JP3070141B2 - 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 - Google Patents
光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルケニルエチレング
リコール類を立体選択的に酸化することを特徴とする光
学活性化合物の製造方法、及びその製造方法によって好
適に製造され生理活性化合物の出発物質として有用な光
学活性化合物に関するものである。
リコール類を立体選択的に酸化することを特徴とする光
学活性化合物の製造方法、及びその製造方法によって好
適に製造され生理活性化合物の出発物質として有用な光
学活性化合物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に生理活性化合物が不斉炭素を有し
ている場合、複数の立体異性体が存在するが、通常有利
な特性を示すのはそのうち1つであり、ラセミ体あるい
は低い光学純度であるものを用いた場合、目的物が十分
な生理活性を発現しないことは明らかである。そのた
め、出発物質として供される化合物も十分な光学純度を
有していることが望ましい。
ている場合、複数の立体異性体が存在するが、通常有利
な特性を示すのはそのうち1つであり、ラセミ体あるい
は低い光学純度であるものを用いた場合、目的物が十分
な生理活性を発現しないことは明らかである。そのた
め、出発物質として供される化合物も十分な光学純度を
有していることが望ましい。
【0003】本発明の方法によって製造されるような光
学活性化合物は、3不斉点の立体配置が完全に制御され
ており、各種有用生理活性化合物の合成原料として有用
であると考えられるが、その構造の複雑さから、効率的
な合成方法は現在まで全く知られていない。例えば、
学活性化合物は、3不斉点の立体配置が完全に制御され
ており、各種有用生理活性化合物の合成原料として有用
であると考えられるが、その構造の複雑さから、効率的
な合成方法は現在まで全く知られていない。例えば、
【0004】
【化9】
【0005】(E. J. Corey et al., J. Am. Chem. So
c., 102 (27), 7984 (1980))あるいは、
c., 102 (27), 7984 (1980))あるいは、
【0006】
【化10】
【0007】(J. Rokach et al., Prostaglandins, 1,
65 (1981))はロイコトリエン類の合成中間体として知ら
れているが、糖類の1つマンノースから多段階の工程を
経て合成する方法のみが記載されているだけで、効率的
な製造方法は知られていない。
65 (1981))はロイコトリエン類の合成中間体として知ら
れているが、糖類の1つマンノースから多段階の工程を
経て合成する方法のみが記載されているだけで、効率的
な製造方法は知られていない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、生理
活性化合物の出発物質として有用な光学活性化合物を光
学純度よく、かつ効率よく提供することである。本発明
者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行った結
果、特定のアルケニルエチレングリコール類を出発原料
に用い、酸化反応を行うことにより、特定の光学活性化
合物が光学純度よくかつ収率よく得られることを見出し
本発明を完成するに至った。
活性化合物の出発物質として有用な光学活性化合物を光
学純度よく、かつ効率よく提供することである。本発明
者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行った結
果、特定のアルケニルエチレングリコール類を出発原料
に用い、酸化反応を行うことにより、特定の光学活性化
合物が光学純度よくかつ収率よく得られることを見出し
本発明を完成するに至った。
【0009】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、一般式
【0010】
【化11】
【0011】(但し上式に於いてRは炭素数40以下の炭
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。)で表されるアルケニルエチレングリコール類
に0.5ないし2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシ
ド、過酸化物、L−(+)−あるいはD−(−)−酒石
酸ジアルキルを−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を
行うことを特徴とする一般式
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。)で表されるアルケニルエチレングリコール類
に0.5ないし2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシ
ド、過酸化物、L−(+)−あるいはD−(−)−酒石
酸ジアルキルを−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を
行うことを特徴とする一般式
【0012】
【化12】
【0013】(但し上式に於いてRは炭素数40以下の炭
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。)で表される光学活性アルケニルエチレングリ
コール類の製造方法である。この製造方法に於いてチタ
ニウムテトラアルコキシドとして、チタニウムテトライ
ソプロポキシドを好ましく用いることができる。
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。)で表される光学活性アルケニルエチレングリ
コール類の製造方法である。この製造方法に於いてチタ
ニウムテトラアルコキシドとして、チタニウムテトライ
ソプロポキシドを好ましく用いることができる。
【0014】更に過酸化物としてt−ブチルハイドロパ
ーオキサイドを好ましく用いることができる。また、酒
石酸ジアルキルとして酒石酸ジイソプロピルを好ましく
用いることができる。更に本発明は、
ーオキサイドを好ましく用いることができる。また、酒
石酸ジアルキルとして酒石酸ジイソプロピルを好ましく
用いることができる。更に本発明は、
【0015】
【化13】
【0016】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【0017】
【化14】
【0018】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【0019】
【化15】
【0020】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【0021】
【化16】
【0022】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【0023】
【化17】
【0024】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【0025】
【化18】
【0026】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。次に本発明について更に詳細に説明す
る。本発明の製造方法は次のような工程を経る。即ち、
(1)式で表されるアルケニルエチレングリコール類に
0.5 ないし2.0当量、好ましくは、1.0 ないし2.0 当量
のテトラアルキルオキシチタン、過酸化物、L−(+)
−あるいはD−(−)−酒石酸ジアルキルを、脱水条件
下、−78℃ないし50℃、好ましくは−20℃で作用させ不
斉酸化を行うことにより、(2)式で示される光学活性
化合物が製造される。1.0 当量未満では、化学収量が低
下し、2.0 当量を超えると、反応終了後過剰のテトラア
ルキルオキシチタン、過酸化物を除去する操作が繁雑に
なるので好ましくない。また、温度が低すぎると反応が
進み難く、高すぎると立体選択性が低下するので好まし
くない。
リコールである。次に本発明について更に詳細に説明す
る。本発明の製造方法は次のような工程を経る。即ち、
(1)式で表されるアルケニルエチレングリコール類に
0.5 ないし2.0当量、好ましくは、1.0 ないし2.0 当量
のテトラアルキルオキシチタン、過酸化物、L−(+)
−あるいはD−(−)−酒石酸ジアルキルを、脱水条件
下、−78℃ないし50℃、好ましくは−20℃で作用させ不
斉酸化を行うことにより、(2)式で示される光学活性
化合物が製造される。1.0 当量未満では、化学収量が低
下し、2.0 当量を超えると、反応終了後過剰のテトラア
ルキルオキシチタン、過酸化物を除去する操作が繁雑に
なるので好ましくない。また、温度が低すぎると反応が
進み難く、高すぎると立体選択性が低下するので好まし
くない。
【0027】ここで用いられるチタニウムテトラアルコ
キシド、過酸化物、L−(+)−あるいはD−(−)−
酒石酸ジアルキルとしては、工業的に入手容易なチタニ
ウムテトライソプロポキシド、t−ブチルハイドロパー
オキサイド(以下、TBHPと略す)、L−(+)−あ
るいはD−(−)−酒石酸ジイソプロピル(以下、L−
(+)−あるいはD−(−)−DIPTと略す)を用い
て何ら問題はない。
キシド、過酸化物、L−(+)−あるいはD−(−)−
酒石酸ジアルキルとしては、工業的に入手容易なチタニ
ウムテトライソプロポキシド、t−ブチルハイドロパー
オキサイド(以下、TBHPと略す)、L−(+)−あ
るいはD−(−)−酒石酸ジイソプロピル(以下、L−
(+)−あるいはD−(−)−DIPTと略す)を用い
て何ら問題はない。
【0028】また反応系からの脱水は、モレキュラーシ
ーブスを用いて十分効率的に行われるが、脱水能力のあ
る脱水剤であれば、どの様な種類の脱水剤を用いても構
わない。更に、反応溶媒としては非水系溶媒であれば、
どの様な種類のものを用いても構わないが、特にジクロ
ロメタンが好適である。
ーブスを用いて十分効率的に行われるが、脱水能力のあ
る脱水剤であれば、どの様な種類の脱水剤を用いても構
わない。更に、反応溶媒としては非水系溶媒であれば、
どの様な種類のものを用いても構わないが、特にジクロ
ロメタンが好適である。
【0029】
【化19】
【0030】(上記式中、Rは前記と同一である。) また、出発物質として(1)式で示されるアルケニルエ
チレングリコール類のうち(1') 式で示される化合物を
用いた場合、L−(+)−DIPTを用いることによっ
て(2') 式で示される化合物が、(1") 式で示される化
合物を用いた場合、D−(−)−DIPTを用いること
によって(2") 式で示される化合物が得られる。
チレングリコール類のうち(1') 式で示される化合物を
用いた場合、L−(+)−DIPTを用いることによっ
て(2') 式で示される化合物が、(1") 式で示される化
合物を用いた場合、D−(−)−DIPTを用いること
によって(2") 式で示される化合物が得られる。
【0031】
【化20】
【0032】(上記式中、Rは前記と同一である。) また、(1)式で示される出発物質アルケニルエチレン
グリコール類は、工業的に入手容易で安価なイソプロピ
リデングリセロール(11)またはエピクロロヒドリン
(12)から容易に誘導されるアリルアルコール(13)を
原料に用いることによって上記のように容易に製造でき
る。即ち、(13)式で示されるアリルアルコールをピリ
ジンの存在下、メタンスルホニルクロリドによりクロル
化することにより(14)式で示される化合物を製造し、
これにヨウ化銅の存在下、グリニヤル試薬を作用させる
ことによって(1')式で示される化合物が製造される。
グリコール類は、工業的に入手容易で安価なイソプロピ
リデングリセロール(11)またはエピクロロヒドリン
(12)から容易に誘導されるアリルアルコール(13)を
原料に用いることによって上記のように容易に製造でき
る。即ち、(13)式で示されるアリルアルコールをピリ
ジンの存在下、メタンスルホニルクロリドによりクロル
化することにより(14)式で示される化合物を製造し、
これにヨウ化銅の存在下、グリニヤル試薬を作用させる
ことによって(1')式で示される化合物が製造される。
【0033】また(13)式で示されるアリルアルコール
をピリジン、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)
の存在下、無水酢酸によりアセチル化することにより
(15)式で示される化合物を製造し、これにヨウ化銅の
存在下、リチウム試薬を作用させることによって(1')
式で示される化合物が製造される。
をピリジン、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)
の存在下、無水酢酸によりアセチル化することにより
(15)式で示される化合物を製造し、これにヨウ化銅の
存在下、リチウム試薬を作用させることによって(1')
式で示される化合物が製造される。
【0034】
【化21】
【0035】(上記式中、R'、R"、R"' は同一または異
なるアルキル基を表す) 。更に、(13)式で示されるア
リルアルコールにハロゲン化物を作用させてエーテル化
して(16)式で示される化合物を得る。これを酸で処理
すると(1'a)式で示される酸素原子を含む化合物が得ら
れる。また、(14)式で示される化合物をアミド化する
ことによって(17)式で示される化合物を得、これを脱
アセトニド化して(1'b)式で示される窒素原子を含む化
合物が製造される。
なるアルキル基を表す) 。更に、(13)式で示されるア
リルアルコールにハロゲン化物を作用させてエーテル化
して(16)式で示される化合物を得る。これを酸で処理
すると(1'a)式で示される酸素原子を含む化合物が得ら
れる。また、(14)式で示される化合物をアミド化する
ことによって(17)式で示される化合物を得、これを脱
アセトニド化して(1'b)式で示される窒素原子を含む化
合物が製造される。
【0036】出発物質に(11) 式、(12)式で示される
化合物と立体配置が逆の化合物を用いることによって、
(1') 式、(1'a)式、(1'b)式で示される化合物と立体
配置が逆である化合物を得ることができる。本発明の製
造方法は各種のアルケニルエチレングリコール類に適用
されるが、いずれも高い光学収率、光学純度で対応する
(2)式で示される光学活性エポキシド類を与える。表
1にその一例を示す。
化合物と立体配置が逆の化合物を用いることによって、
(1') 式、(1'a)式、(1'b)式で示される化合物と立体
配置が逆である化合物を得ることができる。本発明の製
造方法は各種のアルケニルエチレングリコール類に適用
されるが、いずれも高い光学収率、光学純度で対応する
(2)式で示される光学活性エポキシド類を与える。表
1にその一例を示す。
【0037】
【表1】
【0038】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。
する。
【0039】
【化22】
【0040】本発明の製造方法によって得られた(2')
式で示される光学活性化合物の光学純度は、これを過ヨ
ウ素酸分解、ついで水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことによって得られた(18)式で示されるエポキシアル
コールの比旋光度を、光学純度既知の文献値と比較する
ことによって算出した。 実施例1
式で示される光学活性化合物の光学純度は、これを過ヨ
ウ素酸分解、ついで水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことによって得られた(18)式で示されるエポキシアル
コールの比旋光度を、光学純度既知の文献値と比較する
ことによって算出した。 実施例1
【0041】
【化23】
【0042】(3)式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRがベンジルオキシ基である化合物)
の製造。 (第一段)水素化ナトリウム1.08g (22.4mmol)のDMF
20ml懸濁液に、氷冷下、(13)式で示されるアリルアルコ
ールのDMF3ml溶液を滴下した。30分後、ベンジルブ
ロマイド2.6ml (21.5mmol)を滴下し、更に8時間攪拌し
た。水を加えてジエチルエーテルにより抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(16a) 式で示されるベンジルエーテ
ル3.28g (70 %)を得た。
((2)式に於いてRがベンジルオキシ基である化合物)
の製造。 (第一段)水素化ナトリウム1.08g (22.4mmol)のDMF
20ml懸濁液に、氷冷下、(13)式で示されるアリルアルコ
ールのDMF3ml溶液を滴下した。30分後、ベンジルブ
ロマイド2.6ml (21.5mmol)を滴下し、更に8時間攪拌し
た。水を加えてジエチルエーテルにより抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(16a) 式で示されるベンジルエーテ
ル3.28g (70 %)を得た。
【0043】〔α〕D 28 +24.4°(c 2.02, CHCl3) IR (neat) : 1454, 1371, 1061cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 6.10-5.50(m, 2H), 4.52(s,
2H),4.65-4.40(m, 1H), 4.20-3.95(m, 3H), 3.60(t, 1
H, J=7.8Hz),1.43(s, 3H), 1.40(s, 3H) MS m/e : 247, 91。
2H),4.65-4.40(m, 1H), 4.20-3.95(m, 3H), 3.60(t, 1
H, J=7.8Hz),1.43(s, 3H), 1.40(s, 3H) MS m/e : 247, 91。
【0044】(第二段)(第一段)で得た(16a)式で示
されるベンジルエーテルを 3.2g (12.8mmol)、5%塩酸
を5ml、メタノールを15ml用意して、これらの混合溶液
を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナトリウムで中和し
たのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、(1a) 式で示される4,5−ジヒドロキシ−2−ペ
ンテニルベンジルエーテル2.55g (96 %)を得た。
されるベンジルエーテルを 3.2g (12.8mmol)、5%塩酸
を5ml、メタノールを15ml用意して、これらの混合溶液
を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナトリウムで中和し
たのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、(1a) 式で示される4,5−ジヒドロキシ−2−ペ
ンテニルベンジルエーテル2.55g (96 %)を得た。
【0045】〔α〕D 27 + 4.4°(c 1.34, CHCl3) IR (neat) : 3370, 1451, 1067cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 6.10-5.60(m, 2H), 4.52(s,
2H),4.35-4.10(m, 1H), 4.00(brs, 2H,J=4Hz), 3.70-
3.30(m, 2H),2.65(brs, 2H) MS m/e : 208, 91。
2H),4.35-4.10(m, 1H), 4.00(brs, 2H,J=4Hz), 3.70-
3.30(m, 2H),2.65(brs, 2H) MS m/e : 208, 91。
【0046】(第三段)粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス4A(MS−4A)1gをジクロロメタン20mlに懸
濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプロ
ポキシド0.75ml(2.52mmol)、L−(+)−DIPT 675
mg (2.88mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30
分攪拌した。(第二段)で得た(1a) 式で示される4,
5−ジヒドロキシ−2−ペンテニルベンジルエーテル50
0mg (2.4mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間
攪拌したのち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 1.5
ml(2.64mmol) を滴下し−20℃で80時間攪拌した。水5m
l、アセトン25mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過
したのち、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し(3)式で示される光学活性エポキシド495mg
(92 %)を得た。
ブス4A(MS−4A)1gをジクロロメタン20mlに懸
濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプロ
ポキシド0.75ml(2.52mmol)、L−(+)−DIPT 675
mg (2.88mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30
分攪拌した。(第二段)で得た(1a) 式で示される4,
5−ジヒドロキシ−2−ペンテニルベンジルエーテル50
0mg (2.4mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間
攪拌したのち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 1.5
ml(2.64mmol) を滴下し−20℃で80時間攪拌した。水5m
l、アセトン25mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過
したのち、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し(3)式で示される光学活性エポキシド495mg
(92 %)を得た。
【0047】〔α〕D 26 −11.0°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3400cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 4.56(s, 2H), 3.80-3.35(m,
5H),3.20(m, 1H), 3.05(brm, 1H), 2.80(brs, 1H),2.5
0(brs, 1H) MS m/e : 224, 107 。
5H),3.20(m, 1H), 3.05(brm, 1H), 2.80(brs, 1H),2.5
0(brs, 1H) MS m/e : 224, 107 。
【0048】(第四段)(第三段)で得た(3)式の光
学活性エポキシドを 100mg(0.45mmol)、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を1ml、水を1ml、メタノールを2ml用
意して、これらの混合液に氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウ
ム 210mg (0.98mmol) を加え、3時間攪拌したのち、水
素化ホウ素ナトリウム 37mg(0.98mmol) を加え、30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18a) 式で
示される化合物 58mg(67%)を得た。また、文献値の比
旋光度との比較から約89%eeであることが判った。
学活性エポキシドを 100mg(0.45mmol)、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を1ml、水を1ml、メタノールを2ml用
意して、これらの混合液に氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウ
ム 210mg (0.98mmol) を加え、3時間攪拌したのち、水
素化ホウ素ナトリウム 37mg(0.98mmol) を加え、30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18a) 式で
示される化合物 58mg(67%)を得た。また、文献値の比
旋光度との比較から約89%eeであることが判った。
【0049】〔α〕D 26 −18.6°(c 1.16, CHCl3) (文献値、〔α〕D 25 −21°(c 0.97, CHCl3) P.
Ma et al., J. Org.Chem.,47, 1378(1982)) 。 実施例2
Ma et al., J. Org.Chem.,47, 1378(1982)) 。 実施例2
【0050】
【化24】
【0051】(4) 式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRがN−ベンジル−p−トルエンスル
ホンアミド基である化合物)の製造。 (第一段)(13)式で示されるアリルアルコールを 3.0g
(19mmol)、ピリジンを 2.3ml(28.5mmol)、ジクロロメタ
ンを40ml用意し、これらの混合物にメタンスルホニルク
ロリドを 1.8ml(22.8mmol)滴下し、室温で48時間攪拌し
た。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(14)式で示され
る塩化物 1.95g(58%)を得た。
((2)式に於いてRがN−ベンジル−p−トルエンスル
ホンアミド基である化合物)の製造。 (第一段)(13)式で示されるアリルアルコールを 3.0g
(19mmol)、ピリジンを 2.3ml(28.5mmol)、ジクロロメタ
ンを40ml用意し、これらの混合物にメタンスルホニルク
ロリドを 1.8ml(22.8mmol)滴下し、室温で48時間攪拌し
た。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(14)式で示され
る塩化物 1.95g(58%)を得た。
【0052】1H-NMR δ: 6.15-5.60(m, 2H), 4.65-4.4
0(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.3, 8.3Hz), 4.05(d, 2H, J
=5.4Hz),3.60(dd, 1H, J=6.9, 6.3Hz), 1.68(s, 3H),
1.40(s, 3H) MS m/e : 177, 161, 43 。 (第二段)(第一段)で得た(14)式で示される塩化物 5
00mg (2.8mmol)、ベンジルアミン1.2ml(11.2mmol) のト
ルエン5ml溶液を48時間80℃で攪拌した。減圧下、溶媒
を留去し、残渣にトリエチルアミン 1.2ml(8.4mmol) 、
ジクロロメタン20ml、p−トルエンスルホニルクロリド
1.33g(6.0mmol) を、氷冷下、順次加え室温で10時間攪
拌した。水、ジクロロメタンを加え攪拌したのち、有機
層を水洗し無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
溶媒を留去し粗製のスルホンアミド2.12g を得た。この
スルホンアミド 2.12g、5%塩酸3ml、メタノール10ml
の混合液を室温で5時間攪拌したのち、炭酸水素ナトリ
ウムを加え中和した。反応液をジクロロメタンで抽出し
たのち、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し(1b) 式で示されるN−ベンジル−p−トルエンスル
ホンアミド化合物822mg(78%)を得た。
0(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.3, 8.3Hz), 4.05(d, 2H, J
=5.4Hz),3.60(dd, 1H, J=6.9, 6.3Hz), 1.68(s, 3H),
1.40(s, 3H) MS m/e : 177, 161, 43 。 (第二段)(第一段)で得た(14)式で示される塩化物 5
00mg (2.8mmol)、ベンジルアミン1.2ml(11.2mmol) のト
ルエン5ml溶液を48時間80℃で攪拌した。減圧下、溶媒
を留去し、残渣にトリエチルアミン 1.2ml(8.4mmol) 、
ジクロロメタン20ml、p−トルエンスルホニルクロリド
1.33g(6.0mmol) を、氷冷下、順次加え室温で10時間攪
拌した。水、ジクロロメタンを加え攪拌したのち、有機
層を水洗し無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
溶媒を留去し粗製のスルホンアミド2.12g を得た。この
スルホンアミド 2.12g、5%塩酸3ml、メタノール10ml
の混合液を室温で5時間攪拌したのち、炭酸水素ナトリ
ウムを加え中和した。反応液をジクロロメタンで抽出し
たのち、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し(1b) 式で示されるN−ベンジル−p−トルエンスル
ホンアミド化合物822mg(78%)を得た。
【0053】〔α〕D 27 + 3.4°(c 1.07, CHCl3) IR (neat) : 3400cm-1 1 H-NMR δ: 7.80-7.60(brd, 2H, J=8.2Hz), 7.5-7.20
(brm, 7H),6.10-5.60(m, 2H), 4.35(brs, 2H), 3.90-2.
90(m, 7H),2.45(brs, 3H) MS m/e : 343, 91。
(brm, 7H),6.10-5.60(m, 2H), 4.35(brs, 2H), 3.90-2.
90(m, 7H),2.45(brs, 3H) MS m/e : 343, 91。
【0054】(第三段)粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス4A(MS−4A)400mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプ
ロポキシチタン0.23ml(0.76mmol)、L−(+)−DIP
T 205mg(0.86mmol)のジクロロメタン3mlの溶液を加
え、30分攪拌した。(第二段)で得た(1b) 式で示され
るN−ベンジル−p−トルエンスルホンアミド化合物26
0mg(0.72mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間
攪拌したのち1.8M−TBHPジクロロメタン溶液0.6ml
(1.08mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水3m
l、アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過し
たのち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し(4) 式で示される光学活性エポキシド210mg (77
%)を得た。
ブス4A(MS−4A)400mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプ
ロポキシチタン0.23ml(0.76mmol)、L−(+)−DIP
T 205mg(0.86mmol)のジクロロメタン3mlの溶液を加
え、30分攪拌した。(第二段)で得た(1b) 式で示され
るN−ベンジル−p−トルエンスルホンアミド化合物26
0mg(0.72mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間
攪拌したのち1.8M−TBHPジクロロメタン溶液0.6ml
(1.08mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水3m
l、アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過し
たのち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し(4) 式で示される光学活性エポキシド210mg (77
%)を得た。
【0055】〔α〕D 28 −22.6°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3420, 1340, 1155cm-1 1 H-NMR δ: 7.70(brd, 2H, J=8.2Hz), 7.50-7.20(brm,
7H),4.35(brs, 2H), 3.70-3.50(brm, 2H), 3.50-3.20
(m, 1H),3.20-3.00(m, 2H), 3.00-2.80(m, 1H), 2.70-
2.30(m, 3H),2.44(brs,3H) MS m/e : 378, 346, 222, 91。
7H),4.35(brs, 2H), 3.70-3.50(brm, 2H), 3.50-3.20
(m, 1H),3.20-3.00(m, 2H), 3.00-2.80(m, 1H), 2.70-
2.30(m, 3H),2.44(brs,3H) MS m/e : 378, 346, 222, 91。
【0056】(第四段)(第三段)で得た(4) 式で示
される光学活性エポキシド 165mg(0.44mmol)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール2mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 224mg (1.06
mmol) を加え3時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 40mg(1.06mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーに付し、(18b) 式で示されるヒドロキシ
エポキシド135mg(88%)を得た。また、文献値の旋光度
との比較から(4) 式で示される光学活性エポキシドが
約99%eeであると判った。
される光学活性エポキシド 165mg(0.44mmol)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール2mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 224mg (1.06
mmol) を加え3時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 40mg(1.06mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーに付し、(18b) 式で示されるヒドロキシ
エポキシド135mg(88%)を得た。また、文献値の旋光度
との比較から(4) 式で示される光学活性エポキシドが
約99%eeであると判った。
【0057】〔α〕D 27 −19.9°(c 1.96, CHCl3) (文献値、対掌体〔α〕D 20 +20.0°(c 1.84, CHC
l3) C. E. Adams et al., J. Org. Chem., 50, 420(198
5))。 実施例3
l3) C. E. Adams et al., J. Org. Chem., 50, 420(198
5))。 実施例3
【0058】
【化25】
【0059】(5) 式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRがブチル基である化合物)の製造。 (第一段)(13)式で示されるアリルアルコール 700mg
(4.4mmol)、ピリジン 0.8ml(9.86mmol)、4−DMAP
109mg(0.88mmol)、ジクロロメタン20mlの混合物に、氷
冷下無水酢酸0.84ml(8.9mmol) を滴下し室温で3時間攪
拌した。反応液をジクロロメタンにより抽出し、有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーに付し、(15)式で示され
るアリルアセテート 660mg(75%)を得た。
((2)式に於いてRがブチル基である化合物)の製造。 (第一段)(13)式で示されるアリルアルコール 700mg
(4.4mmol)、ピリジン 0.8ml(9.86mmol)、4−DMAP
109mg(0.88mmol)、ジクロロメタン20mlの混合物に、氷
冷下無水酢酸0.84ml(8.9mmol) を滴下し室温で3時間攪
拌した。反応液をジクロロメタンにより抽出し、有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーに付し、(15)式で示され
るアリルアセテート 660mg(75%)を得た。
【0060】IR (neat) : 1741, 1372cm-1 1 H-NMR δ: 6.10-5.50(m, 2H), 4.55(d, 2H, J=4.4H
z), 4.60-4.40(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.1, 8.0Hz),
3.65(t, 1H, J=8.2Hz),2.07(s, 3H), 1.43(s, 3H), 1.4
0(s, 3H) MS m/e : 201, 185, 43 。
z), 4.60-4.40(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.1, 8.0Hz),
3.65(t, 1H, J=8.2Hz),2.07(s, 3H), 1.43(s, 3H), 1.4
0(s, 3H) MS m/e : 201, 185, 43 。
【0061】(第二段)ヨウ化銅 726mg (3.81mmol) の
ジエチルエーテル25ml溶液に、−30℃で1.6M−ブチルリ
チウムヘキサン溶液4.8ml(7.62mmol) を滴下し、0℃で
15分攪拌した。−30℃に冷却し、(第一段)で得た(15)
式で示されるアリルアセテート 635mg (3.18mmol) のT
HF3ml溶液を滴下し、1時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え室温に戻し、ジエチルエーテルで
抽出し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し残渣として粗製のアセトニド
680mg を得た。粗製のアセトニド 300mg(1.51mmol)、5
%塩酸2ml、メタノール5mlの混合物を室温で3時間攪
拌した。炭酸水素ナトリウムで中和したのち、減圧下濃
縮し、残渣をジクロロメタンに溶解した。無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(1c) 式で示
される1,2−ジヒドロキシ−3−ノネン156g (66%)
を得た。
ジエチルエーテル25ml溶液に、−30℃で1.6M−ブチルリ
チウムヘキサン溶液4.8ml(7.62mmol) を滴下し、0℃で
15分攪拌した。−30℃に冷却し、(第一段)で得た(15)
式で示されるアリルアセテート 635mg (3.18mmol) のT
HF3ml溶液を滴下し、1時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え室温に戻し、ジエチルエーテルで
抽出し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し残渣として粗製のアセトニド
680mg を得た。粗製のアセトニド 300mg(1.51mmol)、5
%塩酸2ml、メタノール5mlの混合物を室温で3時間攪
拌した。炭酸水素ナトリウムで中和したのち、減圧下濃
縮し、残渣をジクロロメタンに溶解した。無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(1c) 式で示
される1,2−ジヒドロキシ−3−ノネン156g (66%)
を得た。
【0062】〔α〕D 28 +17.1°(c 1.03, CHCl3) IR (neat) : 3360, 1074cm-1 1 H-NMR δ: 5.80(td, 1H, J=5.3,16.0Hz),5.45(dd, 1
H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.00(brm, 1H),3.70-3.30(m,
2H), 2.45(brs, 2H), 2.00(brt, 2H, J=5.5Hz),1.50-
1.00(brs, 6H), 0.80(t, J=7.3Hz) MS m/e : 158, 127, 57 。
H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.00(brm, 1H),3.70-3.30(m,
2H), 2.45(brs, 2H), 2.00(brt, 2H, J=5.5Hz),1.50-
1.00(brs, 6H), 0.80(t, J=7.3Hz) MS m/e : 158, 127, 57 。
【0063】(第三段)粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス4A(MS−4A)600mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.20mmol)、L−(+)−DIPT 395
mg(1.68mmol)のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30分
攪拌した。(第二段)で得た(1c) 式で示される1,2
−ジヒドロキシ−3−ノネン180mg(1.14mmol) のジクロ
ロメタン3ml溶液を加え、1時間攪拌したのち、1.8M−
TBHPジクロロメタン溶液 0.76ml(1.68mmol) を滴下
し−20℃で72時間攪拌した。水2ml、アセトン10mlを加
え室温で攪拌し、セライト濾過したのち、濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(5) 式で示さ
れる光学活性エポキシド145mg (73 %)を得た。
ブス4A(MS−4A)600mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.20mmol)、L−(+)−DIPT 395
mg(1.68mmol)のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30分
攪拌した。(第二段)で得た(1c) 式で示される1,2
−ジヒドロキシ−3−ノネン180mg(1.14mmol) のジクロ
ロメタン3ml溶液を加え、1時間攪拌したのち、1.8M−
TBHPジクロロメタン溶液 0.76ml(1.68mmol) を滴下
し−20℃で72時間攪拌した。水2ml、アセトン10mlを加
え室温で攪拌し、セライト濾過したのち、濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(5) 式で示さ
れる光学活性エポキシド145mg (73 %)を得た。
【0064】〔α〕D 27 −19.2°(c 1.02, CHCl3) IR (neat) : 3350cm-1 1 H-NMR δ: 3.70(brs, 3H), 3.20-2.65(m, 4H), 1.70-
1.00(m, 8H),0.80(t, 3H, J=7.5Hz) MS m/e : 175, 143, 55 。
1.00(m, 8H),0.80(t, 3H, J=7.5Hz) MS m/e : 175, 143, 55 。
【0065】(第四段)(第三段)で得た(5) 式で示
される光学活性エポキシド100mg(0.57mmol) 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール2mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 292mg(1.36m
mol)を加え、3時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 73mg(1.84mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、1−ヒドロキシ−2,3−エポキ
シオクテン(18c) 70mg (82%)を得た。また、文献値の
旋光度との比較から(5)式で示される光学活性エポキ
シドが約85%eeであることが判った。
される光学活性エポキシド100mg(0.57mmol) 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール2mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 292mg(1.36m
mol)を加え、3時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 73mg(1.84mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、1−ヒドロキシ−2,3−エポキ
シオクテン(18c) 70mg (82%)を得た。また、文献値の
旋光度との比較から(5)式で示される光学活性エポキ
シドが約85%eeであることが判った。
【0066】〔α〕D 27 −37.9°(c 1.14, CHCl3) (文献値、〔α〕D −44.4°(c 0.49, CHCl3) S. Tak
ana et al., J. Chem.Soc, Chem. Commun., 1344(198
9))。 実施例4
ana et al., J. Chem.Soc, Chem. Commun., 1344(198
9))。 実施例4
【0067】
【化26】
【0068】(6) 式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRがフェニル基である化合物)の製
造。 (第一段)ヨウ化銅 3.03g (15.9mmol) のジエチルエー
テル35ml溶液に、−30℃で2.0M−フェニルリチウムヘキ
サン溶液16ml(31.8mmol)を滴下し、0℃で15分攪拌し
た。−30℃に冷却し、実施例3(第一段)で得たアリル
アセテート(15) 635mg (3.18mmol) のTHF3ml溶液を
滴下し1時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣として粗製のアセトニド1.05g を得
た。粗製のアセトニド 830mg、5%塩酸2ml、メタノー
ル5mlの混合物を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナト
リウムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロ
メタンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(1d)式で示される1−フェニル−
4,5−ジヒドロキシ−2−ペンテン 335mg (74%)を
得た。
((2)式に於いてRがフェニル基である化合物)の製
造。 (第一段)ヨウ化銅 3.03g (15.9mmol) のジエチルエー
テル35ml溶液に、−30℃で2.0M−フェニルリチウムヘキ
サン溶液16ml(31.8mmol)を滴下し、0℃で15分攪拌し
た。−30℃に冷却し、実施例3(第一段)で得たアリル
アセテート(15) 635mg (3.18mmol) のTHF3ml溶液を
滴下し1時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣として粗製のアセトニド1.05g を得
た。粗製のアセトニド 830mg、5%塩酸2ml、メタノー
ル5mlの混合物を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナト
リウムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロ
メタンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(1d)式で示される1−フェニル−
4,5−ジヒドロキシ−2−ペンテン 335mg (74%)を
得た。
【0069】〔α〕D 27 + 9.9°(c 1.03, CHCl3) IR (neat) : 3360cm-1 1 H-NMR δ: 7.40-7.10(m, 5H), 5.95(td, 1H, J=5.3,
16.0Hz),5.50(dd, 1H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.05(m,
1H),3.80-3.30(m, 2H), 3.45(d, 2H, J=6.6Hz), 2.20-
1.80(m, 2H) MS m/e : 178, 147, 129。
16.0Hz),5.50(dd, 1H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.05(m,
1H),3.80-3.30(m, 2H), 3.45(d, 2H, J=6.6Hz), 2.20-
1.80(m, 2H) MS m/e : 178, 147, 129。
【0070】(第二段)粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス4A(MS−4A)800mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.47mmol)、L−(+)−DIPT 395
mg (1.68mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30
分攪拌した。(第一段)で得た(1d) 式で示される1−
フェニル−4,5−ジヒドロキシ−2−ペンテン250mg
(1.4mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間攪拌
したのち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 1.2ml
(2.1mmol) を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水3ml、
アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過したの
ち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、(6) 式で示される1−フェニル−4,5−ジヒド
ロキシ−2,3−エポキシペンタン236mg (87 %)を得
た。
ブス4A(MS−4A)800mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.47mmol)、L−(+)−DIPT 395
mg (1.68mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え、30
分攪拌した。(第一段)で得た(1d) 式で示される1−
フェニル−4,5−ジヒドロキシ−2−ペンテン250mg
(1.4mmol) のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間攪拌
したのち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 1.2ml
(2.1mmol) を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水3ml、
アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過したの
ち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、(6) 式で示される1−フェニル−4,5−ジヒド
ロキシ−2,3−エポキシペンタン236mg (87 %)を得
た。
【0071】〔α〕D 27 −13.3°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3460, 1608cm-1 1 H-NMR δ: 7.40-7.10(m, 5H), 3.80-3.50(m, 3H), 3.
25-3.18(m, 1H),2.95-2.90(m, 1H), 2.90-2.85(m, 2H),
2.80(brs, 1H),2.50(brs, 1H) MS m/e : 194, 163 。
25-3.18(m, 1H),2.95-2.90(m, 1H), 2.90-2.85(m, 2H),
2.80(brs, 1H),2.50(brs, 1H) MS m/e : 194, 163 。
【0072】実施例5
【0073】
【化27】
【0074】(7) 式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRが1−ペンテニル基である化合物)
の製造。 (第一段)ヨウ化銅 600mg (3.15mmol) のTHF10ml溶
液に−30℃で1.32M −ペンテニルマグネシウムブロミド
THF溶液 4.8ml(6.3mmol) を滴下し、0℃で15分攪拌
した。−30℃に冷却し、実施例2(第一段)で得た塩化
物(14) 300mg(2.1mmol) のTHF3ml溶液を滴下し1時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温
に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し
残渣として粗製のアセトニド 344mg (78%)を得た。粗
製のアセトニド310mg 、5%塩酸3ml、メタノール5ml
の混合溶液を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナトリウ
ムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタ
ンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、(1e) 式で示される1,2−ジヒドロ
キシ−3,9−デカジエン230mg (92 %)を得た。
((2)式に於いてRが1−ペンテニル基である化合物)
の製造。 (第一段)ヨウ化銅 600mg (3.15mmol) のTHF10ml溶
液に−30℃で1.32M −ペンテニルマグネシウムブロミド
THF溶液 4.8ml(6.3mmol) を滴下し、0℃で15分攪拌
した。−30℃に冷却し、実施例2(第一段)で得た塩化
物(14) 300mg(2.1mmol) のTHF3ml溶液を滴下し1時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温
に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し
残渣として粗製のアセトニド 344mg (78%)を得た。粗
製のアセトニド310mg 、5%塩酸3ml、メタノール5ml
の混合溶液を室温で3時間攪拌した。炭酸水素ナトリウ
ムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタ
ンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、(1e) 式で示される1,2−ジヒドロ
キシ−3,9−デカジエン230mg (92 %)を得た。
【0075】〔α〕D 26 +15.4°(c 1.06, CHCl3) IR (neat) : 3340, 1640, 1075cm-1 1 H-NMR δ: 6.05-4.80(m, 5H), 4.30-4.00(m, 1H), 3.
75-3.30(m, 2H),2.31-1.80(brm, 6H), 1.50-1.30(brm,
4H) MS m/e : 169, 139, 57 。
75-3.30(m, 2H),2.31-1.80(brm, 6H), 1.50-1.30(brm,
4H) MS m/e : 169, 139, 57 。
【0076】(第二段)粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス4A(MS−4A)600mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.36ml(1.20mmol)、L−(+)−DIPT 320
mg (1.37mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え30分
攪拌した。(第一段)で得た(1e) 式で示される1,2
−ジヒドロキシ−3,9−デカジエン195mg(1.14mmol)
のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間攪拌したのち、
1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 0.96ml(1.72mmol)
を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水3ml、アセトン5
mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過したのち濃縮し
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(7)式で
示される1,2−ジヒドロキシ−3,4−エポキシ−9
−デセン116mg (56%)を得た。
ブス4A(MS−4A)600mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.36ml(1.20mmol)、L−(+)−DIPT 320
mg (1.37mmol) のジクロロメタン3mlの溶液を加え30分
攪拌した。(第一段)で得た(1e) 式で示される1,2
−ジヒドロキシ−3,9−デカジエン195mg(1.14mmol)
のジクロロメタン3ml溶液を加え1時間攪拌したのち、
1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 0.96ml(1.72mmol)
を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水3ml、アセトン5
mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過したのち濃縮し
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(7)式で
示される1,2−ジヒドロキシ−3,4−エポキシ−9
−デセン116mg (56%)を得た。
【0077】〔α〕D 26 +15.4°(c 1.06, CHCl3) IR (neat) : 3390, 1641cm-1 1 H-NMR δ: 6.10-5.50(m, 1H), 5.10-4.80(m, 2H), 3.
70-3.50(brs, 3H),3.40(brs, 1H), 3.15(brs, 1H), 3.0
0-2.70(m, 2H),2.20-1.90(brm, 2H), 1.70-1.15(brm, 6
H) MS m/e : 187, 95, 67。
70-3.50(brs, 3H),3.40(brs, 1H), 3.15(brs, 1H), 3.0
0-2.70(m, 2H),2.20-1.90(brm, 2H), 1.70-1.15(brm, 6
H) MS m/e : 187, 95, 67。
【0078】実施例6
【0079】
【化28】
【0080】(8) 式で示される光学活性エポキシド
((2)式に於いてRがテトラデシル基である化合物)の
製造。 (第一段)ヨウ化銅 791mg (4.15mmol) のTHF15ml溶
液に、−30℃で0.7M−テトラデシルマグネシウムブロミ
ドTHF溶液 11.9ml(8.31mmol) を滴下し、0℃で15分
攪拌した。−30℃に冷却し、実施例2(第一段)で得た
(14)式で示される塩化物400mg (2.77mmol)のTHF3
ml溶液を滴下し、1時間攪拌した。飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出
し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し(1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物
490g (88%)を得た。
((2)式に於いてRがテトラデシル基である化合物)の
製造。 (第一段)ヨウ化銅 791mg (4.15mmol) のTHF15ml溶
液に、−30℃で0.7M−テトラデシルマグネシウムブロミ
ドTHF溶液 11.9ml(8.31mmol) を滴下し、0℃で15分
攪拌した。−30℃に冷却し、実施例2(第一段)で得た
(14)式で示される塩化物400mg (2.77mmol)のTHF3
ml溶液を滴下し、1時間攪拌した。飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出
し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し(1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物
490g (88%)を得た。
【0081】〔α〕D 27 + 9.2°(c 1.03, CHCl3)1 H-NMR δ: 5.85(td, 1H, J=5.4, 16.0Hz), 5.45(dd,
1H, J=5.0, 16.0Hz),4.40-4.10(m, 1H), 3.85-3.30(m,
2H), 2.10-1.80(m, 4H),1.70-1.20(brm, 4H), 1.26(br
s, 22H),0.80(brt, 3H, J=7.3Hz), (第二段)粉砕乾燥したモレキュラーシーブス4A(M
S−4A)800mg のジクロロメタン30ml溶液に、−20℃
でチタニウムテトライソプロポキシド0.47ml(1.58mmo
l)、L−(+)−DIPT 408mg(1.73mmol)のジクロロ
メタン3mlの溶液を加え30分攪拌した。(第一段)で得
た(1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物330mg(1.44mm
ol) のジクロロメタン3ml溶液を加え、1時間攪拌した
のち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 0.96ml(1.73
mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水3ml、ア
セトン15mlを加え、室温で攪拌しセライト濾過したのち
濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
(8) 式で示されるジヒドロキシエポキシド223mg (63
%)を得た。
1H, J=5.0, 16.0Hz),4.40-4.10(m, 1H), 3.85-3.30(m,
2H), 2.10-1.80(m, 4H),1.70-1.20(brm, 4H), 1.26(br
s, 22H),0.80(brt, 3H, J=7.3Hz), (第二段)粉砕乾燥したモレキュラーシーブス4A(M
S−4A)800mg のジクロロメタン30ml溶液に、−20℃
でチタニウムテトライソプロポキシド0.47ml(1.58mmo
l)、L−(+)−DIPT 408mg(1.73mmol)のジクロロ
メタン3mlの溶液を加え30分攪拌した。(第一段)で得
た(1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物330mg(1.44mm
ol) のジクロロメタン3ml溶液を加え、1時間攪拌した
のち、1.8M−TBHPジクロロメタン溶液 0.96ml(1.73
mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水3ml、ア
セトン15mlを加え、室温で攪拌しセライト濾過したのち
濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
(8) 式で示されるジヒドロキシエポキシド223mg (63
%)を得た。
【0082】〔α〕D 28 −20.1°(c 0.98, CHCl3) IR (neat) : 3340cm-1 1 H-NMR δ: 3.70(brs, 3H), 3.20-2.65(brm, 5H), 1.7
0-1.20(brm, 4H),1.26(brs, 26Hz), 0.80(brt, 3H, J=
7.3Hz) MS m/e : 282, 267, 57 。
0-1.20(brm, 4H),1.26(brs, 26Hz), 0.80(brt, 3H, J=
7.3Hz) MS m/e : 282, 267, 57 。
【0083】(第三段)(第二段)で得た(8) 式で示
されるジヒドロキシエポキシド 140mg (0.57mmol) 、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール
2ml、THF2mlの混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナト
リウム 246mg (1.14mmol) を加え3時間攪拌したのち、
水素化ホウ素ナトリウム 65mg (1.71mmol)を加え30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18f) 式で
示されるヒドロキシエポキシド110mg (91 %)を得た。
1H-NMRの分析結果は文献値とよく一致した。また、文献
値の旋光度との比較から(18f) 式で示されるヒドロキシ
エポキシドがほぼ光学的に純粋であった。
されるジヒドロキシエポキシド 140mg (0.57mmol) 、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液1ml、水1ml、メタノール
2ml、THF2mlの混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナト
リウム 246mg (1.14mmol) を加え3時間攪拌したのち、
水素化ホウ素ナトリウム 65mg (1.71mmol)を加え30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18f) 式で
示されるヒドロキシエポキシド110mg (91 %)を得た。
1H-NMRの分析結果は文献値とよく一致した。また、文献
値の旋光度との比較から(18f) 式で示されるヒドロキシ
エポキシドがほぼ光学的に純粋であった。
【0084】〔α〕D 26 −22.5°(c 1.00, CHCl3) (文献値、対掌体〔α〕D 23 +22.5°(c 0.79, CHC
l3) W. R. Roush et al., J. Org. Chem., 50, 3752(1985))
。
l3) W. R. Roush et al., J. Org. Chem., 50, 3752(1985))
。
【0085】
【発明の効果】本発明の製造方法は、1段階の反応で3
点の不斉点の立体配置を完全に制御できる優れたキラル
エポキシド類の製造方法である。また、温和な条件下で
反応が行える上、化学収率、光学収率が極めて高い。更
に、基質特異性が低く、一例を表1に示したように、様
々な構造の基質を出発物質に用い対応するキラルエポキ
シド類を製造することができる。
点の不斉点の立体配置を完全に制御できる優れたキラル
エポキシド類の製造方法である。また、温和な条件下で
反応が行える上、化学収率、光学収率が極めて高い。更
に、基質特異性が低く、一例を表1に示したように、様
々な構造の基質を出発物質に用い対応するキラルエポキ
シド類を製造することができる。
【0086】また、本発明の製造方法によって効率的に
製造できる光学活性化合物は各種有用化合物の出発物質
として有用である。
製造できる光学活性化合物は各種有用化合物の出発物質
として有用である。
【0087】
【化29】
【0088】例えば、実施例1の化合物は2つの水酸基
を保護したのちエポキシドの開環、脱ベンジル化を行う
ことによって、(20)式で示される化合物に誘導される
が、このものは既知の反応によってD−アラビニトール
へ誘導される。(T. Katsukiet al., J. Org. Chem., 4
7, 1371(1982)) 。また(3) 式で示される化合物とは
立体配置の異なる化合物を用いることによって(21)式
で示される化合物の代わりに、対応する各種糖類、リビ
トール、キシリトールが製造できる。
を保護したのちエポキシドの開環、脱ベンジル化を行う
ことによって、(20)式で示される化合物に誘導される
が、このものは既知の反応によってD−アラビニトール
へ誘導される。(T. Katsukiet al., J. Org. Chem., 4
7, 1371(1982)) 。また(3) 式で示される化合物とは
立体配置の異なる化合物を用いることによって(21)式
で示される化合物の代わりに、対応する各種糖類、リビ
トール、キシリトールが製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭64−75478(JP,A) 特開 昭63−126885(JP,A) 特開 昭64−6266(JP,A) 米国特許4011943(US,A) Synlett.,No.8,p. 548−550(August 1991) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 303/00 - 303/14 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (10)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (但し上式に於いてRは炭素数40以下の炭化水素基を示
すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいてもよい。)で
表されるアルケニルエチレングリコール類に0.5ないし
2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシド、過酸化物、
L−(+)−あるいはD−(−)−酒石酸ジアルキルを
−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を行うことを特徴
とする一般式 【化2】 (但し上式に於いてRは上記と同じである。)で表され
る光学活性アルケニルエチレングリコール類の製造方
法。 - 【請求項2】 チタニウムテトラアルコキシドがチタニ
ウムテトライソプロポキシドである請求項1記載の製造
方法。 - 【請求項3】 過酸化物がt−ブチルハイドロパーオキ
サイドである請求項1記載の製造方法。 - 【請求項4】 酒石酸ジアルキルが酒石酸ジイソプロピ
ルである請求項1記載の製造方法。 - 【請求項5】 一般式 【化3】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項6】 一般式 【化4】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項7】 一般式 【化5】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項8】 一般式 【化6】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項9】 一般式 【化7】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項10】 一般式 【化8】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3142775A JP3070141B2 (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 |
DE69214717T DE69214717T2 (de) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optisch aktive Epoxide und Verfahren zu ihrer Herstellung |
EP92304527A EP0515142B1 (en) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
SG1996001548A SG50444A1 (en) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
US07/885,795 US5254704A (en) | 1991-05-20 | 1992-05-20 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
US08/063,416 US5310956A (en) | 1991-05-20 | 1993-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3142775A JP3070141B2 (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0597833A JPH0597833A (ja) | 1993-04-20 |
JP3070141B2 true JP3070141B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=15323305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3142775A Expired - Fee Related JP3070141B2 (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
US (2) | US5254704A (ja) |
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