石膏の乾燥とか焼またはそのいずれかを行うための装置 |
| JP2005281052A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Ado Ceramics Kenkyusho:Kk | 石膏の製造方法と製造装置 |
| JP4573553B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-11-04 | 有限会社アドセラミックス研究所 | 石膏の製造装置 |
| JP2006321663A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Tadano Ltd | 半水石膏の製造装置及び半水石膏の連続的製造方法 |
| JP2007169114A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無水石膏の製造方法 |
| JP4654123B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2011-03-16 | 住友大阪セメント株式会社 | 無水石膏の製造方法 |
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