JPH10120669A - エポキシドの製造 - Google Patents
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- JPH10120669A JPH10120669A JP9274010A JP27401097A JPH10120669A JP H10120669 A JPH10120669 A JP H10120669A JP 9274010 A JP9274010 A JP 9274010A JP 27401097 A JP27401097 A JP 27401097A JP H10120669 A JPH10120669 A JP H10120669A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来はこの目的には使用されていなかった試
薬を用いて、保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−
トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンを対応する
保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ
〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールに変換する方
法を提供する。 【解決手段】 保護された４−ヒドロキシ−２，６，６
−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンをハロゲ
ン化メチルリチウムと反応させ、所望であれば、得られ
た保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピ
ロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールから保護基
を開裂させることを特徴とする方法。
薬を用いて、保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−
トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンを対応する
保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ
〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールに変換する方
法を提供する。 【解決手段】 保護された４−ヒドロキシ−２，６，６
−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンをハロゲ
ン化メチルリチウムと反応させ、所望であれば、得られ
た保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピ
ロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールから保護基
を開裂させることを特徴とする方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、従来はこの目的に
は使用されていなかった試薬を用いて、保護された４−
ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキ
セン−１−オン（保護された「ホレノール」（phoreno
l))を対応する保護されたアリルエポキシドである４，
８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オク
タ−４−エン−６−オールに変換する方法に関する。出
発物質と最終生成物のいずれも、カロテノイド製造のた
めの公知の有用な中間体である。
は使用されていなかった試薬を用いて、保護された４−
ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキ
セン−１−オン（保護された「ホレノール」（phoreno
l))を対応する保護されたアリルエポキシドである４，
８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オク
タ−４−エン−６−オールに変換する方法に関する。出
発物質と最終生成物のいずれも、カロテノイド製造のた
めの公知の有用な中間体である。
【０００２】
【従来の技術】上記の変換（Ｃ1 −同族体化（homologi
sation))のために従来使用されたきた方法は、試薬とし
てジメチルスルホニウムメチリドを用いるものである
（例えば、Pure & Apply. Chem. 51, 535-564 (1979)、
特に546-547 ページ: 52 + 53 →54 ；及びHelv. Chim,
Acta 63, 1451-1455 (1980) 、特に1452ページ: 5 →
6を参照）。しかし、この試薬は、製造するのに問題が
多く、副生成物として嗅覚的に問題のあるジメチルスル
フィドが発生するために、これが重大な欠点である。
sation))のために従来使用されたきた方法は、試薬とし
てジメチルスルホニウムメチリドを用いるものである
（例えば、Pure & Apply. Chem. 51, 535-564 (1979)、
特に546-547 ページ: 52 + 53 →54 ；及びHelv. Chim,
Acta 63, 1451-1455 (1980) 、特に1452ページ: 5 →
6を参照）。しかし、この試薬は、製造するのに問題が
多く、副生成物として嗅覚的に問題のあるジメチルスル
フィドが発生するために、これが重大な欠点である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、別の
試薬を用いて、保護されたホレノールから出発して、場
合により保護された４，８，８−トリメチル−１−オキ
サスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールを製
造する方法を開発し、それによってジメチルスルホニウ
ムメチリドの使用と関連した上述の問題を避けることで
ある。本目的は、Ｃ1 −同族体化において試薬としてハ
ロゲン化メチルリチウムを用いることによって達成され
る。従来用いられてきた試薬と比べて、ハロゲン化メチ
ルリチウムの使用によって、コストも軽減される。
試薬を用いて、保護されたホレノールから出発して、場
合により保護された４，８，８−トリメチル−１−オキ
サスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オールを製
造する方法を開発し、それによってジメチルスルホニウ
ムメチリドの使用と関連した上述の問題を避けることで
ある。本目的は、Ｃ1 −同族体化において試薬としてハ
ロゲン化メチルリチウムを用いることによって達成され
る。従来用いられてきた試薬と比べて、ハロゲン化メチ
ルリチウムの使用によって、コストも軽減される。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明による、式（I
I）：
I）：
【０００５】
【化３】
【０００６】〔式中、Ｒ’は、ヒドロキシ保護基を表
す〕で示される保護されたホレノール（保護された４−
ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキ
セン−１−オン）から出発して、式（Ｉ）：
す〕で示される保護されたホレノール（保護された４−
ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキ
セン−１−オン）から出発して、式（Ｉ）：
【０００７】
【化４】
【０００８】〔式中、Ｒは、水素、又はヒドロキシ保護
基を表す〕で示される、場合により保護された４，８，
８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−
４−エン−６−オールを製造する方法は、保護された４
−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘ
キセン−１−オンをハロゲン化メチルリチウムと反応さ
せ、所望であれば、このようにして得られた式（Ｉ）の
保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ
〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オール（ここで、Ｒ
は、保護基Ｒ’を表す）から保護基を開裂させることか
らなる。
基を表す〕で示される、場合により保護された４，８，
８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−
４−エン−６−オールを製造する方法は、保護された４
−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘ
キセン−１−オンをハロゲン化メチルリチウムと反応さ
せ、所望であれば、このようにして得られた式（Ｉ）の
保護された４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ
〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オール（ここで、Ｒ
は、保護基Ｒ’を表す）から保護基を開裂させることか
らなる。
【０００９】上記の「ヒドロキシ保護基」の語は、それ
ぞれの構造に位置するヒドロキシ基の通常の保護基、特
にカロテノイドの分野においてよく知られている保護基
を意味する。それぞれの保護されたヒドロキシ基として
は、エーテル化されたヒドロキシ基を特に考慮すること
ができる。これらとしては、例えばＣ1-5 アルコキシ
基、好ましくはメトキシ及びエトキシ；１６個までの炭
素原子を有するモノ及びジアルコキシアルコキシ基、好
ましくは１−メトキシ−１−メチルエトキシ（いわゆる
イソプロペニルメチルエーテル（ＩＰＭ）保護基を有す
るヒドロキシ）又はジメトキシメトキシ；アリールアル
コキシ基、好ましくはベンジルオキシ；テトラヒドロピ
ラニルオキシ；及びシリルオキシ基、好ましくはトリメ
チルシリルオキシ及びフェニルジメチルシリルオキシ
が、挙げられる。
ぞれの構造に位置するヒドロキシ基の通常の保護基、特
にカロテノイドの分野においてよく知られている保護基
を意味する。それぞれの保護されたヒドロキシ基として
は、エーテル化されたヒドロキシ基を特に考慮すること
ができる。これらとしては、例えばＣ1-5 アルコキシ
基、好ましくはメトキシ及びエトキシ；１６個までの炭
素原子を有するモノ及びジアルコキシアルコキシ基、好
ましくは１−メトキシ−１−メチルエトキシ（いわゆる
イソプロペニルメチルエーテル（ＩＰＭ）保護基を有す
るヒドロキシ）又はジメトキシメトキシ；アリールアル
コキシ基、好ましくはベンジルオキシ；テトラヒドロピ
ラニルオキシ；及びシリルオキシ基、好ましくはトリメ
チルシリルオキシ及びフェニルジメチルシリルオキシ
が、挙げられる。
【００１０】特に限定しない限り、「アルキル」の語
は、好ましくは１〜５個の炭素原子を有する、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、tert−ブ
チルなどの直鎖及び分岐鎖状の基を意味する。これは、
「アルコキシ」のアルキル部分にも当てはまる。アリー
ル基が存在する場合、これは好ましくはフェニル（場合
により、例えば、１つ以上のＣ1-5 アルキル、及び／又
はニトロ基で置換されている）である。しかし、原則と
して、非置換のフェニルが、好ましい。
は、好ましくは１〜５個の炭素原子を有する、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、tert−ブ
チルなどの直鎖及び分岐鎖状の基を意味する。これは、
「アルコキシ」のアルキル部分にも当てはまる。アリー
ル基が存在する場合、これは好ましくはフェニル（場合
により、例えば、１つ以上のＣ1-5 アルキル、及び／又
はニトロ基で置換されている）である。しかし、原則と
して、非置換のフェニルが、好ましい。
【００１１】ＩＰＭ及びトリメチルシリル（ＴＭＳ）保
護基が、特に好ましい保護基である。
護基が、特に好ましい保護基である。
【００１２】上記の式（Ｉ）及び（II）では、異性体
（立体配置）に関しては、特に示していないが、すべて
の立体異性体（特に光学異性体）が含まれる。本発明の
方法の１つの実施態様によると、式（II’）の保護され
た（Ｓ）−ホレノールを、ハロゲン化メチルリチウムを
用いて、式（Ｉ’）の保護された（３Ｓ，６Ｓ）−４，
８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オク
タ−４−エン−６−オールに変換する。
（立体配置）に関しては、特に示していないが、すべて
の立体異性体（特に光学異性体）が含まれる。本発明の
方法の１つの実施態様によると、式（II’）の保護され
た（Ｓ）−ホレノールを、ハロゲン化メチルリチウムを
用いて、式（Ｉ’）の保護された（３Ｓ，６Ｓ）−４，
８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オク
タ−４−エン−６−オールに変換する。
【００１３】
【化５】
【００１４】本発明の方法によるＣ1 −同族体化は、式
（II）の保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−トリ
メチル−２−シクロヘキセン−１−オンをジハロゲン化
メタン及び低級アルキルリチウムと反応させることによ
ってその場で製造した（in situ)ハロゲン化メチルリチ
ウムにより行うのが、好都合である。２個のハロゲン原
子が、同一であっても異なっていてもよいジハロゲン化
メタン（ＣＨ2(Ｈａｌ)2中のＨａｌ）のハロゲンとして
は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素が適当である。この
場合、ジハロゲン化メタンとしては、ブロモクロロメタ
ンが、特に好ましい。低級アルキルリチウムの「低級ア
ルキル」としては、特に炭素数８までの直鎖又は分岐鎖
状アルキル（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec −ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及
びオクチル）を考慮することができる。Ｃ1-6 アルキル
が、特に好ましく、ｎ−ブチル又はヘキシルリチウム
が、特に好ましい低級アルキルリチウムである。これを
通常は、低級アルカン、好ましくはヘキサン溶液中で使
用する。低級アルキルリチウムとのジハロゲン化メタン
との反応により、ハロゲン化メチルリチウムが得られ、
これが同じ反応媒質中で保護されたホレノールと反応す
る。例えば、ブロモクロロメタン及びｎ−ブチルリチウ
ムからクロロメチルリチウムが生成し、ｎ−ブチルブロ
ミドが、副生成物として生じる。
（II）の保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−トリ
メチル−２−シクロヘキセン−１−オンをジハロゲン化
メタン及び低級アルキルリチウムと反応させることによ
ってその場で製造した（in situ)ハロゲン化メチルリチ
ウムにより行うのが、好都合である。２個のハロゲン原
子が、同一であっても異なっていてもよいジハロゲン化
メタン（ＣＨ2(Ｈａｌ)2中のＨａｌ）のハロゲンとして
は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素が適当である。この
場合、ジハロゲン化メタンとしては、ブロモクロロメタ
ンが、特に好ましい。低級アルキルリチウムの「低級ア
ルキル」としては、特に炭素数８までの直鎖又は分岐鎖
状アルキル（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec −ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及
びオクチル）を考慮することができる。Ｃ1-6 アルキル
が、特に好ましく、ｎ−ブチル又はヘキシルリチウム
が、特に好ましい低級アルキルリチウムである。これを
通常は、低級アルカン、好ましくはヘキサン溶液中で使
用する。低級アルキルリチウムとのジハロゲン化メタン
との反応により、ハロゲン化メチルリチウムが得られ、
これが同じ反応媒質中で保護されたホレノールと反応す
る。例えば、ブロモクロロメタン及びｎ−ブチルリチウ
ムからクロロメチルリチウムが生成し、ｎ−ブチルブロ
ミドが、副生成物として生じる。
【００１５】更に、Ｃ1 −同族体化（そして、ハロゲン
化メチルリチウムの現場製造）を、脂肪族又は環式エー
テル溶媒中、約−２０〜約−１２０℃、好ましくは約−
６０〜約−８０℃の温度で行うのが、好都合である。溶
媒は、例えば、ジエチルエーテルもしくはtert−ブチル
メチルエーテル、又はテトラヒドロフランもしくはジオ
キサンである。この反応は、テトラヒドロフラン中で行
うのが好ましい。
化メチルリチウムの現場製造）を、脂肪族又は環式エー
テル溶媒中、約−２０〜約−１２０℃、好ましくは約−
６０〜約−８０℃の温度で行うのが、好都合である。溶
媒は、例えば、ジエチルエーテルもしくはtert−ブチル
メチルエーテル、又はテトラヒドロフランもしくはジオ
キサンである。この反応は、テトラヒドロフラン中で行
うのが好ましい。
【００１６】好都合には、保護されたホレノール１当量
当たり、ジハロゲン化メタン約１〜２、好ましくは約
１．１当量、そして低級アルキルリチウム約１〜２、好
ましくは約１．５当量を用いる。
当たり、ジハロゲン化メタン約１〜２、好ましくは約
１．１当量、そして低級アルキルリチウム約１〜２、好
ましくは約１．５当量を用いる。
【００１７】エポキシ化の終了（通常は、約３０〜約６
０分間かかる）後、放置して、例えば約−７０℃〜約−
３０℃の温度範囲まで昇温させ、水又は塩化ナトリウム
水溶液で希釈し、適当な有機溶媒、好都合には反応に使
用した有機溶媒で抽出することによって、混合物を処理
する。溶媒の留去、そして場合により結晶化、及び／又
は、そのほかの精製段階の後、式（Ｉ）（ここで、Ｒ
は、保護基Ｒ’を表す）の生成物が、高純度で得られ
る。
０分間かかる）後、放置して、例えば約−７０℃〜約−
３０℃の温度範囲まで昇温させ、水又は塩化ナトリウム
水溶液で希釈し、適当な有機溶媒、好都合には反応に使
用した有機溶媒で抽出することによって、混合物を処理
する。溶媒の留去、そして場合により結晶化、及び／又
は、そのほかの精製段階の後、式（Ｉ）（ここで、Ｒ
は、保護基Ｒ’を表す）の生成物が、高純度で得られ
る。
【００１８】得られた生成物に存在する保護基は、所望
であれば、それ自体公知の方法、例えば酸又は塩基によ
る加水分解によって開裂させることができる。これによ
り、４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．
５〕オクタ−４−エン−６−オール自体（Ｒが、水素を
表わす、式（Ｉ）の化合物）が得られる。
であれば、それ自体公知の方法、例えば酸又は塩基によ
る加水分解によって開裂させることができる。これによ
り、４，８，８−トリメチル−１−オキサスピロ〔２．
５〕オクタ−４−エン−６−オール自体（Ｒが、水素を
表わす、式（Ｉ）の化合物）が得られる。
【００１９】式（Ｉ）の化合物は、それ自体公知の方法
により、いくつかの反応工程を経て、有用な最終生成
物、例えばカロテノイド及び医薬品に変換することがで
きる（例えば、Pure & Appl. Chem. 51, 535-564 (195
1) を参照）。
により、いくつかの反応工程を経て、有用な最終生成
物、例えばカロテノイド及び医薬品に変換することがで
きる（例えば、Pure & Appl. Chem. 51, 535-564 (195
1) を参照）。
【００２０】
【実施例】本発明を、以下の実施例により説明する。 実施例１ アセトン メチル〔（３Ｓ，６Ｓ）−４，８，８−トリ
メチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン
−６−イル〕アセタールの調製 （Ｓ）−４−（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）−
２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オ
ン２．００ｇ及びブロモクロロメタン１．２５ｇをテト
ラヒドロフラン２０mlに含む溶液を、−８０℃に冷却し
ながら、１．６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液
８．３mlで３０分間以内で処理した。次に、反応混合物
を−３５℃まで昇温させ、半飽和塩化ナトリウム溶液１
５mlで処理した。有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下で濃縮した。これにより、アセトン
メチル〔（３Ｓ，６Ｓ）−４，８，８−トリメチル−１
−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イ
ル〕アセタール２．１ｇが、白色固体（融点：５３〜５
９℃）として得られ、メタノールからの再結晶後の融点
は、６５．２〜６６．８℃であった。
メチル−１−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン
−６−イル〕アセタールの調製 （Ｓ）−４−（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）−
２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オ
ン２．００ｇ及びブロモクロロメタン１．２５ｇをテト
ラヒドロフラン２０mlに含む溶液を、−８０℃に冷却し
ながら、１．６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液
８．３mlで３０分間以内で処理した。次に、反応混合物
を−３５℃まで昇温させ、半飽和塩化ナトリウム溶液１
５mlで処理した。有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下で濃縮した。これにより、アセトン
メチル〔（３Ｓ，６Ｓ）−４，８，８−トリメチル−１
−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イ
ル〕アセタール２．１ｇが、白色固体（融点：５３〜５
９℃）として得られ、メタノールからの再結晶後の融点
は、６５．２〜６６．８℃であった。
【００２１】実施例２ （４Ｓ）−４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−
２−シクロヘキセン−１−オンから出発して、そのＴＭ
Ｓ−保護型を経ての、（３Ｒ，６Ｓ）−及び（３Ｓ，６
Ｓ）−トリメチル−（４，８，８−トリメチル−１−オ
キサスピロ−〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イルオ
キシ）−シランの製造（ワンポット法） （４Ｓ）−４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−
２−シクロヘキセン−１−オン２２．１ｇをテトラヒド
ロフラン２００mlに含む溶液を、−８０℃に冷却しなが
ら、１．６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液９０ml
で４０分間以内で処理し、次にクロロトリメチルシラン
２０mlで１０分間以内で処理した。次に、ブロモクロロ
メタン１０．５mlを１０分間かけて滴下して加え、１．
６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液１３４．５ml
を、−８０℃で１時間かけて滴下して加えた。混合物を
２０分間撹拌した。反応混合物を−３０℃まで昇温さ
せ、半飽和塩化ナトリウム溶液２００mlで処理した。次
に、有機相を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下で濃縮した。このようにして、薄層クロマトグラフ
ィーにより精製した、（３Ｒ，６Ｓ）−及び（３Ｓ，６
Ｓ）−トリメチル−（４，８，８−トリメチル−１−オ
キサスピロ−〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イルオ
キシ）−シランの純品混合物３３．６ｇを得た。MS: 24
0/3, M+;ＴＬＣ（ＳｉＯ2 、ヘキサン／酢酸エチル
１：１）：Ｒf ＝０．７０。
２−シクロヘキセン−１−オンから出発して、そのＴＭ
Ｓ−保護型を経ての、（３Ｒ，６Ｓ）−及び（３Ｓ，６
Ｓ）−トリメチル−（４，８，８−トリメチル−１−オ
キサスピロ−〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イルオ
キシ）−シランの製造（ワンポット法） （４Ｓ）−４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−
２−シクロヘキセン−１−オン２２．１ｇをテトラヒド
ロフラン２００mlに含む溶液を、−８０℃に冷却しなが
ら、１．６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液９０ml
で４０分間以内で処理し、次にクロロトリメチルシラン
２０mlで１０分間以内で処理した。次に、ブロモクロロ
メタン１０．５mlを１０分間かけて滴下して加え、１．
６M ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液１３４．５ml
を、−８０℃で１時間かけて滴下して加えた。混合物を
２０分間撹拌した。反応混合物を−３０℃まで昇温さ
せ、半飽和塩化ナトリウム溶液２００mlで処理した。次
に、有機相を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下で濃縮した。このようにして、薄層クロマトグラフ
ィーにより精製した、（３Ｒ，６Ｓ）−及び（３Ｓ，６
Ｓ）−トリメチル−（４，８，８−トリメチル−１−オ
キサスピロ−〔２．５〕オクタ−４−エン−６−イルオ
キシ）−シランの純品混合物３３．６ｇを得た。MS: 24
0/3, M+;ＴＬＣ（ＳｉＯ2 、ヘキサン／酢酸エチル
１：１）：Ｒf ＝０．７０。
Claims (2)
- 【請求項１】 式（II）： 【化１】 〔式中、Ｒ’は、ヒドロキシ保護基を表す〕で示される
保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−
２−シクロヘキセン−１−オンから出発して、式
（Ｉ）： 【化２】 〔式中、Ｒは、水素、又はヒドロキシ保護基を表す〕で
示される、場合により保護された４，８，８−トリメチ
ル−１−オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６
−オールを製造する方法であって、 保護された４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−
２−シクロヘキセン−１−オンをハロゲン化メチルリチ
ウムと反応させ、所望であれば、このようにして得られ
た式（Ｉ）の保護された４，８，８−トリメチル−１−
オキサスピロ〔２．５〕オクタ−４−エン−６−オール
（ここで、Ｒは、保護基Ｒ’を表す）から保護基を開裂
させることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 式（II）の保護された４−ヒドロキシ−
２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オ
ンをジハロゲン化メタン及び低級アルキルリチウムと反
応させることによって、ハロゲン化メチルリチウムをそ
の場で製造する、請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP96116742 | 1996-10-18 | ||
| EP96116742.6 | 1996-10-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120669A true JPH10120669A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=8223312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9274010A Pending JPH10120669A (ja) | 1996-10-18 | 1997-10-07 | エポキシドの製造 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5919956A (ja) |
| EP (1) | EP0837060B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10120669A (ja) |
| CN (1) | CN1103337C (ja) |
| AT (1) | ATE200282T1 (ja) |
| BR (1) | BR9705086A (ja) |
| DE (1) | DE59703279D1 (ja) |
| DK (1) | DK0837060T3 (ja) |
| ES (1) | ES2156327T3 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4000131A (en) * | 1974-05-10 | 1976-12-28 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for preparing epoxide-cyclohexyl compound and resultant compound |
| JPH03130291A (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-04 | Japan Tobacco Inc | ペリプラノン―ｂ類縁体、その製造法、およびその中間体、ならびにゴキブリ類の誘引剤 |
| JP3492362B2 (ja) * | 1992-05-20 | 2004-02-03 | ジー．ディー．サール アンド カンパニー | レトロウイルスプロテアーゼ阻害剤の合成に有用な中間体の製造方法 |
-
1997
- 1997-09-29 US US08/939,175 patent/US5919956A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-30 CN CN97120013A patent/CN1103337C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-07 JP JP9274010A patent/JPH10120669A/ja active Pending
- 1997-10-11 DK DK97117720T patent/DK0837060T3/da active
- 1997-10-11 ES ES97117720T patent/ES2156327T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-11 DE DE59703279T patent/DE59703279D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-11 AT AT97117720T patent/ATE200282T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-10-11 EP EP97117720A patent/EP0837060B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-17 BR BR9705086A patent/BR9705086A/pt not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK0837060T3 (da) | 2001-07-23 |
| ATE200282T1 (de) | 2001-04-15 |
| US5919956A (en) | 1999-07-06 |
| EP0837060B1 (de) | 2001-04-04 |
| EP0837060A1 (de) | 1998-04-22 |
| CN1103337C (zh) | 2003-03-19 |
| CN1180700A (zh) | 1998-05-06 |
| BR9705086A (pt) | 1999-07-20 |
| DE59703279D1 (de) | 2001-05-10 |
| ES2156327T3 (es) | 2001-06-16 |
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