JPS5944336A - ２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法 - Google Patents
２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法Info
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- JPS5944336A JPS5944336A JP57155116A JP15511682A JPS5944336A JP S5944336 A JPS5944336 A JP S5944336A JP 57155116 A JP57155116 A JP 57155116A JP 15511682 A JP15511682 A JP 15511682A JP S5944336 A JPS5944336 A JP S5944336A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法に
関する。
関する。
さらに詳しくはプロスタグランジン誘導体を製造するた
めの汎用的な重要中間体である２−アリルシクロペンタ
ノン類の新規な製造法に関する。
めの汎用的な重要中間体である２−アリルシクロペンタ
ノン類の新規な製造法に関する。
プロスタグランジン類は温血動物の生体内に広く分布し
、生物学的および薬理学的に高度な活性を有し生体の諸
機能を調節する局所ホルモン（オータコイド）として知
られている。その特異な生理活性の故にプロスタグラン
ジン防導体を合成し、新たな薬物を発見しようとする試
みが広く行なわれている。本発明者は別途提案した方法
により下図で示したように２−了りルシクロベンタノン
類を出発物質として有用なプロスタグランジン誘導体で
ある４−チアプロスタグランジンＥ、類および４−チア
プロスタグランジン■１類の製造に成功し報告している
（１例を紹介すると板肉ら、 Ｃｈｅｍ、Ｐｈ８ｒｒ
ｎ、Ｂｕｌ＋、、３０ 。
、生物学的および薬理学的に高度な活性を有し生体の諸
機能を調節する局所ホルモン（オータコイド）として知
られている。その特異な生理活性の故にプロスタグラン
ジン防導体を合成し、新たな薬物を発見しようとする試
みが広く行なわれている。本発明者は別途提案した方法
により下図で示したように２−了りルシクロベンタノン
類を出発物質として有用なプロスタグランジン誘導体で
ある４−チアプロスタグランジンＥ、類および４−チア
プロスタグランジン■１類の製造に成功し報告している
（１例を紹介すると板肉ら、 Ｃｈｅｍ、Ｐｈ８ｒｒ
ｎ、Ｂｕｌ＋、、３０ 。
１１０２（１９８２） など）。
４−チアプロスタグランジン１１類
上記報告では出発原料の２−アリルシクロペンタノン類
１は下図に示すようにフルフラールから得られたフラン
肋導体を酸化的にメタノ゛−ル付加させ、旬加俸を再現
化後に異性化させ、必要に応じて光学分割した後に水酸
基を採譜して２−アリル−２−シクロベンテノン類とし
、これに有機銅化合物を共役付。加させることにより光
学活性体およびセラミ休の２−アリルシクロペンタノン
類に導びく方法で目的物を得ている。
１は下図に示すようにフルフラールから得られたフラン
肋導体を酸化的にメタノ゛−ル付加させ、旬加俸を再現
化後に異性化させ、必要に応じて光学分割した後に水酸
基を採譜して２−アリル−２−シクロベンテノン類とし
、これに有機銅化合物を共役付。加させることにより光
学活性体およびセラミ休の２−アリルシクロペンタノン
類に導びく方法で目的物を得ている。
上記方法は製造工程が長く、シかも光学分割が可能であ
るものの困難を極めるという欠点がある。
るものの困難を極めるという欠点がある。
本発明者はこの欠点を克服すべく鋭意何発した結果本発
明に到達したものである。しかるに本発明は後で詳述す
るように製造工程が２工程と極めて簡略化され、しかも
出発原料には光学純品としても容易に入手できる４−置
換−２−シクロベンテノン類を用いることができるとい
う点で非常に優れた方法である。
明に到達したものである。しかるに本発明は後で詳述す
るように製造工程が２工程と極めて簡略化され、しかも
出発原料には光学純品としても容易に入手できる４−置
換−２−シクロベンテノン類を用いることができるとい
う点で非常に優れた方法である。
すなわち本発明の方法は、下記式〔■旧。勤ｌ
で表わされる４−置換−２−シクロベンテノン類または
その鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物を、下
記式〔１■〕 ＬｉＣｕ ’５♂ペゾ／１８ ） ｙ ・・・・
・・・・・・・・［：ＩＶ］謁・ で表わされる有機銅リチウム化合物捷たはその鏡像体あ
るいはそれら任意の割合の混合物と、非プロトン性有機
溶媒ど三価の肩機リン化合物の存在下に共役付加反応せ
しめ、次いでクロロギ酸アリルを反応せしめ、場合によ
って保膣された水酸基の脱保護反応に伺すことにより、
下−記式ＣＩ） で表わされる２−アリルオキシカルボニルシクロペンタ
ノン類またはその立体異性体あるいりそねら任意の割合
の混合物を製造し、次いでこの２−アリルオキシカルボ
ニル、シクロペンタノン類を低原子価の遷移金属錯体と
反応せしめることを特做とする、下記式〔１０ ０１ｊｌ 論 で表わされる２−アリルシクロペンタノン類またはその
立体異性体あるいはそれら任意の混合物の新規製造法で
ある。
その鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物を、下
記式〔１■〕 ＬｉＣｕ ’５♂ペゾ／１８ ） ｙ ・・・・
・・・・・・・・［：ＩＶ］謁・ で表わされる有機銅リチウム化合物捷たはその鏡像体あ
るいはそれら任意の割合の混合物と、非プロトン性有機
溶媒ど三価の肩機リン化合物の存在下に共役付加反応せ
しめ、次いでクロロギ酸アリルを反応せしめ、場合によ
って保膣された水酸基の脱保護反応に伺すことにより、
下−記式ＣＩ） で表わされる２−アリルオキシカルボニルシクロペンタ
ノン類またはその立体異性体あるいりそねら任意の割合
の混合物を製造し、次いでこの２−アリルオキシカルボ
ニル、シクロペンタノン類を低原子価の遷移金属錯体と
反応せしめることを特做とする、下記式〔１０ ０１ｊｌ 論 で表わされる２−アリルシクロペンタノン類またはその
立体異性体あるいはそれら任意の混合物の新規製造法で
ある。
すなわち本発明の方法は２工程からなっている。第１段
階は４−置＠−２−シクロベンテノン類に有機ｆｆｌ
’ｊチウム化合物を共役付加させて得られるエルレート
中間体をクロロギ酸アリルで捕捉して２−アリルオキシ
カルボニルシクロペンタノン類を製造する工程であり、
第２段階はその製造された２−アリルオキシカルボニル
シクロペンタノン類の脱炭酸アリル化反応による２−ア
リルシクロペンタノン類の製造工程でおる。以下順を追
って説明する。
階は４−置＠−２−シクロベンテノン類に有機ｆｆｌ
’ｊチウム化合物を共役付加させて得られるエルレート
中間体をクロロギ酸アリルで捕捉して２−アリルオキシ
カルボニルシクロペンタノン類を製造する工程であり、
第２段階はその製造された２−アリルオキシカルボニル
シクロペンタノン類の脱炭酸アリル化反応による２−ア
リルシクロペンタノン類の製造工程でおる。以下順を追
って説明する。
第１段階の反応に用いる出発原料は、上記式［：１ＩＪ
）で表わされる４−置換−２−シクロベンテノン類また
はその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物であ
り、本発明者が別途提案した方法により容易に入手可能
な既知物質でちる。
）で表わされる４−置換−２−シクロベンテノン類また
はその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物であ
り、本発明者が別途提案した方法により容易に入手可能
な既知物質でちる。
上記式Ｃ，ｌ−１＋３において１１１はトリ（Ｃｔ〜Ｃ
ｓ ）炭化水素−シリル基または水酸基の酸素原子と共
にアセター化結合を形成する基を表わす。
ｓ ）炭化水素−シリル基または水酸基の酸素原子と共
にアセター化結合を形成する基を表わす。
トリ（０１〜へ）炭化水素−シリル基としては、例えば
、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニル基などがあ
げられるがｔ−ブチルジメチルシリル基が特に好ましい
。
、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニル基などがあ
げられるがｔ−ブチルジメチルシリル基が特に好ましい
。
水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基と
しでは、ｆｌｌえば、メトキシメチル基。
しでは、ｆｌｌえば、メトキシメチル基。
１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−プロピル基
、２−エト片シー２−プロピル基。
、２−エト片シー２−プロピル基。
（２−メトキシエトキシ）メナル基、ベンジルオキシメ
チル基、２−テトラヒドロピラニル基。
チル基、２−テトラヒドロピラニル基。
２−テトラヒドロフラニル基、または（Ｉｓ、５Ｒ）−
および／またｕ （ＩＲＩ５８） −６１６−シメチル
ー３−オキサ−２−オキンビシクロ（”１１１０’］へ
キス−４−イル基をあけることができるが、２−テトラ
ヒドロピラニル基が好ましい。これらのシリル基および
アセタール結合を形成する基は水酸基の保護基であると
理解されるべきである。
および／またｕ （ＩＲＩ５８） −６１６−シメチル
ー３−オキサ−２−オキンビシクロ（”１１１０’］へ
キス−４−イル基をあけることができるが、２−テトラ
ヒドロピラニル基が好ましい。これらのシリル基および
アセタール結合を形成する基は水酸基の保護基であると
理解されるべきである。
これらの保護基は最終生成物の段階で弱酸性から中性の
条件下で容易に除去されて薬剤として有用な遊離の水酸
基とすることができる。従ってこのような性状を有して
いる水酸基の保護基はシリル基やアセタール結合を形成
する基の代わシとして使用することができる。
条件下で容易に除去されて薬剤として有用な遊離の水酸
基とすることができる。従ってこのような性状を有して
いる水酸基の保護基はシリル基やアセタール結合を形成
する基の代わシとして使用することができる。
上記式（ｒｌ、Ｉ）で表わされる４−置換−２−シクロ
ベンテノン類の具体例としては上記Ｒ１１が置換したも
のすべてをあげることができる。
ベンテノン類の具体例としては上記Ｒ１１が置換したも
のすべてをあげることができる。
ここで特記すべきは上記式（ＩＩＴ）の化合物は不斉炭
素を有しており、このため光学異性体が存在するという
ことである。プロスタグランジン訪導体を合成するとい
う立場からいえば４位の絶体配置はＲが好ましいがｄｔ
体であっても後の工程の適当な段階で立体異性体を分離
することが可能であるから十分その目的を達成する。
素を有しており、このため光学異性体が存在するという
ことである。プロスタグランジン訪導体を合成するとい
う立場からいえば４位の絶体配置はＲが好ましいがｄｔ
体であっても後の工程の適当な段階で立体異性体を分離
することが可能であるから十分その目的を達成する。
特に好ましい形として化合物を例示すると、４ （Ｒ）
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロベン
テノン。
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロベン
テノン。
４（ＲＥ） −ｔ ＝ ７’チルジメチルシリルオキシ
−２−シクロベンテノン。
−２−シクロベンテノン。
４ （８） −ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−
シクロベンテノン。
シクロベンテノン。
４ （Ｒ） −（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−
２−シクロベンテノン。
２−シクロベンテノン。
４（Ｒ８） −（２−テトラヒドロビシニルオキシ）−
２−シクロベンテノン。
２−シクロベンテノン。
４ （８） −（２−テトラヒドロビシニルオキシ）−
２−シクロベンテノン。
２−シクロベンテノン。
などである。
本発明方法におりる今一方の原料化合物である上記式［
ＩＶ）で表わされる有機銅リチウム化合物またはその鏡
像体あるいはそれらの任意の割合の混合物はそれ自身公
知の方法（例えばＧ、Ｈ。
ＩＶ）で表わされる有機銅リチウム化合物またはその鏡
像体あるいはそれらの任意の割合の混合物はそれ自身公
知の方法（例えばＧ、Ｈ。
Ｐｏ５ｎｓｒ、 Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎ、
ｖｏｌ、１９．１（１９７２）などを参照）あるいは
本発明者が別途提案した方法により、対応する有機リチ
ウム化合物と第１鏑塩とを反応させることにより容易に
得られる。
ｖｏｌ、１９．１（１９７２）などを参照）あるいは
本発明者が別途提案した方法により、対応する有機リチ
ウム化合物と第１鏑塩とを反応させることにより容易に
得られる。
上記式（ＩＶ） ＩＣオイテ’ｍ’ハ） ！ｊ （Ｃ＋
−Ｃｍ ） 炭化水素−シリル基または水酸基の酸素
原子と共にアセタール結合を形成する基を表わし Ｈｌ
ｌであけられたものが同様にあけられる。Ｒ３は龜〜Ｃ
＠の直鎖もしくす：分岐のアルキル基、５〜Ｇ員の脂環
式基、または５〜６員の脂環式基が置換した０１〜Ｃ２
のアルキル基を表わす。
−Ｃｍ ） 炭化水素−シリル基または水酸基の酸素
原子と共にアセタール結合を形成する基を表わし Ｈｌ
ｌであけられたものが同様にあけられる。Ｒ３は龜〜Ｃ
＠の直鎖もしくす：分岐のアルキル基、５〜Ｇ員の脂環
式基、または５〜６員の脂環式基が置換した０１〜Ｃ２
のアルキル基を表わす。
Ｃ５〜Ｃ１ｌの直鎖もしくは分岐のアルキル基としてハ
、ペンチル基、ヘキシル基、２−ヘキシル基１ ２−ヘ
キシル基、２−メチルヘキシル基。
、ペンチル基、ヘキシル基、２−ヘキシル基１ ２−ヘ
キシル基、２−メチルヘキシル基。
ヘプチル基、オクチル基など、好ましくはペンチル基、
ヘキシル基、２−ヘキシル基、２−メチルヘキシル基な
ど、さらに好ましくけペンチル基、２−メチルヘキシル
基などをあげることができる。５〜６員の脂環式基とし
てはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、５〜６Ｍノ
ｆｉｌ環式基が置換したＣ１〜Ｃ２のアルキル基として
はシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、
２−シクロペンチルエチル基、２−シクロヘキシルエチ
ル基、１−シクロペンチルエテル基、１−シクロヘキシ
ルエチル基などをあけることができる。Ｙはヨウ素原子
、フェニルチオ＆ ｒ ”＞〜ＣＳアルキル置換エチ
ニル２ｓ（例ｔ ハペンチルエチニル基、ｔ−ブチルエ
チニル基すど）、またはシアノ基を表わすが、ヨウ素原
子。
ヘキシル基、２−ヘキシル基、２−メチルヘキシル基な
ど、さらに好ましくけペンチル基、２−メチルヘキシル
基などをあげることができる。５〜６員の脂環式基とし
てはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、５〜６Ｍノ
ｆｉｌ環式基が置換したＣ１〜Ｃ２のアルキル基として
はシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、
２−シクロペンチルエチル基、２−シクロヘキシルエチ
ル基、１−シクロペンチルエテル基、１−シクロヘキシ
ルエチル基などをあけることができる。Ｙはヨウ素原子
、フェニルチオ＆ ｒ ”＞〜ＣＳアルキル置換エチ
ニル２ｓ（例ｔ ハペンチルエチニル基、ｔ−ブチルエ
チニル基すど）、またはシアノ基を表わすが、ヨウ素原
子。
フェニルチオ基、ペンチルエチニル基なトカ特に好まし
い。
い。
上記式（ＩＶ）の化合物も不斉炭素を有しており光学異
性体が存在するが、プロスタグジンジン誇導体を合成す
る目的からは、総体配置がＳの異性体が好ましい。しか
し光学活性な上記式〔町の化合物を用いれは後の適当な
段階で光学異性体を分離できるので６１体でもその目的
を述することができる。
性体が存在するが、プロスタグジンジン誇導体を合成す
る目的からは、総体配置がＳの異性体が好ましい。しか
し光学活性な上記式〔町の化合物を用いれは後の適当な
段階で光学異性体を分離できるので６１体でもその目的
を述することができる。
本発明方法は１す４装置Ｉ１１！！−２−シクロベニ／
テノン類と肩機餉リチウム化合物とを非プロトン性有機
溶媒と三価の有機リン化合物の存在下に共役伺加反応さ
せることによって実施されるＯ三価の７＋ｉ ＜ａ ！
Ｊノン合物としては、例えば、トリアルキルホスフィン
（例えは、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィ
ンなど）、トリアルキルホスファイト（例えば、トリメ
チルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリイソ
プロピルポスファイト、トリブチルホスファイトなと）
、ｔ）るいはヘキサメチルホスホジストリアミドなどが
あけられる。
テノン類と肩機餉リチウム化合物とを非プロトン性有機
溶媒と三価の有機リン化合物の存在下に共役伺加反応さ
せることによって実施されるＯ三価の７＋ｉ ＜ａ ！
Ｊノン合物としては、例えば、トリアルキルホスフィン
（例えは、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィ
ンなど）、トリアルキルホスファイト（例えば、トリメ
チルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリイソ
プロピルポスファイト、トリブチルホスファイトなと）
、ｔ）るいはヘキサメチルホスホジストリアミドなどが
あけられる。
４−（１％−２−シクロベンテノン類に対して有機銅リ
チウム化合物は０．９〜１．５倍モル、好ましくは１．
０〜１．２倍モル使用し、三価の有機リン化合物は有機
銅リチウム化合物に対して２．０〜２．５倍モルの範囲
で使用される。
チウム化合物は０．９〜１．５倍モル、好ましくは１．
０〜１．２倍モル使用し、三価の有機リン化合物は有機
銅リチウム化合物に対して２．０〜２．５倍モルの範囲
で使用される。
反応は通常、４「置換−２−シクロベンゾノン類を有機
溶媒に溶解した溶液を、有機溶媒に溶ｍ ｌ／た有機銅
リチウム化合物の溶液に添加し、撹拌することに上り外
成される。ここで用いられ、る有機溶Ｉ活としてはコニ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタンなどがｆｊ適にありられ、二種以上の混合
溶媒として用いることも可能であυ、通常の実施態様で
ある。すなわち有機銅リチウム化合物を８！造する時に
用いられた有機溶媒を含有しでいる反応系に、該４−倹
“換−２−シクロベンゾノン類を適邑な有機溶媒に溶解
させて添加される結果、混合溶媒系となる。有機溶媒の
使用’ｊｉｌｔｊ：反応を円滑に進行させるに十分カ忙
があれば良く、通常は反応剤の各社の１〜１００倍容量
、好ましくけ５〜３０倍谷量が用いられる。
溶媒に溶解した溶液を、有機溶媒に溶ｍ ｌ／た有機銅
リチウム化合物の溶液に添加し、撹拌することに上り外
成される。ここで用いられ、る有機溶Ｉ活としてはコニ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタンなどがｆｊ適にありられ、二種以上の混合
溶媒として用いることも可能であυ、通常の実施態様で
ある。すなわち有機銅リチウム化合物を８！造する時に
用いられた有機溶媒を含有しでいる反応系に、該４−倹
“換−２−シクロベンゾノン類を適邑な有機溶媒に溶解
させて添加される結果、混合溶媒系となる。有機溶媒の
使用’ｊｉｌｔｊ：反応を円滑に進行させるに十分カ忙
があれば良く、通常は反応剤の各社の１〜１００倍容量
、好ましくけ５〜３０倍谷量が用いられる。
反応温度は−Ｚｏｏ℃〜−２０℃、特に好ましくけ一８
０℃〜−４０℃の範囲の温度で行なわれ、反応の終点は
薄層クロマトグラフィー等の追跡手段によって追跡し決
定し、、１ｓ３）〜３時間行なえば十分でを）るが、通
′帛−７８℃で１時間程度Ｔ−ｊなわれる。
０℃〜−４０℃の範囲の温度で行なわれ、反応の終点は
薄層クロマトグラフィー等の追跡手段によって追跡し決
定し、、１ｓ３）〜３時間行なえば十分でを）るが、通
′帛−７８℃で１時間程度Ｔ−ｊなわれる。
本発明方法ではこれまでの杆・作で反応系内にｉ；１．
ｉｉ亥４− 簡１ｆｊ −２−シクロベンゾノン類１
の３そンに該有機銅リチウム化合物のイ３把基部分であ
るアルケニル基が４６シーの置換基とはトランスの立体
■１係で付加し、２位に陰イオンが生成したし１わゆる
共役伺加エル−トの形になってし、 Ｚ、と想定されて
いる。本発明方法ではこの共役性シクロエル−１に刻し
てクロロギ酸アリルを反応さぜ、該エル・−トの２もン
を゛アルコキシカルボニル化することにより達成さｔす
る。
ｉｉ亥４− 簡１ｆｊ −２−シクロベンゾノン類１
の３そンに該有機銅リチウム化合物のイ３把基部分であ
るアルケニル基が４６シーの置換基とはトランスの立体
■１係で付加し、２位に陰イオンが生成したし１わゆる
共役伺加エル−トの形になってし、 Ｚ、と想定されて
いる。本発明方法ではこの共役性シクロエル−１に刻し
てクロロギ酸アリルを反応さぜ、該エル・−トの２もン
を゛アルコキシカルボニル化することにより達成さｔす
る。
従来、４ １＆換２−シクロベンテノンｋｌへの共役付
加によって生成したエルレートをクロロギ酸エステルで
捕捉し、２位にアルコキシカルボニル基を導入する方法
は本発明者らによって試みられており、低収率ながら、
アルコキシカルボニル基の導入に成功している（例えば
、融ら、 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌ＋ｔｔｅｒｓ、
４０８７（１９７６）や、Ｒ，Ｇ、 Ｓａｌｏｍｏｎ
ら、 Ｊ、Ｏｒｇ、 Ｃｈ＠ｍ、、 ４０ 、１４８
８（１９７５）などを参照）。これらの例ではクロロギ
酸メチルでの捕捉反応について報告されてはいるが、ア
リルエステルの例は報告されていない。ところが本発明
方法では第２段階目の反応について後で詳述するように
、とのアリルエステルこそが本発明方法を冗送するため
に必須な条件とな９、それ故、クロロギ酸アリルでエル
レートの捕捉が成功したことが本発明方法の完成の本質
であるといえるわけである。
加によって生成したエルレートをクロロギ酸エステルで
捕捉し、２位にアルコキシカルボニル基を導入する方法
は本発明者らによって試みられており、低収率ながら、
アルコキシカルボニル基の導入に成功している（例えば
、融ら、 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌ＋ｔｔｅｒｓ、
４０８７（１９７６）や、Ｒ，Ｇ、 Ｓａｌｏｍｏｎ
ら、 Ｊ、Ｏｒｇ、 Ｃｈ＠ｍ、、 ４０ 、１４８
８（１９７５）などを参照）。これらの例ではクロロギ
酸メチルでの捕捉反応について報告されてはいるが、ア
リルエステルの例は報告されていない。ところが本発明
方法では第２段階目の反応について後で詳述するように
、とのアリルエステルこそが本発明方法を冗送するため
に必須な条件とな９、それ故、クロロギ酸アリルでエル
レートの捕捉が成功したことが本発明方法の完成の本質
であるといえるわけである。
クロロギ酸アリルはもとの４−置換−２−シクロベンテ
ノン類に対して１．０〜５．０倍モル、好ましくは１．
２〜３．０倍モル使用し、前述の有機溶媒に溶解させて
添加する。反応温度Ｌ−２０℃〜−１００℃、好ましく
は一４０Ｃ〜、−７８℃の範囲が採用され、反応時間は
１５分〜２時間２通常は３０分〜１時間で十分である。
ノン類に対して１．０〜５．０倍モル、好ましくは１．
２〜３．０倍モル使用し、前述の有機溶媒に溶解させて
添加する。反応温度Ｌ−２０℃〜−１００℃、好ましく
は一４０Ｃ〜、−７８℃の範囲が採用され、反応時間は
１５分〜２時間２通常は３０分〜１時間で十分である。
反応後、得られる生成物は通常の手段にょ）反応液から
分離、精製、単離される。例えば抽出、洗浄、クロマト
グラフィーによる分離などである。
分離、精製、単離される。例えば抽出、洗浄、クロマト
グラフィーによる分離などである。
かくして、前記式〔１コで表わされる化合物のうち、そ
の水酸基がすべて保１ｉ（ｉｉされたものが得られる。
の水酸基がすべて保１ｉ（ｉｉされたものが得られる。
しかもクロロギ酸アリル処理によるアリルオキシカルボ
ニル基は３Ｍの共役付加によシ導入されだアルケニル基
とはトランスの立体関係を保持（−て導入される。
ニル基は３Ｍの共役付加によシ導入されだアルケニル基
とはトランスの立体関係を保持（−て導入される。
すなわち、４−置換−２−シクロベンテノン類と廟機銅
リチウム化合物とクロロギ酸アリルの三成分り位置判異
的、立体特異的な反応を行なつで最終生成物に到るわり
で、この経緯をもってわかりやすく説明すると次の式に
示したようになる。
リチウム化合物とクロロギ酸アリルの三成分り位置判異
的、立体特異的な反応を行なつで最終生成物に到るわり
で、この経緯をもってわかりやすく説明すると次の式に
示したようになる。
つ１９光学活性４−置換−２−シクロベンテノン類と光
学活性イ１機錦リチウム化合物とを反応させると（式１
）〜（式４）のいずれか１つの反応が進行するがｄｊ体
どうしを反応さ田ると（式１）〜（式４）のすべての反
応が、いずれか一方がｄｔ体の場合は（式１）と（式２
）するいは（式３）と（式４）が進行し、立体異性混合
物を与える。
学活性イ１機錦リチウム化合物とを反応させると（式１
）〜（式４）のいずれか１つの反応が進行するがｄｊ体
どうしを反応さ田ると（式１）〜（式４）のすべての反
応が、いずれか一方がｄｔ体の場合は（式１）と（式２
）するいは（式３）と（式４）が進行し、立体異性混合
物を与える。
生成物は場合によって保護された水酸基の脱保護反応に
付して遊離の水酸基とする。脱保護反応自身は公知の反
応であり、その−例を示すと保抜基が） ’） （Ｃ＋
−Ｃｓ ）炭化水素−シリル基の場合には、例えば、酢
酸、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフルオラ
イド、セシウムフルオライドなどをｆｉ４ｙｈ媒とし、
Ａ（、テ＝） ラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、アヒトン、アセ１ニ
トリルなどを反応溶媒としで行ムう。反応は地雷−７８
℃〜１００℃の１品度廊已１１ＪＩで１０分〜３日間程
匹行なわれる。保Ｉｉ二本に基の保論〃と共にアセター
ル結合を形成する基の場合には、例ｔばｆｆｐｌ！Ｉｌ
Ｉ！、ｐ−）ルエンスルホン酸およびそのピリジン塩ま
たは陽７．イオン交換樹脂などを触媒として上記溶媒中
で同様の温度範囲で同様の時間実施される。
付して遊離の水酸基とする。脱保護反応自身は公知の反
応であり、その−例を示すと保抜基が） ’） （Ｃ＋
−Ｃｓ ）炭化水素−シリル基の場合には、例えば、酢
酸、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフルオラ
イド、セシウムフルオライドなどをｆｉ４ｙｈ媒とし、
Ａ（、テ＝） ラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、アヒトン、アセ１ニ
トリルなどを反応溶媒としで行ムう。反応は地雷−７８
℃〜１００℃の１品度廊已１１ＪＩで１０分〜３日間程
匹行なわれる。保Ｉｉ二本に基の保論〃と共にアセター
ル結合を形成する基の場合には、例ｔばｆｆｐｌ！Ｉｌ
Ｉ！、ｐ−）ルエンスルホン酸およびそのピリジン塩ま
たは陽７．イオン交換樹脂などを触媒として上記溶媒中
で同様の温度範囲で同様の時間実施される。
かくして前記式［１）で表わされろ２−アリルオキシカ
ルボニルシクロペンタノンＩｔ ｉたはその立体異性体
あるいはそれら任意の割合の混合物が得られるが、その
具体例を（式１）で示したプロスタグランジン骨格を有
うる誘導体をその代表例にとり、以下例示する。
ルボニルシクロペンタノンＩｔ ｉたはその立体異性体
あるいはそれら任意の割合の混合物が得られるが、その
具体例を（式１）で示したプロスタグランジン骨格を有
うる誘導体をその代表例にとり、以下例示する。
ｆｌ） （２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ） −２−アリルオキシ
カルボニル−３−（（Ｓ）−（ト）−３−ヒドロキシ−
１−オクテニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （２１（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（Ｓ）−（匂−３−ヒドロキシ−１−ノネ
ニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （３） （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（匂−３−ヒドロキシ−１−
デセニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （４１（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（３８，５８）−（ト）−３−ヒドロキシ
−５−メチル−１−ノネニル）−４−ヒドロキシシクロ
ペンタノン （５１（２Ｒ，３１１，４Ｒ）−２−アリルオキシカル
ボニル−３−（（３Ｓ、５Ｒ） −＠）−３−ヒドロキ
シ−５−メチル−１−ノネニル）−４−ヒドロキシシク
ロペンタノン （６） ＣＡＲ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ） −（縛−３−ヒドロキシ−３
−シクロペンチル−１−プロペニル）−４−ヒドロキシ
シクロペンタノン （７） （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（ト）−３−ヒドロキシ−３
−シクロヘキシル−１−プロペニル）−４−ヒドロキン
／クロペンタノン ＋ｓ３ （２Ｒ，３Ｒ，４ｎ）−ｚ−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（ト））−３−ヒドロキシ−
４−シクロヘキシル−】−ブチニル）−４−ヒドロキシ
シクロペンタノン （９） （２１１，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３’−（（Ｓ） −ＣＦ今一３−ヒドロキシ
・−５−７クロベンチルー１−ペン５ニル）−４−ヒド
ロキシシクロペンタノン （１１（１１〜（９）のビス（２−デトラヒト′ロビラ
ニル）エーテル （ＩＩ） ’ （１）〜（９）のビス（１−ブチルジメ
チルゾリル）エーテル （Ｌ５ （１）〜（９）の４−ｔ−ブチルジメチルゾ
リル−ａ’−（２−テｌａｔヒドロピラニル）エーテル
０漕 （１）〜（９）の４−（２−ケト２ヒドロピラニ
ル）＝３’−ｔ−、／チルジメチルシリルエーテル本発
明方法の第２段階はこうして得られた前記式ＩＪＩで表
わされる２−アリルオキシカルボニルシクロペンタノン
ａｔたはその立体異性体あるいはそれらの任慧のｖ；す
合の混合物を低原子価の遷移金に４ζ１体と反応せしめ
ることによシ達成さｎる。
カルボニル−３−（（Ｓ）−（ト）−３−ヒドロキシ−
１−オクテニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （２１（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（Ｓ）−（匂−３−ヒドロキシ−１−ノネ
ニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （３） （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（匂−３−ヒドロキシ−１−
デセニル）−４−ヒドロキシシクロペンタノン （４１（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（３８，５８）−（ト）−３−ヒドロキシ
−５−メチル−１−ノネニル）−４−ヒドロキシシクロ
ペンタノン （５１（２Ｒ，３１１，４Ｒ）−２−アリルオキシカル
ボニル−３−（（３Ｓ、５Ｒ） −＠）−３−ヒドロキ
シ−５−メチル−１−ノネニル）−４−ヒドロキシシク
ロペンタノン （６） ＣＡＲ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ） −（縛−３−ヒドロキシ−３
−シクロペンチル−１−プロペニル）−４−ヒドロキシ
シクロペンタノン （７） （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（ト）−３−ヒドロキシ−３
−シクロヘキシル−１−プロペニル）−４−ヒドロキン
／クロペンタノン ＋ｓ３ （２Ｒ，３Ｒ，４ｎ）−ｚ−アリルオキシカ
ルボニル−３−（（Ｓ）−（ト））−３−ヒドロキシ−
４−シクロヘキシル−】−ブチニル）−４−ヒドロキシ
シクロペンタノン （９） （２１１，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカ
ルボニル−３’−（（Ｓ） −ＣＦ今一３−ヒドロキシ
・−５−７クロベンチルー１−ペン５ニル）−４−ヒド
ロキシシクロペンタノン （１１（１１〜（９）のビス（２−デトラヒト′ロビラ
ニル）エーテル （ＩＩ） ’ （１）〜（９）のビス（１−ブチルジメ
チルゾリル）エーテル （Ｌ５ （１）〜（９）の４−ｔ−ブチルジメチルゾ
リル−ａ’−（２−テｌａｔヒドロピラニル）エーテル
０漕 （１）〜（９）の４−（２−ケト２ヒドロピラニ
ル）＝３’−ｔ−、／チルジメチルシリルエーテル本発
明方法の第２段階はこうして得られた前記式ＩＪＩで表
わされる２−アリルオキシカルボニルシクロペンタノン
ａｔたはその立体異性体あるいはそれらの任慧のｖ；す
合の混合物を低原子価の遷移金に４ζ１体と反応せしめ
ることによシ達成さｎる。
低原子価の遷移金属としては０価のパラジウム、０価の
ニッケル、０価の白霊、１価のロジウムなどがあげられ
るが０価のパラジウムが牛デに好ましい。これらの低原
子価の遷移金属は適当な配位子（Ｌ−配位させた錯体の
形で使用するのが都合が良い。かかる錯体としては４！
ｌに配位の性質でその反応性が大きく変化するととｔ↓
ないが通常最も一般的に用いられるのはトリフェニルホ
スフィンを配位子とした錯体であり、しかるにトリフェ
ニルホスフィン錯体を例にとって具体例をあげるとテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、
テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ｏ）
ｒ テトラキス（トリフェニルホスフィン）白金（０
）、：またはトリス（トリフェニルホスフィン）Ｉｆｆ
ジウム（Ｉ）などである。
ニッケル、０価の白霊、１価のロジウムなどがあげられ
るが０価のパラジウムが牛デに好ましい。これらの低原
子価の遷移金属は適当な配位子（Ｌ−配位させた錯体の
形で使用するのが都合が良い。かかる錯体としては４！
ｌに配位の性質でその反応性が大きく変化するととｔ↓
ないが通常最も一般的に用いられるのはトリフェニルホ
スフィンを配位子とした錯体であり、しかるにトリフェ
ニルホスフィン錯体を例にとって具体例をあげるとテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、
テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ｏ）
ｒ テトラキス（トリフェニルホスフィン）白金（０
）、：またはトリス（トリフェニルホスフィン）Ｉｆｆ
ジウム（Ｉ）などである。
上記遷移金属錯体は２−アリルオギン力ルポニルシクロ
ペンタノノ額の脱炭ｌアリル化反応に対して触媒的に作
用するため、その使用数は２−アリルオキシカルボニル
シクロペンタノン類に対して１モル％〜３０モル裂、通
常は３〜１０モル係、好ましくは５モルチ動で１強媒と
して十分の機能を発揮する。
ペンタノノ額の脱炭ｌアリル化反応に対して触媒的に作
用するため、その使用数は２−アリルオキシカルボニル
シクロペンタノン類に対して１モル％〜３０モル裂、通
常は３〜１０モル係、好ましくは５モルチ動で１強媒と
して十分の機能を発揮する。
一般にこの種の反応は用いる溶媒によって反応の進行状
況が微妙に変化することが知られているが、本発明方法
において溶媒を用いる場合は、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、ベンゼンなどを用いるこ
とができ、特にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドが好まし
く用いられる。溶媒の使用量は反応剤の容量に対して１
〜１００倍容量、好ましくは５〜３０倍容量用いられる
。
況が微妙に変化することが知られているが、本発明方法
において溶媒を用いる場合は、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、ベンゼンなどを用いるこ
とができ、特にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドが好まし
く用いられる。溶媒の使用量は反応剤の容量に対して１
〜１００倍容量、好ましくは５〜３０倍容量用いられる
。
反応温度は０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜４０℃の
範囲が選Ｖよれ、反応時間は反応温度によって異なるた
め薄層クロマトグラフィーなとで追跡しながら行なうが
３０分〜５時間も行なえば十分である。通常は２０℃〜
３０’Ｃで２時間実施される。
範囲が選Ｖよれ、反応時間は反応温度によって異なるた
め薄層クロマトグラフィーなとで追跡しながら行なうが
３０分〜５時間も行なえば十分である。通常は２０℃〜
３０’Ｃで２時間実施される。
反応後は通常の方法により抽出、洗浄、クロマトグラフ
ィー乃どによる犀離操作を軒て、前記式（ｎ）で表わさ
れる２−アリルシクロペンタノン類またはその立体外性
体あるいはそれら任意の割合の混合物が得られる。本発
明の第二段階の脱炭酸アリル化反応は位置特異性を保持
しながら、しかも立体特異的に進行することが知られて
いる。そのために出発物質である２−アリルオキシカル
ボニルシクロペンタノン類の２位の立体配ｆｉｌけその
まま生成物でをる２−アリルシクロペンタノン類にひき
つがれ、虻果的に２位の立体配置は一義的に決定される
。このことを言いかえると今まで詳述してきた第一段階
と第二段階の工程をかけて最初の４−置換−２−シクロ
ベンテノン類の３位に有機鋼リチウム化合物の有機基部
分であるアルケニル基を４位の置換基とはトランスの立
体関係を保持して導入し、続いて２位にアリル基を３位
のアルケニル基とトランスの立体関係を保って導入し、
結果的に最終目的物である２−アリルシクロペンタノン
類を立体特異的に得たことになるわけである。′を表わ
ち肩機鋼リチウム化合物が４−置換−２−シクロベンテ
ノン類に共役付加して生成１．たエルレートの間接的な
位置、立体特異的アリル化が達成できたことＫなる。
ィー乃どによる犀離操作を軒て、前記式（ｎ）で表わさ
れる２−アリルシクロペンタノン類またはその立体外性
体あるいはそれら任意の割合の混合物が得られる。本発
明の第二段階の脱炭酸アリル化反応は位置特異性を保持
しながら、しかも立体特異的に進行することが知られて
いる。そのために出発物質である２−アリルオキシカル
ボニルシクロペンタノン類の２位の立体配ｆｉｌけその
まま生成物でをる２−アリルシクロペンタノン類にひき
つがれ、虻果的に２位の立体配置は一義的に決定される
。このことを言いかえると今まで詳述してきた第一段階
と第二段階の工程をかけて最初の４−置換−２−シクロ
ベンテノン類の３位に有機鋼リチウム化合物の有機基部
分であるアルケニル基を４位の置換基とはトランスの立
体関係を保持して導入し、続いて２位にアリル基を３位
のアルケニル基とトランスの立体関係を保って導入し、
結果的に最終目的物である２−アリルシクロペンタノン
類を立体特異的に得たことになるわけである。′を表わ
ち肩機鋼リチウム化合物が４−置換−２−シクロベンテ
ノン類に共役付加して生成１．たエルレートの間接的な
位置、立体特異的アリル化が達成できたことＫなる。
従来、このようなエルレートのアリルハライド（例えに
アリルクロライド、アリルブロマイド、アリルアイオダ
イドなど）を用いた捕捉反応による直ｙ的なアＩＪ ／
・化は非常に困難を極めることが知られている。例えげ
Ｇ、Ｈ，Ｐｏ５ｎｅｒ ら。
アリルクロライド、アリルブロマイド、アリルアイオダ
イドなど）を用いた捕捉反応による直ｙ的なアＩＪ ／
・化は非常に困難を極めることが知られている。例えげ
Ｇ、Ｈ，Ｐｏ５ｎｅｒ ら。
Ｊ、Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、ｐ７，１０７（：
１９７５）の報告によると２−シクロベンテノンに対し
てビニル基を共役付加して得られた銅エル−トでさえそ
のアリル化は位置特異性を失なつプ、二３−ビニルー５
−アリルシクロペンタノン類を生成する。さらに本発明
方法のように４位に置換基を有している２−シクロベン
テノン類は４位の置換基が生成したエルレートの２位に
対して立体障害として作用し７、位ｆｔら異性が失なわ
れたり、ポリアリル化が進行し、目的物のゼ都ＦＩ Ｇ
ソめて低いことも知られている（ Ｇ、 ５ｔｏｒｌｃ
ら、 Ｊ、 Ａ、ｍ。
１９７５）の報告によると２−シクロベンテノンに対し
てビニル基を共役付加して得られた銅エル−トでさえそ
のアリル化は位置特異性を失なつプ、二３−ビニルー５
−アリルシクロペンタノン類を生成する。さらに本発明
方法のように４位に置換基を有している２−シクロベン
テノン類は４位の置換基が生成したエルレートの２位に
対して立体障害として作用し７、位ｆｔら異性が失なわ
れたり、ポリアリル化が進行し、目的物のゼ都ＦＩ Ｇ
ソめて低いことも知られている（ Ｇ、 ５ｔｏｒｌｃ
ら、 Ｊ、 Ａ、ｍ。
Ｃｈｅｍ、 Ｓａｃ、−ユ、６２６０（１９７５））
。この」、うな背恩のなかで本発明方法は従来不Ｔ３Ｊ
能に近かった３、４−ジｉ￥ｌｉ漠シクロペンタノンエ
ル−トノ２位に間接的にではあるが、位置および立体特
異的にアリル化が可能になった意義は誠に太きいといえ
る。
。この」、うな背恩のなかで本発明方法は従来不Ｔ３Ｊ
能に近かった３、４−ジｉ￥ｌｉ漠シクロペンタノンエ
ル−トノ２位に間接的にではあるが、位置および立体特
異的にアリル化が可能になった意義は誠に太きいといえ
る。
なお、従来、α−アリルオキシカルボニルケトンを低原
子１曲の遷移金属錯体触媒による脱炭酸的アリル化反応
自身は三枝らによって知られている。例えば三枝ら、
Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 １０２ 。
子１曲の遷移金属錯体触媒による脱炭酸的アリル化反応
自身は三枝らによって知られている。例えば三枝ら、
Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 １０２ 。
６３８１（１９８０） などが参考となる。しかしこ
の報告ではシクロヘキリ・ン系、シクロペンタノン系の
比較的単純な系での反応についての記載しか々く、前述
したように３．４−ジ置換−２−アリルオキシカルボニ
ルシクロペンタノ：／ 類ノ！うな２位で比較的に立体
障害が予想される系に対する応用例は々く、この膚から
も本発明方法の有用性が明らかとなるところである。
の報告ではシクロヘキリ・ン系、シクロペンタノン系の
比較的単純な系での反応についての記載しか々く、前述
したように３．４−ジ置換−２−アリルオキシカルボニ
ルシクロペンタノ：／ 類ノ！うな２位で比較的に立体
障害が予想される系に対する応用例は々く、この膚から
も本発明方法の有用性が明らかとなるところである。
かくして得られた前記式〔１１〕で表わされる２−アリ
ルシクロペンタノン類ｔたはその立体異性体あるいはそ
わら任意の割合の混合物は前述のように、４−チ゛アゾ
ロスタグランジンＥ＋ ｌｔｆ 。
ルシクロペンタノン類ｔたはその立体異性体あるいはそ
わら任意の割合の混合物は前述のように、４−チ゛アゾ
ロスタグランジンＥ＋ ｌｔｆ 。
および１１類の出発物質となる有用な中間体であり、そ
の具体例は前出の２−アリルオキシカルボニルシクロペ
ンタノン類に対応する誘導体をそのま咬あけることがで
きる。
の具体例は前出の２−アリルオキシカルボニルシクロペ
ンタノン類に対応する誘導体をそのま咬あけることがで
きる。
以下、本発明方法を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
ｄｔ−（１−３−ｔ−ブチルジメチル７リルオキシー１
−オクテン（１，８４ｆ 、 ５．［Ｉ ｍｍｏｔ）
のエーテル（１５ｍｌり溶液に２．１ Ｍのｔ−プチル
リチウムのペンタン溶液（４，８ｍｅ、 １０．０
ｍｍｏｔ）を−７８℃で加え、２時間撹拌した。この溶
液にフェニルチオ銅（Ｉ） （８６３Ｗ 、 ５．ｏ
ｍｍｏｔ） 。
−オクテン（１，８４ｆ 、 ５．［Ｉ ｍｍｏｔ）
のエーテル（１５ｍｌり溶液に２．１ Ｍのｔ−プチル
リチウムのペンタン溶液（４，８ｍｅ、 １０．０
ｍｍｏｔ）を−７８℃で加え、２時間撹拌した。この溶
液にフェニルチオ銅（Ｉ） （８６３Ｗ 、 ５．ｏ
ｍｍｏｔ） 。
ヘキサメチルホスホラストリアミド（１，６３Ｆ。
１０．０ ｍｍｏｔ）のエーテル（ｉ ０＋＋＋／）溶
液を加え、−７８℃で１時間撹拌した。この溶液にｄｔ
−４−１−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロベ
ンテノン（８８０η、 ４．１５ ｍｍｏｔ）のエー
テル（１０＋＋＋ｇ）溶液を加え、−７８℃で１５分。
液を加え、−７８℃で１時間撹拌した。この溶液にｄｔ
−４−１−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロベ
ンテノン（８８０η、 ４．１５ ｍｍｏｔ）のエー
テル（１０＋＋＋ｇ）溶液を加え、−７８℃で１５分。
−４０℃で１時間撹拌した。クロロギ酸アリル（１，ｓ
ｆ 、 １２．５ ｍｍｏｔ）のエーテル（５ｍｌ
）溶液を加え、−４０℃で１時間撹拌を継続した。
ｆ 、 １２．５ ｍｍｏｔ）のエーテル（５ｍｌ
）溶液を加え、−４０℃で１時間撹拌を継続した。
アンモニア性塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテル
抽出し、塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、有機層と硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して４２の粗生成物を得
た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ベンゼン）に付して分離し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−お
よび（２Ｓ、 ３８．４Ｓ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（Ｒ８）−（乃−３−ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシシクロペンタノン（５４７〜、 １
．０２ ｍｍｏ４ ２５％）を得た。
抽出し、塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、有機層と硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して４２の粗生成物を得
た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ベンゼン）に付して分離し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−お
よび（２Ｓ、 ３８．４Ｓ）−２−アリルオキシカルボ
ニル−３−（（Ｒ８）−（乃−３−ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシシクロペンタノン（５４７〜、 １
．０２ ｍｍｏ４ ２５％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ４，、δ（ｐｐｍ）） ；０．０８（
１２Ｈ，ｓ）、０．８５（２１Ｈ，ｓ）。
１２Ｈ，ｓ）、０．８５（２１Ｈ，ｓ）。
１．３（８Ｈ，ｍ）、１．９〜２．７（３Ｈ，ｍ）。
３．１０（ＩＨ，ｍ）、３．９〜４．２（２Ｈ，ｍ）。
４．６０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
５．０〜５．７ （５Ｈ、ｍ ）。
ｒＲ（液膜、ｃｒｎ”）；
３１００、１７６０．１７３５．１６５５．１４６０゜
１３６０．１２５５，１１２０，１０８０，９６５゜９
３６．８５０，８３５，７７０，６７０゜Ｍａｓｓ（２
０ｅＶ：ｍｅｅ、％）： ５３８（０，１）、５２３（０，１）、４９７（０，５
）。
１３６０．１２５５，１１２０，１０８０，９６５゜９
３６．８５０，８３５，７７０，６７０゜Ｍａｓｓ（２
０ｅＶ：ｍｅｅ、％）： ５３８（０，１）、５２３（０，１）、４９７（０，５
）。
４８１（５）、４２３（２３）、３９７（９）。
３８３（８）、３２３（８）、２９２（８）。
２８２（７）、２６６（２４）、２４０（１９）。
２３９（１００）、２１５（８）、１９７（８）。
１９５（７）、１４７（１１）、７７（１９）、７５（
１４）。
１４）。
実施例２
実施例１とほぼ同じ条件で（１−３（Ｓ） −ｔ−フ。
チルジメチルシリルオキシ−１−ヨード−１−オクテン
（２，０２ｆ 、 Ｆｌ、５ ｍｍｏｔ： （α〕ｎ
３０．６°）と４（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２−シクロペンテノ７ （１，０６Ｆ 、
５．Ｏｒｎｍｏｌ）とをヨウ化第−銅（１，０５ｆ 、
５．５ ｍｍｏｌ ）とトリブチルホスフィｙ （
２，２ｆ 、 １１ ｍｍｏｌ）の右在下に反応させ
た後、クロロギ酸アリル（７２３り、６ｍｍｏｌ）をさ
らに反応させた。５．６３ ｆの粗生成物をカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチ＃＝：１９：１）
にイｚｊ して（２Ｒ，３Ｒ。
（２，０２ｆ 、 Ｆｌ、５ ｍｍｏｔ： （α〕ｎ
３０．６°）と４（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２−シクロペンテノ７ （１，０６Ｆ 、
５．Ｏｒｎｍｏｌ）とをヨウ化第−銅（１，０５ｆ 、
５．５ ｍｍｏｌ ）とトリブチルホスフィｙ （
２，２ｆ 、 １１ ｍｍｏｌ）の右在下に反応させ
た後、クロロギ酸アリル（７２３り、６ｍｍｏｌ）をさ
らに反応させた。５．６３ ｆの粗生成物をカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチ＃＝：１９：１）
にイｚｊ して（２Ｒ，３Ｒ。
４Ｒ） −２−アリルオキシカルボニル−３−Ｃ（Ｓ）
−■）−ａ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−オ
クテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシク
ロペンタノン（７１４■、１．３３ｍｍｏｌ、 ２７
％ ）を得た。このもののＮＭＲ，Ｉｌｔ。
−■）−ａ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−オ
クテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシク
ロペンタノン（７１４■、１．３３ｍｍｏｌ、 ２７
％ ）を得た。このもののＮＭＲ，Ｉｌｔ。
Ｍａｓｓは実施例１で得られたものと全く一致した。
実施例３〜５
実施例１と同様に１７て次の化合物を合成したう（２Ｒ
，３Ｒ，４Ｒ）−および（２８，３８，４Ｓ） −２−
アリルオキシカルボニル−３−（（Ｒ８）−（１’ｎ−
３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−シクロヘキ
シル−１−プロペニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシシクロペンタノン（収率３２％；実施例３ ）
、 （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−および（２ｓ、ａｓ、４
８）−２−アリルオキシカルボニル−３−（（Ｒ８）−
（匂−３−ブチルジメチルシリルオキシ−４−７クロヘ
キシルー１−ブテニル） −４−’ｔ−ブチルジメチル
／リルオキシシクロペンタノン（収率２９％；実施例４
）ｌ（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボニ
ル−３−（（Ｓ）−（乃−３−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−５−メチル−１−ノネニル）−４−１−ブチ
ルジメチルシリルオキシシクロペンタノン（収率２３％
；実施例５）。これら化合物の特徴的なスペクトルデー
タを次の表に列挙する。
，３Ｒ，４Ｒ）−および（２８，３８，４Ｓ） −２−
アリルオキシカルボニル−３−（（Ｒ８）−（１’ｎ−
３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−シクロヘキ
シル−１−プロペニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシシクロペンタノン（収率３２％；実施例３ ）
、 （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−および（２ｓ、ａｓ、４
８）−２−アリルオキシカルボニル−３−（（Ｒ８）−
（匂−３−ブチルジメチルシリルオキシ−４−７クロヘ
キシルー１−ブテニル） −４−’ｔ−ブチルジメチル
／リルオキシシクロペンタノン（収率２９％；実施例４
）ｌ（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリルオキシカルボニ
ル−３−（（Ｓ）−（乃−３−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−５−メチル−１−ノネニル）−４−１−ブチ
ルジメチルシリルオキシシクロペンタノン（収率２３％
；実施例５）。これら化合物の特徴的なスペクトルデー
タを次の表に列挙する。
実施例６
実施例１で得られた（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−および（２
８，３Ｓ、４Ｓ）−２−アリルオキシカルボニル−３−
（（Ｒ８）−（匂−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（９７ｍｙ、 ０．１８ ｍ
ｒｎｏｌ ）を１ｍｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
に溶かし、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パン
ジウム（Ｏ）（ｌＯ〜、０．０＋１９ｍｍｏｌ）を窒素
雰囲気下で加え、室温にて２時間撹拌した。酢酸エチル
と飽和食塩水を加えて抽出し、得られた有機層を硫酸マ
ク不シウムで乾燥後濃縮してｉ ｓ ｏ ｍｙの粗生成
物を得、これを調製用薄層クロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢エチル＝ｔＯ：Ｘ）にかけて（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ
）−および（２８，３８，４８）−２−アリル−３−（
（Ｒ８） −（ト）−３−ｔブチルジメチルシリルオキ
シ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（５９ｍｇ、 ０．１２ｍｍ
ｏｌ。
８，３Ｓ、４Ｓ）−２−アリルオキシカルボニル−３−
（（Ｒ８）−（匂−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（９７ｍｙ、 ０．１８ ｍ
ｒｎｏｌ ）を１ｍｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
に溶かし、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パン
ジウム（Ｏ）（ｌＯ〜、０．０＋１９ｍｍｏｌ）を窒素
雰囲気下で加え、室温にて２時間撹拌した。酢酸エチル
と飽和食塩水を加えて抽出し、得られた有機層を硫酸マ
ク不シウムで乾燥後濃縮してｉ ｓ ｏ ｍｙの粗生成
物を得、これを調製用薄層クロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢エチル＝ｔＯ：Ｘ）にかけて（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ
）−および（２８，３８，４８）−２−アリル−３−（
（Ｒ８） −（ト）−３−ｔブチルジメチルシリルオキ
シ−１−オクテニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（５９ｍｇ、 ０．１２ｍｍ
ｏｌ。
６７％）を得た。仁のものは別途合成した標品とｔｌｃ
、 ＮＭＲ、Ｉ Ｒ、およびＭａｓｓ スペクトルが
完全に一致した。
、 ＮＭＲ、Ｉ Ｒ、およびＭａｓｓ スペクトルが
完全に一致した。
ＮＭＲ（ＣＤＣム、δ（ｐｐｍ） ） ：０．０４（１
２Ｈ，ｓ）、０．８６（２１Ｈ，ｓ）。
２Ｈ，ｓ）、０．８６（２１Ｈ，ｓ）。
１．１〜１．５（８Ｈ，ｍ）、１．６〜２．８（６Ｈ，
ｍ）。
ｍ）。
３．１３〜４．３（２Ｈ，ｍ）、４．７５〜４．９５（
ＬＨ，ｍ）。
ＬＨ，ｍ）。
４．９ ｓ 〜ｓ、１ｓ （ＩＨ、ｍ ）、 ５．３５
〜５．６０（３Ｈ，ｍ）。
〜５．６０（３Ｈ，ｍ）。
ＩＲ（液膜、ｃｒｎ’）：
３１００．２９７０，２９５０，２８７０，１７４５゜
１６４０．１４６０，１３６０，１２５５，１１１０゜
１０００、 ９６５． ９１０． ８７５． ８３５゜
８０５、 ７７０゜ Ｍｓ ｓ ｓ （２０ｅＶ；ｍ／ｅ ） ；４Ｇ１４（
Ｍ ）、４７９，４３７，３７９゜実施例７〜１０ 実施例６と同様にして実施例２〜５で得られた化合物か
らそれぞれ対応する脱炭酸アリル化生成物である（ ２
Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリル−３−（■）−（匂−３
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−オクテニル）
−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノ
ン（ｌＨｆｌｌＪ７゜収車７１％） 、 （２Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−および（２Ｓ、、３Ｓ。
１６４０．１４６０，１３６０，１２５５，１１１０゜
１０００、 ９６５． ９１０． ８７５． ８３５゜
８０５、 ７７０゜ Ｍｓ ｓ ｓ （２０ｅＶ；ｍ／ｅ ） ；４Ｇ１４（
Ｍ ）、４７９，４３７，３７９゜実施例７〜１０ 実施例６と同様にして実施例２〜５で得られた化合物か
らそれぞれ対応する脱炭酸アリル化生成物である（ ２
Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリル−３−（■）−（匂−３
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−オクテニル）
−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノ
ン（ｌＨｆｌｌＪ７゜収車７１％） 、 （２Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−および（２Ｓ、、３Ｓ。
４Ｓ）−２−アリル−３−（（Ｒ８）−（Ｂ！ｌ−３−
ｔ −ブチルジメチルシリルオキシ−３−シクロヘキシ
ル−１−フロベニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（実施例８゜収率６９％） 、
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−および（２Ｓ 、 ３８゜
４８）−２−アリル−３（（Ｒｓ）−＠−３−を一フチ
ルジメチルシリルオキシー４−シクロヘキシル−１−フ
チニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロ
ペンタノン（実施例９゜収率６１％）、および（２Ｒ，
３ｒｔ、４Ｒ）−２−アリｔＩ／−３−（（Ｓ）−（ト
）−３−Ｌ−ブチルジメチルシリルオキシ−５−メチル
−１−ノネニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シシクロペンタノン（実施例１０．収キ７４ダノ）をイ
！事だ。これらの生成物は別途合成（７た標品と薄層ク
ロマトグラフィー、Ｎ１１’ｌＲ，ＩＲ，および八りａ
ｇｌｌ スペクトルがすべて一致した。４ｆ徴的なス
ペクトルデ−ターを次の表に列挙する。
ｔ −ブチルジメチルシリルオキシ−３−シクロヘキシ
ル−１−フロベニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン（実施例８゜収率６９％） 、
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−および（２Ｓ 、 ３８゜
４８）−２−アリル−３（（Ｒｓ）−＠−３−を一フチ
ルジメチルシリルオキシー４−シクロヘキシル−１−フ
チニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロ
ペンタノン（実施例９゜収率６１％）、および（２Ｒ，
３ｒｔ、４Ｒ）−２−アリｔＩ／−３−（（Ｓ）−（ト
）−３−Ｌ−ブチルジメチルシリルオキシ−５−メチル
−１−ノネニル）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シシクロペンタノン（実施例１０．収キ７４ダノ）をイ
！事だ。これらの生成物は別途合成（７た標品と薄層ク
ロマトグラフィー、Ｎ１１’ｌＲ，ＩＲ，および八りａ
ｇｌｌ スペクトルがすべて一致した。４ｆ徴的なス
ペクトルデ−ターを次の表に列挙する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 下肥式ＣＩ〕 で表わさｉする２−゛アリルオキシカルボニルシクロペ
ンタノン類、筐たはその立体異性体あるいはそれら任意
の割合の混合物を低原子価の遷移金属錯体と反応せしめ
ることを特徴とする下記式（ＴＩ） で表わされる２−アリルンクロベンタノン類またはその
立体異性体あるいはそれら任意の割合の混合物の１ｆ５
ｉ ＪＡ、製造法。 ２、 低原子価の心Ｊ３金属錯体かテトラギス（トリフ
ェニルホスフィン）パラジウノ、（ｏ）、テトラキス（
トリフェニルホスフィン）ニッケル（０） 、 テト
ラキス（トリフェニルホスフィン）白金（０）、−にた
はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（■）ク
ロ２イドであるである特許請求の範囲抛１項記幅のＶ′
目貴法。 ３ 低ノシトｐ価の遷イφ金酋鉛体との反１１；をｔＪ
、Ｎ −ジメチルホルムアミド中で実線する特許請求の
範囲第１項又は第２項に記載の製造法。 ４、 下記式〔１■〕 ０ ０か で表わされる４−置換−２−シクロベンテノン類または
その鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物を、 下記式ＣＩＶ） Ｌ Ｉ Ｃｕ ＼／＼／Ｒ” ） Ｙ ＝ −川
”・（ＩＶ）Ｒ２１ で表わされる有機銅リチウム化合物またはその鏡像体あ
るいはそれらの任意の割合の混合物と、非プロトン性有
機溶媒と三価の有機リン化合物の存在下に共役付加反応
せしめ、次いでクロロギ酸アリルを反応せしめ、場合に
よって保護された水酸基の脱保歌反応に付すことによシ
、下記式〔目 で表わされる２−アリルオキシカルボニルシクロペンタ
ノン類またはその立体異性体あるいはそれら任意の割合
の混合物を製造し、次いで低原子価の遷移金属錯体と反
応せしめることを特徴とする、下記式〔１１〕 で表わされる２−アリルシフ四ペンタノン類類またはそ
の立体異性体あるいはそれら任意の割合の混合物の新規
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57155116A JPS5944336A (ja) | 1982-09-08 | 1982-09-08 | ２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57155116A JPS5944336A (ja) | 1982-09-08 | 1982-09-08 | ２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5944336A true JPS5944336A (ja) | 1984-03-12 |
| JPH026341B2 JPH026341B2 (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=15598929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57155116A Granted JPS5944336A (ja) | 1982-09-08 | 1982-09-08 | ２−アリルシクロペンタノン類の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5944336A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7109371B2 (en) | 2004-01-05 | 2006-09-19 | Johnson Matthey Public Limited Company | Prostaglandin synthesis |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03257640A (ja) * | 1990-03-08 | 1991-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロプロセッサの暴走対策装置 |
-
1982
- 1982-09-08 JP JP57155116A patent/JPS5944336A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7109371B2 (en) | 2004-01-05 | 2006-09-19 | Johnson Matthey Public Limited Company | Prostaglandin synthesis |
| US7141706B2 (en) | 2004-01-05 | 2006-11-28 | Johnson Matthey Public Limited Company | Protected and unprotected triols for prostaglandin synthesis |
| US7161042B2 (en) | 2004-01-05 | 2007-01-09 | Johnson Matthey Public Limited Company | Protected diols for prostaglandin synthesis |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH026341B2 (ja) | 1990-02-08 |
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