JP3070141B2 - 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 - Google Patents
光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/36—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルケニルエチレング
リコール類を立体選択的に酸化することを特徴とする光
学活性化合物の製造方法、及びその製造方法によって好
適に製造され生理活性化合物の出発物質として有用な光
学活性化合物に関するものである。
リコール類を立体選択的に酸化することを特徴とする光
学活性化合物の製造方法、及びその製造方法によって好
適に製造され生理活性化合物の出発物質として有用な光
学活性化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に生理活性化合物が不斉炭素を有し
ている場合、複数の立体異性体が存在するが、通常有利
な特性を示すのはそのうち１つであり、ラセミ体あるい
は低い光学純度であるものを用いた場合、目的物が十分
な生理活性を発現しないことは明らかである。そのた
め、出発物質として供される化合物も十分な光学純度を
有していることが望ましい。
ている場合、複数の立体異性体が存在するが、通常有利
な特性を示すのはそのうち１つであり、ラセミ体あるい
は低い光学純度であるものを用いた場合、目的物が十分
な生理活性を発現しないことは明らかである。そのた
め、出発物質として供される化合物も十分な光学純度を
有していることが望ましい。
【０００３】本発明の方法によって製造されるような光
学活性化合物は、３不斉点の立体配置が完全に制御され
ており、各種有用生理活性化合物の合成原料として有用
であると考えられるが、その構造の複雑さから、効率的
な合成方法は現在まで全く知られていない。例えば、
学活性化合物は、３不斉点の立体配置が完全に制御され
ており、各種有用生理活性化合物の合成原料として有用
であると考えられるが、その構造の複雑さから、効率的
な合成方法は現在まで全く知られていない。例えば、
【０００４】
【化９】
【０００５】(E. J. Corey et al., J. Am. Chem. So
c., 102 (27), 7984 (1980))あるいは、
c., 102 (27), 7984 (1980))あるいは、
【０００６】
【化１０】
【０００７】(J. Rokach et al., Prostaglandins, 1,
65 (1981))はロイコトリエン類の合成中間体として知ら
れているが、糖類の１つマンノースから多段階の工程を
経て合成する方法のみが記載されているだけで、効率的
な製造方法は知られていない。
65 (1981))はロイコトリエン類の合成中間体として知ら
れているが、糖類の１つマンノースから多段階の工程を
経て合成する方法のみが記載されているだけで、効率的
な製造方法は知られていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、生理
活性化合物の出発物質として有用な光学活性化合物を光
学純度よく、かつ効率よく提供することである。本発明
者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行った結
果、特定のアルケニルエチレングリコール類を出発原料
に用い、酸化反応を行うことにより、特定の光学活性化
合物が光学純度よくかつ収率よく得られることを見出し
本発明を完成するに至った。
活性化合物の出発物質として有用な光学活性化合物を光
学純度よく、かつ効率よく提供することである。本発明
者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行った結
果、特定のアルケニルエチレングリコール類を出発原料
に用い、酸化反応を行うことにより、特定の光学活性化
合物が光学純度よくかつ収率よく得られることを見出し
本発明を完成するに至った。
【０００９】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、一般式
【００１０】
【化１１】
【００１１】（但し上式に於いてＲは炭素数40以下の炭
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。）で表されるアルケニルエチレングリコール類
に0.5ないし2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシ
ド、過酸化物、Ｌ−（＋）−あるいはＤ−（−）−酒石
酸ジアルキルを−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を
行うことを特徴とする一般式
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。）で表されるアルケニルエチレングリコール類
に0.5ないし2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシ
ド、過酸化物、Ｌ−（＋）−あるいはＤ−（−）−酒石
酸ジアルキルを−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を
行うことを特徴とする一般式
【００１２】
【化１２】
【００１３】（但し上式に於いてＲは炭素数40以下の炭
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。）で表される光学活性アルケニルエチレングリ
コール類の製造方法である。この製造方法に於いてチタ
ニウムテトラアルコキシドとして、チタニウムテトライ
ソプロポキシドを好ましく用いることができる。
化水素基を示すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいて
もよい。）で表される光学活性アルケニルエチレングリ
コール類の製造方法である。この製造方法に於いてチタ
ニウムテトラアルコキシドとして、チタニウムテトライ
ソプロポキシドを好ましく用いることができる。
【００１４】更に過酸化物としてｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイドを好ましく用いることができる。また、酒
石酸ジアルキルとして酒石酸ジイソプロピルを好ましく
用いることができる。更に本発明は、
ーオキサイドを好ましく用いることができる。また、酒
石酸ジアルキルとして酒石酸ジイソプロピルを好ましく
用いることができる。更に本発明は、
【００１５】
【化１３】
【００１６】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【００１７】
【化１４】
【００１８】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【００１９】
【化１５】
【００２０】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【００２１】
【化１６】
【００２２】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【００２３】
【化１７】
【００２４】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。更に本発明は、
リコールである。更に本発明は、
【００２５】
【化１８】
【００２６】で示される光学活性アルケニルエチレング
リコールである。次に本発明について更に詳細に説明す
る。本発明の製造方法は次のような工程を経る。即ち、
（１）式で表されるアルケニルエチレングリコール類に
0.5 ないし2.0当量、好ましくは、1.0 ないし2.0 当量
のテトラアルキルオキシチタン、過酸化物、Ｌ−（＋）
−あるいはＤ−（−）−酒石酸ジアルキルを、脱水条件
下、−78℃ないし50℃、好ましくは−20℃で作用させ不
斉酸化を行うことにより、（２）式で示される光学活性
化合物が製造される。1.0 当量未満では、化学収量が低
下し、2.0 当量を超えると、反応終了後過剰のテトラア
ルキルオキシチタン、過酸化物を除去する操作が繁雑に
なるので好ましくない。また、温度が低すぎると反応が
進み難く、高すぎると立体選択性が低下するので好まし
くない。
リコールである。次に本発明について更に詳細に説明す
る。本発明の製造方法は次のような工程を経る。即ち、
（１）式で表されるアルケニルエチレングリコール類に
0.5 ないし2.0当量、好ましくは、1.0 ないし2.0 当量
のテトラアルキルオキシチタン、過酸化物、Ｌ−（＋）
−あるいはＤ−（−）−酒石酸ジアルキルを、脱水条件
下、−78℃ないし50℃、好ましくは−20℃で作用させ不
斉酸化を行うことにより、（２）式で示される光学活性
化合物が製造される。1.0 当量未満では、化学収量が低
下し、2.0 当量を超えると、反応終了後過剰のテトラア
ルキルオキシチタン、過酸化物を除去する操作が繁雑に
なるので好ましくない。また、温度が低すぎると反応が
進み難く、高すぎると立体選択性が低下するので好まし
くない。
【００２７】ここで用いられるチタニウムテトラアルコ
キシド、過酸化物、Ｌ−（＋）−あるいはＤ−（−）−
酒石酸ジアルキルとしては、工業的に入手容易なチタニ
ウムテトライソプロポキシド、ｔ−ブチルハイドロパー
オキサイド（以下、ＴＢＨＰと略す）、Ｌ−（＋）−あ
るいはＤ−（−）−酒石酸ジイソプロピル（以下、Ｌ−
（＋）−あるいはＤ−（−）−ＤＩＰＴと略す）を用い
て何ら問題はない。
キシド、過酸化物、Ｌ−（＋）−あるいはＤ−（−）−
酒石酸ジアルキルとしては、工業的に入手容易なチタニ
ウムテトライソプロポキシド、ｔ−ブチルハイドロパー
オキサイド（以下、ＴＢＨＰと略す）、Ｌ−（＋）−あ
るいはＤ−（−）−酒石酸ジイソプロピル（以下、Ｌ−
（＋）−あるいはＤ−（−）−ＤＩＰＴと略す）を用い
て何ら問題はない。
【００２８】また反応系からの脱水は、モレキュラーシ
ーブスを用いて十分効率的に行われるが、脱水能力のあ
る脱水剤であれば、どの様な種類の脱水剤を用いても構
わない。更に、反応溶媒としては非水系溶媒であれば、
どの様な種類のものを用いても構わないが、特にジクロ
ロメタンが好適である。
ーブスを用いて十分効率的に行われるが、脱水能力のあ
る脱水剤であれば、どの様な種類の脱水剤を用いても構
わない。更に、反応溶媒としては非水系溶媒であれば、
どの様な種類のものを用いても構わないが、特にジクロ
ロメタンが好適である。
【００２９】
【化１９】
【００３０】（上記式中、Ｒは前記と同一である。） また、出発物質として（１）式で示されるアルケニルエ
チレングリコール類のうち（1') 式で示される化合物を
用いた場合、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴを用いることによっ
て（2') 式で示される化合物が、（1") 式で示される化
合物を用いた場合、Ｄ−（−）−ＤＩＰＴを用いること
によって（2") 式で示される化合物が得られる。
チレングリコール類のうち（1') 式で示される化合物を
用いた場合、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴを用いることによっ
て（2') 式で示される化合物が、（1") 式で示される化
合物を用いた場合、Ｄ−（−）−ＤＩＰＴを用いること
によって（2") 式で示される化合物が得られる。
【００３１】
【化２０】
【００３２】（上記式中、Ｒは前記と同一である。） また、（１）式で示される出発物質アルケニルエチレン
グリコール類は、工業的に入手容易で安価なイソプロピ
リデングリセロール（11）またはエピクロロヒドリン
（12）から容易に誘導されるアリルアルコール（13）を
原料に用いることによって上記のように容易に製造でき
る。即ち、（13）式で示されるアリルアルコールをピリ
ジンの存在下、メタンスルホニルクロリドによりクロル
化することにより（14）式で示される化合物を製造し、
これにヨウ化銅の存在下、グリニヤル試薬を作用させる
ことによって（1'）式で示される化合物が製造される。
グリコール類は、工業的に入手容易で安価なイソプロピ
リデングリセロール（11）またはエピクロロヒドリン
（12）から容易に誘導されるアリルアルコール（13）を
原料に用いることによって上記のように容易に製造でき
る。即ち、（13）式で示されるアリルアルコールをピリ
ジンの存在下、メタンスルホニルクロリドによりクロル
化することにより（14）式で示される化合物を製造し、
これにヨウ化銅の存在下、グリニヤル試薬を作用させる
ことによって（1'）式で示される化合物が製造される。
【００３３】また（13）式で示されるアリルアルコール
をピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）
の存在下、無水酢酸によりアセチル化することにより
（15）式で示される化合物を製造し、これにヨウ化銅の
存在下、リチウム試薬を作用させることによって（1'）
式で示される化合物が製造される。
をピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）
の存在下、無水酢酸によりアセチル化することにより
（15）式で示される化合物を製造し、これにヨウ化銅の
存在下、リチウム試薬を作用させることによって（1'）
式で示される化合物が製造される。
【００３４】
【化２１】
【００３５】（上記式中、R'、R"、R"' は同一または異
なるアルキル基を表す) 。更に、（13）式で示されるア
リルアルコールにハロゲン化物を作用させてエーテル化
して（16）式で示される化合物を得る。これを酸で処理
すると（1'a)式で示される酸素原子を含む化合物が得ら
れる。また、（14）式で示される化合物をアミド化する
ことによって（17）式で示される化合物を得、これを脱
アセトニド化して（1'b)式で示される窒素原子を含む化
合物が製造される。
なるアルキル基を表す) 。更に、（13）式で示されるア
リルアルコールにハロゲン化物を作用させてエーテル化
して（16）式で示される化合物を得る。これを酸で処理
すると（1'a)式で示される酸素原子を含む化合物が得ら
れる。また、（14）式で示される化合物をアミド化する
ことによって（17）式で示される化合物を得、これを脱
アセトニド化して（1'b)式で示される窒素原子を含む化
合物が製造される。
【００３６】出発物質に（11) 式、（12）式で示される
化合物と立体配置が逆の化合物を用いることによって、
（1') 式、（1'a)式、（1'b)式で示される化合物と立体
配置が逆である化合物を得ることができる。本発明の製
造方法は各種のアルケニルエチレングリコール類に適用
されるが、いずれも高い光学収率、光学純度で対応する
（２）式で示される光学活性エポキシド類を与える。表
１にその一例を示す。
化合物と立体配置が逆の化合物を用いることによって、
（1') 式、（1'a)式、（1'b)式で示される化合物と立体
配置が逆である化合物を得ることができる。本発明の製
造方法は各種のアルケニルエチレングリコール類に適用
されるが、いずれも高い光学収率、光学純度で対応する
（２）式で示される光学活性エポキシド類を与える。表
１にその一例を示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。
する。
【００３９】
【化２２】
【００４０】本発明の製造方法によって得られた（2'）
式で示される光学活性化合物の光学純度は、これを過ヨ
ウ素酸分解、ついで水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことによって得られた（18）式で示されるエポキシアル
コールの比旋光度を、光学純度既知の文献値と比較する
ことによって算出した。 実施例１
式で示される光学活性化合物の光学純度は、これを過ヨ
ウ素酸分解、ついで水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことによって得られた（18）式で示されるエポキシアル
コールの比旋光度を、光学純度既知の文献値と比較する
ことによって算出した。 実施例１
【００４１】
【化２３】
【００４２】（３）式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲがベンジルオキシ基である化合物）
の製造。 （第一段）水素化ナトリウム1.08g (22.4mmol)のＤＭＦ
20ml懸濁液に、氷冷下、(13)式で示されるアリルアルコ
ールのＤＭＦ３ml溶液を滴下した。30分後、ベンジルブ
ロマイド2.6ml (21.5mmol)を滴下し、更に８時間攪拌し
た。水を加えてジエチルエーテルにより抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(16a) 式で示されるベンジルエーテ
ル3.28g (70 ％）を得た。
((２）式に於いてＲがベンジルオキシ基である化合物）
の製造。 （第一段）水素化ナトリウム1.08g (22.4mmol)のＤＭＦ
20ml懸濁液に、氷冷下、(13)式で示されるアリルアルコ
ールのＤＭＦ３ml溶液を滴下した。30分後、ベンジルブ
ロマイド2.6ml (21.5mmol)を滴下し、更に８時間攪拌し
た。水を加えてジエチルエーテルにより抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(16a) 式で示されるベンジルエーテ
ル3.28g (70 ％）を得た。
【００４３】〔α〕D 28 ＋24.4°(c 2.02, CHCl3) IR (neat) : 1454, 1371, 1061cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 6.10-5.50(m, 2H), 4.52(s,
2H),4.65-4.40(m, 1H), 4.20-3.95(m, 3H), 3.60(t, 1
H, J=7.8Hz),1.43(s, 3H), 1.40(s, 3H) MS m/e : 247, 91。
2H),4.65-4.40(m, 1H), 4.20-3.95(m, 3H), 3.60(t, 1
H, J=7.8Hz),1.43(s, 3H), 1.40(s, 3H) MS m/e : 247, 91。
【００４４】（第二段）（第一段）で得た（16a)式で示
されるベンジルエーテルを 3.2g (12.8mmol)、５％塩酸
を５ml、メタノールを15ml用意して、これらの混合溶液
を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナトリウムで中和し
たのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、（1a) 式で示される４，５−ジヒドロキシ−２−ペ
ンテニルベンジルエーテル2.55g (96 ％）を得た。
されるベンジルエーテルを 3.2g (12.8mmol)、５％塩酸
を５ml、メタノールを15ml用意して、これらの混合溶液
を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナトリウムで中和し
たのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、（1a) 式で示される４，５−ジヒドロキシ−２−ペ
ンテニルベンジルエーテル2.55g (96 ％）を得た。
【００４５】〔α〕D 27 ＋ 4.4°(c 1.34, CHCl3) IR (neat) : 3370, 1451, 1067cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 6.10-5.60(m, 2H), 4.52(s,
2H),4.35-4.10(m, 1H), 4.00(brs, 2H，J=4Hz), 3.70-
3.30(m, 2H),2.65(brs, 2H) MS m/e : 208, 91。
2H),4.35-4.10(m, 1H), 4.00(brs, 2H，J=4Hz), 3.70-
3.30(m, 2H),2.65(brs, 2H) MS m/e : 208, 91。
【００４６】（第三段）粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）１ｇをジクロロメタン20mlに懸
濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプロ
ポキシド0.75ml(2.52mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 675
mg (2.88mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30
分攪拌した。（第二段）で得た（1a) 式で示される４，
５−ジヒドロキシ−２−ペンテニルベンジルエーテル50
0mg (2.4mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間
攪拌したのち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 1.5
ml(2.64mmol) を滴下し−20℃で80時間攪拌した。水５m
l、アセトン25mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過
したのち、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し（３）式で示される光学活性エポキシド495mg
(92 ％）を得た。
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）１ｇをジクロロメタン20mlに懸
濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプロ
ポキシド0.75ml(2.52mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 675
mg (2.88mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30
分攪拌した。（第二段）で得た（1a) 式で示される４，
５−ジヒドロキシ−２−ペンテニルベンジルエーテル50
0mg (2.4mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間
攪拌したのち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 1.5
ml(2.64mmol) を滴下し−20℃で80時間攪拌した。水５m
l、アセトン25mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過
したのち、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し（３）式で示される光学活性エポキシド495mg
(92 ％）を得た。
【００４７】〔α〕D 26 −11.0°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3400cm-1 1 H-NMR δ: 7.33(s, 5H), 4.56(s, 2H), 3.80-3.35(m,
5H),3.20(m, 1H), 3.05(brm, 1H), 2.80(brs, 1H),2.5
0(brs, 1H) MS m/e : 224, 107 。
5H),3.20(m, 1H), 3.05(brm, 1H), 2.80(brs, 1H),2.5
0(brs, 1H) MS m/e : 224, 107 。
【００４８】（第四段）（第三段）で得た（３）式の光
学活性エポキシドを 100mg(0.45mmol)、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を１ml、水を１ml、メタノールを２ml用
意して、これらの混合液に氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウ
ム 210mg (0.98mmol) を加え、３時間攪拌したのち、水
素化ホウ素ナトリウム 37mg(0.98mmol) を加え、30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18a) 式で
示される化合物 58mg(67％）を得た。また、文献値の比
旋光度との比較から約89％eeであることが判った。
学活性エポキシドを 100mg(0.45mmol)、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を１ml、水を１ml、メタノールを２ml用
意して、これらの混合液に氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウ
ム 210mg (0.98mmol) を加え、３時間攪拌したのち、水
素化ホウ素ナトリウム 37mg(0.98mmol) を加え、30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18a) 式で
示される化合物 58mg(67％）を得た。また、文献値の比
旋光度との比較から約89％eeであることが判った。
【００４９】〔α〕D 26 −18.6°(c 1.16, CHCl3) （文献値、〔α〕D 25 −21°(c 0.97, CHCl3) P.
Ma et al., J. Org.Chem.,47, 1378(1982)) 。 実施例２
Ma et al., J. Org.Chem.,47, 1378(1982)) 。 実施例２
【００５０】
【化２４】
【００５１】（４) 式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲがＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスル
ホンアミド基である化合物）の製造。 （第一段）(13)式で示されるアリルアルコールを 3.0g
(19mmol)、ピリジンを 2.3ml(28.5mmol)、ジクロロメタ
ンを40ml用意し、これらの混合物にメタンスルホニルク
ロリドを 1.8ml(22.8mmol)滴下し、室温で48時間攪拌し
た。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(14)式で示され
る塩化物 1.95g（58％）を得た。
((２）式に於いてＲがＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスル
ホンアミド基である化合物）の製造。 （第一段）(13)式で示されるアリルアルコールを 3.0g
(19mmol)、ピリジンを 2.3ml(28.5mmol)、ジクロロメタ
ンを40ml用意し、これらの混合物にメタンスルホニルク
ロリドを 1.8ml(22.8mmol)滴下し、室温で48時間攪拌し
た。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し(14)式で示され
る塩化物 1.95g（58％）を得た。
【００５２】1H-NMR δ: 6.15-5.60(m, 2H), 4.65-4.4
0(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.3, 8.3Hz), 4.05(d, 2H, J
=5.4Hz),3.60(dd, 1H, J=6.9, 6.3Hz), 1.68(s, 3H),
1.40(s, 3H) MS m/e : 177, 161, 43 。 （第二段）（第一段）で得た(14)式で示される塩化物 5
00mg (2.8mmol)、ベンジルアミン1.2ml(11.2mmol) のト
ルエン５ml溶液を48時間80℃で攪拌した。減圧下、溶媒
を留去し、残渣にトリエチルアミン 1.2ml(8.4mmol) 、
ジクロロメタン20ml、ｐ−トルエンスルホニルクロリド
1.33g(6.0mmol) を、氷冷下、順次加え室温で10時間攪
拌した。水、ジクロロメタンを加え攪拌したのち、有機
層を水洗し無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
溶媒を留去し粗製のスルホンアミド2.12g を得た。この
スルホンアミド 2.12g、５％塩酸３ml、メタノール10ml
の混合液を室温で５時間攪拌したのち、炭酸水素ナトリ
ウムを加え中和した。反応液をジクロロメタンで抽出し
たのち、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し（1b) 式で示されるＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスル
ホンアミド化合物822mg(78％）を得た。
0(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.3, 8.3Hz), 4.05(d, 2H, J
=5.4Hz),3.60(dd, 1H, J=6.9, 6.3Hz), 1.68(s, 3H),
1.40(s, 3H) MS m/e : 177, 161, 43 。 （第二段）（第一段）で得た(14)式で示される塩化物 5
00mg (2.8mmol)、ベンジルアミン1.2ml(11.2mmol) のト
ルエン５ml溶液を48時間80℃で攪拌した。減圧下、溶媒
を留去し、残渣にトリエチルアミン 1.2ml(8.4mmol) 、
ジクロロメタン20ml、ｐ−トルエンスルホニルクロリド
1.33g(6.0mmol) を、氷冷下、順次加え室温で10時間攪
拌した。水、ジクロロメタンを加え攪拌したのち、有機
層を水洗し無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
溶媒を留去し粗製のスルホンアミド2.12g を得た。この
スルホンアミド 2.12g、５％塩酸３ml、メタノール10ml
の混合液を室温で５時間攪拌したのち、炭酸水素ナトリ
ウムを加え中和した。反応液をジクロロメタンで抽出し
たのち、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し（1b) 式で示されるＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスル
ホンアミド化合物822mg(78％）を得た。
【００５３】〔α〕D 27 ＋ 3.4°(c 1.07, CHCl3) IR (neat) : 3400cm-1 1 H-NMR δ: 7.80-7.60(brd, 2H, J=8.2Hz), 7.5-7.20
(brm, 7H),6.10-5.60(m, 2H), 4.35(brs, 2H), 3.90-2.
90(m, 7H),2.45(brs, 3H) MS m/e : 343, 91。
(brm, 7H),6.10-5.60(m, 2H), 4.35(brs, 2H), 3.90-2.
90(m, 7H),2.45(brs, 3H) MS m/e : 343, 91。
【００５４】（第三段）粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）400mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプ
ロポキシチタン0.23ml(0.76mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰ
Ｔ 205mg(0.86mmol)のジクロロメタン３mlの溶液を加
え、30分攪拌した。（第二段）で得た（1b) 式で示され
るＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスルホンアミド化合物26
0mg(0.72mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間
攪拌したのち1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液0.6ml
(1.08mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水３m
l、アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過し
たのち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し（４) 式で示される光学活性エポキシド210mg (77
％）を得た。
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）400mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃で、チタニウムテトライソプ
ロポキシチタン0.23ml(0.76mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰ
Ｔ 205mg(0.86mmol)のジクロロメタン３mlの溶液を加
え、30分攪拌した。（第二段）で得た（1b) 式で示され
るＮ−ベンジル−ｐ−トルエンスルホンアミド化合物26
0mg(0.72mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間
攪拌したのち1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液0.6ml
(1.08mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水３m
l、アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過し
たのち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し（４) 式で示される光学活性エポキシド210mg (77
％）を得た。
【００５５】〔α〕D 28 −22.6°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3420, 1340, 1155cm-1 1 H-NMR δ: 7.70(brd, 2H, J=8.2Hz), 7.50-7.20(brm,
7H),4.35(brs, 2H), 3.70-3.50(brm, 2H), 3.50-3.20
(m, 1H),3.20-3.00(m, 2H), 3.00-2.80(m, 1H), 2.70-
2.30(m, 3H),2.44(brs,3H) MS m/e : 378, 346, 222, 91。
7H),4.35(brs, 2H), 3.70-3.50(brm, 2H), 3.50-3.20
(m, 1H),3.20-3.00(m, 2H), 3.00-2.80(m, 1H), 2.70-
2.30(m, 3H),2.44(brs,3H) MS m/e : 378, 346, 222, 91。
【００５６】（第四段）（第三段）で得た（４) 式で示
される光学活性エポキシド 165mg(0.44mmol)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール２mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 224mg (1.06
mmol) を加え３時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 40mg(1.06mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーに付し、(18b) 式で示されるヒドロキシ
エポキシド135mg(88％）を得た。また、文献値の旋光度
との比較から（４) 式で示される光学活性エポキシドが
約99％eeであると判った。
される光学活性エポキシド 165mg(0.44mmol)、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール２mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 224mg (1.06
mmol) を加え３時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 40mg(1.06mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーに付し、(18b) 式で示されるヒドロキシ
エポキシド135mg(88％）を得た。また、文献値の旋光度
との比較から（４) 式で示される光学活性エポキシドが
約99％eeであると判った。
【００５７】〔α〕D 27 −19.9°(c 1.96, CHCl3) （文献値、対掌体〔α〕D 20 ＋20.0°(c 1.84, CHC
l3) C. E. Adams et al., J. Org. Chem., 50, 420(198
5))。 実施例３
l3) C. E. Adams et al., J. Org. Chem., 50, 420(198
5))。 実施例３
【００５８】
【化２５】
【００５９】（５) 式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲがブチル基である化合物）の製造。 （第一段）(13)式で示されるアリルアルコール 700mg
(4.4mmol)、ピリジン 0.8ml(9.86mmol)、４−ＤＭＡＰ
109mg(0.88mmol)、ジクロロメタン20mlの混合物に、氷
冷下無水酢酸0.84ml(8.9mmol) を滴下し室温で３時間攪
拌した。反応液をジクロロメタンにより抽出し、有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーに付し、(15)式で示され
るアリルアセテート 660mg（75％）を得た。
((２）式に於いてＲがブチル基である化合物）の製造。 （第一段）(13)式で示されるアリルアルコール 700mg
(4.4mmol)、ピリジン 0.8ml(9.86mmol)、４−ＤＭＡＰ
109mg(0.88mmol)、ジクロロメタン20mlの混合物に、氷
冷下無水酢酸0.84ml(8.9mmol) を滴下し室温で３時間攪
拌した。反応液をジクロロメタンにより抽出し、有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーに付し、(15)式で示され
るアリルアセテート 660mg（75％）を得た。
【００６０】IR (neat) : 1741, 1372cm-1 1 H-NMR δ: 6.10-5.50(m, 2H), 4.55(d, 2H, J=4.4H
z), 4.60-4.40(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.1, 8.0Hz),
3.65(t, 1H, J=8.2Hz),2.07(s, 3H), 1.43(s, 3H), 1.4
0(s, 3H) MS m/e : 201, 185, 43 。
z), 4.60-4.40(m, 1H),4.10(dd, 1H, J=6.1, 8.0Hz),
3.65(t, 1H, J=8.2Hz),2.07(s, 3H), 1.43(s, 3H), 1.4
0(s, 3H) MS m/e : 201, 185, 43 。
【００６１】（第二段）ヨウ化銅 726mg (3.81mmol) の
ジエチルエーテル25ml溶液に、−30℃で1.6M−ブチルリ
チウムヘキサン溶液4.8ml(7.62mmol) を滴下し、０℃で
15分攪拌した。−30℃に冷却し、（第一段）で得た(15)
式で示されるアリルアセテート 635mg (3.18mmol) のＴ
ＨＦ３ml溶液を滴下し、１時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え室温に戻し、ジエチルエーテルで
抽出し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し残渣として粗製のアセトニド
680mg を得た。粗製のアセトニド 300mg(1.51mmol)、５
％塩酸２ml、メタノール５mlの混合物を室温で３時間攪
拌した。炭酸水素ナトリウムで中和したのち、減圧下濃
縮し、残渣をジクロロメタンに溶解した。無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（1c) 式で示
される１，２−ジヒドロキシ−３−ノネン156g (66％）
を得た。
ジエチルエーテル25ml溶液に、−30℃で1.6M−ブチルリ
チウムヘキサン溶液4.8ml(7.62mmol) を滴下し、０℃で
15分攪拌した。−30℃に冷却し、（第一段）で得た(15)
式で示されるアリルアセテート 635mg (3.18mmol) のＴ
ＨＦ３ml溶液を滴下し、１時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え室温に戻し、ジエチルエーテルで
抽出し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し残渣として粗製のアセトニド
680mg を得た。粗製のアセトニド 300mg(1.51mmol)、５
％塩酸２ml、メタノール５mlの混合物を室温で３時間攪
拌した。炭酸水素ナトリウムで中和したのち、減圧下濃
縮し、残渣をジクロロメタンに溶解した。無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（1c) 式で示
される１，２−ジヒドロキシ−３−ノネン156g (66％）
を得た。
【００６２】〔α〕D 28 ＋17.1°(c 1.03, CHCl3) IR (neat) : 3360, 1074cm-1 1 H-NMR δ: 5.80(td, 1H, J=5.3,16.0Hz),5.45(dd, 1
H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.00(brm, 1H),3.70-3.30(m,
2H), 2.45(brs, 2H), 2.00(brt, 2H, J=5.5Hz),1.50-
1.00(brs, 6H), 0.80(t, J=7.3Hz) MS m/e : 158, 127, 57 。
H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.00(brm, 1H),3.70-3.30(m,
2H), 2.45(brs, 2H), 2.00(brt, 2H, J=5.5Hz),1.50-
1.00(brs, 6H), 0.80(t, J=7.3Hz) MS m/e : 158, 127, 57 。
【００６３】（第三段）粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）600mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.20mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 395
mg(1.68mmol)のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30分
攪拌した。（第二段）で得た（1c) 式で示される１，２
−ジヒドロキシ−３−ノネン180mg(1.14mmol) のジクロ
ロメタン３ml溶液を加え、１時間攪拌したのち、1.8M−
ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.76ml(1.68mmol) を滴下
し−20℃で72時間攪拌した。水２ml、アセトン10mlを加
え室温で攪拌し、セライト濾過したのち、濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し（５) 式で示さ
れる光学活性エポキシド145mg (73 ％）を得た。
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）600mg をジクロロメタン10mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.20mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 395
mg(1.68mmol)のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30分
攪拌した。（第二段）で得た（1c) 式で示される１，２
−ジヒドロキシ−３−ノネン180mg(1.14mmol) のジクロ
ロメタン３ml溶液を加え、１時間攪拌したのち、1.8M−
ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.76ml(1.68mmol) を滴下
し−20℃で72時間攪拌した。水２ml、アセトン10mlを加
え室温で攪拌し、セライト濾過したのち、濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーに付し（５) 式で示さ
れる光学活性エポキシド145mg (73 ％）を得た。
【００６４】〔α〕D 27 −19.2°(c 1.02, CHCl3) IR (neat) : 3350cm-1 1 H-NMR δ: 3.70(brs, 3H), 3.20-2.65(m, 4H), 1.70-
1.00(m, 8H),0.80(t, 3H, J=7.5Hz) MS m/e : 175, 143, 55 。
1.00(m, 8H),0.80(t, 3H, J=7.5Hz) MS m/e : 175, 143, 55 。
【００６５】（第四段）（第三段）で得た（５) 式で示
される光学活性エポキシド100mg(0.57mmol) 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール２mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 292mg(1.36m
mol)を加え、３時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 73mg(1.84mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、１−ヒドロキシ−２，３−エポキ
シオクテン(18c) 70mg (82％）を得た。また、文献値の
旋光度との比較から（５)式で示される光学活性エポキ
シドが約85％eeであることが判った。
される光学活性エポキシド100mg(0.57mmol) 、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール２mlの
混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム 292mg(1.36m
mol)を加え、３時間攪拌したのち、水素化ホウ素ナトリ
ウム 73mg(1.84mmol) を加え30分攪拌した。反応液をジ
クロロメタンで抽出したのち、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、１−ヒドロキシ−２，３−エポキ
シオクテン(18c) 70mg (82％）を得た。また、文献値の
旋光度との比較から（５)式で示される光学活性エポキ
シドが約85％eeであることが判った。
【００６６】〔α〕D 27 −37.9°(c 1.14, CHCl3) （文献値、〔α〕D −44.4°(c 0.49, CHCl3) S. Tak
ana et al., J. Chem.Soc, Chem. Commun., 1344(198
9))。 実施例４
ana et al., J. Chem.Soc, Chem. Commun., 1344(198
9))。 実施例４
【００６７】
【化２６】
【００６８】（６) 式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲがフェニル基である化合物）の製
造。 （第一段）ヨウ化銅 3.03g (15.9mmol) のジエチルエー
テル35ml溶液に、−30℃で2.0M−フェニルリチウムヘキ
サン溶液16ml(31.8mmol)を滴下し、０℃で15分攪拌し
た。−30℃に冷却し、実施例３（第一段）で得たアリル
アセテート(15) 635mg (3.18mmol) のＴＨＦ３ml溶液を
滴下し１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣として粗製のアセトニド1.05g を得
た。粗製のアセトニド 830mg、５％塩酸２ml、メタノー
ル５mlの混合物を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナト
リウムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロ
メタンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(1d)式で示される１−フェニル−
４，５−ジヒドロキシ−２−ペンテン 335mg (74％）を
得た。
((２）式に於いてＲがフェニル基である化合物）の製
造。 （第一段）ヨウ化銅 3.03g (15.9mmol) のジエチルエー
テル35ml溶液に、−30℃で2.0M−フェニルリチウムヘキ
サン溶液16ml(31.8mmol)を滴下し、０℃で15分攪拌し
た。−30℃に冷却し、実施例３（第一段）で得たアリル
アセテート(15) 635mg (3.18mmol) のＴＨＦ３ml溶液を
滴下し１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶
媒を留去し、残渣として粗製のアセトニド1.05g を得
た。粗製のアセトニド 830mg、５％塩酸２ml、メタノー
ル５mlの混合物を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナト
リウムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロ
メタンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した
のち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーに付し、(1d)式で示される１−フェニル−
４，５−ジヒドロキシ−２−ペンテン 335mg (74％）を
得た。
【００６９】〔α〕D 27 ＋ 9.9°(c 1.03, CHCl3) IR (neat) : 3360cm-1 1 H-NMR δ: 7.40-7.10(m, 5H), 5.95(td, 1H, J=5.3,
16.0Hz),5.50(dd, 1H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.05(m,
1H),3.80-3.30(m, 2H), 3.45(d, 2H, J=6.6Hz), 2.20-
1.80(m, 2H) MS m/e : 178, 147, 129。
16.0Hz),5.50(dd, 1H, J=5.0, 16.0Hz), 4.30-4.05(m,
1H),3.80-3.30(m, 2H), 3.45(d, 2H, J=6.6Hz), 2.20-
1.80(m, 2H) MS m/e : 178, 147, 129。
【００７０】（第二段）粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）800mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.47mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 395
mg (1.68mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30
分攪拌した。（第一段）で得た（1d) 式で示される１−
フェニル−４，５−ジヒドロキシ−２−ペンテン250mg
(1.4mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間攪拌
したのち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 1.2ml
(2.1mmol) を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水３ml、
アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過したの
ち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、（６) 式で示される１−フェニル−４，５−ジヒド
ロキシ−２，３−エポキシペンタン236mg (87 ％）を得
た。
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）800mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.44ml(1.47mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 395
mg (1.68mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え、30
分攪拌した。（第一段）で得た（1d) 式で示される１−
フェニル−４，５−ジヒドロキシ−２−ペンテン250mg
(1.4mmol) のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間攪拌
したのち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 1.2ml
(2.1mmol) を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水３ml、
アセトン15mlを加え室温で攪拌し、セライト濾過したの
ち濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、（６) 式で示される１−フェニル−４，５−ジヒド
ロキシ−２，３−エポキシペンタン236mg (87 ％）を得
た。
【００７１】〔α〕D 27 −13.3°(c 1.01, CHCl3) IR (neat) : 3460, 1608cm-1 1 H-NMR δ: 7.40-7.10(m, 5H), 3.80-3.50(m, 3H), 3.
25-3.18(m, 1H),2.95-2.90(m, 1H), 2.90-2.85(m, 2H),
2.80(brs, 1H),2.50(brs, 1H) MS m/e : 194, 163 。
25-3.18(m, 1H),2.95-2.90(m, 1H), 2.90-2.85(m, 2H),
2.80(brs, 1H),2.50(brs, 1H) MS m/e : 194, 163 。
【００７２】実施例５
【００７３】
【化２７】
【００７４】（７) 式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲが１−ペンテニル基である化合物）
の製造。 （第一段）ヨウ化銅 600mg (3.15mmol) のＴＨＦ10ml溶
液に−30℃で1.32M −ペンテニルマグネシウムブロミド
ＴＨＦ溶液 4.8ml(6.3mmol) を滴下し、０℃で15分攪拌
した。−30℃に冷却し、実施例２（第一段）で得た塩化
物(14) 300mg(2.1mmol) のＴＨＦ３ml溶液を滴下し１時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温
に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し
残渣として粗製のアセトニド 344mg (78％）を得た。粗
製のアセトニド310mg 、５％塩酸３ml、メタノール５ml
の混合溶液を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナトリウ
ムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタ
ンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、（1e) 式で示される１，２−ジヒドロ
キシ−３，９−デカジエン230mg (92 ％）を得た。
((２）式に於いてＲが１−ペンテニル基である化合物）
の製造。 （第一段）ヨウ化銅 600mg (3.15mmol) のＴＨＦ10ml溶
液に−30℃で1.32M −ペンテニルマグネシウムブロミド
ＴＨＦ溶液 4.8ml(6.3mmol) を滴下し、０℃で15分攪拌
した。−30℃に冷却し、実施例２（第一段）で得た塩化
物(14) 300mg(2.1mmol) のＴＨＦ３ml溶液を滴下し１時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温
に戻し、ジエチルエーテルで抽出し、有機層は飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウム上で乾燥したのち、減圧下溶媒を留去し
残渣として粗製のアセトニド 344mg (78％）を得た。粗
製のアセトニド310mg 、５％塩酸３ml、メタノール５ml
の混合溶液を室温で３時間攪拌した。炭酸水素ナトリウ
ムで中和したのち、減圧下濃縮し、残渣をジクロロメタ
ンに溶解した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、（1e) 式で示される１，２−ジヒドロ
キシ−３，９−デカジエン230mg (92 ％）を得た。
【００７５】〔α〕D 26 ＋15.4°(c 1.06, CHCl3) IR (neat) : 3340, 1640, 1075cm-1 1 H-NMR δ: 6.05-4.80(m, 5H), 4.30-4.00(m, 1H), 3.
75-3.30(m, 2H),2.31-1.80(brm, 6H), 1.50-1.30(brm,
4H) MS m/e : 169, 139, 57 。
75-3.30(m, 2H),2.31-1.80(brm, 6H), 1.50-1.30(brm,
4H) MS m/e : 169, 139, 57 。
【００７６】（第二段）粉砕乾燥したモレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）600mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.36ml(1.20mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 320
mg (1.37mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え30分
攪拌した。（第一段）で得た（1e) 式で示される１，２
−ジヒドロキシ−３，９−デカジエン195mg(1.14mmol)
のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間攪拌したのち、
1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.96ml(1.72mmol)
を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水３ml、アセトン５
mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過したのち濃縮し
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し（７)式で
示される１，２−ジヒドロキシ−３，４−エポキシ−９
−デセン116mg (56％）を得た。
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）600mg をジクロロメタン15mlに
懸濁した懸濁液に、−20℃でチタニウムテトライソプロ
ポキシド0.36ml(1.20mmol)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 320
mg (1.37mmol) のジクロロメタン３mlの溶液を加え30分
攪拌した。（第一段）で得た（1e) 式で示される１，２
−ジヒドロキシ−３，９−デカジエン195mg(1.14mmol)
のジクロロメタン３ml溶液を加え１時間攪拌したのち、
1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.96ml(1.72mmol)
を滴下し−20℃で72時間攪拌した。水３ml、アセトン５
mlを加え、室温で攪拌し、セライト濾過したのち濃縮し
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し（７)式で
示される１，２−ジヒドロキシ−３，４−エポキシ−９
−デセン116mg (56％）を得た。
【００７７】〔α〕D 26 ＋15.4°(c 1.06, CHCl3) IR (neat) : 3390, 1641cm-1 1 H-NMR δ: 6.10-5.50(m, 1H), 5.10-4.80(m, 2H), 3.
70-3.50(brs, 3H),3.40(brs, 1H), 3.15(brs, 1H), 3.0
0-2.70(m, 2H),2.20-1.90(brm, 2H), 1.70-1.15(brm, 6
H) MS m/e : 187, 95, 67。
70-3.50(brs, 3H),3.40(brs, 1H), 3.15(brs, 1H), 3.0
0-2.70(m, 2H),2.20-1.90(brm, 2H), 1.70-1.15(brm, 6
H) MS m/e : 187, 95, 67。
【００７８】実施例６
【００７９】
【化２８】
【００８０】（８) 式で示される光学活性エポキシド
((２）式に於いてＲがテトラデシル基である化合物）の
製造。 （第一段）ヨウ化銅 791mg (4.15mmol) のＴＨＦ15ml溶
液に、−30℃で0.7M−テトラデシルマグネシウムブロミ
ドＴＨＦ溶液 11.9ml(8.31mmol) を滴下し、０℃で15分
攪拌した。−30℃に冷却し、実施例２（第一段）で得た
（14）式で示される塩化物400mg (2.77mmol)のＴＨＦ３
ml溶液を滴下し、１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出
し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し（1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物
490g (88％）を得た。
((２）式に於いてＲがテトラデシル基である化合物）の
製造。 （第一段）ヨウ化銅 791mg (4.15mmol) のＴＨＦ15ml溶
液に、−30℃で0.7M−テトラデシルマグネシウムブロミ
ドＴＨＦ溶液 11.9ml(8.31mmol) を滴下し、０℃で15分
攪拌した。−30℃に冷却し、実施例２（第一段）で得た
（14）式で示される塩化物400mg (2.77mmol)のＴＨＦ３
ml溶液を滴下し、１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、室温に戻し、ジエチルエーテルで抽出
し、有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥したの
ち、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し（1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物
490g (88％）を得た。
【００８１】〔α〕D 27 ＋ 9.2°(c 1.03, CHCl3)1 H-NMR δ: 5.85(td, 1H, J=5.4, 16.0Hz), 5.45(dd,
1H, J=5.0, 16.0Hz),4.40-4.10(m, 1H), 3.85-3.30(m,
2H), 2.10-1.80(m, 4H),1.70-1.20(brm, 4H), 1.26(br
s, 22H),0.80(brt, 3H, J=7.3Hz), （第二段）粉砕乾燥したモレキュラーシーブス４Ａ（Ｍ
Ｓ−４Ａ）800mg のジクロロメタン30ml溶液に、−20℃
でチタニウムテトライソプロポキシド0.47ml(1.58mmo
l)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 408mg(1.73mmol)のジクロロ
メタン３mlの溶液を加え30分攪拌した。（第一段）で得
た（1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物330mg(1.44mm
ol) のジクロロメタン３ml溶液を加え、１時間攪拌した
のち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.96ml(1.73
mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水３ml、ア
セトン15mlを加え、室温で攪拌しセライト濾過したのち
濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
（８) 式で示されるジヒドロキシエポキシド223mg (63
％）を得た。
1H, J=5.0, 16.0Hz),4.40-4.10(m, 1H), 3.85-3.30(m,
2H), 2.10-1.80(m, 4H),1.70-1.20(brm, 4H), 1.26(br
s, 22H),0.80(brt, 3H, J=7.3Hz), （第二段）粉砕乾燥したモレキュラーシーブス４Ａ（Ｍ
Ｓ−４Ａ）800mg のジクロロメタン30ml溶液に、−20℃
でチタニウムテトライソプロポキシド0.47ml(1.58mmo
l)、Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ 408mg(1.73mmol)のジクロロ
メタン３mlの溶液を加え30分攪拌した。（第一段）で得
た（1f) 式で示されるジヒドロキシ化合物330mg(1.44mm
ol) のジクロロメタン３ml溶液を加え、１時間攪拌した
のち、1.8M−ＴＢＨＰジクロロメタン溶液 0.96ml(1.73
mmol) を滴下し、−20℃で72時間攪拌した。水３ml、ア
セトン15mlを加え、室温で攪拌しセライト濾過したのち
濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
（８) 式で示されるジヒドロキシエポキシド223mg (63
％）を得た。
【００８２】〔α〕D 28 −20.1°(c 0.98, CHCl3) IR (neat) : 3340cm-1 1 H-NMR δ: 3.70(brs, 3H), 3.20-2.65(brm, 5H), 1.7
0-1.20(brm, 4H),1.26(brs, 26Hz), 0.80(brt, 3H, J=
7.3Hz) MS m/e : 282, 267, 57 。
0-1.20(brm, 4H),1.26(brs, 26Hz), 0.80(brt, 3H, J=
7.3Hz) MS m/e : 282, 267, 57 。
【００８３】（第三段）（第二段）で得た（８) 式で示
されるジヒドロキシエポキシド 140mg (0.57mmol) 、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール
２ml、ＴＨＦ２mlの混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナト
リウム 246mg (1.14mmol) を加え３時間攪拌したのち、
水素化ホウ素ナトリウム 65mg (1.71mmol)を加え30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18f) 式で
示されるヒドロキシエポキシド110mg (91 ％）を得た。
1H-NMRの分析結果は文献値とよく一致した。また、文献
値の旋光度との比較から(18f) 式で示されるヒドロキシ
エポキシドがほぼ光学的に純粋であった。
されるジヒドロキシエポキシド 140mg (0.57mmol) 、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１ml、水１ml、メタノール
２ml、ＴＨＦ２mlの混合物に、氷冷下、過ヨウ素酸ナト
リウム 246mg (1.14mmol) を加え３時間攪拌したのち、
水素化ホウ素ナトリウム 65mg (1.71mmol)を加え30分攪
拌した。反応液をジクロロメタンで抽出したのち、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(18f) 式で
示されるヒドロキシエポキシド110mg (91 ％）を得た。
1H-NMRの分析結果は文献値とよく一致した。また、文献
値の旋光度との比較から(18f) 式で示されるヒドロキシ
エポキシドがほぼ光学的に純粋であった。
【００８４】〔α〕D 26 −22.5°(c 1.00, CHCl3) （文献値、対掌体〔α〕D 23 ＋22.5°(c 0.79, CHC
l3) W. R. Roush et al., J. Org. Chem., 50, 3752(1985))
。
l3) W. R. Roush et al., J. Org. Chem., 50, 3752(1985))
。
【００８５】
【発明の効果】本発明の製造方法は、１段階の反応で３
点の不斉点の立体配置を完全に制御できる優れたキラル
エポキシド類の製造方法である。また、温和な条件下で
反応が行える上、化学収率、光学収率が極めて高い。更
に、基質特異性が低く、一例を表１に示したように、様
々な構造の基質を出発物質に用い対応するキラルエポキ
シド類を製造することができる。
点の不斉点の立体配置を完全に制御できる優れたキラル
エポキシド類の製造方法である。また、温和な条件下で
反応が行える上、化学収率、光学収率が極めて高い。更
に、基質特異性が低く、一例を表１に示したように、様
々な構造の基質を出発物質に用い対応するキラルエポキ
シド類を製造することができる。
【００８６】また、本発明の製造方法によって効率的に
製造できる光学活性化合物は各種有用化合物の出発物質
として有用である。
製造できる光学活性化合物は各種有用化合物の出発物質
として有用である。
【００８７】
【化２９】
【００８８】例えば、実施例１の化合物は２つの水酸基
を保護したのちエポキシドの開環、脱ベンジル化を行う
ことによって、（20）式で示される化合物に誘導される
が、このものは既知の反応によってＤ−アラビニトール
へ誘導される。（T. Katsukiet al., J. Org. Chem., 4
7, 1371(1982)) 。また（３) 式で示される化合物とは
立体配置の異なる化合物を用いることによって（21）式
で示される化合物の代わりに、対応する各種糖類、リビ
トール、キシリトールが製造できる。
を保護したのちエポキシドの開環、脱ベンジル化を行う
ことによって、（20）式で示される化合物に誘導される
が、このものは既知の反応によってＤ−アラビニトール
へ誘導される。（T. Katsukiet al., J. Org. Chem., 4
7, 1371(1982)) 。また（３) 式で示される化合物とは
立体配置の異なる化合物を用いることによって（21）式
で示される化合物の代わりに、対応する各種糖類、リビ
トール、キシリトールが製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (56)参考文献 特開 昭64−75478（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−126885（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−6266（ＪＰ，Ａ) 米国特許4011943（ＵＳ，Ａ) Ｓｙｎｌｅｔｔ．，Ｎｏ．８，ｐ. 548−550（Ａｕｇｕｓｔ 1991) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 303/00 - 303/14 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (10)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （但し上式に於いてＲは炭素数40以下の炭化水素基を示
すが、酸素、窒素、硫黄原子を含んでいてもよい。）で
表されるアルケニルエチレングリコール類に0.5ないし
2.0 当量のチタニウムテトラアルコキシド、過酸化物、
Ｌ−（＋）−あるいはＤ−（−）−酒石酸ジアルキルを
−78°ないし50℃で作用させ不斉酸化を行うことを特徴
とする一般式 【化２】 （但し上式に於いてＲは上記と同じである。）で表され
る光学活性アルケニルエチレングリコール類の製造方
法。 - 【請求項２】 チタニウムテトラアルコキシドがチタニ
ウムテトライソプロポキシドである請求項１記載の製造
方法。 - 【請求項３】 過酸化物がｔ−ブチルハイドロパーオキ
サイドである請求項１記載の製造方法。 - 【請求項４】 酒石酸ジアルキルが酒石酸ジイソプロピ
ルである請求項１記載の製造方法。 - 【請求項５】 一般式 【化３】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項６】 一般式 【化４】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項７】 一般式 【化５】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項８】 一般式 【化６】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項９】 一般式 【化７】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
- 【請求項１０】 一般式 【化８】 で示される光学活性アルケニルエチレングリコール。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3142775A JP3070141B2 (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 |
| SG1996001548A SG50444A1 (en) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
| EP92304527A EP0515142B1 (en) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
| DE69214717T DE69214717T2 (de) | 1991-05-20 | 1992-05-19 | Optisch aktive Epoxide und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US07/885,795 US5254704A (en) | 1991-05-20 | 1992-05-20 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
| US08/063,416 US5310956A (en) | 1991-05-20 | 1993-05-19 | Optically active epoxides and a process for the production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3142775A JP3070141B2 (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | 光学活性アルケニルエチレングリコール類およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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