JPH01305046A - 新規シクロデセン誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規シクロデセン誘導体およびその製造法に
関し、更に詳しくは、ワモンゴキブリの性フエロモンで
あるベリプラノン−Ａの合成中間体として有用なシクロ
デセン誘導体およびその製造法に関するものである。

［従来の技術］ ワモンゴキブリの性フエロモンには、ベリプラノン−Ａ
およびベリプラノン−Ｂが知られている。

これらは１９７６年、バースンズ（Ｐｅｒｓｏｏｎｓ）
らにより、単離され［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔ
ｔ、、２０５５　（１９７６１１、さらに１９８２年に
は、パースンズらはべりブラノン−Ａの化学構造式を発
表した［Ｊ、　Ｃｈｅａｐ、　Ｅｃｏｌ、　。

８、４３９　ｆ１９８２）　］が、その構造は疑問視さ
れていた０次いで、ハウブトマン（Ｈａｕｐｔｏｍａｎ
ｎｌ　らはワモンゴキブリよりベリプラノン−Ａを単離
し、さらに合成することによって、その構造を同定した
［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２７．６１８
９　ｆ１９８６１］　。

ベリプラノン−Ａの合成法については、また、マクドナ
ルド（Ｍａｃｄｏｎａｌｄｌらが発表しているが［Ｈｅ
ｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ、　２５．３０５　ｆ１９８７１
　］、彼らの合成した化合物は天然のベリプラシン−Ａ
とエポキシ環の向きが逆向きであり、ベリプラノン−Ａ
の異性体であった。

［発明が解決しようとする課題］ 前記ハウブトマンらの合成法は、出発物質として１−シ
ロキシ−１，３−ブタジェンを用いているが、この化合
物は不安定である。また、１０員環を合成する際にオキ
シコープ転移反応を利用しているが、この反応は収率が
５０％と低い。また、エポキシ化は９９：１と高い立体
選択性を報告しているが、　ＭＭ　２　［Ｎ、Ｌ、Ａｌ
ｌＡｌ１１ｎ　ｅｔ　ａｌ、。

ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、　、　９９　、３
２８２　ｆ１９７７）　］による配座解析の結果、選択
性はほぼｌ：ｌであると予想された。さらに、追試実験
により生成物は１．３：１の異性体比を示し、この方法
が特に選択性が高いわけではないことが明らかとなった
。

一方、マクドナルドの合成した化合物は、前述のように
ベリプラノン−Ａの異性体であり、この化合物の活性は
低い。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上述したよりなワモンゴキブリの性フエロモ
ンであるベリプラノン−Ａ製造の問題点を克服すること
を当初の目的としてなされたものであり、安価な原料を
用いるとともに、高収率で、しかも原料の立体構造を全
く考慮する必要のないペリプラノン−への製造手段を提
供するとともに１合成的に有用な１０員唄化合物を原料
として、新規な中間体化合物を見出し、それによって、
高収率でベリプラノン−Ａを提供するに至ったものであ
る。

すなわち、本発明は一般式： ［式中、Ｘは直接結合または酸素原子を表し；Ｒは、 Ｙ。

ＹｔＳｉ−基（ここで、Ｙ　１．　Ｙ　＊およびＹ。

はそれぞれ同一であっても異っていてもよく、低級アル
キル基、アリール低級アルキル基もしくはアリール基で
ある）、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピ
ラニル基またはＲ’　０−　（ＣＨ，）　、、−基（こ
こで、ｎはｌもしくは２であり、Ｒ′はメチル基、エチ
ル基もしくはベンジル基である）を表し：ＺはＸが直接
結合のとき、水素原子であるか、Ｒと同義であるかまた
はＷと共同してもう１つの結合を表し、Ｘが酸素原子を
表すとき、Ｗと共同してもう１つの結合を表し：ＷはＸ
が直接結合のとき水素原子またはＺと共同してもう１つ
の結合を表し、Ｘが酸素原子のときＺと共同してもう１
つの結合を表す］で示される新規シクロデセン誘導体お
よび次式二〇 Ｅ式中、Ｒは請求項１と同義である１で示される化合物
の１０−位を水酸化した後、水酸基の保護［式中、Ｒは
前記と同義であり、Ｚ′はＲと同義である］で示される
化合物を得、次いで、■−位のカルボニル基をオレフィ
ン化して、次式：で示される化合物とし、要すればさら
にｌ〇−位を加水分解により、 次式： で示される化合物に変換し、さらに、１〇−位を酸化に
より１次式： で示される化合物に変換し、またはさらに、■−位をエ
ポキシ化により、次式： で示される化合物に変換する、上記新規シクロデセン誘
導体の製造法を提供するものである。

上述の式ＣＩ）においてＲは水酸基の保護基である。こ
こで、Ｙｌ、Ｙ、およびＹ、についての低級アルキル基
とは、炭素数１〜６の直鎖状もしくけ分岐状のアルキル
基であって、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、５ｅｃ−
ブチル基、Ｉｎｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

また、アリール基とは、非Ｍｔａのフェニル基または置
換されたフェニル基であり、その置換基としては、例え
ば、４−メチル基、４−エチル基。

３−メチル基、３−エチル基等が挙げられる。

本発明の中間体の製造方法は、 （第１工程） 式（ＩＴ）で示される化合物のｌ〇−位を水酸化した後
水酸基を保護する工程（ＩＩ）→（［１）、（第２工程
） 次いでｌ−位のカルボニル基をオレフィン化する工程、 （Ｉｌｌ）→（Ｉ−１）。

（第３工程） さらに要すれば、ｌ〇−位の水酸基の保護基Ｚ゛を加水
分解により脱離させる工程（Ｉ−１）−（Ｉ−２）。

（第４工程） さらに、１〇−位の酸化により水酸基をカルボニル基に
変換する工程Ｃｌ−２）→（１−３）、（第５工程） さらにｌ−位のオレフィンを立体選択的にエポキシ化す
る工程（Ｉ−３）→（１−４）、より成る。

第１工程においては、出発化合物である式（ＩＩ　）で
示される化合物は、特願昭’６０−１５００９１号公報
に記載の方法により１０員環化合物を得る際の副生物と
して得ることができる。

式（ＩＩ　）で示される化合物は、まず、塩基と反応さ
せる。この時用いる塩基としては、リチウムビス（トリ
メチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリ
ル）アミド、リチウムジイソプロピルアミド、　ｔｅｒ
ｔ−ブチルリチウムまたは８８Ｃ−ブチルリチウムがよ
く、好ましくはリチウムビス（トリメチルシリル）アミ
ドな用いる。塩基は出発化合物（＋Ｂｔモルに対し１〜
ｌＯモル用い、好ましくは１．５〜３モルである。

次に上述の塩基の存在下に１０−位の水酸化を行なうが
、水酸化は、例えば（ａ）トリエチルホスファイト等の
ホスホン酸トリアルキルの存在下に酸素を吹き込むか、
または（ｂ）シリル化後に過酸で処理することにより行
なうことができる。

（ａ）の方法においては、出発化合物（■）１モルに対
してホスホン酸トリアルキルは、１〜２モル使用し、反
応温度は一１Ｏ〜−４０℃、反応時間は０．５〜３時間
である。

次に、（ｂ）の方法においては、シリル化に用いるシリ
ル化剤としては、トリアルキルハロシランが挙げられ、
具体的には、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロ
ロシラン、トリプロピルクロロシラン、トリメチルヨー
ドシラン等が用いられ、好ましくはトリメチルクロロシ
ランである。

シリル化剤の量は、出発化合物（ＩＩ）１モルに対して
１〜５モルであり、反応温度は−７８〜−１０℃１反応
時間は０．１〜１時間である。

また１次いで用いられろ過酸としては、過酢酸、過安息
香酸、ｍ−クロロ過安息香酸等が挙げられ、好ましくは
ｍ−クロロ過安息香酸である。

過酸の使用量は、出発化合物（ＩＩ）１モルに対して、
１〜４モルであり、反応温度は一４０〜Ｏ℃、反応時間
は０．１〜１時間である。

（ａ）、および（ｂ）のシリル化においては、溶媒とし
ては、エーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等が好
ましく、（ｂ）の過酸による処理の際には、溶媒として
ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン等が好ましい
。

次に、上述のようにして得られたこの水酸基を保護する
が、水酸基の保護基としては、前述のＲで表される置換
基が挙げられ、好ましくは、エトキシエチル基である。

水酸基の保護は、例えば、エチルビニルエーテル等の保
護化剤を水酸基に作用させる。保護化剤の量は、水酸基
１モルに対して１〜１０モルである。このときの反応温
度は−２０〜−１０℃、反応時間は０．１〜１時間であ
る。このとき用いられる溶媒としては、ジクロロメタン
、クロロホルム、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。

次に第２工程について述べる。ここでは、前述の第１工
程により得られた化合物（ＩＩＩ）の１−位のカルボニ
ル基をオレフィンに誘導し、本発明の化合物の１つであ
る化合物Ｃｌ−１）を合成する。

この反応は、例えば、亜鉛の存在下に、ジブロモメタン
および四塩化チタンを作用させることにより行なうこと
ができる。ジブロモメタンは化合物（Ｉｒｌ）　１モル
に対して１〜８モル加え、四塩化チタンは１〜８モル加
え、亜鉛は４〜２５モル加える１反応温度は、１０〜３
０℃であり、反応時間は０．５〜２時間である。また、
用いられる溶媒としては、ＴＨＦ、ジクロロメタン等が
挙げられる。

次に、第３工程について述べる。この反応は、前述の第
２工程によって得られた本発明の化合物の１つである（
１−１）を、要すれば、さらに別の本発明の化合物（Ｉ
−２）に誘導する反応である。ここでは、化合物（Ｉ−
１）のｌＯ−位の保護された水酸基の保護基を加水分解
により外す。

加水分解は、通常の方法により行なうことができるが、
例えば、メタノールとジクロロメタン中で、ピリジニウ
ム−ｐ−１−ルエンスルホネートを加えることにより行
なうことができる。

次に、第４工程について述べる。ここでは、第３工程に
より得られた化合物（１−２）の１０−位を、酸化反応
により、さらに別の本発明の化合物（Ｉ−３）に誘導す
る。この水酸基の酸化は、無水クロム酸−ピリジンまた
はピリジニウムクロロクロメートにより行なうことがで
きる。無水クロム酸の量は、化合物（Ｉ−２）１モルに
対し５〜４０モル、ピリジンは１０〜１００モル使用し
、ピリジニウムクロロクロメートは２〜５モル使用する
０反応温度は１０〜３０℃、反応時間は３〜１０時間で
ある。使用する溶媒としては、ジクロロメタン等が挙げ
られる。

最後に第５工程について述べる。第４工程により得られ
た化合物（１−３）の１−位を、さらにエポキシ化試薬
により立体選択的にエポキシ化する。エポキシ化には、
水素化カリウム／ｌ−ブチルハイドロパーオキサイドを
用い、水素化カリウムとｔ−ブチルハイドロパーオキサ
イドの量は等しく、基質（Ｉ−３）１モルに対し１〜２
０モル、好ましくは１〜５モルである。

反応溶媒はエーテル、ＴＨＦが用いられ、好ましくはＴ
ＨＦである０反応温度は−４０〜−１０℃、反応時間は
０．１〜１時間である。

この工程におけるエポキシ化は、ｌＯ：１の高い立体選
択性を示す。

なお、第１〜５工程はすべて、窒素、アルゴン等の不活
性気体雰囲気下で反応を行なうのが好ましい。

各工程で得られた化合物は、通常の手段、例えば抽出、
溶媒除去、クロマトグラフィー等を用いて容易に単離精
製することができる。

上述のようにして得られた化合物からペリプラノン−Ａ
を製造するには次のようにして行なう。

まず、第５工程を経て得られたエポキシ体のＲで保護さ
れた５−位の水酸基を加水分解によりヒドロキシル体に
する。加水分解は、ＴＨＦ溶媒中、フッ化テトラブチル
アンモニウムを加えて行なうのがよい、フッ化テトラブ
チルアンモニウムの量は、エポキシ体１モルに対し１〜
３モル、好ましくは１〜１．５モルである０反応温度は
０〜５０℃がよく、好ましくは１０〜３０℃である。

反応時間は１０分〜５時間がよく、好ましくは１〜３時
間である。

得られたヒドロキシル体は、反応液より溶媒抽出し、濃
縮して単離した後、０−ニトロフェニルセレノニトリル
と反応させ、次いで、トリブチルホスフィンと反応させ
る。さらに過酸化水素を加えて反応させると、最終生成
物である次式：で示されるベリプラノン−Ａを得ること
ができる。このとき用いる０−ニトロフェニルセレノニ
トリルの量は、ヒドロキシル体１モルに対し１〜５モル
、好ましくは１．５〜３モルであり、トリブチルホスフ
ィンの量は、１〜５モル、好ましくは１．５〜３モルで
あり、過酸化水素の量は、１０〜３０モル、好ましくは
１０〜２０モルである０反応溶媒は、Ｔ　ＨＦ、ジエチ
ルエーテル等がよく、好ましくはＴＨＦである０反応温
度は０〜５０℃がよく、好ましくは１０〜３０℃である
。

反応時間は、トリブチルホスフィンを加えた後１０分〜
１時間が好ましく、過酸化水素を加えた後は１〜２０時
間がよく、好ましくは５〜１０時間である。

ペリプラノン−Ａは、ゴキブリの生殖という生物的現象
の中で極めて重要であり、ワモンゴキブリの雌の体内に
あって雄を誘引し、これにより雄が雌を発見し、同種の
雌であることを認知し、交尾器の結合に到るまでの一連
の過程において、化学的要因として極めて重要な役割を
果たす、したがって、このような化合物の容易な合成手
段を提供した本発明は、学術的分野のみならず、産業上
ひいては人類の社会生活上極めて有意義である。

［実施例］ 以下の実施例において、本発明およびベリプラノン−Ａ
の全合成に応用した場合について具体的に説明する。

実施例１ ヒドロキシル体の製造（第１工程の水酸化）リチウムジ
イソプロピルアミド（０，２９ｍ＋＊ｏｌ）のＴＨＦ溶
液１．２ｍｌに、アルゴン雰囲気下、＝７８℃で、化合
物（１）３５ｍｇ　（０，０７４ｍｍｏｌ）を滴下し、
−３０℃で４５分間攪拌した後、トリメチルクロロシラ
ン０．０２５ｍ１（０，２２ｍｍｏｌ）を加えた。１５
分反応後、反応溶液を重曹水中に注ぎ、ペンタンで抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。

次に、得られた残渣をヘキサン５ｍｌに溶解し、この溶
液を、ｍ−クロロ過安息香酸３４ｍｇ（０，１５ｍｍｏ
ｌ）とヘキサン８ｍｌの混合物に一２０℃で加＾た。３
０分間撹拌後、反応液をチオ硫酸ナトリウム水溶液中に
注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を、重曹水および飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後
、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液、ヘキサン：酢酸エチル＝
１：９）にて精製し、化合物（２）２７ｍｇを得た（収
率８１％）、’Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータ（９０ＭＨ
ｚ、ＣＤＣｌ　３）を以下に示す。

７、２−７．７　　ｍ　ｆｌＯＨ） ６、５６　　　　　ｄ　ｆｌＨ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ１５
．９０　　　　ｄｄｄｆＬＨ，Ｊ＝９．０．９．ｏ。１
１．６Ｈｚ１４、７−４．９　　ｍ　（２Ｈ１ ３、８４−４、ｌ　ｂｒｆｌＨ１ ３、７ｄｄ　（ＩＨ，Ｊ＝６．２．ｌＯ，３Ｈｚ１３．
５６　　　　ｄｄ　（ＩＨ，Ｊ＝６．９．１０．３Ｈｚ
）１、６−２．６　　ｍ　ｆ７Ｈ１ １，０４５ｆ９Ｈ１ ０、９１ｄ　（３Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ１０、８２　　　
　　ｄ　ｆ３Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚｌ実施例２ 水酸基の保護（第１工程） 化合物（２）４１ｍｇ　（０，０８６ｍｍｏｌ）を塩化
メチレンに溶解し、エチルビニルエーテル０．０６ｍ１
　　（０，６ｍｍｏｌ）を加えた後、さらに触媒量のＰ
−トルエンスルホン酸を加λて、０℃で３０分間攪拌し
た０反応液を重曹水に注ぎ、エーテルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、化合物（３）４１ｍｇを得た（
収率８７％）。　’Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータ（９０
ＭＨｚ、ＣＤＣｌ　、）を以下に示す。

７、２−７．８　　　　ｍ　（１０）１）６、５８．６
．６２　　ｄｆｌＨ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ１５、７−６、
　１　　　　ｍ　ｆｌＨ］４、４−４．９　　　　ｒａ
　（３Ｈ１３、２−４，Ｏｒｎ　ｆ５Ｈ１ １、５−２，８ｍ　ｆ５）１） １、　１−１．３５　　　ｍ　ｆ６Ｈ１１，０４５（９
Ｈ１ Ｏ，８９ｄ　ｆ３Ｈ，Ｊ＝３．１ＨｚｌＯ，８２ｄ　（
３Ｈ，Ｊ＝３．１Ｈｚｌ実施例３ オレフィン化および脱保護（第２．３工程）無水ＴＨＦ
２５ｍｌに亜鉛末３ｇ　（４５，９ｍｍａｌｌおよびジ
ブロモメタンＬｍｌ　（１４，４ｍｍｏｌ）を加えた懸
濁液をアルゴン雰囲気下、−４０℃に冷却した。ここに
四塩化チタン１．２ｍ　ｌ　　（１０，７ｍｍｏｌ）を
１５分かけて滴下し、０°Ｃで３３時間撹拌した。

ここからシリンジで０．８ｍｌ抜きとりミクロフラスコ
に移し、氷水中で冷却しつつジクロロメタン０．１４ｍ
１を加えた０次いで、実施例２で合成した化合物（３）
３０ｍｇをジクロロメタン０．１４ｍ１に溶かした溶液
を１０分間で滴下し、混合物を１時間攪拌して反応させ
た０反応終了後、ここに０．６４ｍ１のペンタンを加λ
て希釈した。この溶液に１重曹０．４２ｇと水０．２２
ｍ１からなるスラリーを１時間で加えた。有機層をエー
テルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒
を留去した。

次に、得られた残渣を、メタノール１ｍｌとジクロロメ
タン０．３ｍｌの混合溶媒に溶解し、触媒量のピリジニ
ウム−ｐ−トルエンスルホネートを加久、室温で３時間
撹拌した１反応液を水冷した重曹水中に注ぎ、エーテル
で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、化合物（５）１７．４
ｍｇを得た（収率６７％）、実施例１と同一の条件で測
定した’　Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャートを第１図に
示した。

実施例４ 水酸基の酸化（第４工程） ピリジン０．４２ｍ１　　（５，４ｍｍｏｌ）を塩化メ
チレン１．５ｍｌに溶解し、０℃に冷却して、無水クロ
ム酸２４５ｍｇ　（Ｓ２．４５ｍｍｏｌ）を加えた。３
０分間撹拌した後、化合物（５）３３ｍｇ（０，０７ｍ
ｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を０℃で加え、室温で１時
間撹拌して反応させた後、エーテル、ヘキサン＝７＝３
の混合溶媒５ｍｌにて希釈した０反応溶液をフロリジル
のカラムでろ過し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（６）
２４ｍｇを得た（収率７３％）、実施例１と同一の条件
で測定した’　Ｈ−ＮＭＲスペクトルのチャートを第２
図に示した。

実施例５ エポキシ化（第５工程）およびベリプラノンＡのペリプ
ラノン−Ａ 水素化カリウム８０ｍｇ　（２ｍ＋ｍｏ１．ヘキサンで
洗浄したもの）を無水ＴＨＦ１０ｍｌに懸濁させ、ここ
に無水のｔ−ブチルハイドロパーオキサイド／トルエン
３．４Ｍ溶液０’、　６ｍｌ　　（２ｍｍｏ　ｌ　）を
−２０℃で滴下した。１５分撹拌して反応させた後、実
施例４で得られた化合物（６）１７ｍｇ　（０，０３６
ｍｍｏｌ）のＴＨＦ　（２ｍｌ）溶液を０℃で滴下した
。さらに３０分間攪拌後、反応液を冷水に注ぎ、次いで
エーテルで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶
液２ｍｌ、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をＴＨ
Ｆｌｍｌに溶解し、フッ化テトラブチルアンモニウム２
０ｍｇ　（０，０７４ｍ＋ｍｏｌ）を加えた。

室温にて２時間撹拌後、反応液を飽和食塩水中に投入し
、エーテル抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去した。

得られた残渣および０−ニトロフェニルセレノニトリル
３６ｍｇ　（０，１６ｍｍｏＬ）をＴＨＦｌｍｌに溶解
させた後、トリブチルホスフィン０．０４ｍ１　（０，
１６ｍ＋ｎｏｌ）を加えて、室温にて３０分間撹拌した
。

続いて３５％過酸化水素（０，１ｍ１）を添加し、室温
にて１０時間撹拌した後、反応液をチオ硫酸ナトリウム
水溶液中に投入した。エーテルにて抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液エーテル：ヘキサン＝ｌ：１５）にて
精製し、さらに高速液体クロマトグラフィー（カラム、
５１６０−５μｍ、７．５ｏ、ｄ、ｘ３００ｍｍ、溶離
液、２％酢酸エチル／ヘキサン、流速２．１７ｍ１／分
）にて精製し、ベリプラノン−Ａ　　３ｍｇを得た（収
率３６％）。

実施例１と同一の条件で測定したベリプラノン−Ａの　
　’Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを第３図に示す。

［発明の効果］ 本発明によれば、ベリプラノン−Ａ合成における新規な
中間体を提供することができる。また、安価な原料化合
物を用いて、高収率で、有用な物質であるベリプラノン
−Ａを製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例において合成した化合物（５）の、第２
図は化合物（６）のＩＨ−ＮＭＲスペクトルであり、第
３図は合成したベリプラノン−Ａの’　Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘは直接結合または酸素原子を表し：Ｒは、 ▲数式、化学式、表等があります▼基（ここで、Ｙ＿１
   、Ｔ＿２およびＹ＿３はそれぞれ同一であっても異って
   いてもよく、低級アルキル基、アリール低級アルキル基
   もしくはアリール基である）、テトラヒドロピラニル基
   、テトラヒドロチオピラニル基またはＲ′Ｏ−（ＣＨ＿
   ２）＿ｎ−基（ここで、ｎは１もしくは２であり、Ｒ′
   はメチル基、エチル基もしくはベンジル基である）を表
   し；ＺはＸが直接結合のとき、水素原子であるか、Ｒと
   同義であるかまたはＷと共同してもう１つの結合を表し
   、Ｘが酸素原子を表すときはＷと共同してもう１つの結
   合を表し；ＷはＸが直接結合のとき水素原子であるかま
   たはＺと共同してもう１つの結合を表し、Ｘが酸素原子
   のとき、Ｚと共同してもう１つの結合を表す］で示され
   る新規シクロデセン誘導体。
2. （２）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒは請求項１と同義である］で示される化合物
   の１０−位を水酸化した後、水酸基の保護を行ない、次
   式： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ［式中、Ｒは前記と同義であり、Ｚ′はＲと同義である
   ］で示される化合物を得、次いで、１−位のカルボニル
   基をオレフィン化して、次式：▲数式、化学式、表等が
   あります▼（ I −１） で示される化合物とし、要すれば、さらに１０−位を加
   水分解により、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −２） で示される化合物に変換し、さらに、１０−位を酸化に
   より、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −３） で示される化合物に変換し、またはさらに、１−位をエ
   ポキシ化により、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −４） で示される化合物に変換することを特徴とする請求項１
   の新規シクロデセン誘導体の製造法。