JPH0692976A - シラノールの速度論的分割法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】シラノールの速度論的分割方法を提供する。 【構成】 （式中、Ｒ^１は置換または非置換の１−シクロアルケニ
ル基であり；Ｒ^２は炭素数１〜８の置換または非置換の
アルキル基及び脂環式残基、並びに置換または非置換の
アリール基から選ばれ；Ｒ^３は炭素数１〜４のアルキル
基、並びに置換または非置換のω−（１−ピロリジニ
ル）アルキル基及びω−（１−ピペリジル）アルキル基
から選ばれ；Ｒ^１，Ｒ^２及びＲ^３は総て異なる）で示さ
れるシラノールをシャープレス酸化に付して一部をエポ
キシ化し、エポキシ化されずに残ったシラノールを回収
してなる、一般式（Ｉ）で示されるシラノールの分割
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はシラノールの分割方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】生体における受容体や酵素の活性中心
は、通常鏡像異性体選択性を有し、片方の鏡像異性体と
より強く相互作用する。こうした理由から、薬剤もしく
は他の工業上の試薬またはその合成原料として、片方の
鏡像異性体から成るものが求められることがある。

【０００３】ある化合物の片方の鏡像異性体を得る方法
として、不斉合成及び分割がある。分割法には、自然分
割による方法、分割試薬とジアステレオマーを作る方
法、不斉吸着を利用する方法、不斉分解を利用する方
法、生物による消費を利用する方法、酵素による不斉分
解を利用する方法、反応速度の差を利用する方法等があ
る。この内、反応速度の差を利用する方法としては、ジ
アステレオマーの生成または分解を中断して部分分割す
る方法（未反応物が目的物）等がある。速度論的分割の
一例は、シャープレス(Sharpless）反応を利用する第二
級アリルアルコールの分割である。

【０００４】シャープレス酸化とは、アリルアルコール
を、アルコキシチタンと酒石酸エステルまたは両者より
得られるチタン錯体の存在下で酸化してエポキシアルコ
ールを生じる反応であり、その詳細については、K.B.シ
ャープレス(Sharpless) 他の論文〔ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.),102巻（1980年),5974頁、及び 103巻（1981年),623
7頁；並びに、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー(J.Org.Chem.),56巻（1991年), 6966-6968頁、
他〕等を参照することができる。シャープレス酸化にお
いては、特定の絶対配置を有するエポキシアルコールを
高い光学純度にて得ることができ、その絶対配置は使用
する酒石酸エステルの絶対配置または量によって決定さ
れる。ここで、反応基質として第二級アリルアルコール
を用いると、基質の鏡像体間でエポキシ化の反応速度が
大きく異なるため、不斉エポキシ化が起こるだけでな
く、そのエポキシ化が専ら片方の鏡像体について起こ
り、もう一方の鏡像体は基質のまま残る〔例えば、天然
型の酒石酸を用いた場合には、（Ｓ）体が優先的にエポ
キシ化し、（Ｒ）体が基質のまま残る〕。その結果、こ
の反応により生じた混合物から未反応の基質を単離する
だけで、その殆ど（通常90％以上）が一方の鏡像体から
成る第二級アリルアルコールを得ることができる。この
ように、第二級アリルアルコールにおいては、鏡像体間
でのエポキシ化の反応速度の違いを利用して分割を行う
ことが可能である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなシャープレス酸化を利用する速度論的分割方法
は、アリルアルコール及びその類似化合物の総てに適用
できるものではない。例えば、通常の第三級アリルアル
コールを用いてもエポキシ化は起こらない。また、不斉
ケイ素原子を有するシラノールについてシャープレス酸
化を行った例は知られていない。不斉ケイ素原子を有さ
ない第三級シラノールであるジメチルスチリルシラノー
ルについては、シャープレス酸化による不斉エポキシ化
の起こることが報告されている〔T.H.チャン(Chan)他、
ケミカル・コミュニケーション(Chem.Commun.), 1988
年, 1280頁〕ものの、本発明者らが研究したところによ
ると、不斉ケイ素原子を有する類似の第三級シラノール
であるスチリルメチルフェニルシラノールをシャープレ
ス酸化に付しても、速度論的分割は起こらない。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定のシ
ラノールについてはシャープレス酸化を利用しての速度
論的分割が可能であると言うことを見出した。

【０００７】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）：

【０００８】

【化２】 （式中、Ｒ¹ は置換または非置換の1-シクロアルケニル
基であり；Ｒ² は炭素数１〜８の置換または非置換のア
ルキル基及び脂環式残基、並びに置換または非置換のア
リール基から選ばれ；Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル
基、並びに置換または非置換のω-(1-ピロリジニル）ア
ルキル基及びω-(1-ピペリジル）アルキル基から選ば
れ；Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は総て異なる）で示されるシラ
ノールをシャープレス酸化に付して一部をエポキシ化
し、エポキシ化されずに残ったシラノールを回収するこ
とを特徴とする、一般式（Ｉ）で示されるシラノールの
速度論的分割法である。本発明はシラノールの速度論的
分割の最初の例である。不斉ケイ素原子を有するシラノ
ールについてシャープレス酸化を行うことが現在まで知
られておらず、また第三級アルコールのシャープレス酸
化は通常進行しないので、本発明方法によってシラノー
ルを分割し得ることは、全く予想外のことである。

【０００９】一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ の置換または
非置換の1-シクロアルケニル基に特に制限はない。例と
して、1-シクロヘキセニル基、1-シクロペンテニル基、
1-シクロオクテニル基、1-シクロデセニル基、メチル-1
- シクロヘキセニル基、エチル-1- シクロヘキセニル
基、フェニル-1- シクロヘキセニル基、メトキシ-1- シ
クロヘキセニル基、エトキシ-1- シクロヘキセニル基等
を挙げることができる。Ｒ² は炭素数１〜８の置換また
は非置換のアルキル基及び脂環式残基、並びに置換また
は非置換のアリール基から選ばれる。炭素数１〜８の置
換または非置換のアルキル基及び脂環式残基の例とし
て、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル
基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチ
ルシクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ビシク
ロ[2.2.2] オクチル基；及び低級アルキル基、アリール
基、アルコキシ基等により置換された上記の基、例えば
ベンジル基等を挙げることができる。置換または非置換
のアリール基としては、フェニル基、α‐ナフチル基、
β‐ナフチル基；及び低級アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基等により置換された上記の基、例えばトリル
基、キシリル基等を挙げることができる。典型的なＲ²
は、フェニル基、α‐ナフチル基、シクロヘキシル基ま
たはt-ブチル基である。Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル
基、並びに置換または非置換のω-(1-ピロリジニル）ア
ルキル基及びω-(1-ピペリジル）アルキル基から選ばれ
る。その例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル
基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル
基、t-ブチル基；並びに、（1-ピロリジニル）メチル
基、（1-ピペリジル）メチル基、 2-(1-ピロリジニル）
エチル基、 2-(1-ピロリジニル）エチル基；及び低級ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基等により置換され
たそれらの基が挙げられる。好ましくは、Ｒ³ はメチル
基である。ここで、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は総て異なる。
すなわち、一般式（Ｉ）で示されるシラノールは、不斉
ケイ素原子を有する。

【００１０】ここで、一般式（Ｉ）で示されるシラノー
ルは、次のようにして調製することができる。先ずＲ³
ＳｉＸ₃ （この式及び以下の式において、Ｘはハロゲン
を、好ましくはＣｌを示す）とＲ² ＭｇＸとを反応させ
てＲ² Ｒ³ ＳｉＸ₂ を合成し（反応１ａ）、次いでこれ
をＲ¹ Ｍ（この式及び以下の式において、Ｍはアルカリ
金属、好ましくはリチウムを示す）と反応させてＲ¹ Ｒ
² Ｒ³ ＳｉＸを合成し（反応１ｂ）、最後にこれを加水
分解してシラノールとする（反応１ｃ）。反応１ａは、
Ｒ³ ＳｉＸ₃ ：Ｒ² ＭｇＸのモル比を１：１前後、特に
１：0.9 とし、乾燥エーテル等の溶媒中、０〜25℃、特
に０〜20℃の温度で、３〜８時間行うのが好ましい。こ
こで、原料として使用するＲ³ ＳｉＸ₃ は公知であり、
例としてメチルトリクロロシラン等が挙げられるが、こ
れに限定されない。Ｒ² ＭｇＸもまた公知であり、例と
してフェニルマグネシウムクロリド、α‐ナフチルマグ
ネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムクロリ
ド、t-ブチルマグネシウムクロリド等を挙げることがで
きるが、これらに限定されない。これらの原料は自体公
知の方法によって調製しても良く、また、市販品を用い
ても良い。尚、反応１ａにおいてＲ² ＳｉＸ₃ とＲ³ Ｍ
ｇＸとを使用することもできる。反応１ｂは、Ｒ² Ｒ³
ＳｉＸ₂ ：Ｒ¹ Ｍのモル比を１：１前後、特に１：0.9
とし、乾燥エーテル等の溶媒中、０〜40℃で、特に還流
下で、20〜24時間行うのが好ましい。ここで、Ｒ¹ Ｍは
公知である。反応１ａ及び１ｂは、乾燥空気下で行うこ
ともできるが、窒素または希ガス雰囲気下、特にアルゴ
ン雰囲気下で行うのが好ましい。反応１ｃは、例えばＮ
ａＯＨまたはＫＯＨとＫＨ₂ ＰＯ₄ またはＮａＨ₂ ＰＯ
₄ との緩衝液を用い、ｐＨを６〜８、特に 6.5〜7.5 に
保ちながら、０℃以下の温度で、５〜30分間行うのが好
ましい。反応１ａ〜１ｃの終了毎に生成物を精製しても
良く、また、精製せずに次の反応に進んでも良い。精製
は、例えば蒸留またはカラムクロマトグラフィー等によ
って行うことができる。

【００１１】上記とは別に、シラノールを次の方法によ
って調製することもできる。Ｒ² が炭素数２以上のアル
キル基または脂環式残基である場合を例にとると、先ず
アルケンまたはシクロアルケンとＨＳｉＲ³ Ｘ₂ とを反
応させてＲ² Ｒ³ ＳｉＸ₂ を合成し（反応２ａ）、これ
にＲ¹ Ｍを反応させてＲ¹ Ｒ² Ｒ³ ＳｉＸを合成し（反
応２ｂ）、最後にこれを加水分解して、シラノールとす
る（反応２ｃ）。ここで、アルケンまたはシクロアルケ
ンとしては、導入しようとするＲ² 基と比較した場合、
2-位の水素原子がなく1-位の炭素原子と2-位の炭素原子
との間に二重結合を有する構造の化合物を使用する。例
えば、Ｒ² として1-シクロヘキシル基を導入する場合に
はシクロヘキセンを、エチル基を導入する場合にはエチ
レンを使用する。反応２ａは、アルケンまたはシクロア
ルケン：ＨＳｉＲ³ Ｘ₂ のモル比を１：１〜１：３、特
に１：２とし、白金触媒の存在下、20〜50℃の温度で、
48〜120 時間行うのが好ましい。この反応は溶媒を必要
としない。ＨＳｉＲ³ Ｘ₂自体は公知であり、市販もさ
れている。例としてジクロロメチルシランを挙げること
ができるが、これに限定されない。反応２ａは、乾燥空
気下で行うこともできるが、窒素または希ガス雰囲気
下、特にアルゴン雰囲気下で行うのが好ましい。反応２
ｂ及び２ｃは、夫々上記の反応１ｂ及び１ｃと同じであ
り、同じ条件で行うことができる。これらの反応におい
ても、各段階（反応２ａ〜２ｃ）の終了毎に生成物を精
製しても良く、また、精製せずに次の反応に進んでも良
い。精製は、上記の反応１ａ〜１ｃについて記載した方
法によって行うことができる。

【００１２】こうして得られたシラノールの構造は、 ¹
Ｈ‐ＮＭＲ、¹³Ｃ‐ＮＭＲ、赤外線吸収スペクトル（Ｉ
Ｒ）等によって確認することができる。例えば、Ｒ¹ が
1-シクロヘキセニル基、Ｒ² がフェニル基、Ｒ³ がメチ
ル基であるシラノールの ¹Ｈ‐ＮＭＲにおいては、δ＝
0.43ppm 付近にＳｉ−ＣＨ₃ に起因するピーク３Ｈ分
が、δ＝ 1.4〜2.2 ppm にシクロヘキセニル基中の−Ｃ
Ｈ₂ −に起因するピーク８Ｈ分が、δ＝ 1.8〜2.0 ppm
に−ＯＨに起因するピーク１Ｈ分が、δ＝ 6.1〜6.3ppm
にシクロヘキセニル基中の−ＣＨ＝に起因するピーク１
Ｈ分が、δ＝ 7.2〜7.8 ppm にフェニル基中のプロトン
に起因するピーク５Ｈ分が夫々観察され、 ¹³Ｃ‐ＮＭＲ
においては、δ＝−2.4ppm、22.2ppm 、22.6ppm 、26.2
ppm 、26.7ppm 、127.6ppm、129.4ppm、133.6ppm、136.
1ppm、137.5ppm、139.6ppmにピークが観察される。ま
た、当該化合物のＩＲにおいては、3286cm
^-1（ν_O-H ）、1614cm^-1（ν_C=C ）、1251cm^-1（δ
_Si-Me ）、 853cm^-1（δ_Si-OH ）にピークが観察され
る。

【００１３】シャープレス酸化自体は公知である。通常
のシャープレス酸化においては、アルコキシチタンとし
て一般にＴｉ（ＯＥｔ）₄ 、Ｔｉ（Ｏi-Ｐｒ）₄ 等が、
特にＴｉ（Ｏi-Ｐｒ）₄ が用いられる。本発明において
もアルコキシチタンとしてこれら化合物を、特にＴｉ
（ＯＥｔ）₄ を使用することが好ましい。他に、Ｔｉ
（ＯＰｒ）₄ 、Ｔｉ（ＯＢｕ）₄ 、Ｔｉ（Ｏt-Ｂｕ）₄
等も使用し得る。また、酒石酸エステルとしては、一般
に酒石酸ジエチル、酒石酸ジイソプロピル、酒石酸ジシ
クロドデシル等が用いられ、本発明においてもこれらを
使用することが好ましい。これらアルコキシチタン、酒
石酸エステル、またはそれらより得られる錯体は、基質
１モル当たり１〜４モル、特に２〜2.4 モルにて使用す
るのが好ましい。また、シャープレス酸化はモレキュラ
ーシーブの添加により促進されることが知られており、
本発明においてもＭＡ 4A 等、種々のモレキュラーシー
ブを用いことができる。その場合、上記アルコキシチタ
ン等の使用量を、基質１g 当たり 1.0〜1.7g、特に 1.0
〜1.2gとすることができる。光学純度が20〜98％である
シラノールを合成する際の好ましい条件を例示すると、
酸化剤としてt-ブチルヒドロペルオキシドを、基質１モ
ルに対して 0.5〜2.0 モル、特に 0.7〜0.9 モル用い、
上記のアルコキシチタンと酒石酸エステルまたはそれら
より得られる錯体及び任意的にモレキュラーシーブの存
在下、ジクロロメタン溶媒中、−40〜０℃、より好まし
くは−30〜−10℃、特に−25〜−15℃の温度で 0.5〜10
日間、特に１〜８日間反応させる。尚、反応の際、エポ
キシシラノールへの転化率を高めると、回収されるシラ
ノールの光学純度が高くなり、逆に転化率を低くする
と、目的とするシラノールの収率が高くなる。好ましい
転化率は、置換基Ｒの種類にもよるが、一般に30〜90
％、特に70〜90％である。こうして得られる反応混合物
から、シラノールを例えばカラムクロマトグラフィー等
の方法によって単離することにより、シラノールを分割
することができる。本発明の方法により回収されるシラ
ノールの絶対配置は通常、シャープレス酸化において用
いた酒石酸エステルの絶対配置によって決定される。

【００１４】このようにして、一方の鏡像体から主とし
て成るシラノールを、20〜98％、特に70〜98％の高い光
学純度にて得ることができる。こうして分割されたシラ
ノールは、医薬品もしくは他の工業上の試薬、またはそ
れらの合成原料として有用である。

【００１５】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。

【００１６】

【実施例】

【００１７】

【参考実施例１】シクロヘキセニルメチルフェニルシラノールの合成 トリクロロメチルシラン 500mmolを含有する乾燥エーテ
ル溶液(200ml）に、アルゴン雰囲気下、20℃にて、フェ
ニルマグネシウムクロリド 450mmol (220 mlの乾燥エー
テルの溶液）を加え、20℃で８時間撹拌した後、シクロ
ヘキセニルリチウム 260mmol（375 mlの乾燥エーテルの
溶液）を加え、20℃で30分間撹拌した。該反応混合物
に、ＫＨ₂ ＰＯ₄ ／ＮａＯＨ緩衝液（pH 7.0）690 mlを
加え、５分間撹拌した後、カラムクロマトグラフィーに
よって分離したところ、無色油状の液体 24gが得られた
（収率30％）。

【００１８】得られた生成物について、 ¹Ｈ‐ＮＭＲ、
¹³Ｃ‐ＮＭＲ及びＩＲを測定した。

【００１９】¹Ｈ‐ＮＭＲ及びＩＲの結果を、夫々図１
及び図２に示す。尚、ＮＭＲは、測定溶媒としてＣＤＣ
ｌ₃ を、標準物質としてＴＭＳ及びＣＨＣｌ₃ を用い、
共鳴周波数90ＭＨｚにて測定した。

【００２０】図１において、δ＝0.43ppm 付近にＳｉ−
ＣＨ₃ に起因するピーク３Ｈ分が、δ＝ 1.4〜2.2ppmに
シクロヘキセニル基中の−ＣＨ₂ −に起因するピーク８
Ｈ分が、δ＝ 1.8〜2.0ppmに−ＯＨに起因するピーク１
Ｈ分が、δ＝ 6.1〜6.3ppmにシクロヘキセニル基中の−
ＣＨ＝に起因するピーク１Ｈ分が、δ＝ 7.2〜7.8ppmに
フェニル基中のプロトンに起因するピーク５Ｈ分が夫々
観察されること；¹³Ｃ‐ＮＭＲにおいて、δ＝−2.4pp
m、22.2ppm 、22.6ppm 、26.2ppm 、26.7ppm 、127.6pp
m、129.4ppm、133.6ppm、136.1ppm、137.5ppm、139.6pp
mにピークが観察されたこと；並びに、図２で、3286cm
^-1（ν_O-H ）、1614cm^-1（ν_C=C ）、1251cm^-1（δ
_Si-Me ）、 853cm^-1（δ_Si-OH ）にピークが観察される
ことより、この生成物はシクロヘキセニルメチルフェニ
ルシラノールであることが確認された。

【００２１】

【参考実施例２】シクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールの合
成 シクロヘキセン 190mmolとジクロロメチルシラン 330mm
olとを、白金の存在下、アルゴン雰囲気中、溶媒を用い
ずに、50℃で 120時間反応させた。次いで、シクロヘキ
セニルリチウム 120mmol（900ml の乾燥エーテルの溶
液）を加え、０℃で60分間撹拌した。該反応混合物に、
ＫＨ₂ ＰＯ₄ ／ＮａＯＨ緩衝液（pH 7.0）100 mlを加
え、30分間撹拌した後、カラムクロマトグラフィーによ
って分離したところ、無色油状の液体 17gが得られた
（収率41％）。

【００２２】この生成物について、測定溶媒としてＣＤ
Ｃｌ₃ を、標準物質としてＣＨＣｌ₃ を用い、共鳴周波
数 500ＭＨｚにて ¹Ｈ‐ＮＭＲ及び¹³Ｃ‐ＮＭＲを測定
した。 ¹Ｈ‐ＮＭＲの結果及びその拡大図を、夫々図３
及び図４に示す。

【００２３】図３及び図４において、δ＝0.109ppm付近
にＳｉ−ＣＨ₃ に起因するピーク３Ｈ分が、δ＝ 0.7〜
2.1ppmにシクロヘキシル基及びシクロヘキセニル基中の
−ＣＨ₂ −に起因するピーク19Ｈ分が、δ＝ 1.4〜1.6p
pmに−ＯＨに起因するピーク１Ｈ分が、δ＝ 6.1〜6.2
ppm にシクロヘキセニル基中の−ＣＨ＝に起因するピー
ク１Ｈ分が夫々観察されること；¹³Ｃ‐ＮＭＲにおい
て、δ＝−4.6ppm、22.4ppm 、22.8ppm 、26.0ppm 、2
6.7ppm 、26.8ppm 、26.9ppm 、27.0ppm 、28.0ppm 、1
36.5ppm、138.2ppmにピークが観察されたことより、こ
の生成物はシクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラ
ノールであることが確認された。

【００２４】

【参考実施例３】t-ブチルシクロヘキセニルメチルシラノールの合成 フェニルマグネシウムクロリドの代わりに、t-ブチルマ
グネシウムクロリド 500mmolを用いて、参考実施例１と
同じ操作を行った。無色油状の液体 5.9g が得られた
（収率６％）。

【００２５】この生成物について、参考実施例２と同じ
条件で ¹Ｈ‐ＮＭＲ及び¹³Ｃ‐ＮＭＲを測定した。ま
た、ＩＲを測定した。 ¹Ｈ‐ＮＭＲの結果、その拡大
図、及びＩＲの結果を、夫々図５、図６及び図７に示
す。

【００２６】図５及び６において、δ＝0.138ppm付近に
Ｓｉ−ＣＨ₃ に起因するピーク３Ｈ分が、δ＝0.918ppm
にt-ブチル基中の−ＣＨ₃ に起因するピーク９Ｈ分が、
δ＝1.5〜2.2 ppm にシクロヘキセニル基中の−ＣＨ₂
−に起因するピーク８Ｈ分が、δ＝ 1.4〜1.5 ppm に−
ＯＨに起因するピーク１Ｈ分が、δ＝ 6.1〜6.2 ppmに
シクロヘキセニル基中の−ＣＨ＝に起因するピーク１Ｈ
分が夫々観察されること；¹³Ｃ‐ＮＭＲにおいて、δ＝
−5.2ppm、18.6ppm 、22.4ppm 、22.9ppm 、26.3ppm 、
26.8ppm 、27.7ppm 、136.0ppm、138.9ppmにピークが観
察されたこと；並びに、図７において、3336cm^-1（ν
_O-H ）、1612cm^-1（ν_C=C ）、1251cm^-1（δ_Si-Me ）、
826cm^-1（δ_Si-OH ）にピークが観察されることより、
この生成物はt-ブチルシクロヘキセニルメチルシラノー
ルであることが確認された。

【００２７】以下の実施例では、上記の参考実施例で得
られた化合物の速度論的分割について記載する。以下で
は、反応前の本発明のシラノールを化合物Ｉと言い、反
応により生じたエポキシ化合物の一方のジアステレオマ
ーを化合物IIと、もう一方のジアステレオマーを化合物
III と、反応後に回収された未反応のシラノールを化合
物Ｉ^* と言うことがある。その際、置換基Ｒが異なる化
合物を区別するため、上記ローマ数字の右側に、Ｒがフ
ェニル基である化合物にはa を、シクロヘキシル基であ
る化合物にはc を、t-ブチル基である化合物にはd を付
す。例えば、シクロヘキセニルメチルフェニルシラノー
ルを化合物Ｉa と言うことがある。

【００２８】

【実施例１】シクロヘキセニルメチルフェニルシラノールの速度論的
分割 Ｔｉ（Ｏi-Ｐｒ）₄ 1.0mmol、(+)-酒石酸ジイソプロピ
ル 1.2mmol、及びt-ブチルヒドロペルオキシド 0.6mmol
(2.9Ｍイソオクタン溶液）を乾燥ＣＨ₂ Ｃｌ₂10mlに溶
解した溶液と、参考実施例１で得られたシクロヘキセニ
ルメチルフェニルシラノール１mmolとを、−20℃にて合
わせ、−20℃で２日間反応させた。得られた反応混合物
をエーテル（１ml）及び飽和硫酸ナトリウム水溶液(0.5
ml）と合わせ、２時間激しく撹拌した後、セライトを用
いて濾過し、濾液を真空中で固化して、粗生成物を得
た。

【００２９】得られた粗生成物の ¹Ｈ‐ＮＭＲを、シフ
ト剤としてトリス（3-ヘプタフロロプロピルヒドロキシ
メチレン-(+)- カンホラート）ユウロピウム(III) を用
いて測定したところ、エポキシ化合物への転化率は57％
であり、そのジアステレオマー比は75：25である（各ジ
アステレオマーの光学純度は、夫々８％、15％であっ
た）ことが確認された。

【００３０】上記反応混合物をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル＝７：１）により
分離すると、シクロヘキセニルメチルフェニルシラノー
ルが32％の収率で回収され（化合物Ia^* ）、1,2-エポキ
シシクロヘキシルメチルフェニルシラノールの二種のジ
アステレオマー（化合物IIa 、化合物IIIa）の混合物が
合計43％の収率で得られた。尚、1,2-エポキシシクロヘ
キシルメチルフェニルシラノールの同定は、 ¹Ｈ‐ＮＭ
Ｒ、¹³Ｃ‐ＮＭＲ及びＩＲにより行った。 ¹Ｈ‐ＮＭＲ
及び¹³Ｃ‐ＮＭＲの測定条件は参考実施例２と同じであ
る。 ¹Ｈ‐ＮＭＲ及びＩＲの結果は、夫々図８及び図９
の通りであり、¹³Ｃ‐ＮＭＲにおいては、δ＝−4.3pp
m、19.3ppm 、19.9ppm 、24.9ppm 、25.2ppm 、53.9ppm
、55.5ppm 、128.1ppm、130.2ppm、133.9ppm、135.3pp
mにピークが観察された。

【００３１】化合物Ia^* について、シフト剤としてトリ
ス（3-ヘプタフロロプロピルヒドロキシメチレン-(+)-
カンホラート）ユウロピウム(III) を用いて ¹Ｈ‐ＮＭ
Ｒを測定したところ、各鏡像体の夫々に起因する二種の
ピークの強度比は54：46であり、その光学純度は８％で
あることが確認された。速度比は 1.2と計算された。エ
ポキシ化合物への転化率を95％程度にすれば、シラノー
ルの光学純度は30％程度になると計算される。尚、化合
物IIa の純粋な結晶を作ってＸ‐線結晶解析を行った結
果、化合物IIa はエリトロ形であることが判明した。

【００３２】

【実施例２】シクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールの速
度論的分割 (1) (-)-酒石酸ジシクロドデシル0.555g（1.15mmol）及びＴ
ｉ（ＯＥｔ）₄ 0.20ml（0.96mmol) を、乾燥ＣＨ₂ Ｃｌ
₂ ３ml中に溶解する−20℃の溶液を調製した。参考実施
例２で得られたシクロヘキセニルシクロヘキシルメチル
シラノール 109mg（0.48mmol）を乾燥ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ２ml
中に溶解する−20℃の溶液を上記溶液に加え、５分間撹
拌した。この溶液に、t-ブチルヒドロペルオキシドのＣ
Ｈ₂ Ｃｌ₂ 溶液（3.83Ｍ）0.087ml を、撹拌下添加し、
約−20℃に81時間保った。得られた反応混合物をエーテ
ル（１ml）及び飽和硫酸ナトリウム水溶液(0.5ml）と合
わせ、２時間激しく撹拌した後、セライトを用いて濾過
し、濾液を真空中で固化すると、粗生成物 626mgが得ら
れた。

【００３３】得られた粗生成物の ¹Ｈ‐ＮＭＲを、シフ
ト剤としてトリス（3-ヘプタフロロプロピルヒドロキシ
メチレン-(+)- カンホラート）ユウロピウム(III) を用
いて測定したところ、エポキシ化合物への転化率は63％
であり、そのジアステレオマー比は92：８である（各ジ
アステレオマーの光学純度は、夫々61％、31％であっ
た）ことが確認された。

【００３４】上記反応混合物をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフィーにより分離すると、シクロヘキセニルシ
クロヘキシルメチルシラノールが37％の収率で回収され
（化合物Ic^* ）、エポキシ化合物の二種のジアステレオ
マーの混合物が合計47％の収率で得られた。

【００３５】化合物Ic^* の ¹Ｈ‐ＮＭＲを図１０に示
す。 ¹Ｈ‐ＮＭＲの測定は、溶媒としてＣＤＣｌ₃ を、
標準物質としてＣＨＣｌ₃ を用い、共鳴周波数 300ＭＨ
ｚにて行った。尚、測定時の機器の調製が悪く、ＣＨＣ
ｌ₃ のピークが、本来の一本線ではなく二本線となって
しまっており、他にも、そのようになっている部分があ
る。

【００３６】次に、化合物Ic^* の ¹Ｈ‐ＮＭＲを、シフ
ト剤として(+)-トリス［ジ（ペルフロロ-2- プロポキシ
プロピオニル）メタネート］ユウロピウム(III) を用
い、他は上記と同じ条件にて測定した。その結果を図１
１に示す。この結果より、化合物Ic^* の光学純度は、75
％であることが判明した。速度比は 5.5と計算された。
エポキシ化合物への転化率を82％程度にすれば、シラノ
ールの光学純度は98％程度になると計算される。

【００３７】

【実施例３】シクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールの速
度論的分割 (2) 参考実施例２で得られたシクロヘキセニルシクロヘキシ
ルメチルシラノール0.15g （0.65mmol) 、(+)-酒石酸ジ
イソプロピル 0.37g（1.6mmol)及び 300mgの粉末ＭＳ 4
A を含有する乾燥ＣＨ₂ Ｃｌ₂ 溶液（７ml）を−20℃に
冷却し、アルゴン雰囲気下、Ｔｉ（ＯＥｔ）₄ 0.27ml
（1.3mmol)を加え、 0.5時間撹拌した。次に、t-ブチル
ヒドロペルオキシドのＣＨ₂ Ｃｌ₂ 溶液(3.4Ｍ）0.15ml
を加え、混合物を約−20℃に39時間保った。この反応混
合物から実施例２におけるようにして粗生成物を得、そ
の ¹Ｈ‐ＮＭＲを、シフト剤としてトリス（6,6,7,7,8,
8,8-ヘプタフロロ-2,2- ジメチル-3,5- オクタンジオネ
ート）ユウロピウム(III) を用いて測定した。その結果
より、エポキシ化合物への転化率は64％であり、エポキ
シ化合物のジアステレオマー比は94：６である（各ジア
ステレオマーの光学純度は、夫々30％、52％であった）
ことが確認された。

【００３８】上記で得られた反応混合物をシリカゲルの
カラムクロマトグラフィー（ヘキサン／エーテル＝７：
１）により分離すると、シクロヘキセニルシクロヘキシ
ルメチルシラノールが58mg（収率39％）回収され（化合
物Ic^* ）、化合物IIc と化合物IIIcとの混合物95mg（収
率60％）が白色結晶として得られた。

【００３９】化合物Ic^* の光学純度を、実施例２におけ
るのと同じ方法で測定したところ、62％であり、速度比
は 3.6と計算された。また、化合物Ic^* のヘキサン中で
の比旋光度を測定したところ、［α］²⁵ _D ＝＋4.9 °で
あった。

【００４０】

【実施例４】シクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールの速
度論的分割 (3) 化合物Ｉc に対して４当量のメチルイソプロペニルエー
テルをアルコールトラッピング剤として用い、かつ反応
時間を42時間とした以外は、実施例３と同じ操作を行っ
た。エポキシ化合物への転化率は44％であり、48％のシ
クロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールが回収
された（化合物Ic^* ）。

【００４１】実施例２及び３と同じ方法により、化合物
Ic^* の光学純度は27％であることが確認された。速度比
は 2.6と計算された。エポキシ化合物への転化率を95％
程度にすれば、シラノールの光学純度は95％程度になる
と計算される。尚、生じたエポキシ化合物のジアステレ
オマー比は89：11であった。

【００４２】

【実施例５】t-ブチルシクロヘキセニルメチルシラノールの速度論的
分割 シクロヘキセニルシクロヘキシルメチルシラノールの代
わりにt-ブチルシクロヘキセニルメチルシラノール１mm
olを用い、Ｔｉ（ＯＥｔ）₄ の代わりにＴｉ（Ｏi-Ｐ
ｒ）₄ ４mmolを用い、(-)-酒石酸ジシクロドデシルの使
用量を 4.8mmolとし、かつ反応時間を21時間とした以外
は、実施例２と同じ操作を行った。t-ブチルシクロヘキ
セニルメチルシラノールの回収率は15％、エポキシ化合
物への転化率は52％であった。

【００４３】回収されたt-ブチルシクロヘキセニルメチ
ルシラノールの光学純度は44％であった。速度比は 3.6
と計算された。エポキシ化合物への転化率を95％程度に
すれば、シラノールの光学純度は99.5％程度になると計
算される。尚、生じたエポキシ化合物のジアステレオマ
ー比は82：18であり、各ジアステレオマーの光学純度
は、夫々39％、57％であった。

【００４４】

【発明の効果】本発明により、シラノールの速度論的分
割方法が初めて提供された。不斉ケイ素原子を有するシ
ラノールについてシャープレス酸化を行うことが現在ま
で報告されていないこと、並びに、第三級アルコールの
シャープレス酸化は通常進行しないことに鑑み、本発明
の効果は顕著である。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考実施例１で得られた生成物についての ¹Ｈ
‐ＮＭＲチャート。ピーク上方に重なった曲線は、各ピ
ークの面積強度を示す。

【図２】参考実施例１で得られた生成物についてのＩＲ
チャート。

【図３】参考実施例２で得られた生成物についての ¹Ｈ
‐ＮＭＲチャート。ピーク上方に重なった曲線は、各ピ
ークの面積強度を示す。

【図４】図３の各ピーク部分の拡大図。

【図５】参考実施例３で得られた生成物についての ¹Ｈ
‐ＮＭＲチャート。ピーク上方に重なった曲線は、各ピ
ークの面積強度を示す。

【図６】図５の各ピーク部分の拡大図。

【図７】参考実施例３で得られた生成物についてのＩＲ
チャート。

【図８】実施例１で得られたエポキシ化合物についての
¹Ｈ‐ＮＭＲチャート。ピーク上方に重なった曲線は、
各ピークの面積強度を示す。

【図９】実施例１で得られたエポキシ化合物についての
ＩＲチャート。

【図１０】実施例２で回収されたシラノールについての
¹Ｈ‐ＮＭＲチャート。ピーク上方に重なった曲線は、
各ピークの面積強度を示す。

【図１１】実施例２で回収されたシラノールについて、
シフト剤を使用して測定した ¹Ｈ‐ＮＭＲチャート。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ¹ は置換または非置換の1-シクロアルケニル
   基であり；Ｒ² は炭素数１〜８の置換または非置換のア
   ルキル基及び脂環式残基、並びに置換または非置換のア
   リール基から選ばれ；Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル
   基、並びに置換または非置換のω-(1-ピロリジニル）ア
   ルキル基及びω-(1-ピペリジル）アルキル基から選ば
   れ；Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は総て異なる）で示されるシラ
   ノールをシャープレス酸化に付して一部をエポキシ化
   し、エポキシ化されずに残ったシラノールを回収するこ
   とを特徴とする、一般式（Ｉ）で示されるシラノールの
   速度論的分割法。
2. 【請求項２】 Ｒ¹ が1-シクロヘキセニル基であり、Ｒ
   ² がメチル基であって、Ｒ³ がフェニル基、α‐ナフチ
   ル基、シクロヘキシル基及びt-ブチル基から成る群より
   選択される基である、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 シャープレス酸化によるエポキシ化を転
   化率30〜90％で停止する、請求項１または２記載の方
   法。