JPH1011984A - 半導体不揮発性記憶装置 - Google Patents

半導体不揮発性記憶装置

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JPH1011984A
JPH1011984A JP16942096A JP16942096A JPH1011984A JP H1011984 A JPH1011984 A JP H1011984A JP 16942096 A JP16942096 A JP 16942096A JP 16942096 A JP16942096 A JP 16942096A JP H1011984 A JPH1011984 A JP H1011984A
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JP16942096A
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Kenshirou Arase
謙士朗 荒瀬
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Sony Corp
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    • G11C11/5642Sensing or reading circuits; Data output circuits

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Abstract

(57)【要約】 【課題】多値データのページ読み出しおよびページプロ
グラムを行うことのできる多値型の半導体不揮発性記憶
装置を実現する。 【解決手段】3本のビット線毎に組をなすビット線群B
m1 〜Bm3 で共有した3個の共有データラッチ回路S
Am1 〜SAm3 と、ビット線群の任意の1本のビット
線を選択し複数プログラム状態に対応した3種類のペー
ジ読み出しデータまたはページプログラムデータをSA
m1 〜SAm3 にラッチし順次選択ワード線一括に行う
ページ読み出し手段VR1〜VR3及びページプログラ
ム手段VPW1〜VPW3と、SAm1 〜SAm3 にラ
ッチされた3種類のページ読み出しデータを2ビットの
デジタルデータに変換して出力するデータ変換出力回路
8と、プログラムすべき2ビットのデジタルデータを3
種類のページプログラムデータに変換しSAm1 〜SA
m3 にシフト転送するデータ変換回路9を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、1個のメモリート
ランジスタに少なくとも2ビット以上のデジタルデータ
を記録する多値型の半導体不揮発性記憶装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、EPROM、フラッシュメモリ等
の半導体不揮発性記憶装置においては、1個のメモリト
ランジスタに1ビットのデジタルデータを記録する1値
型のメモリセル構造が通常である。しかし、最近の半導
体不揮発性記憶装置の大容量化の要望にともない、1個
のメモリトランジスタに少なくとも2ビット以上のデジ
タルデータを記録する、いわゆる、多値型の半導体不揮
発性記憶装置が要望されている。
【0003】図5(a)、図5(b)は、それぞれNA
ND型、DINOR型フラッシュメモリにおける、メモ
リアレイ構造を示す図である。これらの半導体不揮発性
記憶装置は、選択するワード線に接続された各メモリト
ランジスタ一括にページ読み出しおよびページプログラ
ムを行う半導体不揮発性記憶装置である。
【0004】図5(a)のNAND型フラッシュメモリ
は、便宜上、1本のビット線に接続されたNAND列1
本に4個のメモリトランジスタが接続された場合の、メ
モリアレイを示す図である。図5(a)において、BL
はビット線を示し、ビット線BLに2個の選択トランジ
スタST1 〜ST2 、および4個のメモリトランジスタ
MT1 〜MT4 が直列接続されたNAND列が接続され
る。選択トランジスタST1 〜ST2 はそれぞれ選択ゲ
ート線SL1 〜SL2 により制御され、またメモリトラ
ンジスタMT1 〜MT4 はそれぞれワード線WL1〜W
L4 により制御される。
【0005】図5(b)のDINOR型フラッシュメモ
リは、便宜上、1本の主ビット線に接続された副ビット
線1本に4個のメモリトランジスタが接続された場合
の、メモリアレイを示す図である。図5(b)におい
て、MBLは主ビット線、SBLは副ビット線を示し、
主ビット線MBLおよび副ビット線SBLは、選択ゲー
ト線SLにより制御される選択トランジスタST1 を介
して接続される。副ビット線SBLは、4本のワード線
WL1 〜WL4 と交差し、各交差位置には4個のメモリ
トランジスタMT1 〜MT4 が配置される。
【0006】上述したNAND型、DINOR型フラッ
シュメモリ等のようなワード線セクタを単位としたペー
ジ読み出しおよびページプログラムを行う半導体不揮発
性記憶装置においても、1個のメモリトランジスタに2
ビット以上のデジタルデータを記録することが可能であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したワ
ード線セクタを単位としたページ読み出しおよびページ
プログラムを行うNAND型フラッシュメモリ等を多値
型の半導体不揮発性記憶装置とした場合には、どのよう
に1個のメモリトランジスタに記録された多値データを
読み出すかあるいはプログラムするかが、問題となる。
【0008】多値型の半導体不揮発性記憶装置におい
て、1個のメモリトランジスタに記録された多値データ
のページ読み出し、あるいはページプログラムを行う方
法については、文献等に開示されたものが知られている
(たとえば、「A 3.3V128Mb Multi−
Level NAND Flash Memoryfo
r Mass Storage Applicatio
ns」’96 ISSCC p32〜p33)。
【0009】上述した文献例は、たとえば1個のメモリ
トランジスタに記録された2ビットのデジタルデータを
ページ読み出し、あるいはページプログラムするNAN
D型フラッシュメモリの場合である。このような半導体
不揮発性記憶装置においては、隣り合う2本のビット線
を組とするビット線対で2個のデータラッチ回路を共有
し、前記ビット線対の1本のビット線を選択してページ
読み出しあるいはページプログラムするために、前記2
個の共有データラッチ回路に、直接2ビットデジタルの
ページ読み出しデータあるいはページプログラムデータ
にラッチする。
【0010】しかし、最終的に読み出すべきあるいはプ
ログラムすべきデータは2ビットデジタルのデータであ
っても、実際に読み出しあるいはプログラムするデータ
は、2ビットデジタルの4状態に対応した3種類のペー
ジ読み出しデータあるいはページプログラムデータに分
割して行う必要がある。したがって、前記2個の共有デ
ータラッチ回路は、2ビットデジタルのデータを前記3
種類のページ読み出しデータあるいはページプログラム
データに変換するための制御回路に制御されながら動作
しなければならない。
【0011】ところが、NAND型フラッシュメモリ等
の半導体不揮発性記憶装置においては、ビット線方向の
配線ピッチは狭くレイアウト上の制約から、それぞれの
共有データラッチ回路毎に上記の制御回路をレイアウト
することは、非常に困難を伴う。さらには、1個のメモ
リトランジスタに記録するデジタルデータを2ビットか
ら3ビット〜4ビットと多値化を今後さらに進めていく
場合、上記文献例のようなページ読み出し方法あるいは
ページプログラム方法では、前記制御回路の構成がさら
に複雑になって、ビット線ピッチの範囲内にレイアウト
することはほとんど不可能になると予想される。
【0012】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、各メモリトランジスタに記録さ
れた多値データを効率よく簡単にページ読み出しを行
い、あるいはページプログラムを行うことのできる多値
型の半導体不揮発性記憶装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、行列状に配置され、電荷蓄積部に蓄積さ
れた荷電量に応じてしきい値電圧が変化するメモリトラ
ンジスタを有し、接続されたワード線とビット線への印
加電圧に応じて前記メモリトランジスタのしきい値電圧
を遷移させて1個のメモリトランジスタに少なくともN
が2以上のNビットのデジタルデータを記録するため
に、各メモリトランジスタが1レベルの消去状態と少な
くともMが3以上のMレベルの複数プログラム状態を有
する半導体不揮発性記憶装置であって、各読み出しビッ
ト線毎に設けられたデータラッチ回路を少なくともM本
の読み出しビット線毎に組をなす読み出しビット線群で
共有した少なくともM個の共有データラッチ回路と、前
記読み出しビット線群の任意の1本のビット線を選択し
て選択ワード線一括にページ読み出しを行い、当該ペー
ジ読み出しデータをM個の共有データラッチ回路の任意
の1個にラッチして行うページ読み出し手段と、前記M
レベルの複数プログラム状態のそれぞれに対応して設定
されたMレベルの複数読み出し判定レベルを有し、当該
Mレベルの複数読み出し判定レベルのすべての読み出し
判定レベルに対して順番に前記ページ読み出しを行い、
当該M種類のページ読み出しデータを前記M個の共有デ
ータラッチ回路にラッチして行う複合的ページ読み出し
手段と、前記M個の共有データラッチ回路にラッチされ
たM種類のページ読み出しデータを、Nビットのデジタ
ルデータに変換して出力するデータ変換出力回路とを備
えた。
【0014】また、前記複合的読み出し手段は、前記読
み出しビット線群を構成するすべてのビット線に対し
て、順次前記のデータ読み出しを行う。
【0015】また、前記ページ読み出し手段は、前記M
レベルの複数読み出し判定レベルに対応して設定された
Mレベルの複数読み出しワード線電圧のうちから任意の
読み出しワード線電圧を選択して、当該読み出しワード
線電圧を選択したワード線に印加するローデコーダ回路
を備えた。
【0016】また、前記データ変換出力回路は、カラム
デコーダ回路のアドレス変化に同期して、該当アドレス
の読み出しビット線群のM個の共有データラッチ回路か
ら並列転送されたM個のデータを、順次Nビットのデジ
タルデータに変換して出力する。
【0017】また、本発明は、行列状に配置され、電荷
蓄積部に蓄積された荷電量に応じてしきい値電圧が変化
するメモリトランジスタを有し、接続されたワード線と
ビット線への印加電圧に応じて前記メモリトランジスタ
のしきい値電圧を遷移させて1個のメモリトランジスタ
に少なくともNが2以上のNビットのデジタルデータを
記録するために、各メモリトランジスタが1レベルの消
去状態と少なくともMが3以上のMレベルの複数プログ
ラム状態を有する半導体不揮発性記憶装置であって、各
プログラムビット線毎に設けられたデータラッチ回路を
少なくともM本のプログラムビット線毎に組をなすプロ
グラムビット線群で共有した少なくともM個の共有デー
タラッチ回路と、前記プログラムビット線群の任意の1
本のビット線を選択して選択ワード線一括にページプロ
グラムを行い、当該ページプログラムデータをM個の共
有データラッチ回路の任意の1個にラッチして行うペー
ジプログラム手段と、前記Mレベルの複数プログラム状
態のすべてのプログラム状態に対して順分に前記ページ
プログラムを行って所望のNビットのデジタルデータを
プログラムするために、前記M種類のページプログラム
データを前記M個の共有データラッチ回路にラッチして
行う複合的ページプログラム手段と、前記所望のNビッ
トのデジタルデータを入力して、前記M種類のページプ
ログラムデータに変換するデータ変換回路とを備えた。
【0018】また、前記複号的ページプログラム手段
は、前記プログラムビット線群を構成するすべてのビッ
ト線に対して、順次前記のデータプログラムを行う。記
載の半導体不揮発性記憶装置。
【0019】また、前記ページプログラム手段は、前記
Mレベルの複数プログラム状態に対応して設定されたM
レベルの複数プログラムワード線電圧のうちから、任意
のプログラムワード線電圧を選択して、当該プログラム
ワード線電圧を選択したワード線に印加するローデコー
ダ回路を備えた。
【0020】また、前記データ変換回路は、カラムデコ
ーダ回路のアドレス変化に同期して、前記所望のNビッ
トのデジタルデータを入力して変換出力したM個のデー
タを、順次該当アドレスのプログラムビット線群のM個
の共有データラッチ回路に並列にシフト転送する。
【0021】また、本発明の半導体不揮発性記憶装置で
は、前記メモリトランジスタが行列状に配置されたメモ
リアレイはNAND型構造をなしている。
【0022】また、本発明の半導体不揮発性記憶装置で
は、前記メモリトランジスタが行列状に配置されたメモ
リアレイはNOR型構造をなし、かつ主ビット線が作動
的接続手段を介して複数の副ビット線に接続されてい
る。
【0023】本発明の半導体不揮発性記憶装置によれ
ば、各読み出しビット線毎に設けられたデータラッチ回
路を組をなす読み出しビット線群で共有し、前記読み出
しビット線群の任意の1本のビット線を選択して、複数
プログラム状態毎に対応したページ読み出しデータを前
記共有データラッチ回路にラッチして、2進デジタルデ
ータに変換して出力する。これにより、1個のメモリト
ランジスタに少なくとも2ビット以上のデジタルデータ
を記録する多値型の半導体不揮発性記憶装置において
も、通常の1値型の半導体不揮発性記憶装置と基本的に
同様の方法で、ページ読み出しを行うことができる。
【0024】また、本発明の半導体不揮発性記憶装置に
よれば、各プログラムビット線毎に設けられたデータラ
ッチ回路を組をなすプログラムビット線群で共有し、前
記プログラムビット線群の任意の1本のビット線を選択
して、所望の2進デジタルデータをプログラムするため
に変換したページプログラムデータを、前記共有データ
ラッチ回路にラッチしてプログラムする。これにより、
1個のメモリトランジスタに少なくとも2ビット以上の
デジタルデータを記録する多値型の半導体不揮発性記憶
装置においても、通常の1値型の半導体不揮発性記憶装
置と基本的に同様の方法で、ページプログラムを行うこ
とができる。
【0025】また、前記データ変換を、カラムデコーダ
回路にアドレス変化に同期して順次行うことにより、高
速プログラムが可能である。
【0026】また、本発明の半導体不揮発性記憶装置
は、NAND型フラッシュメモリ、あるいはDINOR
型フラッシュメモリ等のワード線セクタを単位としてペ
ージ読み出しあるいはページプログラムを行う多値型の
半導体不揮発性記憶装置に適用する場合に、特に好適で
ある。
【0027】
【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る半導体不揮
発性記憶装置、たとえば1個のメモリトランジスタに2
ビットのデジタルデータを記録する多値型のNAND型
フラッシュメモリにおいて、1個のメモリトランジスタ
に2ビットのデジタルデータを記録する場合の、しきい
値電圧Vthレベルとデータ内容との関係を示す図であ
る。
【0028】図1において、横軸はメモリトランジスタ
のしきい値電圧Vthを、縦軸はメモリトランジスタの
分布頻度を表している。また、1個のメモリトランジス
タに記録する2ビットデジタルデータ内容は、〔D2,
D1〕で表され、〔D2,D1〕=〔0,0〕,〔0,
1〕,〔1,0〕,〔1,1〕の4状態が存在する。
【0029】図1の例においては、〔D2,D1〕=
〔0,0〕の場合は、消去状態であって、しきい値電圧
Vthは、−3V<Vth<−1Vの範囲にある。ま
た、〔D2,D1〕=〔0,1〕の場合は、第1のプロ
グラム状態であって、しきい値電圧Vthは、1V<V
th<1.5Vの範囲にある。また、〔D2,D1〕=
〔1,0〕の場合は、第2のプログラム状態であって、
しきい値電圧Vthは、2.5V<Vth<3Vの範囲
にある。また、〔D2,D1〕=〔1,1〕の場合は、
第3のプログラム状態であって、しきい値電圧Vth
は、4V<Vth<4.5Vの範囲にある。
【0030】VR1は、メモリトランジスタのしきい値
電圧Vthが、消去状態であるのかあるいは第1のプロ
グラム状態以上であるのかを判定するための、第1の読
み出しワード線電圧を示し、たとえばVR1=0.5V
に設定される。またVR2は、メモリトランジスタのし
きい値電圧Vthが、第1のプログラム状態以下である
のかあるいは第2のプログラム状態以上であるのかを判
定するための、第2の読み出しワード線電圧を示し、た
とえばVR2=2Vに設定される。またVR3は、メモ
リトランジスタのしきい値電圧Vthが、第2のプログ
ラム状態以下であるのかあるいは第3のプログラム状態
以上であるのかを判定するための、第3の読み出しワー
ド線電圧を示し、たとえばVR3=3.5Vに設定され
る。
【0031】さらにVReadは、データ読み出し時に
非選択ワード線に印加する読み出しワード線電圧を示
し、読み出しNAND列において非選択メモリトランジ
スタをデータの如何にかかわらずすべてオン状態とする
ために、たとえばVRead=5.5Vに設定される。
【0032】なお、図1の例において、第1、第2、第
3のプログラム状態に比較して、消去状態のVth範囲
が広がっているのは、一般的なNAND型フラッシュメ
モリの場合、消去動作はプログラム動作のようにビット
毎ベリファイを行わないためである。
【0033】図2は、本発明に係る半導体不揮発性記憶
装置、たとえば図1のように、1個のメモリトランジス
タに2ビットのデジタルデータを記録する多値型のNA
ND型フラッシュメモリの具体的な構成例を示す図であ
る。
【0034】図2において、1はメモリアレイを示し、
おのおのビット線は3本毎に組をなしてビット線群を構
成し、図中m番目のビット線群はBm1 〜Bm3 で表さ
れる。また、それぞれのビット線は複数のNAND列に
接続され、図中m番目のビット線群に接続されるn番目
のNAND列は、Sn,m1 〜Sn,m3 で表される。
各NAND列は、それぞれ2個の選択トランジスタ(図
中□)とj個のメモリトランジスタ(図中○)から構成
される。
【0035】SLn1、SLn2はn番目のNAND列にお
ける選択トランジスタを制御する選択ゲート線、WLn1
〜WLnjはメモリトランジスタを制御するワード線をそ
れぞれ示している。また、SAm1 〜SAm3 は、m番
目のビット線群を構成するそれぞれのビット線毎Bm1
〜Bm3 毎に設けられたセンスアンプ機能を有するデー
タラッチ回路を示している。各データラッチ回路SAm
1 〜SAm3 は、それぞれのビット線毎に独立して機能
するのではなくて、2ビットデジタルデータ〔D2,D
1〕に対応した3種類のページ読み出しデータあるいは
ページプログラムデータをラッチするために、ビット線
群で共有される共有データラッチ回路となる。
【0036】Tm1 〜Tm3 は、m番目のビット線群を
構成するBm1 〜Bm3 の任意の1本を選択するために
設けられた選択ゲートを示し、各選択ゲートTm1 〜T
m3は選択信号φ1〜φ3によって制御される。すなわ
ち、選択信号φ1の場合にはビット線Bm1 を、選択信
号φ2の場合にはビット線Bm2 を、選択信号φ3の場
合にはビット線Bm3 を、読み出しビット線あるいはプ
ログラムビット線として選択する。
【0037】Tm10〜Tm30は、m番目の共有データラ
ッチ回路SAm1 〜SAm3 の任意の1個を選択するた
めに設けられた選択ゲートを示し、各選択ゲートTm10
〜Tm30は選択信号φ10〜φ30によって制御され
る。すなわち、選択信号φ10の場合にはデータラッチ
回路SAm1 を、選択信号φ20の場合にはデータラッ
チ回路SAm2 を、選択信号φ30の場合にはデータラ
ッチ回路SAm3 を選択し、選択されたデータラッチ回
路は、選択信号φ1〜φ3によって選択された読み出し
ビット線あるいはプログラムビット線と接続される。
【0038】さらに、2はメインローデコーダ、3aは
VR電圧マルチプレクサ、3bはVPW電圧マルチプレ
クサ、4はサブローデコーダ、5はローカルローデコー
ダ、6はカラムデコーダ、7はカラム選択部、8はデー
タ変換出力回路、9はデータ変換回路をそれぞれ示して
いる。
【0039】メインローデコーダ2は、X入力の上位X
1 〜Xa をデコードして、たとえばn番目のNAND列
における選択ゲート線SLn1、SLn2の出力電圧、およ
びNAND列選択信号xn を発生する。
【0040】VR電圧マルチプレクサ3aは、選択信号
φ1R〜φ3Rによってデータ内容に応じてあらかじめ
設定された3種類の読み出しワード線電圧VR1〜VR
3の1種類を選択する。すなわち、選択信号φ1Rの場
合には第1の読み出しワード線電圧VR1を、選択信号
φ2Rの場合には第2の読み出しワード線電圧VR2
を、選択信号φ3Rの場合には第3の読み出しワード線
電圧VR3を選択して、読み出しワード線電圧VRとし
て出力する。
【0041】VPW電圧マルチプレクサ部3bは、選択
信号φ1P〜φ3Pによってデータ内容に応じてあらか
じめ設定された3種類のプログラムワード線電圧VPW
1〜VPW3の1種類を選択する。すなわち、選択信号
φ1Pの場合には第1のプログラムワード線電圧VPW
1(たとえば15V)を、選択信号φ2Pの場合には第
2のプログラムワード線電圧VPW2(たとえば16.
5V)を、選択信号φ3Pの場合には第3のプログラム
ワード線電圧VPW3(たとえば18V)を選択して、
プログラムワード線電圧VPWとして出力する。
【0042】サブローデコーダ4は、X入力の下位X1
〜Xb をデコードして、選択NAND列におけるワード
線電圧V1 〜Vj を発生する。データ読み出し時のワー
ド線電圧V1 〜Vj は、選択ワード線電圧がVRに、非
選択ワード線電圧がVReadに設定される。また、デ
ータプログラム時のワード線電圧V1 〜Vj は、選択ワ
ード線電圧がVPWに、非選択ワード線電圧が中間禁止
電圧(たとえば8V)に設定される。φP/Rはプログ
ラム/読み出しモード制御信号を示し、サブローデコー
ダ4に入力されて、動作に応じた適当な電圧を選択する
ための制御信号となる。
【0043】ローカルデコーダ5は、たとえばn番目の
NAND列における各ワード線WLn1〜WLnjに対応し
た伝達回路Tn1〜Tnjから構成され、NAND列選択信
号xn によりNAND列単位で選択される。それぞれの
伝達回路Tn1〜Tnjは、伝達回路Tn1〜TnjがNAND
列選択信号により選択される場合には、ワード線電圧V
1 〜Vj を対応するワード線に出力し、また、伝達回路
Tn1〜TnjがNAND列選択信号により選択されない場
合には、動作に応じた適当な電圧値(たとえば接地電圧
GND)を対応するワード線に出力する。
【0044】カラムデコーダ6は、Y入力Y1 〜Yc を
デコードして、カラム選択部7で1組のビット線群を選
択する。データ読み出し時のカラムアドレスは、ページ
クロック信号φCLと同期して順次インクリメントさ
れ、選択ビット線群アドレスの共有データラッチ回路に
ラッチされたページ読み出しデータを、順次並列にデー
タバスd1〜d3にシリアル転送することにより、ペー
ジ読み出しが行われる。また、データプログラム時のカ
ラムアドレスも、ページクロック信号φCLと同期して
順次インクリメントされ、順次並列にデータバスd1〜
d3からシリアル転送されたページプログラムデータ
を、選択ビット線群アドレスの共有データラッチ回路に
ラッチすることにより、ページプログラムが行われる。
【0045】データ変換出力回路8は、2入力アンドゲ
ートAND81、2入力オアゲートOR81およびインバー
タINV81により構成され、データ読み出し時にd1〜
d3から転送される3種類のページ読み出しデータを、
2ビットデジタルデータ〔D2,D1〕に変換して出力
する。また、データ変換出力回路8の2出力側には信号
φIFによって導通制御される転送ゲートTR1,TR
2が接続されている。すなわち、データバスd3、d
2、d1の出力が、〔d3,d2,d1〕=〔0,0,
0〕の場合には、〔D2,D1〕=〔0,0〕として出
力される。また、データバスd3、d2、d1の出力
が、〔d3,d2,d1〕=〔0,0,1〕の場合に
は、〔D2,D1〕=〔0,1〕として出力される。ま
た、データバスd3、d2、d1の出力が、〔d3,d
2,d1〕=〔0,1,1〕の場合には、〔D2,D
1〕=〔1,0〕として出力される。また、データバス
d3、d2、d1の出力が、〔d3,d2,d1〕=
〔1,1,1〕の場合には、〔D2,D1〕=〔1,
1〕として出力される。
【0046】データ変換回路9は、2入力ノアゲートN
OR91、2入力ナンドゲートNAND91およびインバー
タINV91により構成され、データプログラム時に、プ
ログラムすべき所望の2ビットデジタルデータ〔D2,
D1〕を、3種類のページプログラムデータに変換し
て、データバスd1〜d3に出力する。また、データ変
換回路9の2入力側には信号φIFがインバータINV
1で反転された信号によって導通制御される転送ゲート
TP1,TP2が接続されている。
【0047】すなわち、〔D2,D1〕=〔0,0〕の
場合には、ページプログラムデータがデータバスd3〜
d1に、〔d3,d2,d1〕=〔1,1,1〕として
出力される。また、〔D2,D1〕=〔0,1〕の場合
には、ページプログラムデータがデータバスd3〜d1
に、〔d3,d2,d1〕=〔1,1,0〕として出力
される。また、〔D2,D1〕=〔1,0〕の場合に
は、ページプログラムデータがデータバスd3〜d1
に、〔d3,d2,d1〕=〔1,0,0〕として出力
される。また、〔D2,D1〕=〔1,1〕の場合に
は、ページプログラムデータがd3〜d1に、〔d3,
d2,d1〕=〔0,0,0〕として出力される。
【0048】φIFはデータ入出力制御信号を示し、デ
ータ入出力制御信号φIFがハイレベルの場合には読み
出しモードとなり、選択ゲートTR1 およびTR2 が活
性化されて、データ変換出力回路8から2ビットデジタ
ルデータ〔D2,D1〕が出力される。データ入出力制
御信号φIFがロ−レベルの場合にはプログラムモード
となり、選択ゲートTP1 およびTP2 が活性化され
て、プログラムすべき所望の2ビットデジタルデータ
〔D2,D1〕が、データ変換回路9に入力される。
【0049】図3は、図2の本発明に係る半導体不揮発
性記憶装置の構成例において、多値データをページ読み
出しする場合の、タイミングチャートを示す図である。
以下、図3を多値データのページ読み出しのタイミング
チャートを参照しながら、図2の構成例に基づくページ
読み出し動作を、順を追って説明する。
【0050】時刻t1〜t3の間は、ビット線群を構成
する3本のビット線の最初の1本を選択してページ読み
出しを行うステップであり、この場合、たとえばm番目
のビット線群においてはBm1を選択する。まず時刻t
1で、選択信号φ1がハイレベルに設定されることによ
りビット線Bm1 が選択され、続いて信号φ1R、φ1
0がハイレベルに設定されることにより、電圧マルチプ
レクサ3aでは第1の読み出しワード線電圧VR1が選
択されて選択ワード線WSLに印加され、データラッチ
回路SAm1 がビット線Bm1 に接続される。その結
果、選択メモリトランジスタのしきい値電圧Vthと第
1の読み出しワード線電圧VR1との比較結果である第
1のページ読み出しデータが、時刻t2までに一括して
データラッチ回路SAm1 にセンスラッチされる。
【0051】次に、時刻t2で、信号φ2R、φ20が
ハイレベルに設定されることにより、電圧マルチプレク
サ3aでは第2の読み出しワード線電圧VR2が選択さ
れて選択ワード線WSLに印加され、データラッチ回路
SAm2 がビット線Bm1 に接続される。その結果、選
択メモリトランジスタのしきい値電圧Vthと第2の読
み出しワード線電圧VR2との比較結果である第2のペ
ージ読み出しデータが、時刻t3までに一括してデータ
ラッチ回路SAm2 にセンスラッチされる。
【0052】次に、時刻t3で、信号φ3R、φ30が
ハイレベルに設定されることにより、電圧マルチプレク
サ3aでは第3の読み出しワード線電圧VR3が選択さ
れて選択ワード線WSLに印加され、データラッチ回路
SAm3 がビット線Bm1 に接続される。その結果、選
択メモリトランジスタのしきい値電圧Vthと第3の読
み出しワード線電圧VR3VR3との比較結果である第
3のページ読み出しデータが、時刻t4までに一括して
データラッチ回路SAm3 にセンスラッチされる。
【0053】次に、時刻t4から時刻t5までに、ペー
ジクロック信号φCLに同期してカラムアドレスが順次
インクリメントされ、選択アドレスの共有データラッチ
回路にラッチされた3種類のページ読み出しデータが、
順次並列にデータバスd1〜d3にシリアル転送され
る。また、転送された当該ページ読み出しデータは、順
次データ変換出力回路8によりデータ変換されて、2ビ
ットデジタルデータ〔D2,D1〕として出力される。
【0054】時刻t5〜t9の間は、ビット線群を構成
する3本のビット線の次の1本を選択してページ読み出
しを行うステップであり、この場合、たとえばm番目の
ビット線群においてはBm2 を選択する。なお、この場
合のタイミング等については、ビット線Bm1 の場合と
基本的に同様であり、再度の説明は省略する。
【0055】時刻t9〜t13の間は、ビット線群を構
成する3本のビット線の最後の1本を選択してページ読
み出しを行うステップであり、この場合、たとえばm番
目のビット線群においてはBm3 を選択する。なお、こ
の場合のタイミング等については、ビット線Bm1 の場
合と基本的に同様であり、再度の説明は省略する。
【0056】図4は、図2の本発明に係る半導体不揮発
性記憶装置の構成例において、多値データをページプロ
グラムする場合の、タイミングチャートを示す図であ
る。なお、図4のタイミング図においては、ビット線群
を構成する3本のビット線の最初の1本を選択してペー
ジ読み出しを行うステップのみ図示されており、この場
合、たとえばm番目のビット線群においてはBm1 を選
択する。ただし、これは便宜上のためであり、引き続い
て、ビット線群を構成する他のビット線Bm2 、Bm3
を選択してページプログラムする場合のタイミング等に
ついても、ビット線Bm1 の場合と基本的に同様であ
る。以下、図4の多値データのページプログラムのタイ
ミングチャートを参照しながら、図2の構成例に基づく
ページプログラム動作を、順を追って説明する。
【0057】まず時刻t1〜t2の間は、ビット線〜B
m1 等にプログラムすべき所望の2ビットデジタルデー
タを、ページクロック信号φCLと同期して3種類のペ
ージプログラムデータに変換して、順次共有データラッ
チ回路〜(SAm1 、SAm2 、SAm3 )にシリアル
転送するステップである。
【0058】すなわち、所望の2ビットデジタルデータ
〔D2,D1〕は、データ変換回路9により3種類のペ
ージプログラムデータに変換されて、第1のページプロ
グラムデータがデータラッチ回路SAm1 等に、第2の
ページプログラムデータがデータラッチ回路SAm2 等
に、第3のページプログラムデータがデータラッチ回路
SAm3 等に、時刻t2までにそれぞれラッチされる。
【0059】時刻t2〜t3の間は、第1番目のページ
プログラムを行うステップである。まず時刻t2で、選
択信号φ1R、φ1P、およびφ10がハイレベルに設
定されることにより、電圧マルチプレクサ3aでは第1
の読み出しワード線電圧VR1が選択され、電圧マルチ
プレクサ3bでは第1のプログラムワード線電圧VPW
1が選択され、ビット線〜Bm1 等がデータラッチ回路
〜SAm1 等に接続される。
【0060】次に、時刻t2から時刻t3まで、第1の
読み出しワード線電圧VPW1と第1のプログラムワー
ド線電圧VR1が選択ワード線WSLに交互に繰り返し
印加され、いわゆる、プログラムベリファイ動作が行わ
れる。その結果、時刻t3までに、第1番目のページプ
ログラムが終了し、各選択メモリトランジスタが第1の
プログラム状態に遷移する。
【0061】時刻t4〜t5の間は、第2番目のページ
プログラムを行うステップである。まず時刻t2で、選
択信号φ2R、φ2P、およびφ20がハイレベルに設
定されることにより、電圧マルチプレクサ3aでは第2
の読み出しワード線電圧VR2が選択され、電圧マルチ
プレクサ3bでは第2のプログラムワード線電圧VPW
2が選択され、ビット線Bm1 等がデータラッチ回路S
Am2 等に接続される。
【0062】次に、時刻t4から時刻t5まで、第2の
読み出しワード線電圧VPW2と第2のプログラムワー
ド線電圧VR2が選択ワード線WSLに交互に繰り返し
印加され、いわゆる、プログラムベリファイ動作が行わ
れる。その結果、時刻t5までに、第2番目のページプ
ログラムが終了し、各選択メモリトランジスタが第2の
プログラム状態に遷移する。
【0063】時刻t6〜t7の間は、第3番目のページ
プログラムを行うステップである。まず時刻t6で、選
択信号φ3R、φ3P、およびφ30がハイレベルに設
定されることにより、電圧マルチプレクサ3aでは第3
の読み出しワード線電圧VR3が選択され、電圧マルチ
プレクサ3bでは第3のプログラムワード線電圧VPW
3が選択され、ビット線〜Bm1 等がデータラッチ回路
〜SAm3 等に接続される。
【0064】次に、時刻t6から時刻t7まで、第3の
読み出しワード線電圧VPW3と第3のプログラムワー
ド線電圧VR3が選択ワード線WSLに交互に繰り返し
印加され、いわゆる、プログラムベリファイ動作が行わ
れる。その結果、時刻t7までに、第3番目のページプ
ログラムが終了し、各選択メモリトランジスタが第3の
プログラム状態に遷移する。
【0065】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、各読み出しビット線毎に設けられたデータラッチ回
路を組をなす読み出しビット線群で共有し、前記読み出
しビット線群の任意の1本のビット線を選択して、複数
プログラム状態毎に対応したページ読み出しデータを前
記共有データラッチ回路にラッチして、2進デジタルデ
ータに変換して出力するようにしたので、1個のメモリ
トランジスタに少なくとも2ビット以上のデジタルデー
タを記録する多値型の半導体不揮発性記憶装置において
も、通常の1値型の半導体不揮発性記憶装置と基本的に
同様の方法で、ページ読み出しを行うことができる。
【0066】また、本実施形態によれば、各プログラム
ビット線毎に設けられたデータラッチ回路を組をなすプ
ログラムビット線群で共有し、前記プログラムビット線
群の任意の1本のビット線を選択して、所望の2進デジ
タルデータをプログラムするために変換したページプロ
グラムデータを、前記共有データラッチ回路にラッチし
てプログラムするようにしたので、1個のメモリトラン
ジスタに少なくとも2ビット以上のデジタルデータを記
録する多値型の半導体不揮発性記憶装置においても、通
常の1値型の半導体不揮発性記憶装置と基本的に同様の
方法で、ページプログラムを行うことができる。
【0067】また、以上の説明においては、便宜上、主
としてNAND型フラッシュメモリについて説明した
が、本発明がDINOR型フラッシュメモリ等のページ
読み出しあるいはページプログラムを行う他の半導体不
揮発性記憶装置に適用できることは、言うまでもないこ
とである。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各メモリトランジスタに記録された多値データを効率よ
く簡単にページ読み出しを行い、あるいはページプログ
ラムを行うことができる多値型の半導体不揮発性記憶装
置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】1個のメモリトランジスタに2ビットのデジタ
ルデータを記録する多値型のNAND型フラッシュメモ
リにおいて、しきい値電圧Vthレベルとデータ内容と
の関係を示す図である。
【図2】本発明に係る多値型の半導体不揮発性記憶装置
の具体的な構成例を示す図である。
【図3】図2の半導体不揮発性記憶装置において、多値
データの読み出しをする場合の、タイミングチャートを
示す図である。
【図4】図2の半導体不揮発性記憶装置において、多値
データのページプログラムする場合の、タイミングチャ
ートを示す図である。
【図5】NAND型、DINOR型フラッシュメモリに
おける、メモリアレイ構造を示す図である。
【符号の説明】
SLn1〜SLn2…選択ゲート線、Wn1〜Wnj…ワード
線、Bm1 〜Bm3 …ビット線、X1 〜Xa 、X1 〜X
b …X入力、Y1 〜Yc …Y入力、V1 〜Vj …選択N
AND列ワード線電圧、xn …NAND列選択信号、T
n1〜Tnj…ワード線電圧伝達回路、Sn,m1 〜Sn,
m3 …NAND列、VR1〜VR3…読み出しワード線
電圧、VR…選択読み出しワード線電圧、VPW1〜V
PW3…プログラムワード線電圧、VPW…選択プログ
ラムワード線電圧、SAm1 〜SAm3 …データラッチ
回路、Tm1 〜Tm3 …ビット線選択ゲート、Tm10〜
Tm30…データラッチ回路選択ゲート、d1〜d3…デ
ータバス、φR1〜φR3…読み出しワード線電圧選択
信号、φ1P〜φ3P…プログラムワード線電圧選択信
号、φ1〜φ3…ビット線選択信号、φ10〜φ30…
データラッチ回路選択信号、φCL…ページクロック信
号、φP/R…プログラム/読み出しモード制御信号、
φ1F…入出力制御信号、TR1 〜TR2 …読み出し出
力選択ゲート、TP1 〜TP2 …プログラム入力選択ゲ
ート、ST1 〜ST2 …選択トランジスタ、MT1 〜M
T4 …メモリトランジスタ、1…メモリアレイ、2…メ
インローデコーダ、3a…VR電圧マルチプレクサ、3
b…VPW電圧マルチプレクサ、4…サブローデコー
ダ、5…ローカルローデコーダ、6…カラムデコーダ、
7…カラム選択部、8…データ変換出力回路、9…デー
タ変換回路。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 行列状に配置され、電荷蓄積部に蓄積さ
    れた荷電量に応じてしきい値電圧が変化するメモリトラ
    ンジスタを有し、接続されたワード線とビット線への印
    加電圧に応じて前記メモリトランジスタのしきい値電圧
    を遷移させて1個のメモリトランジスタに少なくともN
    が2以上のNビットのデジタルデータを記録するため
    に、各メモリトランジスタが1レベルの消去状態と少な
    くともMが3以上のMレベルの複数プログラム状態を有
    する半導体不揮発性記憶装置であって、 各読み出しビット線毎に設けられたデータラッチ回路を
    少なくともM本の読み出しビット線毎に組をなす読み出
    しビット線群で共有した少なくともM個の共有データラ
    ッチ回路と、 前記読み出しビット線群の任意の1本のビット線を選択
    して選択ワード線一括にページ読み出しを行い、当該ペ
    ージ読み出しデータを前記M個の共有データラッチ回路
    の任意の1個にラッチして行うページ読み出し手段と、 前記Mレベルの複数プログラム状態のそれぞれに対応し
    て設定されたMレベルの複数読み出し判定レベルを有
    し、当該Mレベルの複数読み出し判定レベルのすべての
    読み出し判定レベルに対して順番に前記ページ読み出し
    を行い、当該M種類のページ読み出しデータを前記M個
    の共有データラッチ回路にラッチして行う複合的ページ
    読み出し手段と、 前記M個の共有データラッチ回路にラッチされたM種類
    のページ読み出しデータを、Nビットのデジタルデータ
    に変換して出力するデータ変換出力回路とを備えた半導
    体不揮発性記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記複合的読み出し手段は、前記読み出
    しビット線群を構成するすべてのビット線に対して、順
    次前記のデータ読み出しを行う請求項1記載の半導体不
    揮発性記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記ページ読み出し手段は、前記Mレベ
    ルの複数読み出し判定レベルに対応して設定されたMレ
    ベルの複数読み出しワード線電圧のうちから任意の読み
    出しワード線電圧を選択して、当該読み出しワード線電
    圧を選択したワード線に印加するローデコーダ回路を備
    えた請求項1記載の半導体不揮発性記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記データ変換出力回路は、カラムデコ
    ーダ回路のアドレス変化に同期して、該当アドレスの読
    み出しビット線群のM個の共有データラッチ回路から並
    列転送されたM個のデータを、順次Nビットのデジタル
    データに変換して出力する請求項1記載の半導体不揮発
    性記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記メモリトランジスタが行列状に配置
    されたメモリアレイはNAND型構造をなす請求項1記
    載の半導体不揮発性記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記メモリトランジスタが行列状に配置
    されたメモリアレイはNOR型構造をなし、かつ主ビッ
    ト線が作動的接続手段を介して複数の副ビット線に接続
    されている請求項1記載の半導体不揮発性記憶装置。
  7. 【請求項7】 行列状に配置され、電荷蓄積部に蓄積さ
    れた荷電量に応じてしきい値電圧が変化するメモリトラ
    ンジスタを有し、接続されたワード線とビット線への印
    加電圧に応じて前記メモリトランジスタのしきい値電圧
    を遷移させて1個のメモリトランジスタに少なくともN
    が2以上のNビットのデジタルデータを記録するため
    に、各メモリトランジスタが1レベルの消去状態と少な
    くともMが3以上のMレベルの複数プログラム状態を有
    する半導体不揮発性記憶装置であって、 各プログラムビット線毎に設けられたデータラッチ回路
    を少なくともM本のプログラムビット線毎に組をなすプ
    ログラムビット線群で共有した少なくともM個の共有デ
    ータラッチ回路と、 前記プログラムビット線群の任意の1本のビット線を選
    択して選択ワード線一括にページプログラムを行い、当
    該ページプログラムデータを前記M個の共有データラッ
    チ回路の任意の1個にラッチして行うページプログラム
    手段と、 前記Mレベルの複数プログラム状態のすべてのプログラ
    ム状態に対して順番に前記ページプログラムを行って所
    望のNビットのデジタルデータをプログラムするため
    に、前記M種類のページプログラムデータを前記M個の
    共有データラッチ回路にラッチして行う複合的ページプ
    ログラム手段と、 前記所望のNビットのデジタルデータを入力して、前記
    M種類のページプログラムデータに変換するデータ変換
    回路とを備えた半導体不揮発性記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記複号的ページプログラム手段は、前
    記プログラムビット線群を構成するすべてのビット線に
    対して、順次前記のデータプログラムを行う請求項7記
    載の半導体不揮発性記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記ページプログラム手段は、前記Mレ
    ベルの複数プログラム状態に対応して設定されたMレベ
    ルの複数プログラムワード線電圧のうちから、任意のプ
    ログラムワード線電圧を選択して、当該プログラムワー
    ド線電圧を選択したワード線に印加するローデコーダ回
    路を備えた請求項7記載の半導体不揮発性記憶装置。
  10. 【請求項10】 前記データ変換回路は、カラムデコー
    ダ回路のアドレス変化に同期して、前記所望のNビット
    のデジタルデータを入力して変換出力したM個のデータ
    を、順次該当アドレスのプログラムビット線群のM個の
    共有データラッチ回路に並列にシフト転送する請求項7
    記載の半導体不揮発性記憶装置。
  11. 【請求項11】 前記メモリトランジスタが行列状に配
    置されたメモリアレイはNAND型構造をなす請求項7
    記載の半導体不揮発性記憶装置。
  12. 【請求項12】 前記メモリトランジスタが行列状に配
    置されたメモリアレイはNOR型構造をなし、かつ主ビ
    ット線が作動的接続手段を介して複数の副ビット線に接
    続されている請求項7記載の半導体不揮発性記憶装置。
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